JP2012506133A - コレクタアセンブリ、放射源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
コレクタアセンブリ、放射源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012506133A JP2012506133A JP2011531371A JP2011531371A JP2012506133A JP 2012506133 A JP2012506133 A JP 2012506133A JP 2011531371 A JP2011531371 A JP 2011531371A JP 2011531371 A JP2011531371 A JP 2011531371A JP 2012506133 A JP2012506133 A JP 2012506133A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation
- mirror
- collector
- collector assembly
- focal point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
- G03F7/70175—Lamphouse reflector arrangements or collector mirrors, i.e. collecting light from solid angle upstream of the light source
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【選択図】図3
Description
上の式で、λは使用される放射の波長であり、NAPSはパターンを基板上に印刷するために使用される投影システムの開口数である。k1はレイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、CDは印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ(またはクリティカルディメンジョン)である。式(1)から、フィーチャの最小印刷可能サイズの縮小は、以下の3つの方法、露光波長λを短縮することによって、開口数NAPSを増加させることによって、あるいはk1の値を低下させることによって達成することができる、と言える。
第1焦点および第2焦点を有する第1集光ミラーであって、第2焦点は第1焦点より第1集光ミラーから遠く、第1焦点および第2焦点は、光軸を画定し、かつ第1焦点および第2焦点のそれぞれを通過する第1焦点面および第2焦点面を画定し、各焦点面は光軸と垂直であり、第1集光ミラーは、使用中、第1焦点に位置決めされた放射放出点から直接第1放射を集光し、かつ第1放射を第2焦点へと前方に反射するように構成されている、第1集光ミラーと、
第1焦点面と第2焦点面との間に位置決めされ、かつ放射放出点から直接第2放射を集光するように構成された第2集光ミラーと、
実質的に第1焦点面と第2集光ミラーとの間の光軸上に位置決めされた第3ミラーとを含み、
第2集光ミラーは第2放射を第3ミラー上へと反射するように構成され、第3ミラーは第2放射を第2焦点へと反射するように構成されており、
第2集光ミラーは、第2焦点への、第3ミラーから反射した第2放射または第1集光ミラーから反射した第1放射を実質的に遮断しないように構成されている、コレクタアセンブリが提供される。
‐ 放射ビームB(例えば、EUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
‐ パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されているサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
‐ 基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結されている基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
‐ パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、反射投影レンズシステム)PSとを備える。
i)第1集光ミラー33の反射面上の入射角(法線から測定された)は、集光角が増大するにつれて大きくなる。EUV放射に使用されるシリコン/モリブデン多層ミラーなどの多層ミラーは、約30°から50°の間の入射角に対して相対的に低い反射率を有している。それにより、集光角の増大は、あらゆる余分に集光される第1放射に対するより大きな入射角から生じる低下した反射率のため、集光される放射の総量に対して相対的に少量を寄与する。
ii)エタンデュは集光した立体角に従って増大する。したがって、そのようなさらなる集光された放射の少なくとも一部は、イルミネータによって受け入れられかつイルミネータの特徴とするエタンデュの外に落ちて失われる。
Claims (14)
- リソグラフィ装置用のコレクタアセンブリであって、前記コレクタアセンブリは、
第1焦点および第2焦点を有する第1集光ミラーであって、前記第2焦点は前記第1焦点より前記第1集光ミラーから遠く、前記第1焦点および前記第2焦点は、光軸を画定し、かつ前記第1焦点および前記第2焦点のそれぞれを通過する第1焦点面および第2焦点面を画定し、各焦点面は前記光軸と垂直であり、前記第1集光ミラーは、前記第1焦点に位置決めされた放射放出点から直接第1放射を集光し、かつ前記第1放射を前記第2焦点へと前方に反射するように構成されている、第1集光ミラーと、
前記第1焦点面と前記第2焦点面との間に位置決めされ、かつ前記放射放出点から直接第2放射を集光する第2集光ミラーと、
実質的に前記第1焦点面と前記第2集光ミラーとの間の前記光軸上に位置決めされた第3ミラーとを含み、
前記第2集光ミラーは前記第2放射を前記第3ミラー上へと反射するように構成され、前記第3ミラーは前記第2放射を前記第2焦点へと反射するように構成されており、
前記第2集光ミラーは、前記第2焦点への、前記第3ミラーから反射した前記第2放射または前記第1集光ミラーから反射した前記第1放射を実質的に遮断しないように構成されている、コレクタアセンブリ。 - 前記第2集光ミラーは、実質的に円形対称性を有して前記光軸の周りに構成された環状の凹面ミラーである、請求項1に記載のコレクタアセンブリ。
- 前記第3ミラーは凸面ミラーである、請求項2に記載のコレクタアセンブリ。
- 前記第1集光ミラー、前記第2集光ミラーまたは前記第3ミラーから選択されるミラーの1つ以上は、シリコン/モリブデン多層ミラーである、請求項1〜3のうちのいずれかに記載のコレクタアセンブリ。
- 前記第1集光ミラーにはアパーチャが設けられており、前記アパーチャは、レーザビームを、前記アパーチャを通過させて前記放射放出点上へと誘導するように構成されている、請求項1〜4のうちのいずれかに記載のコレクタアセンブリ。
- 使用中、前記レーザビームが前記第2焦点へと直接通過することを実質的に遮断するように位置決めされたビームストップを含む、請求項5に記載のコレクタアセンブリ。
- 前記第3ミラーは前記ビームストップに位置決めされている、請求項6に記載のコレクタアセンブリ。
- 前記放射放出点は極端紫外線ジェネレータの放射放出点である、請求項1〜4のうちのいずれかに記載のコレクタアセンブリを含む放射源。
- 前記極端紫外線ジェネレータはレーザ生成プラズマ放射ジェネレータである、請求項8に記載の放射源。
- レーザビームを前記第1集光ミラー内のアパーチャを通過させて前記放射放出点上へと誘導するレーザ源を含む、請求項9に記載の放射源。
- 前記レーザ源は、前記レーザビームを実質的に前記光軸に沿って誘導するように構成されており、前記コレクタアセンブリは、前記レーザビームが前記第2焦点へと直接通過することを実質的に遮断するように位置決めされたビームストップを含む、請求項10に記載の放射源。
- 前記第3ミラーは前記ビームストップに位置決めされている、請求項11に記載の放射源。
- 請求項8〜12のうちのいずれかに記載の放射源または請求項1〜7のうちのいずれかに記載のコレクタアセンブリを含む、リソグラフィ装置。
- パターン付き放射ビームを基板上に投影することを含むデバイス製造方法であって、前記放射は請求項8〜12のうちのいずれかに記載の放射源によって提供される、デバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13696208P | 2008-10-17 | 2008-10-17 | |
US61/136,962 | 2008-10-17 | ||
PCT/EP2009/006373 WO2010043288A1 (en) | 2008-10-17 | 2009-09-03 | Collector assembly, radiation source, lithographic appparatus and device manufacturing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012506133A true JP2012506133A (ja) | 2012-03-08 |
Family
ID=41280351
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011531371A Ceased JP2012506133A (ja) | 2008-10-17 | 2009-09-03 | コレクタアセンブリ、放射源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110199600A1 (ja) |
JP (1) | JP2012506133A (ja) |
KR (1) | KR20110084950A (ja) |
CN (1) | CN102177470B (ja) |
NL (1) | NL2003430A (ja) |
TW (1) | TW201017345A (ja) |
WO (1) | WO2010043288A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10268118B2 (en) | 2015-11-25 | 2019-04-23 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light generating apparatus |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5670174B2 (ja) * | 2010-03-18 | 2015-02-18 | ギガフォトン株式会社 | チャンバ装置および極端紫外光生成装置 |
DE102010041623A1 (de) | 2010-09-29 | 2012-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel |
WO2014000998A1 (en) * | 2012-06-12 | 2014-01-03 | Asml Netherlands B.V. | Photon source, metrology apparatus, lithographic system and device manufacturing method |
DE102012216502A1 (de) | 2012-09-17 | 2014-03-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel |
US10128016B2 (en) * | 2016-01-12 | 2018-11-13 | Asml Netherlands B.V. | EUV element having barrier to hydrogen transport |
US20170311429A1 (en) * | 2016-04-25 | 2017-10-26 | Asml Netherlands B.V. | Reducing the effect of plasma on an object in an extreme ultraviolet light source |
RU2636261C1 (ru) * | 2016-11-11 | 2017-11-22 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" | Дифракционный блок для управления сходимостью рентгеновского пучка |
CN116774535B (zh) * | 2023-08-18 | 2023-11-14 | 上海图双精密装备有限公司 | 一种用于掩模对准光刻设备的照明*** |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004006716A (ja) * | 2002-04-26 | 2004-01-08 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2004333475A (ja) * | 2003-05-05 | 2004-11-25 | Northrop Grumman Corp | レーザプラズマeuv源用の高効率コレクタ |
JP2006108521A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Canon Inc | X線発生装置及び露光装置 |
WO2007118993A1 (fr) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Sagem Defense Securite | Dispositif de collecte de flux de rayonnement electromagnetique dans l'extreme ultraviolet |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6285743B1 (en) * | 1998-09-14 | 2001-09-04 | Nikon Corporation | Method and apparatus for soft X-ray generation |
JP2000089000A (ja) * | 1998-09-14 | 2000-03-31 | Nikon Corp | X線発生装置 |
JP4521896B2 (ja) * | 1999-06-08 | 2010-08-11 | キヤノン株式会社 | 照明装置、投影露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2002006096A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-01-09 | Nikon Corp | 電磁波発生装置、これを用いた半導体製造装置並びに半導体デバイスの製造方法 |
JP2004343082A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | 凹面および凸面を含む集光器を備えたリトグラフ投影装置 |
EP1469349B1 (en) * | 2003-04-17 | 2011-10-05 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus with collector including a concave mirror and a convex mirror |
JP4120502B2 (ja) * | 2003-07-14 | 2008-07-16 | 株式会社ニコン | 集光光学系、光源ユニット、照明光学装置および露光装置 |
US7405871B2 (en) * | 2005-02-08 | 2008-07-29 | Intel Corporation | Efficient EUV collector designs |
JP4850558B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2012-01-11 | キヤノン株式会社 | 光源装置、及びそれを用いた露光装置、デバイス製造方法 |
-
2009
- 2009-09-03 US US13/124,501 patent/US20110199600A1/en not_active Abandoned
- 2009-09-03 CN CN200980140120.9A patent/CN102177470B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-09-03 KR KR1020117011126A patent/KR20110084950A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-09-03 JP JP2011531371A patent/JP2012506133A/ja not_active Ceased
- 2009-09-03 NL NL2003430A patent/NL2003430A/en not_active Application Discontinuation
- 2009-09-03 WO PCT/EP2009/006373 patent/WO2010043288A1/en active Application Filing
- 2009-09-16 TW TW098131284A patent/TW201017345A/zh unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004006716A (ja) * | 2002-04-26 | 2004-01-08 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2004333475A (ja) * | 2003-05-05 | 2004-11-25 | Northrop Grumman Corp | レーザプラズマeuv源用の高効率コレクタ |
JP2006108521A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Canon Inc | X線発生装置及び露光装置 |
WO2007118993A1 (fr) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Sagem Defense Securite | Dispositif de collecte de flux de rayonnement electromagnetique dans l'extreme ultraviolet |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10268118B2 (en) | 2015-11-25 | 2019-04-23 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light generating apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20110084950A (ko) | 2011-07-26 |
CN102177470B (zh) | 2014-03-12 |
TW201017345A (en) | 2010-05-01 |
US20110199600A1 (en) | 2011-08-18 |
WO2010043288A1 (en) | 2010-04-22 |
CN102177470A (zh) | 2011-09-07 |
NL2003430A (en) | 2010-04-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9097982B2 (en) | Radiation system, radiation collector, radiation beam conditioning system, spectral purity filter for radiation system and method for forming a spectral purity filter | |
JP5732392B2 (ja) | 放射源およびリソグラフィ装置 | |
JP5732525B2 (ja) | コレクタミラーアセンブリおよび極端紫外線放射の生成方法 | |
JP5439485B2 (ja) | スペクトル純度フィルタ、リソグラフィ装置および放射源 | |
JP4966342B2 (ja) | 放射源、放射を生成する方法およびリソグラフィ装置 | |
JP2012506133A (ja) | コレクタアセンブリ、放射源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP2010258447A (ja) | リソグラフィ放射源、コレクタ、装置および方法 | |
US8431916B2 (en) | Radiation source and lithographic apparatus | |
JP2013516079A (ja) | 照明システム、リソグラフィ装置および照明方法 | |
JP5081194B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP6122853B2 (ja) | 放射源 | |
JP5531053B2 (ja) | 放射源、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5497016B2 (ja) | 多層ミラーおよびリソグラフィ装置 | |
JP2006140470A (ja) | 放射システム、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及び、それらにより製造されたデバイス | |
US20120182537A1 (en) | Spectral purity filter, lithographic apparatus, and device manufacturing method | |
JP5162560B2 (ja) | フライアイインテグレータ、イルミネータ、リソグラフィ装置および方法 | |
NL2005763A (en) | Lithographic apparatus. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120831 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130909 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131018 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140402 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140626 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141204 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20150417 |