JP2011243745A - 薄膜トランジスタの製造方法、並びに、薄膜トランジスタ、イメージセンサー、x線センサー及びx線デジタル撮影装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板11上に、酸化物半導体層12と、ソース電極13と、ドレイン電極14と、ゲート絶縁膜15と、ゲート電極とを有する薄膜トランジスタを製造する方法であって、隣接する層の組成が異なる3層以上の積層構造を有し、かつ、ゲート電極に最も近い側に配置された層12Cとゲート電極から最も遠い側に配置された層12Aとの間に、ゲート電極に最も近い側に配置された層及びゲート電極から最も遠い側に配置された層よりも比抵抗が小さい低抵抗層12Cが少なくとも1層存在する酸化物半導体層を形成する工程と、前記酸化物半導体層を形成した後、熱処理する工程と、を含む薄膜トランジスタ1の製造方法。
【選択図】図1
Description
また、チャネル層にIGZO系の酸化物半導体膜を用いた場合に電気特性の経時変化を抑制するため、酸化物半導体層と、該酸化物半導体層とゲート絶縁膜との間に抵抗層を有する薄膜トランジスタが提案されている(特許文献2参照)。
<1> 基板上に、酸化物半導体層と、ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート絶縁膜と、ゲート電極とを有する薄膜トランジスタを製造する方法であって、
隣接する層の組成が異なる3層以上の積層構造を有し、かつ、前記ゲート電極に最も近い側に配置された層と前記ゲート電極から最も遠い側に配置された層との間に、前記ゲート電極に最も近い側に配置された層及び前記ゲート電極から最も遠い側に配置された層よりも比抵抗が小さい低抵抗層が少なくとも1層存在する酸化物半導体層を形成する工程と、
前記酸化物半導体層を形成した後、熱処理する工程と、
を含む薄膜トランジスタの製造方法。
<2> 前記酸化物半導体層を3層の積層構造で形成する<1>に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
<3> 前記酸化物半導体層が非晶質である<1>又は<2>に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
<4> 前記酸化物半導体層を構成する各層が、In及びGaのうち少なくともいずれか一方の元素を含むものである<1>〜<3>のいずれかに記載の薄膜トランジスタの製造方法。
<5> 前記酸化物半導体層を構成する各層が、a(In2O3)・b(Ga2O3)・c(ZnO)からなるものである<1>〜<4>のいずれかに記載の薄膜トランジスタの製造方法。
(ここでa、b、cは、それぞれa≧0、b≧0、c≧0、且つa+b≠0、b+c≠0、c+a≠0である。)
<6> 前記ゲート電極に最も近い側に配置された層のb/(a+b)及び前記ゲート電極から最も遠い側に配置された層のb/(a+b)が、前記低抵抗層のb/(a+b)よりも大きい<5>に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
<7> 前記ゲート電極に最も近い側に配置された層のバンドギャップ及び前記ゲート電極から最も遠い側に配置された層のバンドギャップが、前記低抵抗層のバンドギャップより広い<2>〜<6>のいずれかに記載の薄膜トランジスタの製造方法。
<8> 前記熱処理する工程を酸化性雰囲気中で行う<1>〜<7>のいずれかに記載の薄膜トランジスタの製造方法。
<9> 前記熱処理する工程を100℃以上300℃以下の温度で行う<1>〜<8>のいずれかに記載の薄膜トランジスタの製造方法。
<10> 前記基板が可撓性を有するものである<1>〜<9>のいずれかに記載の薄膜トランジスタの製造方法。
<11> <1>〜<10>のいずれかに記載の薄膜トランジスタの製造方法を用いて製造された薄膜トランジスタ。
<12> <11>に記載の薄膜トランジスタを備えた表示装置。
<13> <11>に記載の薄膜トランジスタを備えたイメージセンサー。
<14> <11>に記載の薄膜トランジスタを備えたX線センサー。
<15> <14>に記載のX線センサーを備えたX線デジタル撮影装置。
すなわち、本発明に係る薄膜トランジスタの製造方法は、基板上に、酸化物半導体層と、ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート絶縁膜と、ゲート電極とを有する薄膜トランジスタを製造する方法であって、隣接する層の組成が異なる3層以上の積層構造を有し、かつ、前記ゲート電極に最も近い側に配置された層と前記ゲート電極から最も遠い側に配置された層との間に、前記ゲート電極に最も近い側に配置された層及び前記ゲート電極から最も遠い側に配置された層よりも比抵抗が小さい低抵抗層が少なくとも1層存在する酸化物半導体層を形成する工程と、前記酸化物半導体層を形成した後、熱処理する工程と、を含む。
図1(A)〜(D)に示す実施形態の薄膜トランジスタにおいて、同一符号を付与されている各要素の機能は同一であり、同様の材料を適用することができる。
まず、薄膜トランジスタを形成するための基板11を用意する。
基板11の形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することが出来る。基板11の構造は単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。
基板11の材質は製造するデバイスに応じて選択すればよく、例えばガラス、YSZ(イットリウム安定化ジルコニウム)等の無機基板、樹脂基板、その複合材料等を用いることが出来る。
中でも軽量である点、可撓性を有する点から樹脂基板又はその複合材料が好ましい。具体的には、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アリルジグリコールカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリベンズアゾール、ポリフェニレンサルファイド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン等のフッ素樹脂、液晶ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、シアネート樹脂、架橋フマル酸ジエステル、環状ポリオレフィン、芳香族エーテル、マレイミドーオレフィン、セルロース、エピスルフィド化合物等の合成樹脂基板、酸化珪素粒子との複合プラスチック材料、金属ナノ粒子、無機酸化物ナノ粒子、無機窒化物ナノ粒子等との複合プラスチック材料、カーボン繊維、カーボンナノチューブとの複合プラスチック材料、ガラスフェレーク、ガラスファイバー、ガラスビーズとの複合プラスチック材料、粘土鉱物や雲母派生結晶構造を有する粒子との複合プラスチック材料、薄いガラスと上記単独有機材料との間に少なくとも1回の接合界面を有する積層プラスチック材料、無機層と有機層を交互に積層することで少なくとも1つの接合界面を有するバリア性能を有する複合材料、ステンレス基板或いはステンレスと異種金属を積層した金属多層基板、アルミニウム基板或いは表面に酸化処理(例えば陽極酸化処理)を施すことで表面の絶縁性を向上させた酸化皮膜付きのアルミニウム基板等を用いることが出来る。また、樹脂基板は耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、加工性、低通気性、又は低吸湿性等に優れていることが好ましい。前記樹脂基板は、水分や酸素の透過を防止するためのガスバリア層や、樹脂基板の平坦性や下部電極との密着性を向上するためのアンダーコート層等を備えていてもよい。
基板11上に、3層以上の積層構造を有し、かつ、隣接する層12A,12B,12Cの組成が異なる酸化物半導体層12を形成する。
酸化物半導体層12を構成する各層12A,12B,12Cを構成する材料は、チャネル層として機能する酸化物半導体であれば特に限定されないが、イオン価数、導電性の観点から、Al、Sc、Ti、Mn、Fe、Ga、Y、In、Sn、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素と、Mg、Ca、Ni、Zn、Sr、及びBaからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素とを含むものであることが好ましく、In及びGaのうち少なくともいずれか一方の元素を含むものがより好ましい。
膜の平坦性、製造適性の観点から、酸化物半導体層12の各層12A,12B,12Cの厚みは5nm以上100nm以下であることが好ましく、酸化物半導体層12のトータルの厚み(総厚み)は30〜200nm程度が好ましい。
また、組成比の異なるターゲットを2つ以上成膜室内に配置し、各層12A,12B,12Cを成膜する際に異なるターゲットを用いて成膜する方法であってもよい。使用するターゲットはIn、Ga、Zn、又はこれらの酸化物若しくはこれらの複合酸化物のターゲットを組み合わせて用いた共スパッタであってもよいし、あらかじめ、成膜したIGZO膜中の金属元素の組成比が所望の比率、例えば、Ga/(In+Ga)=0.75、Zn/(In+Ga)=0.5となるような複合酸化物ターゲットの単独スパッタであってもよい。
なお、例えば成膜を停止せずターゲットにかける電力を速やかに又は緩やかに変更する方法によって複数の酸化物半導体層(領域)を形成する場合、隣接する層の間では組成が連続的に変化することになるが、組成が連続的に変化する領域の中間位置を隣接する層の境界として厚み等を設定すればよい。
酸化物半導体層12の上にソース・ドレイン電極13,14を形成するための金属膜を形成する。ソース・ドレイン電極13,14は高い導電性を有するものを用い、例えばAl、Mo、Cr、Ta、Ti、Au、Au等の金属、Al−Nd、Ag合金、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛インジウム(IZO)等の金属酸化物導電膜等を用いて形成することが出来る。ソース・ドレイン電極13,14としてはこれらの導電膜を単層構造又は2層以上の積層構造として用いることが出来る。
次いで前記金属膜をエッチング又はリフトオフ法により所定の形状にパターンニングし、ソース電極13及びドレイン電極14を形成する。この際、ソース・ドレイン電極13,14及びこれらの電極13,14に接続する配線を同時にパターンニングすることが好ましい。
ソース・ドレイン電極13,14及び配線を形成した後、ゲート絶縁膜15を形成する。ゲート絶縁膜15は高い絶縁性を有するものが好ましく、例えばSiO2、SiNx、SiON、Al2O3、Y2O3、Ta2O5、HfO2等の絶縁膜、又はこれらの化合物を少なくとも二種以上含む絶縁膜としてもよい。ゲート絶縁膜15は、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式等の中から使用する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って成膜する。
ゲート絶縁膜15はフォトリソグラフィー及びエッチングによって所定の形状にパターンニングを行う。
尚、ゲート絶縁膜15はリーク電流の低下及び電圧耐性の向上のための厚みを有する必要がある一方、ゲート絶縁膜15の厚みが大きすぎると駆動電圧の上昇を招いてしまう。ゲート絶縁膜15は材質にもよるが、ゲート絶縁膜15の厚みは10nm〜10μmが好ましく、50nm〜1000nmがより好ましく、100nm〜400nmが特に好ましい。
ゲート絶縁膜15を形成した後、ゲート電極16を形成する。ゲート電極16は高い導電性を有するものを用い、例えばAl、Mo、Cr、Ta、Ti、Au、Au等の金属、Al−Nd、Ag合金、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛インジウム(IZO)等の金属酸化物導電膜等を用いて形成することが出来る。ゲート電極16としてはこれらの導電膜を単層構造又は2層以上の積層構造として用いることが出来る。
成膜後、エッチング又はリフトオフ法により所定の形状にパターンニングし、ゲート電極16を形成する。この際、ゲート電極16及びゲート配線を同時にパターンニングすることが好ましい。
ゲート電極16のパターンニングの後、熱処理(ポストアニール)を行う。ポストアニール処理は酸化物半導体層12の成膜後であればどのタイミングであってもよく、酸化物半導体の成膜直後でもよいし、ソース・ドレイン電極13,14の形成の後、ゲート絶縁膜15の形成の後、あるいは、パターンニングが全て終わった後に行ってもよい。
いずれの形態の薄膜トランジスタを製造するにせよ、本発明によれば、酸化物半導体層12を形成した後の熱処理(ポストアニール処理)によって起こり易い薄膜トランジスタの電気特性のバラツキを効果的に抑えることが可能であり、特に大面積のデバイス作製において面内均一性、安定性、信頼性の高い薄膜トランジスタを提供することが可能となる。この効果により必然的に歩留まりも向上し、生産コストの低減にも繋がる。
更に本発明の製造方法を用いて作製した薄膜トランジスタは、樹脂基板を用いた低温プロセスで作製可能なデバイス(例えばフレキシブルディスプレイ等)、X線センサー等の各種センサー、MEMS(Micro Electro Mechanical System)等、種々の電子デバイスにおける駆動素子(駆動回路)として、好適に用いられるものである。
電気光学装置の例としては、表示装置(例えば液晶表示装置、有機EL表示装置、無機EL表示装置、等)がある。
センサーの例としては、CCD(Charge Coupled Device)又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等のイメージセンサーや、X線センサー等が好適である。
本発明の電気光学装置又はセンサーは、低い消費電力により良好な特性を示す。ここで言うところの特性とは、電気光学装置の場合には表示特性、センサーの場合には感度特性を示す。
以下、本発明によって製造される薄膜トランジスタを備えた電気光学装置又はセンサーの代表例として、液晶表示装置、有機EL表示装置、X線センサーについて説明する。
図2に、本発明の電気光学装置の一実施形態の液晶表示装置について、その一部分の概略断面図を示し、図3にその電気配線の概略構成図を示す。
しかも特性シフトが少ないため、ゲート電圧を低減でき、ひいては表示装置の消費電力を低減できる。また、本発明によると、半導体層として低温(例えば200℃以下)での成膜が可能な非晶質IGZO膜を用いて薄膜トランジスタを作製することができるため、基板としては樹脂基板(プラスチック基板)を用いることができる。従って、本発明によれば、表示品質に優れ、大画面であり、フレキシブルな液晶表示装置を提供することができる。
図4に、本発明の電気光学装置の一実施形態のアクティブマトリックス方式の有機EL表示装置について、その一部分の概略断面図を示し、図5に電気配線の概略構成図を示す。
図6に、本発明のセンサーの一実施形態であるX線センサーについて、その一部分の概略断面図を示し、図7にその電気配線の概略構成図を示す。
X線変換層72はアモルファスセレンからなる層であり、薄膜トランジスタ1およびキャパシタ70を覆うように設けられている。
上部電極73はX線変換層72上に設けられており、X線変換層72に接している。
In:Ga比を変えた三層から構成される酸化物半導体膜のアニール処理温度と電気特性の関係について、以下のような試料を作製し、評価を行った。
基板としては合成石英ガラス基板(コバレントマテリアル社製、品番T−4040)を用いた。前記基板上に酸化物半導体の積層膜を以下の順にスパッタ成膜した。
カチオン組成比 In:Ga:Zn=0.5:1.5:1
厚み 10nm
成膜室到達真空度 6×10−6Pa
成膜時圧力 4.4×10−1Pa
Ar流量 30sccm
O2流量 0.3sccm
カチオン組成比 In:Ga:Zn=1.5:0.5:1
厚み 5nm
成膜室到達真空度 6×10−6Pa
成膜時圧力 4.4×10−1Pa
Ar流量 30sccm
O2流量 0.6sccm
カチオン組成比 In:Ga:Zn=0.5:1.5:1
厚み 30nm
成膜室到達真空度 6×10−6Pa
成膜時圧力 4.4×10−1Pa
Ar流量 30sccm
O2流量 0.15sccm
実施例1と同様の手法で異なる試料の作製、評価を併せて行った。比較例1〜5の試料については膜の組成比や成膜時の酸素流量を変えてはいるが、いずれも単膜であり、実施例1のような成膜1、2、3での組成変調や成膜時の酸素流量変調は行っていない。
実施例1と同様の手法で異なる試料の作製、評価を併せて行った。比較例7の試料は2層構造の酸化物半導体膜とした。
上記の各試料について、アニール雰囲気を制御できる電気炉を用いてポストアニール処理を施した。チャンバー内の雰囲気はO2雰囲気とし、それぞれについてAs−depo膜(熱処理なし)、200℃アニール膜、300℃アニール膜を作製した。アニール温度までの昇温速度は5℃/minとし、所定の温度で1時間保持した後、炉冷にて室温まで冷却した。
アニール処理を施した各試料は膜表面に4端子電極を形成した後、下記電気特性評価を行った。
作製した実施例1及び比較例1〜5についての、比抵抗及びキャリア濃度を図8に示す。測定にはホール測定装置(東陽テクニカ社製、ホール効果・比抵抗測定装置Resi Test 8300)を用いた。図8に見られるように、単膜において組成比や成膜時の酸素流量を変化させても、アニール温度による比抵抗やキャリア濃度のバラツキを抑えることは出来ず、室温から300℃までの範囲で2桁〜5桁程度まで比抵抗が変化した。
一方、実施例1では組成比又は成膜時の酸素流量を変えた3層の積層構造にすることによって室温から300℃までの範囲でアニールした際の比抵抗は1桁以内のバラツキに抑えることが出来た。
In:Ga比を変えた三層から構成される酸化物半導体膜を用いたTFT素子を作製し、評価を行った。図12に示すように、基板としては厚さ100nmの熱酸化膜付シリコン基板100を用い、熱酸化膜102をゲート絶縁膜とした簡易の素子110を作製した。前記基板100上に実施例1と同様の手順で酸化物半導体の積層膜104を成膜した後、実施例1と同様のポストアニール処理を施した。アニール温度は300℃とした。
アニール処理後、Ti−Au電極(Ti:106,Au:108)を蒸着し、半導体パラメータ・アナライザー4156C(アジレントテクノロジー社製)を用い、トランジスタ特性(Vg―Id特性)及び移動度μの測定を行った。Vg―Id特性の測定は、ドレイン電圧(Vd)を10Vに固定し、ゲート電圧(Vg)を−15V〜+15Vの範囲内で変化させ、各ゲート電圧(Vg)におけるドレイン電流(Id)を測定することにて行った。
IGZO単層のTFT素子を作製し、実施例2と同様の評価を行った。IGZO膜は比較例1の条件にて成膜を行った。
11 基板
12 酸化物半導体層
12A 酸化物半導体層の第1の層
12B 酸化物半導体層の第2の層
12C 酸化物半導体層の第3の層
13 ソース電極
14 ドレイン電極
15 ゲート絶縁膜
16 ゲート電極
Claims (15)
- 基板上に、酸化物半導体層と、ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート絶縁膜と、ゲート電極とを有する薄膜トランジスタを製造する方法であって、
隣接する層の組成が異なる3層以上の積層構造を有し、かつ、前記ゲート電極に最も近い側に配置された層と前記ゲート電極から最も遠い側に配置された層との間に、前記ゲート電極に最も近い側に配置された層及び前記ゲート電極から最も遠い側に配置された層よりも比抵抗が小さい低抵抗層が少なくとも1層存在する酸化物半導体層を形成する工程と、
前記酸化物半導体層を形成した後、熱処理する工程と、
を含む薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記酸化物半導体層を3層の積層構造で形成する請求項1に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記酸化物半導体層が非晶質である請求項1又は請求項2に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記酸化物半導体層を構成する各層が、In及びGaのうち少なくともいずれか一方の元素を含むものである請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記酸化物半導体層を構成する各層が、a(In2O3)・b(Ga2O3)・c(ZnO)からなるものである請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
(ここでa、b、cは、それぞれa≧0、b≧0、c≧0、且つa+b≠0、b+c≠0、c+a≠0である。) - 前記ゲート電極に最も近い側に配置された層のb/(a+b)及び前記ゲート電極から最も遠い側に配置された層のb/(a+b)が、前記低抵抗層のb/(a+b)よりも大きい請求項5に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記ゲート電極に最も近い側に配置された層のバンドギャップ及び前記ゲート電極から最も遠い側に配置された層のバンドギャップが、前記低抵抗層のバンドギャップより広い請求項2〜請求項6のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記熱処理する工程を酸化性雰囲気中で行う請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記熱処理する工程を100℃以上300℃以下の温度で行う請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記基板が可撓性を有するものである請求項1〜請求項9のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 請求項1〜請求項10のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタの製造方法を用いて製造された薄膜トランジスタ。
- 請求項11に記載の薄膜トランジスタを備えた表示装置。
- 請求項11に記載の薄膜トランジスタを備えたイメージセンサー。
- 請求項11に記載の薄膜トランジスタを備えたX線センサー。
- 請求項14に記載のX線センサーを備えたX線デジタル撮影装置。
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Cited By (68)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013175715A (ja) * | 2012-01-26 | 2013-09-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置および半導体装置の作製方法 |
WO2013154195A1 (en) * | 2012-04-13 | 2013-10-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2013225551A (ja) * | 2012-04-20 | 2013-10-31 | Panasonic Corp | 薄膜トランジスタおよび表示装置 |
WO2013180040A1 (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
WO2013179922A1 (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
KR20130141735A (ko) * | 2012-06-15 | 2013-12-26 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
JP2014007396A (ja) * | 2012-05-31 | 2014-01-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
WO2014021442A1 (en) * | 2012-08-03 | 2014-02-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Oxide semiconductor stacked film and semiconductor device |
US20140042433A1 (en) * | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
US20140042436A1 (en) * | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
US20140042434A1 (en) * | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
KR20140020749A (ko) * | 2012-08-10 | 2014-02-19 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제작 방법 |
JP2014033194A (ja) * | 2012-07-13 | 2014-02-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
KR20140035822A (ko) * | 2012-09-14 | 2014-03-24 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제작 방법 |
WO2014046220A1 (en) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2014057049A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-03-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及びその作製方法 |
WO2014046222A1 (en) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device |
WO2014061713A1 (en) * | 2012-10-17 | 2014-04-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
WO2014061567A1 (en) * | 2012-10-17 | 2014-04-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Programmable logic device |
WO2014061762A1 (en) * | 2012-10-17 | 2014-04-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
CN103824886A (zh) * | 2012-11-16 | 2014-05-28 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置 |
JP2014099430A (ja) * | 2012-10-17 | 2014-05-29 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置および半導体装置の作製方法 |
WO2014084152A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
CN103852943A (zh) * | 2012-11-30 | 2014-06-11 | 株式会社半导体能源研究所 | 液晶显示装置 |
US20140175423A1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor array panel and method of manufacturing the same |
JP2014115641A (ja) * | 2012-11-15 | 2014-06-26 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 情報処理装置の駆動方法、プログラム、及び情報処理装置 |
JP2014120712A (ja) * | 2012-12-19 | 2014-06-30 | Ricoh Co Ltd | 金属酸化物膜形成用塗布液、金属酸化物膜、電界効果型トランジスタ、及び電界効果型トランジスタの製造方法 |
KR20140102146A (ko) * | 2013-02-13 | 2014-08-21 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 반도체 장치의 제작 방법 |
JP2014179597A (ja) * | 2013-02-13 | 2014-09-25 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
JP2014225656A (ja) * | 2013-04-24 | 2014-12-04 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2015026768A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-02-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US8952381B2 (en) | 2012-06-29 | 2015-02-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2015035590A (ja) * | 2013-07-12 | 2015-02-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2015046499A (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-12 | 三菱電機株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに液晶表示装置 |
JP2015079947A (ja) * | 2013-09-13 | 2015-04-23 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置およびその作製方法 |
JP2015135962A (ja) * | 2013-12-20 | 2015-07-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2015167256A (ja) * | 2013-06-19 | 2015-09-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9209256B2 (en) | 2012-08-02 | 2015-12-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US9219161B2 (en) | 2012-10-24 | 2015-12-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JPWO2013168774A1 (ja) * | 2012-05-10 | 2016-01-07 | 富士フイルム株式会社 | 薄膜トランジスタ、表示装置、イメージセンサ及びx線センサ |
US9245958B2 (en) | 2012-08-10 | 2016-01-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
CN105280717A (zh) * | 2015-09-23 | 2016-01-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | Tft及其制作方法、阵列基板及显示装置 |
US9263259B2 (en) | 2012-10-17 | 2016-02-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising an oxide semiconductor |
EP2873097A4 (en) * | 2012-07-12 | 2016-03-16 | Carestream Health Inc | METHOD FOR MANUFACTURING RADIOGRAPHIC IMAGING MOSAIC FOR METAL OXIDE THIN FILM TRANSISTORS WITH REDUCED NUMBER OF MASKS |
US9324810B2 (en) | 2012-11-30 | 2016-04-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including oxide semiconductor film |
US9391096B2 (en) | 2013-01-18 | 2016-07-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US9412877B2 (en) | 2013-02-12 | 2016-08-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2016167636A (ja) * | 2016-06-08 | 2016-09-15 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2016184764A (ja) * | 2013-12-12 | 2016-10-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9660093B2 (en) | 2012-10-17 | 2017-05-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Transistor with multilayer film including oxide semiconductor layer and oxide layer |
JP2017112390A (ja) * | 2012-03-16 | 2017-06-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9748403B2 (en) | 2015-05-22 | 2017-08-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and display device including the semiconductor device |
US9755082B2 (en) | 2010-06-11 | 2017-09-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including oxide semiconductor with an insulating film including galliium and oxygen |
US9829533B2 (en) | 2013-03-06 | 2017-11-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor film and semiconductor device |
US9865743B2 (en) | 2012-10-24 | 2018-01-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including oxide layer surrounding oxide semiconductor layer |
JP2018006727A (ja) * | 2015-12-15 | 2018-01-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置及び表示装置 |
JP2018014527A (ja) * | 2012-11-15 | 2018-01-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US10043918B2 (en) | 2011-07-08 | 2018-08-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
KR20180109961A (ko) * | 2016-02-26 | 2018-10-08 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 산화물 반도체층을 포함하는 박막 트랜지스터 |
JP2018186294A (ja) * | 2013-06-05 | 2018-11-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
KR20190017753A (ko) * | 2016-06-13 | 2019-02-20 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 반도체 디바이스 및 그 제조 방법 |
US10304859B2 (en) | 2013-04-12 | 2019-05-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having an oxide film on an oxide semiconductor film |
JP2020025133A (ja) * | 2013-09-23 | 2020-02-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2020127047A (ja) * | 2014-10-10 | 2020-08-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2020145478A (ja) * | 2011-12-23 | 2020-09-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2020205427A (ja) * | 2012-02-09 | 2020-12-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
JP2021040146A (ja) * | 2012-04-30 | 2021-03-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
TWI840673B (zh) | 2020-06-23 | 2024-05-01 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 雙層通道電晶體及其形成方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102423436B1 (ko) * | 2015-12-16 | 2022-07-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 산화물 박막 트랜지스터 기판 및 그를 이용한 디스플레이 장치 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006165530A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-22 | Canon Inc | センサ及び非平面撮像装置 |
JP2006217272A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Funai Electric Co Ltd | アンテナの設定装置 |
JP2007073701A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Canon Inc | アモルファス酸化物層を用いた薄膜トランジスタ |
JP2007281409A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-10-25 | Canon Inc | 電界効果型トランジスタ |
JP2007311404A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JP2009170905A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Samsung Electronics Co Ltd | 表示基板およびこれを含む表示装置 |
WO2010002608A2 (en) * | 2008-07-02 | 2010-01-07 | Applied Materials, Inc. | Thin film transistors using multiple active channel layers |
JP2010016348A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-21 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 薄膜トランジスタ、その製造方法及び薄膜トランジスタを備える平板表示装置 |
JP2010021333A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-01-28 | Fujifilm Corp | 金属酸化物膜とその製造方法、及び半導体装置 |
JP2010034534A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-02-12 | Fujifilm Corp | 薄膜電界効果型トランジスタおよび表示装置 |
JP2010067954A (ja) * | 2008-08-14 | 2010-03-25 | Fujifilm Corp | 薄膜電界効果型トランジスタ |
-
2010
- 2010-05-18 JP JP2010114674A patent/JP5606787B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006165530A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-22 | Canon Inc | センサ及び非平面撮像装置 |
JP2006217272A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Funai Electric Co Ltd | アンテナの設定装置 |
JP2007073701A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Canon Inc | アモルファス酸化物層を用いた薄膜トランジスタ |
JP2007281409A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-10-25 | Canon Inc | 電界効果型トランジスタ |
JP2007311404A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JP2009170905A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Samsung Electronics Co Ltd | 表示基板およびこれを含む表示装置 |
JP2010034534A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-02-12 | Fujifilm Corp | 薄膜電界効果型トランジスタおよび表示装置 |
JP2010016348A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-21 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 薄膜トランジスタ、その製造方法及び薄膜トランジスタを備える平板表示装置 |
WO2010002608A2 (en) * | 2008-07-02 | 2010-01-07 | Applied Materials, Inc. | Thin film transistors using multiple active channel layers |
JP2010021333A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-01-28 | Fujifilm Corp | 金属酸化物膜とその製造方法、及び半導体装置 |
JP2010067954A (ja) * | 2008-08-14 | 2010-03-25 | Fujifilm Corp | 薄膜電界効果型トランジスタ |
Cited By (226)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9755082B2 (en) | 2010-06-11 | 2017-09-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including oxide semiconductor with an insulating film including galliium and oxygen |
US11588058B2 (en) | 2011-07-08 | 2023-02-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
US10043918B2 (en) | 2011-07-08 | 2018-08-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
US10658522B2 (en) | 2011-07-08 | 2020-05-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
US11011652B2 (en) | 2011-07-08 | 2021-05-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
JP2020145478A (ja) * | 2011-12-23 | 2020-09-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2017085153A (ja) * | 2012-01-26 | 2017-05-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US10243064B2 (en) | 2012-01-26 | 2019-03-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
JP2013175715A (ja) * | 2012-01-26 | 2013-09-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置および半導体装置の作製方法 |
JP2020205427A (ja) * | 2012-02-09 | 2020-12-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
JP2017112390A (ja) * | 2012-03-16 | 2017-06-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US10158026B2 (en) | 2012-04-13 | 2018-12-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including oxide semiconductor stacked layers |
US11355645B2 (en) | 2012-04-13 | 2022-06-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising stacked oxide semiconductor layers |
WO2013154195A1 (en) * | 2012-04-13 | 2013-10-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US11929437B2 (en) | 2012-04-13 | 2024-03-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising various thin-film transistors |
US9472679B2 (en) | 2012-04-13 | 2016-10-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US10559699B2 (en) | 2012-04-13 | 2020-02-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US10872981B2 (en) | 2012-04-13 | 2020-12-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising an oxide semiconductor |
US8946702B2 (en) | 2012-04-13 | 2015-02-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2013225551A (ja) * | 2012-04-20 | 2013-10-31 | Panasonic Corp | 薄膜トランジスタおよび表示装置 |
JP2021040146A (ja) * | 2012-04-30 | 2021-03-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US11217699B2 (en) | 2012-04-30 | 2022-01-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP7113879B2 (ja) | 2012-04-30 | 2022-08-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US11837666B2 (en) | 2012-04-30 | 2023-12-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JPWO2013168774A1 (ja) * | 2012-05-10 | 2016-01-07 | 富士フイルム株式会社 | 薄膜トランジスタ、表示装置、イメージセンサ及びx線センサ |
TWI691083B (zh) * | 2012-05-31 | 2020-04-11 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置及半導體裝置的製造方法 |
US10134909B2 (en) | 2012-05-31 | 2018-11-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
TWI637519B (zh) * | 2012-05-31 | 2018-10-01 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置及半導體裝置的製造方法 |
KR102071545B1 (ko) | 2012-05-31 | 2020-01-30 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
US9899536B2 (en) | 2012-05-31 | 2018-02-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of forming semiconductor device with different energy gap oxide semiconductor stacked layers |
CN107591316A (zh) * | 2012-05-31 | 2018-01-16 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置 |
US9799290B2 (en) | 2012-05-31 | 2017-10-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
CN107591316B (zh) * | 2012-05-31 | 2021-06-08 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置 |
US9741865B2 (en) | 2012-05-31 | 2017-08-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of forming semiconductor device including oxide semiconductor stack with different ratio of indium and gallium |
JP2014007396A (ja) * | 2012-05-31 | 2014-01-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
JP2014007399A (ja) * | 2012-05-31 | 2014-01-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
TWI573272B (zh) * | 2012-05-31 | 2017-03-01 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置 |
US9496408B2 (en) | 2012-05-31 | 2016-11-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including oxide semiconductor stack with different ratio of indium and gallium |
WO2013179922A1 (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
WO2013180040A1 (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US8987731B2 (en) | 2012-05-31 | 2015-03-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
KR20150027116A (ko) * | 2012-05-31 | 2015-03-11 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
JP2019220699A (ja) * | 2012-06-15 | 2019-12-26 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
KR102241183B1 (ko) * | 2012-06-15 | 2021-04-16 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
KR20130141735A (ko) * | 2012-06-15 | 2013-12-26 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
JP2014027263A (ja) * | 2012-06-15 | 2014-02-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置およびその作製方法 |
US9437747B2 (en) | 2012-06-15 | 2016-09-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thin film transistor with multiple oxide semiconductor layers |
US10032926B2 (en) | 2012-06-15 | 2018-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including an oxide semiconductor |
JP7153105B2 (ja) | 2012-06-15 | 2022-10-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US11424368B2 (en) | 2012-06-15 | 2022-08-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including an oxide semiconductor |
KR102392732B1 (ko) * | 2012-06-15 | 2022-04-29 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
JP2021119605A (ja) * | 2012-06-15 | 2021-08-12 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2019004176A (ja) * | 2012-06-15 | 2019-01-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US10483404B2 (en) | 2012-06-15 | 2019-11-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thin film transistor with multiple oxide semiconductor layers |
KR20210044198A (ko) * | 2012-06-15 | 2021-04-22 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
JP2017216477A (ja) * | 2012-06-15 | 2017-12-07 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
KR102113160B1 (ko) * | 2012-06-15 | 2020-05-20 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
KR20200056370A (ko) * | 2012-06-15 | 2020-05-22 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
US10741695B2 (en) | 2012-06-15 | 2020-08-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including an oxide semiconductor |
US9666721B2 (en) | 2012-06-29 | 2017-05-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including pellet-like particle or flat-plate-like particle |
US10424673B2 (en) | 2012-06-29 | 2019-09-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including a stack of oxide semiconductor layers |
JP2018201041A (ja) * | 2012-06-29 | 2018-12-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US8952381B2 (en) | 2012-06-29 | 2015-02-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
EP2873097A4 (en) * | 2012-07-12 | 2016-03-16 | Carestream Health Inc | METHOD FOR MANUFACTURING RADIOGRAPHIC IMAGING MOSAIC FOR METAL OXIDE THIN FILM TRANSISTORS WITH REDUCED NUMBER OF MASKS |
US9911771B2 (en) | 2012-07-12 | 2018-03-06 | Carestream Health, Inc. | Radiographic imaging array fabrication process for metal oxide thin-film transistors with reduced mask count |
JP2014033194A (ja) * | 2012-07-13 | 2014-02-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
US9761738B2 (en) | 2012-08-02 | 2017-09-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having first and second oxide semiconductors with difference energy level |
US9583634B2 (en) | 2012-08-02 | 2017-02-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US9209256B2 (en) | 2012-08-02 | 2015-12-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US10032934B2 (en) | 2012-08-02 | 2018-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
KR20150038279A (ko) * | 2012-08-03 | 2015-04-08 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 산화물 반도체 적층막 및 반도체 장치 |
JP2018011077A (ja) * | 2012-08-03 | 2018-01-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9123573B2 (en) | 2012-08-03 | 2015-09-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Oxide semiconductor stacked film and semiconductor device |
JP2014045178A (ja) * | 2012-08-03 | 2014-03-13 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 酸化物半導体積層膜及び半導体装置 |
US9583570B2 (en) | 2012-08-03 | 2017-02-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Oxide semiconductor stacked film and semiconductor device |
KR102243843B1 (ko) * | 2012-08-03 | 2021-04-22 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 산화물 반도체 적층막 및 반도체 장치 |
US8890159B2 (en) | 2012-08-03 | 2014-11-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Oxide semiconductor stacked film and semiconductor device |
JP2016184771A (ja) * | 2012-08-03 | 2016-10-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
EP2880690A4 (en) * | 2012-08-03 | 2016-03-30 | Semiconductor Energy Lab | OXIDE SEMICONDUCTOR OVERLAP FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE |
WO2014021442A1 (en) * | 2012-08-03 | 2014-02-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Oxide semiconductor stacked film and semiconductor device |
US9437749B2 (en) | 2012-08-10 | 2016-09-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
JP2014057051A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-03-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
US20140042433A1 (en) * | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
WO2014025002A1 (en) * | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
US9245958B2 (en) | 2012-08-10 | 2016-01-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
JP2018029195A (ja) * | 2012-08-10 | 2018-02-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9929276B2 (en) * | 2012-08-10 | 2018-03-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
CN104584229B (zh) * | 2012-08-10 | 2018-05-15 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置及其制造方法 |
US20140042436A1 (en) * | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
CN108305895A (zh) * | 2012-08-10 | 2018-07-20 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置及其制造方法 |
US9240492B2 (en) * | 2012-08-10 | 2016-01-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
CN108305895B (zh) * | 2012-08-10 | 2021-08-03 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置及其制造方法 |
US20140042434A1 (en) * | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US9293602B2 (en) | 2012-08-10 | 2016-03-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
KR20140020749A (ko) * | 2012-08-10 | 2014-02-19 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제작 방법 |
US9502580B2 (en) | 2012-08-10 | 2016-11-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
CN104584229A (zh) * | 2012-08-10 | 2015-04-29 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置及其制造方法 |
JP2019054293A (ja) * | 2012-08-10 | 2019-04-04 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US10439073B2 (en) * | 2012-08-10 | 2019-10-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US20160064525A1 (en) * | 2012-08-10 | 2016-03-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor Device And Method For Fabricating The Same |
US10446668B2 (en) * | 2012-08-10 | 2019-10-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
US9184245B2 (en) * | 2012-08-10 | 2015-11-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
US9620650B2 (en) | 2012-08-10 | 2017-04-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
JP2014057056A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-03-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置およびその作製方法 |
KR102171650B1 (ko) * | 2012-08-10 | 2020-10-29 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제작 방법 |
JP7403619B2 (ja) | 2012-08-10 | 2023-12-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9660104B2 (en) | 2012-08-10 | 2017-05-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
JP2014057049A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-03-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及びその作製方法 |
US9082863B2 (en) | 2012-08-10 | 2015-07-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
JP2014057052A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-03-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
KR102389886B1 (ko) * | 2012-09-14 | 2022-04-25 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제작 방법 |
US11935944B2 (en) | 2012-09-14 | 2024-03-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
KR20140035822A (ko) * | 2012-09-14 | 2014-03-24 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제작 방법 |
US11437500B2 (en) | 2012-09-14 | 2022-09-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
KR102211215B1 (ko) * | 2012-09-14 | 2021-02-02 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제작 방법 |
KR20210013266A (ko) * | 2012-09-14 | 2021-02-03 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제작 방법 |
US10923580B2 (en) | 2012-09-14 | 2021-02-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
CN104662668A (zh) * | 2012-09-24 | 2015-05-27 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置 |
JP2014078706A (ja) * | 2012-09-24 | 2014-05-01 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
US9831351B2 (en) | 2012-09-24 | 2017-11-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
WO2014046220A1 (en) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US10211345B2 (en) | 2012-09-24 | 2019-02-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2014078704A (ja) * | 2012-09-24 | 2014-05-01 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置 |
JP2018125534A (ja) * | 2012-09-24 | 2018-08-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9331100B2 (en) | 2012-09-24 | 2016-05-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device |
CN108321209A (zh) * | 2012-09-24 | 2018-07-24 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置 |
US11094830B2 (en) | 2012-09-24 | 2021-08-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
CN108321209B (zh) * | 2012-09-24 | 2022-05-13 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置 |
US20180083140A1 (en) | 2012-09-24 | 2018-03-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
TWI671910B (zh) * | 2012-09-24 | 2019-09-11 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置 |
WO2014046222A1 (en) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device |
US9269821B2 (en) | 2012-09-24 | 2016-02-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
CN104704638B (zh) * | 2012-10-17 | 2017-11-17 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体器件 |
WO2014061567A1 (en) * | 2012-10-17 | 2014-04-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Programmable logic device |
TWI614897B (zh) * | 2012-10-17 | 2018-02-11 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置 |
US9660093B2 (en) | 2012-10-17 | 2017-05-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Transistor with multilayer film including oxide semiconductor layer and oxide layer |
JP2014099430A (ja) * | 2012-10-17 | 2014-05-29 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置および半導体装置の作製方法 |
US9401714B2 (en) | 2012-10-17 | 2016-07-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Programmable logic device |
US9263259B2 (en) | 2012-10-17 | 2016-02-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising an oxide semiconductor |
JP2014099845A (ja) * | 2012-10-17 | 2014-05-29 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | プログラマブルロジックデバイス |
US9306079B2 (en) | 2012-10-17 | 2016-04-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US9812467B2 (en) | 2012-10-17 | 2017-11-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising an oxide semiconductor |
JP2014082390A (ja) * | 2012-10-17 | 2014-05-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
JP2014112657A (ja) * | 2012-10-17 | 2014-06-19 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置および半導体装置の作製方法 |
JP2018148231A (ja) * | 2012-10-17 | 2018-09-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9647095B2 (en) | 2012-10-17 | 2017-05-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
KR20150074043A (ko) * | 2012-10-17 | 2015-07-01 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 프로그램 가능한 논리 장치 |
JP2017038077A (ja) * | 2012-10-17 | 2017-02-16 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
CN104704638A (zh) * | 2012-10-17 | 2015-06-10 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体器件 |
WO2014061762A1 (en) * | 2012-10-17 | 2014-04-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US9287117B2 (en) | 2012-10-17 | 2016-03-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising an oxide semiconductor |
KR102102589B1 (ko) * | 2012-10-17 | 2020-04-22 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 프로그램 가능한 논리 장치 |
WO2014061713A1 (en) * | 2012-10-17 | 2014-04-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US10217796B2 (en) | 2012-10-17 | 2019-02-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising an oxide layer and an oxide semiconductor layer |
US9219161B2 (en) | 2012-10-24 | 2015-12-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US9865743B2 (en) | 2012-10-24 | 2018-01-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including oxide layer surrounding oxide semiconductor layer |
US10347212B2 (en) | 2012-11-15 | 2019-07-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for driving information processing device, program, and information processing device |
JP2016006911A (ja) * | 2012-11-15 | 2016-01-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9569992B2 (en) | 2012-11-15 | 2017-02-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for driving information processing device, program, and information processing device |
JP2019068097A (ja) * | 2012-11-15 | 2019-04-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2018014527A (ja) * | 2012-11-15 | 2018-01-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2014115641A (ja) * | 2012-11-15 | 2014-06-26 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 情報処理装置の駆動方法、プログラム、及び情報処理装置 |
JP2021002679A (ja) * | 2012-11-15 | 2021-01-07 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US10361318B2 (en) | 2012-11-16 | 2019-07-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US9449819B2 (en) | 2012-11-16 | 2016-09-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2015216377A (ja) * | 2012-11-16 | 2015-12-03 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置及び表示装置 |
US9812583B2 (en) | 2012-11-16 | 2017-11-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
KR20170023054A (ko) * | 2012-11-16 | 2017-03-02 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
CN103824886A (zh) * | 2012-11-16 | 2014-05-28 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置 |
US11710794B2 (en) | 2012-11-16 | 2023-07-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US10886413B2 (en) | 2012-11-16 | 2021-01-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
KR102107592B1 (ko) * | 2012-11-16 | 2020-05-07 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
JP2014130345A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-07-10 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置 |
CN103852943B (zh) * | 2012-11-30 | 2019-07-02 | 株式会社半导体能源研究所 | 液晶显示装置 |
US9252283B2 (en) | 2012-11-30 | 2016-02-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising oxide semiconductor film |
WO2014084152A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
CN103852943A (zh) * | 2012-11-30 | 2014-06-11 | 株式会社半导体能源研究所 | 液晶显示装置 |
US10074748B2 (en) | 2012-11-30 | 2018-09-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising oxide semiconductor film |
JP7273925B2 (ja) | 2012-11-30 | 2023-05-15 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9865746B2 (en) | 2012-11-30 | 2018-01-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2022009539A (ja) * | 2012-11-30 | 2022-01-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9324810B2 (en) | 2012-11-30 | 2016-04-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including oxide semiconductor film |
JP2014131025A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-07-10 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
JP2018139314A (ja) * | 2012-11-30 | 2018-09-06 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2014120712A (ja) * | 2012-12-19 | 2014-06-30 | Ricoh Co Ltd | 金属酸化物膜形成用塗布液、金属酸化物膜、電界効果型トランジスタ、及び電界効果型トランジスタの製造方法 |
US20140175423A1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor array panel and method of manufacturing the same |
US9391096B2 (en) | 2013-01-18 | 2016-07-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US9412877B2 (en) | 2013-02-12 | 2016-08-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2014179597A (ja) * | 2013-02-13 | 2014-09-25 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
KR102185167B1 (ko) * | 2013-02-13 | 2020-12-01 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 반도체 장치의 제작 방법 |
KR20140102146A (ko) * | 2013-02-13 | 2014-08-21 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 반도체 장치의 제작 방법 |
US9829533B2 (en) | 2013-03-06 | 2017-11-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor film and semiconductor device |
US11063066B2 (en) | 2013-04-12 | 2021-07-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | C-axis alignment of an oxide film over an oxide semiconductor film |
US11843004B2 (en) | 2013-04-12 | 2023-12-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having specified relative material concentration between In—Ga—Zn—O films |
US10304859B2 (en) | 2013-04-12 | 2019-05-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having an oxide film on an oxide semiconductor film |
JP2014225656A (ja) * | 2013-04-24 | 2014-12-04 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2018186294A (ja) * | 2013-06-05 | 2018-11-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2015167256A (ja) * | 2013-06-19 | 2015-09-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9419145B2 (en) | 2013-07-12 | 2016-08-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US9691904B2 (en) | 2013-07-12 | 2017-06-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2015035590A (ja) * | 2013-07-12 | 2015-02-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2015026768A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-02-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2015046499A (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-12 | 三菱電機株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに液晶表示装置 |
KR20160055883A (ko) * | 2013-09-13 | 2016-05-18 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 이의 제작방법 |
KR102294511B1 (ko) * | 2013-09-13 | 2021-08-30 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 이의 제작방법 |
JP2015079947A (ja) * | 2013-09-13 | 2015-04-23 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置およびその作製方法 |
JP2020025133A (ja) * | 2013-09-23 | 2020-02-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9673234B2 (en) | 2013-12-12 | 2017-06-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2016184764A (ja) * | 2013-12-12 | 2016-10-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US10115631B2 (en) | 2013-12-12 | 2018-10-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2015135962A (ja) * | 2013-12-20 | 2015-07-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2020127047A (ja) * | 2014-10-10 | 2020-08-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US10032929B2 (en) | 2015-05-22 | 2018-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and display device including the semiconductor device |
US9748403B2 (en) | 2015-05-22 | 2017-08-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and display device including the semiconductor device |
US10115832B2 (en) | 2015-09-23 | 2018-10-30 | Boe Technology Group Co. Ltd. | Thin film transistor, method for manufacturing the same, array substrate and display device |
CN105280717A (zh) * | 2015-09-23 | 2016-01-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | Tft及其制作方法、阵列基板及显示装置 |
JP2023009058A (ja) * | 2015-12-15 | 2023-01-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2018006727A (ja) * | 2015-12-15 | 2018-01-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置及び表示装置 |
US11764309B2 (en) | 2015-12-15 | 2023-09-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and display device |
JP2021114617A (ja) * | 2015-12-15 | 2021-08-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
KR102218802B1 (ko) * | 2016-02-26 | 2021-02-22 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 산화물 반도체층을 포함하는 박막 트랜지스터 |
KR20180109961A (ko) * | 2016-02-26 | 2018-10-08 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 산화물 반도체층을 포함하는 박막 트랜지스터 |
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KR102580581B1 (ko) * | 2016-06-13 | 2023-09-19 | 미쓰이금속광업주식회사 | 반도체 디바이스 및 그 제조 방법 |
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