JP2011510286A - 光学系を特性評価するための機器及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
光学系を特性評価するための機器は既に幾つか存在する。実際に、2つの機器群、すなわち、波面の測定(収差の測定)に基づくシステムと、波面測定に基づかず且つ特性評価されるべき光学系の光学収差の測定を可能にしない他の機器とに特定することができる。
− 幾つかの位相測定技術、すなわち、Fizeau干渉計、Hartmann技術又はShack Hartmann技術、横方向シフト干渉計技術;
− 光学系の収差の特性評価を可能にする位相測定システム。この測定に基づいて、一般に、収差に加えて、特性評価されるべき光学系の点像分布関数(PSF)及び変調伝達関数(MTF)を決定することができる。ある特定の実施に関しては、特性評価されるべき光学系の背面焦点距離及び開口数に戻ることもできる;
を含む。
− 対物レンズの焦点距離の測定に専用の特定の機器。しかしながら、これらは波面の測定に基づかない;
− 対物レンズのMTFの測定に専用の他の機器。この一群において、特定の機器は、幾つかの視野角での対物レンズの測定を可能にし、測定において、対物レンズの像面湾曲の効果を考慮に入れるという特徴を有する。しかしながら、これらの機器の能力は、特性評価されるべき光学系の光学収差を測定できないというそれらの不能性によって制限される(これらの機器は波面測定に基づかない);
− 特性評価されるべき対物レンズの視野角に応じた口径食及び相対強度の測定を可能にするが、光学的品質に関する他のデータを提供しない他のシステム;そして、
− 特性評価されるべき対物レンズの歪みの測定を可能にするが、光学的品質に関する他のデータを与えない機器;
を含む。
この目的は、光学系を特性評価するための機器であって:
− 照明光ビームを放射するための一次ソース手段と;
− 光学系を取り外し可能に受けるための手段と;
− 特性評価されるべき光学系へ向けてこの照明光ビームを方向付けるための手段と;
− 光学系からくるビームを受けるために配置される波面解析手段と;
− 波面測定手段からくる測定信号を処理して、光学系の特性データを供給する(deliver)ための手段と;
を備える前記機器によって達成される。
− 予めマウント上に設置された特性評価されるべき光学系へと向けられる照明光ビームの放射と;
− 光学系からくる解析ビームに対して実施される波面解析と;
− 光学系の特性データを供給するための、波面解析からくる測定信号の処理と;
を含む前記方法において、
光学系を通過する照明ビームを拡散素子上で合焦させて、前記光学系を通過して波面解析手段へと向けられる二次解析ビームを発生させる二次光源を形成することを特徴とする前記方法が提案される。
− 照明経路と解析経路とを可能な限り大きく分離する。しかしながら、常に、特性評価されるべきレンズと、共通のビームに関するビームスプリッタとが少なくとも存在する;
− 特性評価されるべき光学系の瞳孔よりも小さい軸外の瞳孔へと照明ビームを戻す。また、より小さい瞳孔を有するという事実により、照明において更に大きい被写界深度を有することができる(拡散器に形成される光源点は、拡散器が対物レンズの焦点面内に完全にない場合であっても小さいままである);
− フィルタリングホールを解析光路に設置して、迷反射を阻止する;そして、
− ビームの偏光を調整する。照明ビームの偏光が1つの軸上で偏光され、解析ビームの偏光は、照明ビームの偏光に対して90°回転される軸上で偏光される(照明ビーム及び解析ビームにおける偏光子の存在)。照明ビームの偏光解消は、拡散器によって確保される。拡散器がビームを十分に偏光解消しない場合には、共通の照明−解析経路上に1/4波長板を設置して、偏光を90°回転させることができる。
図1及び図2を参照すると、特性評価機器1は、照明ソースのシステム3と、特性評価されるべき光学系をマウント21で受けるようになっている旋回支持構造体2と、ビームセパレータモジュール5と、波面分析モジュール4と、端子11に接続されるように設けられるプロセッサモジュール10とを備える。
− 背面焦点距離の測定;
− 焦点距離の測定;
− 色収差の測定(幾つかの光源が存在する場合);
− 収差の測定;
− 像面湾曲の測定;
− 歪みの測定;
− 視野に応じた照明の変化及び口径食の測定;
− 視野の全ての測定点における点像分布関数PSFの計算;そして、
− 視野の全ての測定点における変調伝達関数MTFの計算(及び、異なる波長に関して、また、必要に応じて、MTFの計算において色収差を考慮に入れて);
である。
− 歪み値及び口径食値を含む測定角の組と、ゼルニケ係数の組CZとに関する表面ISのグラフ表示の形態である、波面表面データSF;
− 異なる測定角におけるプロファイル(PR)と、周波数に応じたコントラストの変化の曲線CFと、合焦位置に応じたコントラストの変化の曲線CPと、測定角に応じた像面湾曲及びコントラストの測定値の集計テーブルCAとを含む変調伝達関数(MTF)データ;
である。
Claims (33)
- 光学系(L)を特性評価するための機器(1)であって:
− 照明光ビーム(FE)を放射するための一次ソース手段(3)と;
− 前記光学系(L)を取り外し可能に受けるための手段(21)と;
− 特性評価されるべき前記光学系(L)へ向けてこの照明光ビーム(FE)を方向付けるための手段(6,5)と;
− 前記光学系(L)からくるビームを受けるために配置される波面解析手段(4)と;
− 波面測定手段(4)からくる測定信号を処理して、光学系(L)の特性データを供給するための手段(10)と;
を備える前記機器(1)において、
前記機器が、前記光学系(L)の焦点面内に実質的に配置される拡散手段(22)を更に備え、それにより、前記光学系(L)を通過して前記波面解析手段(4)へと向けられる解析ビーム(FA)と呼ばれる二次ビームを発生する、二次ソースを形成することを特徴とする、前記機器(1)。 - 特性評価されるべき前記光学系(L)によってビームが合焦される外側経路上の点に、実質的に拡散手段(22)を位置決めするための手段(28)を更に備えることを特徴とする、請求項1に記載の機器(1)。
- 位置決め手段(28)を配置して、特性評価されるべき光学系(L)の平面に対して実質的に垂直方向に拡散手段を移動させることを特徴とする、請求項2に記載の機器(1)。
- 特性評価されるべき光学系に対する前記拡散手段(22)の移動を制御するための手段を更に備えること;並びに、
処理手段を配置して、前記波面解析手段(4)からくる信号とこの移動測定値とを処理し、それによって、測定されるべき光学系(L)の焦点距離に関するデータを提供すること;を特徴とする、請求項3に記載の機器(1)。 - 波面解析手段(4)の測定面と、特性評価されるべき光学系(L)の瞳孔とを光学的に共役させるための手段を更に備えることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の機器(1)。
- 光学的共役手段が光出力を有さないことを特徴とする、請求項5に記載の機器(1)。
- 特性評価されるべき前記光学系(L)からくる解析ビーム(FA)から照明ビーム(FE)を分離して、前記解析ビーム(FA)を波面解析手段(4)へと向けるための光学手段(5)を更に備えることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の機器(1)。
- 一次ソース手段(3)が、第1の波長の第1光源(31)と、第2の波長の第2光源(32)とを備えること;及び
処理手段(10)を配置して、特性評価されるべき光学系(L)の色収差の測定値を提供すること;
を特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の機器(1)。 - 特性評価されるべき光学系(L)を取り外し可能に受けるように配置される搭載手段(21)を更に備え、前記搭載手段(21)は、拡散手段(22)の平面に対して実質的に平行な搭載面(X,Y)を規定することを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の機器(1)。
- 搭載手段(21)を、それらの回転軸(Z)に対して所定の角度にわたって回転させるための手段(29)を更に備えることを特徴とする、請求項9に記載の機器(1)。
- 搭載手段(21)及び拡散手段(22)が構造体(2)内に含まれ、そして、前記構造体(2)は、特性評価されるべき光学系(L)上の照明ビーム(FE)の方向に対して実質的に垂直な旋回軸(X)を中心に、所定の角度(θ)にわたって旋回することができることを特徴とする、請求項9又は10に記載の機器(1)。
- 拡散手段(22)を、搭載手段(21)の平面と実質的に平行なそれらの面内で、振動させるための手段を更に備えることを特徴とする、請求項9〜11のいずれか一項に記載の機器(1)。
- 拡散手段(22)上の照明ビーム(FE)の合焦点を実質的に通過する回転軸を中心に、前記拡散手段(22)を回転させるための手段(23)を更に備えることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載の機器(1)。
- 光学系を通過した照明ビームの合焦点を拡散手段上で移動させるための手段を更に備えることを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一項に記載の機器(1)。
- ビーム移動手段は、マウント(201)に搭載されるとともに、前記照明ビーム及び解析ビームに共通の光路の一部に配置されるプリズム(200)を備えることを特徴とし、
ここで、前記マウント(201)は、それ自体を中心に且つZ軸を中心に所定の角度(202)にわたって回転するものとする、請求項14に記載の機器(1)。 - 照明ビーム(FE)と解析ビーム(FA)との間の共通の照明−解析経路によって引き起こされる迷反射を制限するための手段(7)を更に備えることを特徴とする、請求項1〜15のいずれか一項に記載の機器(1)。
- 迷反射を制限する手段として、セパレータ手段(5)と波面解析手段(4)との間に配置される空間フィルタリング手段(7)を更に備えることを特徴とする、請求項16に記載の機器(1)。
- 迷反射を制限する手段として、照明ビームを偏光するための第1の手段と、照明ビームの偏光に対して90°オフセットされる軸に沿って、解析ビームを偏光させるための第2の手段とを更に備え、ここで、拡散手段が前記照明ビームの偏光解消を保証することを特徴とする、請求項16又は17に記載の機器(1)。
- 迷反射を制限する手段として、共通の照明−解析経路上に配置される4分の1波長板を更に備えることを特徴とする、請求項18に記載の機器。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載の機器で実施される、光学系(L)を特性評価するための方法であって:
− 予めマウント(21)上に配置される特性評価されるべき前記光学系(L)へと向けられる照明光ビーム(FE)の放射と;
− 前記光学系(L)からくる解析ビームに関して行なわれる波面解析と;
− 光学系(L)の特性データを供給するための、波面解析からくる測定信号の処理と;
を含む前記方法において、
光学系(L)を通過する照明ビーム(FE)を拡散素子上に合焦させて、前記光学系(L)を通過して波面解析を受ける二次解析ビームを発生する二次光源を形成することを特徴とする、前記方法。 - 特性評価されるべき光学系(L)によってビームが合焦される外側経路上の点に、拡散手段(22)を実質的に位置決めすることを更に含むことを特徴とする、請求項20に記載の方法。
- 特性評価されるべき光学系(L)に対する拡散手段(22)の移動の制御を更に含み、そして、前記光学系の焦点距離データを提供するためのこの移動測定値及び波面解析信号の処理を更に含むことを特徴とする、請求項21に記載の方法。
- 照明ビーム(FE)の放射が、第1の波長の放射と第2の波長の放射とを含み、そして、前記第1及び第2の波長で行なわれる波面解析に基づいて、特性評価されるべき光学系(L)の色収差を測定するように、処理手続きを設定することを特徴とする、請求項20〜22のいずれか一項に記載の方法。
- 特性評価されるべき光学系(L)のそれ自体の一連の回転を更に含むことを特徴とする請求項20〜23のいずれか一項に記載の方法。
- 光学系(L)へ向かう照明ビーム(FE)の方向に対して実質的に垂直な旋回軸(X)を中心とする所定の角度にわたる、拡散素子(22)及び特性評価されるべき前記光学系(L)の一連の旋回を更に含むことを特徴とする、請求項20〜24のいずれか一項に記載の方法。
- 光学系(L)を通過した照明ビーム(FE)の焦点と拡散素子(22)との間の一連の相対的な移動を更に含むことを特徴とする、請求項20〜25のいずれか一項に記載の方法。
- − 特性評価されるべき光学系(L)の視野の中心で測定を行う、第1の測定シーケンスと;
− 特性評価されるべき前記光学系(L)の視野内で測定を行なう、第2の測定シーケンスと;
を更に含むことを特徴とする、請求項20〜26のいずれか一項に記載の方法。 - 特性評価されるべき光学系(L)の視野の中心での測定から視野内での測定へと至る角度オフセットが、特性評価されるべき前記光学系(L)及び拡散素子(22)を、照明ビーム(FE)の入射方向に対して実質的に垂直な軸に沿っている所定の視野角にわたって、旋回させることによって得られることを特徴とする、請求項27に記載の方法。
- 可変視野角で行なわれる第1及び第2の測定シーケンスに基づいて、特性評価されるべき光学系(L)の像面湾曲を決定することを更に含むことを特徴とする、請求項28に記載の方法。
- 可変視野角で行なわれる第1及び第2の測定シーケンスに基づいて、視野内の焦点距離を測定することを更に含むことを特徴とする、請求項27〜29のいずれか一項に記載の方法。
- 視野の中心での焦点距離に対する視野内の焦点距離の変化を測定して、特性評価されるべき光学系(L)の歪みの測定値を提供することを更に含むことを特徴とする、請求項30に記載の方法。
- 可変視野角に関して測定される視野の任意の点において、特性評価されるべき光学系(L)の瞳孔の形状を測定して、前記光学系(L)の想定し得る口径食の直接的な決定をもたらすことを更に含むことを特徴とする、請求項27〜31のいずれか一項に記載の方法。
- 測定視野に応じて波面解析器(4)で入射光束を測定して、視野角に応じて照明の変化の決定をもたらすことを特徴とする、請求項27〜32のいずれか一項に記載の方法。
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Families Citing this family (7)
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DE102011119806B4 (de) * | 2011-11-25 | 2020-10-15 | Carl Zeiss Vision International Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Sichtbarmachen eines Signierzeichens auf einem Brillenglas |
DE102013008645B3 (de) * | 2013-05-21 | 2014-08-21 | Alsitec S.A.R.L. | Bearbeitungskopf für eine Laserbearbeitungsvorrichtung, Laserbearbeitungsvorrichtung sowie Verfahren zum Messen von Veränderungen der Brennweite einer in einem Bearbeitungskopf enthaltenen Fokussieroptik |
FR3017964B1 (fr) | 2014-02-27 | 2016-03-25 | Essilor Int | Instrument optique pour reperer au moins un point caracteristique d'une lentille ophtalmique |
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JP7298360B2 (ja) | 2019-07-23 | 2023-06-27 | 凸版印刷株式会社 | 包装容器 |
CN113916507B (zh) * | 2021-10-11 | 2024-03-08 | 北京环境特性研究所 | 小空间高集成度红外共孔径光学***测试装置及方法 |
DE102023200924A1 (de) | 2023-02-06 | 2024-02-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messvorrichtung zur interferometrischen Bestimmung einer Oberflächenform |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0470539A (ja) * | 1990-07-12 | 1992-03-05 | Ricoh Co Ltd | 色収差測定方法及び測定装置 |
JPH1128188A (ja) * | 1997-05-13 | 1999-02-02 | Topcon Corp | 光学特性測定装置 |
JP2001524662A (ja) * | 1997-11-21 | 2001-12-04 | オートナマス・テクノロジーズ・コーポレーション | 波面分析を用いた光学系の客観測定と補正 |
JP2003102689A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-08 | Carl Zeiss:Fa | 眼の光学収差を測定するための方法及び装置 |
JP2003533320A (ja) * | 2000-05-20 | 2003-11-11 | カール−ツアイス−スチフツング | 眼の屈折誤差を測定するための方法及び装置 |
JP2004325173A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Olympus Corp | レンズ軸上軸外点像観察装置および方法 |
JP2005501640A (ja) * | 2001-09-12 | 2005-01-20 | ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド | 眼用波面測定装置 |
JP2005083824A (ja) * | 2003-09-05 | 2005-03-31 | Olympus Corp | 波面収差測定装置 |
JP2007069283A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Nikon Corp | 加工装置および加工装置を用いた製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1403911A (en) * | 1972-07-26 | 1975-08-28 | Sira Institute | Method and apparatus for testing optical components |
US6148097A (en) * | 1995-06-07 | 2000-11-14 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical member inspecting apparatus and method of inspection thereof |
US5847822A (en) * | 1995-08-29 | 1998-12-08 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical element inspecting apparatus |
JP3613906B2 (ja) * | 1996-09-20 | 2005-01-26 | 株式会社ニコン | 波面収差測定装置 |
CN1168971C (zh) * | 1998-04-22 | 2004-09-29 | 株式会社理光 | 双折射测定方法及其装置 |
US6687396B1 (en) * | 1998-07-29 | 2004-02-03 | Pentax Corporation | Optical member inspection apparatus, image-processing apparatus, image-processing method, and computer readable medium |
TW550377B (en) * | 2000-02-23 | 2003-09-01 | Zeiss Stiftung | Apparatus for wave-front detection |
JP3730831B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2006-01-05 | パイオニア株式会社 | 収差測定装置及び調整装置 |
AU2003240945A1 (en) * | 2002-05-31 | 2003-12-19 | Wavefront Sciences, Inc. | Methhod and system for sensing and analyzing a wavefront of an optically transmissive system |
JP4343559B2 (ja) * | 2003-03-07 | 2009-10-14 | キヤノン株式会社 | 収差測定装置 |
DE10333426B4 (de) | 2003-07-17 | 2006-02-09 | Carl Zeiss | Verfahren und Vorrichtung zum Sichtbarmachen eines Signierzeichens auf einem Brillenglas |
US20050105044A1 (en) * | 2003-11-14 | 2005-05-19 | Laurence Warden | Lensometers and wavefront sensors and methods of measuring aberration |
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2008
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---|---|---|---|---|
JPH0470539A (ja) * | 1990-07-12 | 1992-03-05 | Ricoh Co Ltd | 色収差測定方法及び測定装置 |
JPH1128188A (ja) * | 1997-05-13 | 1999-02-02 | Topcon Corp | 光学特性測定装置 |
JP2001524662A (ja) * | 1997-11-21 | 2001-12-04 | オートナマス・テクノロジーズ・コーポレーション | 波面分析を用いた光学系の客観測定と補正 |
JP2003533320A (ja) * | 2000-05-20 | 2003-11-11 | カール−ツアイス−スチフツング | 眼の屈折誤差を測定するための方法及び装置 |
JP2005501640A (ja) * | 2001-09-12 | 2005-01-20 | ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド | 眼用波面測定装置 |
JP2003102689A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-08 | Carl Zeiss:Fa | 眼の光学収差を測定するための方法及び装置 |
JP2004325173A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Olympus Corp | レンズ軸上軸外点像観察装置および方法 |
JP2005083824A (ja) * | 2003-09-05 | 2005-03-31 | Olympus Corp | 波面収差測定装置 |
JP2007069283A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Nikon Corp | 加工装置および加工装置を用いた製造方法 |
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