JP2011507293A - マイクロリソグラフィ投影露光装置 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図3
Description
投影露光装置の照明光学系の射出瞳の最適な構造化をレチクル上の結像されるマスク構造の関数として計算する方法は、例えば、US6,563,566B2及びUS2004/0265707A1から公知である。
この場合、射出瞳の構造化は、射出瞳内の強度分布と意味的に同等である。専門用語では、射出瞳の構造化の代わりに設定という用語も用いられる。
従って、射出瞳の構造化、又は同等的に射出瞳内の強度分布は、開口制限絞りの虚像又は実像の像平面にわたる強度分布、フーリエ光学系の瞳平面内の面にわたる強度分布、又は位置/像平面又は視野平面内での角度範囲又は角度空間にわたる強度分布のいずれかとして説明することができる。
テレセントリック性の場合には、多くの場合に、幾何学的テレセントリック性とエネルギ的テレセントリック性の間の区別もつけられる(下記を参照されたい)。更に、幾何学的テレセントリック性の場合には、主光線テレセントリック性(下記を参照されたい)と射出瞳の均一で回転対称な充填を有する幾何学的テレセントリック性との間で区別がつけられる。幾何学的テレセントリック性は、ゼロと最大周辺角度値との間で変えることができる制限角度値までの光による射出瞳の均一で回転対称な充填の場合の重心角度値、又は中心光線角度の正弦と意味において同等である。
外側σ=角度値(90%強度)/sin(γ)
物体視野点の主光線テレセントリック性は、物体視野点の位置における主光線の光軸又はそれに対して平行な軸に対する角度を意味することを意図したものである。この場合、主光線は、物体視野点から見て、射出瞳の幾何学的中心から出射する光線である。
内側σ=角度値(10%強度)/sin(γ)
テレセントリック性は、それに対する異なる捉え方に起因して独特な量ではないので、本出願の範囲内では重心角度値、すなわち、重心角度又は中心光線角度の正弦を独特な比較可能な量として用いることにする。この量は、射出瞳内の強度分布の中心光線角度のエネルギ的ファクタ又は幾何学的ファクタの両方を含み、最終的にマスク結像の結像処理に対する重心角度又は中心光線角度の全体的な効果を説明する量をも表している。
射出瞳の強度分布の楕円度を計算するために、射出瞳は、4つの四分円へと再分割される。この場合、x方向とy方向とを有する物体視野平面内の座標系に関して、四分円を配置するのに2つの従来の選択肢が存在する。四分円の第1の配列では、射出瞳は、x方向に1つの線によって分割され、y方向に1つの線によって分割される。この分割をxy分割と呼ぶ。
この場合、射出瞳内の強度分布の楕円度は、射出瞳の2つのH四分円内の強度の和と、射出瞳の2つのV四分円内の強度の和との間の差をこれらの2つの和の合計に対して正規化したものに100パーセントを乗じたマグニチュード値を意味することを意図したものである。射出瞳のXY分割における楕円度も同様に定められる。
本発明によると、80、000個よりも少ないミラーしか持たない投影露光装置の多ミラーアレイ(MMA)の照明の時間的安定化は、本発明による第1の投影露光装置に関連して上述したように、DOEの光混合特性を再現するのに有利であることが見出された。従って、露光工程おいて外側σ及び/又は内側σが若干しか異ならない2つの環状設定の間で、投影露光装置のユーザが意図する変更は、大きな変動を伴わずに、更に、環状設定の形態にある望ましい構造化と比較して可能な最低の逸脱しか伴わずに高精度で再現可能に実施することができる。従って、本発明によると、投影露光装置のユーザは、外側σ及び/又は内側σが若干しか異ならない2つの環状設定、又は射出瞳内の望ましい強度分布の間で、迅速かつ正確に、時間的に安定して、更に、再現可能に変更を行うことができる。
本発明の更に別の利点及び特徴は、本発明により提案する投影露光装置に関する従属請求項、及び図面を利用した例示的な実施形態の説明に見ることができる。
この目的は、導入部に言及した照明光学系、すなわち、物体視野の各物体視野点に関連付けられた射出瞳を有し、物体視野点に関連付けられた射出瞳内の強度分布を調節するための複数のミラーを有する少なくとも1つの多ミラーアレイ(MMA)を含み、光源と多ミラーアレイ(MMA)の間に照明光線の照明光線束を有し、多ミラーアレイ(MMA)の照明を時間的に安定化するための少なくとも1つの光学系を含み、この時間的安定化が、多ミラーアレイ(MMA)上での照明光線束の照明光線の重ね合わせによって実施される、物体視野点を有する物体視野の物体平面内での均一な照明のためのマイクロリソグラフィのための投影露光装置のための照明光学系によって達成される。
本発明によると、多ミラーアレイ(MMA)の照明のための光源の照明光線束の照明光線の重ね合わせは、投影露光装置の光源の時間的及び/又は空間的な変動に対する照明の時間的安定化、及び従って射出瞳内の強度分布の安定化を有利に引き起こす。
本発明の更に別の利点及び特徴は、本発明により提案する照明光学系に関する従属請求項、及び図面を利用した例示的な実施形態の説明に見ることができる。
この目的は、単位[nm]の投影露光装置作動光波長λを有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置のための照明光学系に適切であり、多ミラーアレイの各ミラーが、少なくとも1つの軸の回りに最大傾斜角度値sin(α)だけ回転可能であり、200[mm*nm]*sin(α)/λよりも大きい最小縁部長さを有する導入部で言及した多ミラーアレイ(MMA)によって達成される。
本発明者は、多ミラーアレイ(MMA)が、100μmよりも短い縁部長さ、及び4°を超える最大傾斜角を有するミラーを40、000個よりも多く有する多ミラーアレイ(MMA)が、例えば、193nmの波長におけるこの目的に対して利用可能な限り、外側σ及び/又は内側σが若干しか異ならない2つの環状設定の間の迅速な変更を多ミラーアレイ(MMA)を有する投影露光装置によってより容易に、高精度で、時間的に安定して、更に、再現可能に達成することができることを見出した。これは、この場合、以下の考察が示すことになるように、個々のミラーのスポットによって射出瞳の構造化を極めて微細に構成することができ、投影露光装置をユーザに対して許容可能な設置空間内に収容することができることによる。
しかし、特に、以下の考察は、結局は、40、000個よりも少ないミラー、及び/又は4°よりも小さい最大ミラー傾斜角しか持たない多ミラーアレイ(MMA)に対する操作方法も提供する。
一般的に、照明光学系の瞳平面には、固有の光混合を有する視野形成要素(FDE)、又はそれに続く視野平面にそれに続く光混合を有する屈折光学要素(ROE)が存在する。両方の場合に、光混合は、照明光学系の物体視野の均一な照明を発生させるように機能する。瞳平面内のこれらの要素の機能構成は、ある一定の最小瞳サイズを必要とする。瞳平面内の瞳サイズは、最大傾斜角と、多ミラーアレイ(MMA)と瞳平面の間のフーリエ光学系の焦点距離とによって決められる。従って、最大傾斜角を更に大きくすることができない場合には、例えば、フーリエ光学系の焦点距離を長くすることができる。しかし、フーリエ光学系の焦点距離の2倍は、それに続く瞳平面からの多ミラーアレイ(MMA)の距離をも定めるので、従来、焦点距離のいずれか任意の延長に対して技術的設置空間制限が課せられる。
本発明の更に別の利点及び特徴は、本発明により提案する多ミラーアレイに関する従属請求項、及び図面を利用した例示的な実施形態の説明に見ることができる。
この第4の目的は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置のための照明光学系の多ミラーアレイ(MMA)の照明を均一化するための導入部で言及した光学系によって達成される。この場合、本発明による光学系は、発散及び光源から多ミラーアレイ(MMA)への照明光方向を有する照明光線束を有し、照明光方向に光学系の後の照明光線束の発散は、光学系の前の照明光線束の発散の5倍よりも小さい。
本発明の更に別の利点及び特徴は、本発明により提案する光学系に関する従属請求項、及び図面を利用した例示的な実施形態の説明に見ることができる。
この第5の目的は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置のための照明光学系のためのレーザの照明光線束を調整するための導入部で言及した光学調整ユニットによって達成される。この場合のレーザは、1つよりも多くのコヒーレントなレーザモード及びレーザ出力を有する。更に、照明光線束は、発散、光線又は光束プロフィール、及び偏光状態を有し、本発明による光学調整ユニットは、レーザ出力と多ミラーアレイ(MMA)との間で照明光線束の少なくとも発散、光線又は光束プロフィール、及び/又は偏光状態を修正する。
本発明の更に別の利点及び特徴は、本発明により提案する光学調整ユニットに関する従属請求項、及び図面を利用した例示的な実施形態の説明に見ることができる。
本発明によると、この目的は、基板の少なくとも一部の上に感光材料の層が付加された基板を準備する段階と、結像される構造を含むマスクを準備する段階、及び/又は照明光学系のための光学調整ユニットを準備する段階、及び/又は照明光学系のための光学系を準備する段階、及び/又は照明光学系のための多ミラーアレイを準備する段階、及び/又は投影露光装置のための照明光学系を準備する段階、及び/又は投影露光装置を準備する段階と、マスクの少なくとも一部を層のある一定の領域上に投影露光装置の投影対物系を利用して投影する段階とを有する微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ製造の方法、並びにそのような方法によって製造される微細構造化構成要素によって達成される。
これらの主題の利点は、投影露光装置、照明光学系、多ミラーアレイ(MMA)、光学系、及び光学調整ユニットに関連して上述した利点、及び図面を利用した例示的な実施形態の説明に示す利点から見ることができる。
本発明の様々な特徴及び利点は、以下の詳細説明を添付図面と共に参照することによってより容易に理解することができるであろう。
本出願の範囲内では、物体視野点の特定の照明角度が、正接条件によって対応する射出瞳位置に関連付けられるので、物体視野点の照明角度分布の生成は、本明細書ではこの物体視野点の射出瞳内に強度分布を生成することと意味において同等である。
露光処理段階の後には、露光された基板9は、それに続く処理段階、例えば、エッチングを受ける。一般的に、その後基板9は新しい感光層を受け取り、新しい露光処理段階を受ける。これらの処理段階は、完成したマイクロチップ又は完成した微細構造化構成要素が得られるまで繰り返される。
図2の投影露光装置は、図1の投影露光装置とは、照明光学系においてのみ異なる。図2の照明光学系は、図1の照明光学系とは、2次光源を発生させるためのロッド5が不在である点で異なる。更に、図2の照明光学系は、視野形成要素3c(FDE)が、瞳平面内で必要な視野角度の発生を保証するだけでなく、2段ハニカムコンデンサーとしての構造によって2次光源の発生を保証する点でも異なる。従って、図2の視野形成要素3cは、図1の屈折光学要素(ROE)3bの機能と、図1のロッド5の機能の両方を含む。2段ハニカムコンデンサーとして構成された視野形成要素3cは、一方で瞳平面に必要な視野角を導入し、他方で瞳平面に2次光源を発生させる。従って、視野にわたって望ましい均一化された強度分布を有する対応する視野形状が、2次光源の光の重ね合わせによって照明光学系のそれに続く視野平面に発生する。
図3の瞳形成ユニットは、図1に図示の実施形態では屈折光学要素3bの近くに配置された瞳平面44内で終端を成し、図2に図示の実施形態では視野形成要素3cの近くに配置された瞳平面44内で終端を成す。多ミラーアレイ(MMA)38は、図1及び図2の回折光学要素3aの代わりに瞳平面44内で重ね合わされる照明角度分布を生成し、この瞳平面に強度分布を形成する。瞳平面44のこの強度分布は、理想的なフーリエ光学系を仮定する限り、射出瞳内の強度分布、又は物体視野点の照明角度分布に対応する。
ハニカムコンデンサー32の後に照明光線部分束の発散を決めるのは、破線として表している光線経路である。更に、この発散は、中黒円bの形態で記号表記している。中黒円bは、ハニカムコンデンサーの前の中黒円よりも大きい面積を有し、従って、照明光線部分束に対するハニカムコンデンサー32の発散増大効果を表している。
照明光線束12の伝播方向に多ミラーアレイの後に配置されたコンデンサー42は任意的であり、特に、曲面ミラー38sが用いられる場合は省くことができる。
図14は、付加的な絞りデバイス600が設けられている点で図12に図示の実施形態とは異なる実施形態を示している。絞りデバイス600は、調整ユニット400内で発生したあらゆる散乱光を有利に遮断することができるように、対称化された強度分布402と403とを有する照明光線束12の境界を定めるのに用いられる。
図18は、本発明による瞳形成ユニットの別の実施形態を略示している。この実施形態では、中継光学系又はコンデンサー光学系34は、2つの別々の中継光学系34aと34bとに分割される。図18では、従来の実施形態とは対照的に、互いに垂直に配置された2つの薄い光学プレートから成る「補助レンズ」によって形成された光学系が、光混合機器32bとして用いられる。互いに垂直に配置された2つの薄いプレートは、多ミラーアレイ38に対する望ましい光混合効果を保証する。
図19は、本発明による瞳形成ユニットの別の実施形態を略示している。この実施形態では、光学調整ユニット32cが用いられ、それによって対称化において光の偏光特性を頼りとせずに、調整ユニット32cの出力において照明光線束が対称化される。照明光線束の一部は、ミラー37a及び37bによって偏向される。次に、照明光線束のこの部分は、いわゆるダブプリズム35を通過する。ダブプリズム35内では、光学調整ユニット32cの出力において、光の伝播方向に沿った軸に関して互いに対称化された2つの照明光線部分束によって形成される照明光線束が存在するように、照明光線束の実際の鏡像化又は対称化が発生する。
照明光線束12の残りの部分は、ビームスプリッタプレート810を通過して偏光依存のビーム分割立方体816上に衝突する。入射する照明光線束12は、ビーム分割立方体816が照明光線束12を完全に反射するように選択された直線偏光状態にある。反射光線束12は4分の1波長板818を通過し、光学系の光軸822に対して垂直に延びる回転軸の回りに回転振動を実施することができる平面ミラー820上に衝突する。ミラー820にはアクチュエータ822が結合され、このアクチュエータは、図20に破線及び双方向矢印で示しているように、ミラー820が回転振動を実施するようにミラー820に対して力を作用する。アクチュエータ822は、ミラー制御ユニット824を通じて発散測定ユニット814に接続される。
ビーム分割立方体816の反対側には、ミラー820をハニカムコンデンサー32の第1のチャンネルプレート828上に結像する中継光学系826が設けられる。
照明光線束12のビーム分割立方体816によって反射された部分は、4分の1波長板818上に衝突する。4分の1波長板818では、直線偏光状態が円偏光状態へと変換される。円偏光光は、振動しているミラー820上に衝突し、それによって所定の時点において照明光線束12の伝播方向が、ミラー820の瞬間的な回転角によって決められる度数だけ傾斜される。
ミラー820の回転振動に起因して、照明光線部分束121、122は、ハニカムコンデンサー32上に傾斜して衝突する。照明光線束がハニカムコンデンサー32上に衝突する際の傾斜角は、ミラー820の回転振動の周期によって決められる周期で周期的に時間変化する。図20では、照明光線部分束のこの連続傾斜を照明光線部分束121において実線と破線とで例示している。
図22に示している後の時点では、照明光線部分束121は、光軸822に対して平行に伝播するようにミラー820によって傾斜される。この時点では第2のチャンネルプレート830の対応するチャンネルの中心部分が、収束する照明光線部分束821によって照明される。
照明光線部分束121の発散変化の結果として第2のチャンネルプレート830のチャンネル上の照明区域が過度に小さくなることを回避するか又はこれらの区域が同じく回避すべきである隣接チャンネルへの拡張を起こすことを回避するために、光学系は、発散測定ユニット814を用いて到着する照明光線束12の発散を測定する。測定値はミラー制御ユニット824に通信され、ミラー制御ユニット824は、図21から図23に示している条件が成立するように、すなわち、第2のチャンネルプレート830の光入射面832が、いずれか任意の時点ではなく時間積分的にではあるが完全に照明されるか、又は少なくとも過度に高い光強度によって引き起こされる損傷を阻止する区域にわたって照明されるように、アクチュエータ822によって生成される回転振動の最大振幅を制御する。
発散が既知であるか又はその変化が既知の範囲にある場合には、ビーム分割プレート810、フーリエ光学系812、及び発散測定ユニット814を不要にすることができる。
別の実施形態では、ミラー820は回転振動を実施せず、適切なアクチュエータを用いて屈曲され、屈曲軸は、作図のための紙面に対して垂直に延びている。
別の代替的な実施形態では、4分の1波長板818が、別の偏光マニピュレータ、例えば、偏光方向を45°の角度だけ回転させる偏光回転子によって置換される。そのような偏光回転子は、例えば、光学活性材料を含むことができる。
側面923から反射された光線920が第1の面914上に入射する場合、ある一定の分量の光は、隣接する第2ロッド912に結合することができ、それによってビーム分割機能が得られる。反射部分は、再度、側面923に向けて誘導され、透過部分は、第2ロッド912の側面925上に衝突する。このようにして光線は、第1又は第2の面914、916の一方の上に衝突する度に2つの光線に分割されることになる。
混合要素903の前端面921の大部分が照明光線束によって照明される場合には、短い長手寸法を有する混合要素903を用いて非常に有効な光混合効果が得られる。この実施形態の最も有意な利点のうちの1つは、光学境界においていかなる光も失われないことである。唯一の光損失は、ロッド910、912内の光吸収の結果として発生し、この光吸収は、非常に透過性の高い光学媒体が用いられる場合は非常に低く保つことができる。
一実施形態では、照明光線束は、193nmの波長を有し、第1及び第2の面914、916に対する入射角は45°であり、距離Dは100nm、すなわち、光波長の約半分である。それによって面914、916において約50:50というビーム分割比を生じることになる。必要な平坦度及び最小粗度を有するロッドは、例えば、市販でスイスのSwissopticから入手可能である。
混合要素903の後端面の後方には、プリズム952が配置される。プリズム952は、光線束が平行に延びるように、様々な方向の下に後端面から出射する光線束を傾斜させる。この目的のために、プリズム952は、光線束が混合要素903から出射する際の角度に適応された傾きを有する2つの傾いた端面を有する。プリズム952の代わりに適切なミラー配列を用いることができ、これは当業技術でそれ自体公知である。
光線束は、2つの反対の角度の下に混合要素903の後端面から出射するので、混合要素903の前端面を同様に2つの反対の角度で照明するように考えることができる。それによって、混合ユニット950によって得られる光混合効果が更に改善される。混合要素903の前端面への光の結合を容易にするために、これらの端面は、図25の最上部の混合要素903において点線954によって示しているように、プリズムの形状を有することができる。
別の代替的な実施形態では、ユニットの後端面から出射する光が、それに続くユニットの前端面に結合するように、複数の混合ユニット(しかし、プリズム950を持たない)が、前後にカスケード方式で配置される。プリズム950は、カスケードの最後のユニットの後方に配置することができる。
当然ながら光混合要素1003は、図25に示す混合ユニット950に対して用いることができる。
Lummer−Gehrkeプレートとは対照的に、屈折光束1120’が遠視野内で干渉パターンを生成することを回避すべきである。この回避は、平板1114内の2つの反射の間の距離aが、光の時間的な干渉長程度である場合に保証することができる。193nmの波長、及び1.5pmの帯域幅を有する光では、a=2.5cmである。偶然なことに、同じ条件は、図24から図26に図示の実施形態にも当て嵌まる。
従って、これらの様々な実施形態は、物体視野の各物体視野点に関連付けられた射出瞳を有し、物体視野点に関連付けられた射出瞳内の強度分布を調節するための複数のミラーを有する少なくとも1つの多ミラーアレイ(MMA)を含み、光源と多ミラーアレイ(MMA)の間に照明光線の照明光線束を有し、多ミラーアレイ(MMA)の照明を時間的に安定化するための少なくとも1つの光学系を含み、この時間的安定化が、多ミラーアレイ(MMA)上での照明光線束の照明光線の重ね合わせによって実施される、物体視野点を有する物体視野の物体平面内での均一な照明のためのマイクロリソグラフィのための投影露光装置のための本発明による照明光学系を示している。
この分離により、図3、図9、及び図10の本発明による瞳形成ユニット、図4から図8及び図16から図27の本発明による光学系、並びに図11から図14の本発明による光学調整ユニットを有する投影露光装置によって生成される物体視野点の射出瞳内の強度分布を重心角度値、楕円度、及び極均衡に関して望ましい強度分布から殆ど逸脱させないことが可能である。
この分離により、本発明による投影露光装置によって物体視野点の射出瞳内に生成される第1の強度分布を生成される第2の強度分布から外側σ又は内側σにおいて殆ど逸脱させないことが同様に可能である。
図11から図15の本発明による光学調整ユニットは、レーザ出力と多ミラーアレイ(MMA)38との間で、照明光線束12の位置、発散、光線又は光束プロフィール、及び/又は偏光状態を修正することができる。
特許請求の範囲に収まる個々の実施形態、又は上述の例示的な実施形態において提供した個々の実施形態の特徴の組合せから生じる実施形態もまた、本発明の対象とすべきものであると考えられる。
言及することができる例は、図16による実施形態と図17による実施形態との組合せであり、この場合、インテグレーター32と32aは、光伝播方向の連続配列によって共通して作動させることができる。同様に、例示的に示されるものは、図12から図14に関連して例として説明した調整ユニット400のインテグレーター32又は32aとの多くの組合せの可能性であり、この場合、これらの2つのユニットを光方向に多ミラーアレイ38の前にあらゆる望ましい順序で照明光線束内に連続して配置することができる。
更に、上述の個々の実施形態の特徴を組み合わせることから生じる実施形態以外に、同じく本発明の対象とすべきものと考えられる本発明による実施形態を異なる実施形態からの特徴を入れ替えることによって得ることができる。
1.a)各々が複数のマイクロレンズを含む2つのプレートを含むハニカム光学インテグレーターと、b)光線束を時間的に変化する入射角を伴って光学インテグレーターのマイクロレンズ上に誘導するように構成された光線束傾斜デバイスとを含む物体視野の物体視野点を物体平面内で照明するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明光学系。
2.デバイスが、ミラー面を有するミラー、及びデバイスの光軸に沿った移動成分を有する、ミラー面の移動を生成するように構成されたアクチュエータを含む条項1に記載の照明光学系。
3.アクチュエータが、光軸に対して0°とは異なる角度、好ましくは、90°の角度だけ傾いた回転軸の回りに上記ミラーの回転振動を引き起こすように構成される条項2に記載の装置。
4.光学系が、偏光依存のビーム分割面、及びビーム分割面とミラーの間に配置された偏光マニピュレータを含む条項1又は条項2に記載の装置。
5.物体視野の各物体視野点に関連付けられた射出瞳を有し、物体視野点の関連付けられた射出瞳内の強度分布を調節するための複数のミラーを有する少なくとも1つの多ミラーアレイ(MMA)を含み、光源と多ミラーアレイ(MMA)の間に照明光線の照明光線束を有し、多ミラーアレイ(MMA)の照明を時間的に安定化するための少なくとも1つの光学系を含み、この時間的安定化が、多ミラーアレイ(MMA)上の照明光線束の照明光線の重ね合わせによって実施される、物体視野点を有する物体視野の物体平面内での均一な照明のためのマイクロリソグラフィのための投影露光装置のための照明光学系。
6.単位[nm]の投影露光装置作動光波長λを有し、多ミラーアレイの各ミラーが、少なくとも1つの軸の回りに最大傾斜角度値sin(α)だけ回転可能であり、最小縁部長さを有し、最小縁部長さが、200[mm*nm]*sin(α)/λよりも大きい、条項5に記載の照明光学系。
7.サイズOFを有する物体視野の照明物体視野面と、サイズAFを有する多ミラーアレイ(MMA)の照明面と、物体視野点の射出瞳の最大周辺角度値sin(γ)とを有し、0.1<c<1である定数c、多ミラーアレイ(MMA)のミラーの最大傾斜角度値sin(α)、物体視野点の射出瞳の最大周辺角度値sin(γ)のうちの最大周辺角度値sin(γ’)を用いて、
AF=c*sin(Y’)/sin(α)*OF
が成り立つ条項6に記載の照明光学系。
8.照明面AFに対する照明される全てのミラーの表面積の和の比としてのフィル・ファクタが10%よりも大きい条項7に記載の照明光学系。
9.0°と60°の間の入射角における多ミラーアレイ(MMA)のミラーの平均反射率が、25%よりも大きい条項5から条項8のいずれか1項に記載の照明光学系。
10.0°と60°の間の入射角における多ミラーアレイ(MMA)のミラーの反射率の平均反射率からの標準偏差が、平均反射率に基づいて表して50%よりも小さい条項9に記載の照明光学系。
11.多ミラーアレイ(MMA)のミラーの少なくとも1つの縁部厚みが、30μmよりも大きい条項5から条項10のいずれか1項に記載の照明光学系。
12.投影露光装置がいわゆるスキャナとして作動され、物体視野点の射出瞳の強度分布が、走査処理中に修正される条項5から条項11のいずれか1項に記載の照明光学系。
13.多ミラーアレイ(MMA)が、2000個と40、000個の間のマイクロミラーを含む条項5から条項12のいずれか1項に記載の照明光学系。
14.多ミラーアレイ(MMA)が、2cm2から80cm2の面広さを有する条項1から条項13のいずれか1項に記載の照明光学系。
15.多ミラーアレイ(MMA)のマイクロミラーによって発生する物体視野点の関連付けられた射出瞳内の照明立体角範囲が、関連付けられた射出瞳の最大周辺角度値sin(γ)に基づいて表して5%よりも小さく、特に、1%よりも小さい最大角度範囲値を有する、物体視野点の射出瞳の最大周辺角度値sin(γ)を有する条項5から条項14のいずれか1項に記載の照明光学系。
16.物体視野点の関連付けられた射出瞳における立体角範囲が、多ミラーアレイ(MMA)の少なくとも2つのミラー、特に、多ミラーアレイ(MMA)の少なくとも4つのミラーにより、非ゼロ強度で、関連付けられた射出瞳の最大周辺角度値に基づいて表して10%よりも小さく、特に、2%よりも小さい角度範囲値を有して照明される、物体視野点の射出瞳の最大周辺角度値sin(γ)を有する条項5から条項15のいずれか1項に記載の照明光学系。
17.多ミラーアレイ(MMA)の各個々のミラーが、10分の1秒以内、好ましくは、100分の1秒以内で望ましい角度に調節することができる条項5から条項16のいずれか1項に記載の照明光学系。
18.多ミラーアレイ(MMA)の各個々のミラーが、少なくとも1つのミラー設定又は少なくとも1つのミラー位置を測定するための少なくとも1つの容量センサ、圧電抵抗センサ、又は光センサを含む条項5から条項17のいずれか1項に記載の照明光学系。
19.全ての物体視野点に対する物体視野点の関連付けられた射出瞳の最大周辺角度値sin(γ)が、0.2よりも大きい、物体視野点の射出瞳の最大周辺角度値sin(γ)を有する条項5から条項18のいずれか1項に記載の照明光学系。
20.光学系が、多ミラーアレイ(MMA)の空間的に均一な照明に向けて構成された条項5から条項19のいずれか1項に記載の照明光学系。
21.照明光方向に光学系の後の照明光線束の発散が、光学系の前の照明光線束の発散の2倍よりも小さい、照明光線束の発散、及び光源から多ミラーアレイ(MMA)への照明光方向を有する条項20に記載の照明光学系。
22.光学系が、少なくとも1つの光学インテグレーターを含む条項1から条項21のいずれか1項に記載の照明光学系。
23.インテグレーターが、ハニカムコンデンサーである条項22に記載の照明光学系。
24.ハニカムコンデンサーが、5mよりも長い焦点距離を有する条項23に記載の照明光学系。
25.光学系が折り畳みビーム経路を有し、折り畳みビーム経路が、少なくとも1つのプリズム又はミラーによって折り返される条項5から条項24のいずれか1項に記載の照明光学系。
26.光学系が、照明光線束の照明光線を多ミラーアレイ(MMA)上で重ね合わせる条項20から条項25のいずれか1項に記載の照明光学系。
27.多ミラーアレイ(MMA)上での照明光線束の非コヒーレントな重ね合わせが、時間的に修正される条項26に記載の照明光学系。
28.非コヒーレントな重ね合わせの時間的修正が、回転楔プレートによって得られる条項27に記載の照明光学系。
29.光学系が、非コヒーレントな重ね合わせを与えるために、照明光線束を散乱させるための光学要素、及び/又は照明光線束を混合するための光学要素を含む条項26又は条項27に記載の照明光学系。
30.散乱光学要素が、1mrad(HWHM)よりも小さく、特に、0.4mrad(HWHM)よりも小さい散乱角を有する散乱ディスクである条項29に記載の照明光学系。
31.混合光学要素が、回折光学要素である条項29に記載の照明光学系。
32.光源と多ミラーアレイ(MMA)の間に光軸を有し、照明光線束の照明光線が、光源と多ミラーアレイ(MMA)の間に光軸に対して垂直にある平面内で光軸に対する高さを有し、照明光線の位相遅延が、光軸に対する照明光線の高さの関数として導入される、条項26又は条項27に記載の照明光学系。
33.照明光線の位相遅延が、光源と多ミラーアレイの間の光学位相要素によって生成される条項32に記載の照明光学系。
34.光学系が、多ミラーアレイ(MMA)のミラーのミラー面上に照明光線束の照明光線を集光するための少なくとも1つの光学デバイスを含む、光源と多ミラーアレイ(MMA)の間に照明光線束の照明光線を有して多ミラーアレイ(MMA)のミラーがミラー面を有する条項5から条項33のいずれか1項に記載の照明光学系。
35.光学デバイスが、レンズアレイ、ミラーアレイ、及び/又は回折光学要素(DOE)を含む条項34に記載の照明光学系。
36.光学系が、レーザの出力と多ミラーアレイ(MMA)との間で照明光線束の少なくとも発散、光線プロフィール、及び/又は偏光状態を修正するための光学調整ユニットを含む、1つよりも多くのコヒーレントなレーザモード及びレーザ出力を有する発散、光線又は光束プロフィール、及び偏光状態を有する照明光線束を発生させるためのレーザを有する条項5から条項35のいずれか1項に記載の照明光学系。
37.光学調整ユニットが、少なくとも1つのアナモフィック要素、非球面要素、自由曲面を有する要素、及び/又はDOEを含む条項36に記載の照明光学系。
38.光学調整ユニットが、少なくとも1つのミラー及び/又はビーム分割面を含む条項36に記載の照明光学系。
39.多ミラーアレイ(MMA)の複数のミラーが、多角形形状で構成された境界を有する条項5から条項38のいずれか1項に記載の照明光学系。
40.多ミラーアレイ(MMA)の複数のミラーが、複数のミラーをファセット方式で配置することを可能にする境界を有する条項5から条項38のいずれか1項に記載の照明光学系。
41.投影露光装置が、いわゆるスキャナとして作動され、境界が、少なくとも1つの対称方向を有し、対称方向が、走査方向に対して平行ではない、条項39から条項40のいずれか1項に記載の照明光学系。
42.多ミラーアレイ(MMA)の複数のミラーが、平面表面から逸脱する凹面又は凸面を有する条項5から条項41のいずれか1項に記載の照明光学系。
43.少なくとも1つのミラーが、多ミラーアレイ(MMA)の別のミラーとは異なる表面積を有する条項5から条項42のいずれか1項に記載の照明光学系。
44.少なくとも1つのミラーが、多ミラーアレイ(MMA)の別のミラーとは異なる面曲率を有する条項5から条項43のいずれか1項に記載の照明光学系。
45.少なくとも1つのミラーが、多ミラーアレイ(MMA)の別のミラーとは異なる、最も近い隣接ミラーからの最短距離を有する条項5から条項44のいずれか1項に記載の照明光学系。
46.照明光学系が、少なくとも1つのミラー特性において異なる少なくとも2つの多ミラーアレイ(MMA)で作動することを意図したものである、条項5から条項45のいずれか1項に記載の照明光学系。
47.少なくとも2つの多ミラーアレイ(MMA)の選択的使用ためのデバイスが設けられる条項46に記載の照明光学系。
48.少なくとも2つの多ミラーアレイ(MMA)を入れ替えるためのデバイスが設けられる条項47に記載の照明光学系。
49.少なくとも2つの多ミラーアレイ(MMA)を同時に作動させることができる条項46に記載の照明光学系。
50.多ミラーアレイの各ミラーが、少なくとも1つの軸の回りに最大傾斜角度値sin(α)だけ回転可能であり、最小縁部長さを有し、最小縁部長さが、200[mm*nm]*sin(α)/λよりも大きい、単位[nm]の投影露光装置作動光波長λを有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置のための照明光学系のための多ミラーアレイ(MMA)。
51.多ミラーアレイ(MMA)の面のある一定のサイズ及び多ミラーアレイ(MMA)のミラーの最大傾斜角度値sin(α)を有し、0.1<c<1である定数c、照明光学系の物体視野平面内の開口数、多ミラーアレイ(MMA)のミラーの最大傾斜角度値sin(α)、及び照明光学系の物体視野平面内の物体視野のサイズOFを用いて、多ミラーアレイの面のサイズが、c*NA/sin(α)*OFによって与えられる、条項50に記載の照明光学系のための多ミラーアレイ(MMA)。
52.多ミラーアレイ(MMA)の面のサイズに対する全てのミラー面の面積の和の比としてのフィル・ファクタが、10%よりも大きい、条項51に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
53.0°と60°の間の入射角における多ミラーアレイ(MMA)のミラーの平均反射率が、25%よりも大きい条項50から条項52のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
54.0°と60°の間の入射角における多ミラーアレイ(MMA)のミラーの反射率の平均反射率からの標準偏差が、平均反射率に基づいて表して50%よりも大きい条項53に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
55.多ミラーアレイ(MMA)のミラーの少なくとも1つの縁部厚みが、30μmよりも大きい条項50から条項54のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
56.多ミラーアレイ(MMA)が、2000個と40、000個の間のマイクロミラーを含む条項50から条項55のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
57.多ミラーアレイ(MMA)が、2cm2から80cm2の面広さを有する条項50から条項56のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
58.多ミラーアレイ(MMA)の各個々のミラーが、10分の1秒以内、好ましくは、100分の1秒以内で望ましい角度に調節することができる条項50から条項57のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
59.多ミラーアレイ(MMA)の各個々のミラーが、少なくとも1つのミラー設定又は少なくとも1つのミラー位置を測定するための少なくとも1つの容量センサ、圧電抵抗センサ、又は光センサを含む条項50から条項58のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
60.多ミラーアレイ(MMA)の複数のミラーが、多角形形状で構成された境界を有する条項50から条項59のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
61.多ミラーアレイ(MMA)の複数のミラーが、複数のミラーをファセット方式で配置することを可能にする境界を有する条項50から条項60のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
62.多ミラーアレイ(MMA)の複数のミラーが、平面表面から逸脱する凹面又は凸面を有する条項102から条項103のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
63.少なくとも1つのミラーが、多ミラーアレイ(MMA)の別のミラーとは異なる表面積を有する条項61から条項62のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
64.少なくとも1つのミラーが、多ミラーアレイ(MMA)の別のミラーとは異なる面曲率を有する条項50から条項63のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
65.少なくとも1つのミラーが、多ミラーアレイ(MMA)の別のミラーとは異なる最も近い隣接ミラーからの最短距離を有する条項50から条項64のいずれか1項に記載の多ミラーアレイ(MMA)。
66.照明光方向に光学系の後の照明光線束の発散が、光学系の前の照明光線束の発散の5倍よりも小さい、照明光線束の発散、及び光源から多ミラーアレイ(MMA)への照明光方向を有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置のための照明光学系の多ミラーアレイの照明を均一化するための光学系。
67.光学系が、少なくとも1つの光学インテグレーターを含む条項66に記載の光学系。
68.インテグレーターが、ハニカムコンデンサーである条項67に記載の光学系。
69.ハニカムコンデンサーが、5mよりも長い焦点距離を有する条項68に記載の光学系。
70.光学系が折り畳みビーム経路を有し、折り畳みビーム経路が、少なくとも1つのプリズム又はミラーによって折り返される条項66から条項69のいずれか1項に記載の光学系。
71.光学系が、照明光線束の照明光線を多ミラーアレイ(MMA)上で非コヒーレントに重ね合わせる条項66から条項70のいずれか1項に記載の光学系。
72.多ミラーアレイ(MMA)上での照明光線束の非コヒーレントな重ね合わせが、時間的に修正される条項71に記載の光学系。
73.非コヒーレントな重ね合わせの時間的修正が、回転楔プレートによって得られる条項72に記載の光学系。
74.光学系が、非コヒーレントな重ね合わせを与えるために、照明光線束を散乱させるための光学要素、及び/又は照明光線束を混合するための光学要素を含む条項71又は条項72に記載の光学系。
75.散乱光学要素が、1mrad(HWHM)よりも小さく、特に、0.4mrad(HWHM)よりも小さい散乱角を有する散乱ディスクである条項74に記載の光学系。
76.混合光学要素が、回折光学要素である条項75に記載の光学系。
77.光源と多ミラーアレイ(MMA)の間に光軸を有し、照明光線束の照明光線が、光源と多ミラーアレイ(MMA)の間に光軸に対して垂直にある平面内で光軸に対する高さを有し、照明光線の位相遅延が、光軸に対する照明光線の高さの関数として導入される条項71又は条項72に記載の光学系。
78.照明光線の位相遅延が、光源と多ミラーアレイの間の光学位相要素によって生成される条項77に記載の光学系。
79.光学系が、多ミラーアレイ(MMA)のミラーのミラー面上に照明光線束の照明光線を集光するための少なくとも1つの光学デバイスを含む、光源と多ミラーアレイ(MMA)の間に照明光線束の照明光線を有して多ミラーアレイ(MMA)のミラーがミラー面を有する条項66から条項78のいずれか1項に記載の光学系。
80.光学デバイスが、レンズアレイ、ミラーアレイ、及び/又は回折光学要素(DOE)を含む条項79に記載の光学系。
81.光学調整ユニットが、レーザ出力と多ミラーアレイ(MMA)との間で照明光線束の少なくとも発散、光線又は光束プロフィール、及び/又は偏光状態を修正する、1つよりも多くのコヒーレントなレーザモード及びレーザ出力を有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置のための照明光学系のためのレーザの発散、光線又は光束プロフィール、及び偏光状態を有する照明光線束を調整するための光学調整ユニット。
82.光学調整ユニットが、少なくとも1つのアナモフィック要素、非球面要素、自由曲面を有する要素、及び/又はDOEを含む条項81に記載の光学調整ユニット。
83.光学調整ユニットが、少なくとも1つのミラー及び/又はビーム分割面を含む条項81に記載の光学調整ユニット。
84.基板の少なくとも一部の上に感光材料の層が付加された基板を準備する段階と、結像される構造を含むマスクを準備する段階と、請求項1から請求項58のいずれか1項に記載の投影露光装置を準備する段階と、マスクの少なくとも一部を層のある一定の領域上に投影露光装置の投影対物系を利用して投影する段階とを含む、微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ製造の方法。
85.基板の少なくとも一部の上に感光材料の層が付加された基板を準備する段階と、結像される構造を含むマスクを準備する段階と、条項5から条項49のいずれか1項に記載の投影露光装置のための照明光学系を準備する段階と、そのような投影露光装置を準備する段階と、マスクの少なくとも一部を層のある一定の領域上に投影露光装置の投影対物系を利用して投影する段階とを含む、微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ製造の方法。
86.基板の少なくとも一部の上に感光材料の層が付加された基板を準備する段階と、結像される構造を含むマスクを準備する段階と、条項50から条項65のいずれか1項に記載の照明光学系のための多ミラーアレイを準備する段階と、投影露光装置のためのそのような照明光学系を準備する段階と、そのような投影露光装置を準備する段階と、マスクの少なくとも一部を層のある一定の領域上に投影露光装置の投影対物系を利用して投影する段階とを含む、微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ製造の方法。
87.基板の少なくとも一部の上に感光材料の層が付加された基板を準備する段階と、結像される構造を含むマスクを準備する段階と、条項66から条項83のいずれか1項に記載の照明光学系のための光学系を準備する段階と、投影露光装置のためのそのような照明光学系を準備する段階と、そのような投影露光装置を準備する段階と、マスクの少なくとも一部を層のある一定の領域上に投影露光装置の投影対物系を利用して投影する段階とを含む、微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ製造の方法。
88.基板の少なくとも一部の上に感光材料の層が付加された基板を準備する段階と、結像される構造を含むマスクを準備する段階と、条項81から条項83のいずれか1項に記載の照明光学系のための光学調整ユニットを準備する段階と、投影露光装置のためのそのような照明光学系を準備する段階と、そのような投影露光装置を準備する段階と、マスクの少なくとも一部を層のある一定の領域上に投影露光装置の投影対物系を利用して投影する段階とを含む、微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ製造の方法。
89.条項84から条項88のいずれか1項に記載の方法によって製造された微細構造化構成要素。
30 平面折り返しミラー
32 ハニカムコンデンサー
34 中継光学系
38 多ミラーアレイ
44 瞳平面
Claims (59)
- 装置が、物体平面における物体視野の物体視野点を照明するための照明光学系を含み、該照明光学系が、該物体視野の各物体視野点に対して、該物体点に関連付けられた射出瞳を有し、sin(γ)が、該射出瞳の最大周辺角度値であり、該照明光学系が、該物体視野点に関連付けられた射出瞳内の強度分布を調節するための複数のミラーを含む多ミラーアレイを含み、装置が、該物体視野を像平面内の像視野上に結像するための投影対物系を更に含む、マイクロリソグラフィのための投影露光装置であって、
照明光学系が、各物体視野点に対して、関連付けられた射出瞳内の強度分布の該関連付けられた射出瞳内の望ましい強度分布からの逸脱が、
重心角度値sin(β)の場合に、前記関連付けられた射出瞳の最大周辺角度値sin(γ)に基づいて表して2%よりも小さく、及び/又は
楕円度の場合に、2%よりも小さく、及び/又は
極均衡の場合に、2%よりも小さく、
なるように、多ミラーアレイの照明を時間的に安定化するための少なくとも1つ光学系を収容する、
ことを特徴とする投影露光装置。 - 装置が、物体平面における物体視野の物体視野点を照明するための照明光学系を含み、該照明光学系が、該物体視野の各物体視野点に対して、該物体点に関連付けられた射出瞳を有し、sin(γ)が、該射出瞳の最大周辺角度値であり、該照明光学系が、該物体視野点に関連付けられた射出瞳内の強度分布を調節するための複数のミラーを含む多ミラーアレイを含み、装置が、該物体視野を像平面内の像視野上に結像するための投影対物系を更に含む、マイクロリソグラフィのための投影露光装置であって、
照明光学系が、各物体視野点に対して、関連付けられた射出瞳内の第1の調節された強度分布の該関連付けられた射出瞳内の第2の調節された強度分布からの逸脱が、外側σ及び/又は内側σにおいて0.1よりも小さくなるように、多ミラーアレイの照明を時間的に安定化するための少なくとも1つの光学系を収容する、
ことを特徴とする投影露光装置。 - 単位[nm]の作動光波長λを有し、
前記多ミラーアレイの各ミラーが、少なくとも1つの軸の回りに最大傾斜角度値sin(α)にわたって回転可能であり、かつ200[mm*nm]*sin(α)/λよりも大きい最小縁部長さを有する、
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の装置。 - 前記物体視野は、サイズOFを有する照明物体視野面を有し、
前記多ミラーアレイの照明面が、サイズAFを有し、
cが、0.1<c<1である定数であり、sin(α)が、前記多ミラーアレイの前記ミラーの前記最大傾斜角度値であり、sin(γ’)が、前記物体視野点の前記射出瞳に関連付けられた前記最大周辺角度値sin(γ)のうちの最大周辺角度値である時に、
AF=c*sin(Y’)/sin(α)*OF
が成り立つ、
ことを特徴とする請求項3に記載の装置。 - 前記照明面AFに対する全ての照明されたミラーの表面積の和の比として定義される前記多ミラーアレイのフィル・ファクタが、10%よりも大きいことを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 0°と60°の間の入射角に対する前記多ミラーアレイの前記ミラーの平均反射率が、25%よりも大きいことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の装置。
- 前記平均反射率からの前記多ミラーアレイの前記ミラーの反射率の標準偏差が、0°と60°の間の入射角に対して、該平均反射率に基づいて表して50%よりも小さいことを特徴とする請求項6に記載の装置。
- 前記多ミラーアレイのミラーの少なくとも1つの縁部厚みが、30μmよりも大きいことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の装置。
- スキャナとして作動するように構成され、
前記物体視野点の前記射出瞳の前記強度分布は、走査処理中に修正される、
ことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の装置。 - 前記多ミラーアレイは、2000個と40、000個の間のミラーを含むことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の装置。
- 前記多ミラーアレイは、2cm2から80cm2の間の面を有することを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の装置。
- 物体視野点に関連付けられた前記射出瞳において前記多ミラーアレイのミラーによって発生する照明立体角範囲が、該関連付けられた射出瞳の前記最大周辺角度値sin(γ)に基づいて表して5%よりも小さい、特に、1%よりも小さい最大角度範囲値を有することを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の装置。
- 物体視野点に関連付けられた前記射出瞳における立体角範囲が、前記多ミラーアレイの少なくとも2つのミラーにより、特に、該多ミラーアレイの少なくとも4つのミラーにより、非ゼロ強度と、該関連付けられた射出瞳の前記最大周辺角度値に基づいて表して10%よりも小さい、特に、2%よりも小さい角度範囲値とを用いて照明されることを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の装置。
- 前記多ミラーアレイの各個々のミラーが、10分の1秒以内、好ましくは、100分の1秒以内で望ましい角度に調節されるように構成されることを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の装置。
- 前記多ミラーアレイの各個々のミラーが、少なくとも1つのミラー設定又は少なくとも1つのミラー位置を測定するための少なくとも1つの容量センサ、圧電抵抗センサ、又は光センサを含むことを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の装置。
- 物体視野点に関連付けられた前記射出瞳の前記最大周辺角度値sin(γ)は、全ての物体視野点に対して0.2よりも大きいことを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の装置。
- 光源と前記多ミラーアレイの間に照明光線の照明光線束を有し、
前記光学系は、前記多ミラーアレイ上の前記照明光線束の照明光線の重ね合わせにより、該多ミラーアレイの前記照明の時間的安定化を実施する、
ことを特徴とする請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の装置。 - 前記光学系は、前記多ミラーアレイの空間的に均一な照明に向けて構成されることを特徴とする請求項17に記載の装置。
- 前記照明光線束は、発散と、前記光源から前記多ミラーアレイまでの照明光方向とを有し、
前記光学系の後の前記照明光方向の前記照明光線束の前記発散は、該光学系の前の該照明光線束の該発散の2倍よりも小さい、
ことを特徴とする請求項17又は請求項18に記載の装置。 - 前記光学系は、少なくとも1つの光学インテグレーターを含むことを特徴とする請求項1から請求項19のいずれか1項に記載の装置。
- 前記インテグレーターは、ハニカムコンデンサーであることを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記ハニカムコンデンサーは、5mよりも長い焦点距離を有することを特徴とする請求項21に記載の装置。
- 前記光学系は、少なくとも1つのプリズム又はミラーによって折り返される折り畳みビーム経路を有することを特徴とする請求項1から請求項22のいずれか1項に記載の装置。
- 前記光学系は、前記多ミラーアレイ上に前記照明光線束の前記照明光線の非コヒーレントな重ね合わせを生成するように構成されることを特徴とする請求項17から請求項23のいずれか1項に記載の装置。
- 前記光学系は、前記非コヒーレントな重ね合わせの時間的修正を生成するように構成されることを特徴とする請求項24に記載の装置。
- 前記光学系は、前記非コヒーレントな重ね合わせの前記時間的修正を生成する回転楔プレートを含むことを特徴とする請求項25に記載の装置。
- 前記光学系は、前記非コヒーレントな重ね合わせを生成するために、散乱要素及び/又は前記照明光線束を混合する混合要素を含むことを特徴とする請求項24又は請求項25に記載の装置。
- 前記散乱要素は、1mradよりも小さく、特に、0.4mradよりも小さい散乱角を有する散乱ディスクであることを特徴とする請求項27に記載の装置。
- 前記混合要素は、回折光学要素であることを特徴とする請求項27に記載の装置。
- 光源と前記多ミラーアレイの間に光軸を有し、
前記照明光線束の照明光線が、前記光軸に対して垂直な前記光源と前記多ミラーアレイの間の平面内に該光軸に対する高さを有し、
前記照明光線の位相遅延が、前記光軸に対する前記照明光線の前記高さの関数として導入される、
ことを特徴とする請求項24又は請求項25に記載の装置。 - 前記照明光線の前記位相遅延は、前記光源と前記多ミラーアレイの間に配置された光学位相要素によって生成されることを特徴とする請求項30に記載の装置。
- 光源とアレイのミラーがミラー面を有する前記多ミラーアレイとの間に照明光線束の照明光線を有し、
前記光学系は、前記多ミラーアレイの前記ミラーの前記ミラー面上に前記照明光線束の照明光線を集中させるための少なくとも1つの光学デバイスを含む、
ことを特徴とする請求項1から請求項31のいずれか1項に記載の装置。 - 前記光学デバイスは、レンズアレイ、及び/又はミラーアレイ、及び/又は回折光学要素を含むことを特徴とする請求項32に記載の装置。
- 発散、光線又は光束プロフィール、及び偏光状態を有する照明光線束を発生させるために1つよりも多いコヒーレントなレーザモード、及びレーザ出力を有するレーザを含み、
前記光学系は、前記レーザの前記出力と前記多ミラーアレイの間の前記照明光線束の少なくとも前記発散、及び/又は前記光線プロフィール、及び/又は前記偏光状態を修正するための光学調整ユニットを含む、
ことを特徴とする請求項1から請求項33のいずれか1項に記載の装置。 - 前記光学調整ユニットは、少なくとも1つのアナモフィック要素、及び/又は非球面要素、及び/又は自由曲面を有する要素、及び/又はDOEを含むことを特徴とする請求項34に記載の装置。
- 前記光学調整ユニットは、少なくとも1つのミラーと、及び/又はビーム分割面とを含むことを特徴とする請求項34に記載の装置。
- 前記多ミラーアレイの複数の前記ミラーは、多角形の形状を有する境界線を有することを特徴とする請求項1から請求項36のいずれか1項に記載の装置。
- 前記多ミラーアレイの複数の前記ミラーは、該多数のミラーをファセット方式で配置させる境界線を有することを特徴とする請求項1から請求項36のいずれか1項に記載の装置。
- 前記投影露光装置は、スキャナとして作動されるように構成され、
前記境界線は、少なくとも1つの対称方向を有し、
この対称方向は、走査方向に対して平行ではない、
ことを特徴とする請求項37から請求項38のいずれか1項に記載の装置。 - 前記多ミラーアレイの複数の前記ミラーは、凹面又は凸面を有することを特徴とする請求項1から請求項39のいずれか1項に記載の装置。
- 少なくとも1つのミラーが、前記多ミラーアレイの別のミラーとは異なる表面積を有することを特徴とする請求項1から請求項40のいずれか1項に記載の装置。
- 少なくとも1つのミラーが、前記多ミラーアレイの別のミラーとは異なる面曲率を有することを特徴とする請求項1から請求項41のいずれか1項に記載の装置。
- 少なくとも1つのミラーが、前記多ミラーアレイの別のミラーとは異なる、最も近い隣接ミラーからの最短距離を有することを特徴とする請求項1から請求項42のいずれか1項に記載の装置。
- 前記照明光学系は、少なくとも1つのミラー特性において異なる少なくとも2つの多ミラーアレイを含むことを特徴とする請求項1から請求項43のいずれか1項に記載の装置。
- 前記少なくとも2つの多ミラーアレイの選択的使用ためのデバイスが設けられることを特徴とする請求項44に記載の装置。
- 前記少なくとも2つの多ミラーアレイを入れ替えるためのデバイスが設けられることを特徴とする請求項44に記載の装置。
- 前記少なくとも2つの多ミラーアレイは、同時に作動させることができることを特徴とする請求項44に記載の装置。
- 前記光学系は、ミラー面を有するミラー、及び該ミラー面の少なくとも一部分の傾斜を生成するように構成されたアクチュエータを含むことを特徴とする請求項25に記載の装置。
- 前記アクチュエータは、前記光軸に対して0°とは異なる角度だけ傾いた回転軸の回りの前記ミラーの回転振動を生じさせるように構成されることを特徴とする請求項48に記載の装置。
- 前記光学系は、偏光依存のビーム分割面、及び該ビーム分割面と前記ミラーの間に配置された偏光マニピュレータを含むことを特徴とする請求項48又は請求項49に記載の装置。
- 前記混合要素は、
a)第1の側面を有する透過性第1ロッド、及び
b)前記第1ロッドの前記第1の面に隣接する第2の側面を有する透過性第2ロッド、
を含み、
前記第1の面と前記第2の面は、互いに対して平行であり、かつ前記第1ロッド内の内部全反射によって誘導される光の少なくとも実質的な部分が、前記第2ロッド内にエバネセント波として結合される程に小さい距離Dだけ離間している、
ことを特徴とする請求項27に記載の装置。 - 前記第1の面と前記第2の面の間にそれらを前記距離Dに保つために配置されたスペーサ要素により、前記第1及び前記第2ロッドは、矩形断面を有することを特徴とする請求項51に記載の装置。
- 前記距離Dは、1μmよりも小さく、好ましくは、0.5μmよりも小さいことを特徴とする請求項51又は請求項52に記載の装置。
- 前記距離Dは、前記部分が半分であるように判断されることを特徴とする請求項51から請求項53のいずれか1項に記載の装置。
- 前記混合要素は、
a)第1の側面を有する透過性第1ロッド、及び
b)前記第1ロッドの前記第1の面に隣接する第2の側面を有する透過性第2ロッド、
c)前記第1の面及び前記第2の面と接触するビーム分割層、
を含む、
ことを特徴とする請求項27に記載の装置。 - 前記ビーム分割層は、液体により、特に、純水により形成されることを特徴とする請求項55に記載の装置。
- 前記ビーム分割層は、誘電体ビーム分割層状構造によって形成されることを特徴とする請求項55に記載の装置。
- 前記混合要素は、
a)2つの平行な面を有する透過性ロッド、
b)光線束が、内部全反射が発生する際の入射角に近い入射角の下で前記面に衝突し、それによって該光線束の一部分が内部全反射によって反射され、かつ別の部分が該面を通過するという効果を達成するために、光線束を前記ロッド内に結合するように構成された光線束入力結合デバイス、
を含む、
ことを特徴とする請求項27に記載の装置。 - 前記混合要素は、光線束が平行に延びるように、様々な方向の下で前記ロッドから出射する光線束を傾斜させるように構成されたプリズム又はミラー配列を含むことを特徴とする請求項51から請求項58のいずれか1項に記載の装置。
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