JP2017533472A - プラズマベース光源におけるデブリからの光学素子保護のための装置および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2014年11月1日にYe Liuらによって出願された、タイトル「Method and Apparatus to Protect Internal Optics for LPP EUV Source」の米国特許仮出願第62/074,001号の優先権を主張するものであり、同出願は、あらゆる目的においてその全体を参照することにより本明細書に組み込まれる。
例えば、図15に示すように、検査システム1500は、上記のような照射源システム100等のデブリ保護照射源システムを組み込んだ照射源システム1502を含んでもよい。検査システム 1500はさらに、半導体ウェハまたはマスク等の少なくとも1つのサンプル1504を支持するように構成されたステージ1506を含んでもよい。照射源1500は、1つの照射経路を介してサンプル1504を照射するように構成されてもよく、また、サンプル1504から反射、散乱、または放射された照射は、任意の適切な集光光学素子によってイメージング経路に沿って、少なくとも1つの検出器1510(例えばカメラまたはフォトセンサアレイ)に向けられてもよい。検出器1510に通信可能に結合されたコンピューティングシステム1512は、検出された照射信号に関連する信号を処理して、非一時的キャリア媒体1514からの、コンピューティングシステム1512のプロセッサによって実行可能なプログラム命令1516内に埋め込まれた検査アルゴリズムに従ってサンプル1504の1つ以上の欠陥の種々の属性を特定および/または測定するように構成され得る。
Claims (21)
- 放射線を生成するためのプラズマベース照射装置であって、
ターゲット材を保持するように構成された真空チャンバと、
真空チャンバ内またはそのような真空チャンバの壁内に位置決めされた光学素子と、
照射放射線を生成するように真空チャンバ内でプラズマを生成するために真空チャンバ内のターゲットに集束される少なくとも1つの励起源を生成する照射源システムと、
生成された照射放射線を収集してサンプルのほうに向けるコレクタシステムと、
複数のノズルから出るガスを、前記光学素子から遠ざけるように、デブリがそのような光学素子に達することを防止するような速度でプラズマのほうに流し、その結果、光学素子の保護領域で均したペクレ数が2以上となる、デブリ保護システムと、
を備えるプラズマベース照射装置。 - 請求項1に記載の装置であって、生成された放射線は、13.5nm以下の極端紫外線(EUV) 波長範囲を有し、前記ガスはEUV光を透過させることを特徴とする装置。
- 請求項2に記載の装置であって、前記光学素子は、ターゲット材から約0.1から2.5メートルのところに位置決めされたチャンバの入射窓であることを特徴とする装置。
- 請求項2に記載の装置であって、前記ノズルの複数の開口部によって占有される領域は、前記光学素子の表面積よりも小さいことを特徴とする装置。
- 請求項2に記載の装置であって、前記ガスの流量は、20標準リットル毎分(slm)未満であることを特徴とする装置。
- 請求項2に記載の装置であって、ガスは、Ar、H2、He、Br2、HBrまたはN2のうち1以上を含むことを特徴とする装置。
- 請求項2に記載の装置であって、各ノズルは円形の孔を有し、前記複数のノズルは均一なガス流、平坦なガスカーテン、または環状のジェットを生成するように配置されることを特徴とする装置。
- 請求項2に記載の装置であって、前記デブリ保護システムはさらに、ノズルとガス源またはガス注入口の間に流体的に結合されたマニホールドを備え、マニホールドは、全ノズルを合わせたよりも高いガスコンダクタンスを有することを特徴とする装置。
- 請求項8に記載の装置であって、前記デブリ保護システムは、ガスをプラズマまたは別のデブリ源に向けるガスコーンを含むことを特徴とする装置。
- 請求項8に記載の装置であって、前記光学素子の正面に位置決めされたペリクルをさらに含むことを特徴とする装置。
- 請求項8に記載の装置であって、前記光学素子は、真空チャンバの壁にある入射窓であり、その入射窓を介して、集束された励起源が受けられることを特徴とする装置。
- 請求項11に記載の装置であって、前記光学素子とデブリの源の間に位置決めされたペリクルを含み、前記ペリクルおよび/または入射窓はサファイア材料から構成されることを特徴とする装置。
- 請求項8に記載の装置であって、各ノズルと真空チャンバの間に流体的に結合された膨張ステージを含み、各ノズル用の膨張ステージは、そのようなノズルの直径より大きく且つ真空チャンバの直径より小さい直径を有することを特徴とする装置。
- 請求項8に記載の装置であって、各ノズルの下流に位置決めされたバッフルをさらに含むことを特徴とする装置。
- 請求項8に記載の装置であって、各ノズルの出口においてガスの凝縮を防止するために各ノズルの温度を上昇させるための加熱システムをさらに含むことを特徴とする装置。
- 請求項8に記載の装置であって、前記ノズルは均等に分布していることを特徴とする装置。
- 請求項1に記載の装置であって、前記ノズルは所定レベルの光学素子保護を提供しガス凝縮を回避するための数値流体力学シミュレーションによって選択される個数および/またはサイズおよび/または温度を有することを特徴とする装置。
- フォトリソグラフィックレチクルまたはウェハを欠陥に関して検査するための検査システムであって、サンプルはウェハまたはレチクルであり、
請求項1に記載の、照射ビームを生成する装置と、
照射放射線をレチクルまたはウェハに向けるためのイメージング光学素子と、
照射放射線が前記レチクルまたはウェハに向けられたことに応答してレチクルまたはサンプルから検出された信号または画像を受け取る検出器と、
検出された信号または画像を分析してそれによりレチクルまたはウェハ上の欠陥を検出するように構成されたプロセッサおよびメモリと、
を備えたシステム。 - レチクルからウェハにパターンを転写するフォトリソグラフィーシステムであって、
照射ビームを生成する、請求項1に記載の装置と、
照射放射線を、レチクルを介してウェハに向けるためのイメージング光学素子
を備えたシステム。 - 請求項1に記載の装置であって、前記デブリ保護システムはさらに、複数のノズルから出るガスを、光学素子から遠ざけるように、デブリがそのような光学素子に達することを防止するような速度で前記プラズマのほうに流し、その結果、光学素子の保護領域で均したペクレ数が4以上となるように構成されることを特徴とする装置。
- 請求項1に記載の装置であって、前記光学素子はコレクタ素子、計測窓、フィルタ、デフレクタ、または鏡であることを特徴とする装置。
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