JP2011227148A - 防眩フィルターの製造方法 - Google Patents

防眩フィルターの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2011227148A
JP2011227148A JP2010094356A JP2010094356A JP2011227148A JP 2011227148 A JP2011227148 A JP 2011227148A JP 2010094356 A JP2010094356 A JP 2010094356A JP 2010094356 A JP2010094356 A JP 2010094356A JP 2011227148 A JP2011227148 A JP 2011227148A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scratch
resistant film
mold
synthetic resin
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010094356A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5495913B2 (ja
Inventor
Hiroki Ishibashi
弘樹 石橋
Yuji Chiba
裕治 千葉
Tomoji Onda
智士 恩田
Yoshiya Kurachi
与志也 倉地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Rayon Co Ltd filed Critical Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority to JP2010094356A priority Critical patent/JP5495913B2/ja
Publication of JP2011227148A publication Critical patent/JP2011227148A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5495913B2 publication Critical patent/JP5495913B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

【課題】合成樹脂基材の表面に耐擦傷性皮膜が積層された防眩フィルターにおいて、耐擦傷性皮膜のヒケ欠陥が少なく、アンチグレア性と耐擦傷性を有する防眩フィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】表面に凹凸形状を有する鋳型と合成樹脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料を展延させた後に耐擦傷性皮膜形成原料を重合硬化させて耐擦傷性皮膜を形成し、次いで、合成樹脂基材の表面に凹凸形状を有する耐擦傷性皮膜が積層された積層体を鋳型から剥離する防眩フィルターの製造方法であって、表面に凹凸形状を有する鋳型と合成樹脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料を展延させる際の鋳型温度及び合成樹脂基材温度が特定の条件である防眩フィルターの製造方法。
【選択図】なし

Description

本発明は防眩フィルターの製造方法に関する。
液晶表示装置をはじめとする画像表示装置の表面には、外光の映り込みを防止する目的で画像表示装置の表面に微細な凹凸を有する防眩フィルター等を積層する方法等により防眩性を付与することが多い。
基材の表面に微細な凹凸を付与する防眩処理はノングレア処理又はアンチグレア処理と呼ばれ、防眩処理法の一例として、表面に微小な凹凸形状を有する鋳型と合成樹脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料を展延させた状態で耐擦傷性皮膜形成原料を重合硬化させ、次いで、合成樹脂基材の表面に耐擦傷性皮膜が積層された積層体を鋳型から剥離することにより、積層体の表面に微小な凹凸形状を付与する方法が提案されている。(例えば特許文献1及び特許文献2)
しかしながら、これらの製造方法においては、耐擦傷性皮膜形成原料を重合硬化させたときに、得られた耐擦傷性皮膜に微小なヒケ欠陥が発生し、商品価値を損ねたり、歩留まりが悪くなる等の問題があった。
一方、ヒケ欠陥を防止するため、射出成形において金型温度を制御する方法が開示されている(特許文献3)。しかしながら皮膜が積層された積層体を射出成形で製造する場合、耐擦傷性皮膜を別途作製しそれを金型内で転写する必要があり、コスト的に不利である。その上、成形温度が比較的高温であるため、皮膜の微細な凹凸形状を維持することが困難である。
特開昭61−76328号公報 特開昭64−46702号公報 特開2006−110905号公報
本発明は、合成樹脂基材の表面に耐擦傷性皮膜が積層された防眩フィルターにおいて、耐擦傷性皮膜のヒケ欠陥が少なく、アンチグレア性と耐擦傷性を有する防眩フィルターの製造方法を提供することを課題とする。
本発明は、表面に凹凸形状を有する鋳型(以下、「本鋳型」という)と合成樹脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料を展延させた後に耐擦傷性皮膜形成原料を重合硬化させて耐擦傷性皮膜を形成し、次いで、合成樹脂基材の表面に凹凸形状を有する耐擦傷性皮膜が積層された積層体(以下、「本積層体」という)を鋳型から剥離する防眩フィルターの製造方法であって、本鋳型と合成樹脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料を展延させる際の鋳型温度及び合成樹脂基材温度が以下の条件である防眩フィルター(以下、「本防眩フィルター」という)の製造方法である。
<鋳型温度及び合成樹脂基材温度の条件>
鋳型温度:40℃以下
7℃≧(合成樹脂基材温度−鋳型温度)≧0℃
本発明により、耐擦傷性皮膜のヒケ欠陥が少なく、アンチグレア性と耐擦傷性を有する防眩フィルターが得られることから、本発明で得られる防眩フィルターは液晶画面の前面板、メーターカバー等のアンチグレア性及び耐擦傷性が要求される製品に好適に使用できる。

本鋳型

本発明に用いられる本鋳型は表面に凹凸形状を有するものである。
本発明においては、本鋳型表面に形成される凹凸形状としては、本防眩フィルターの表面粗度が中心線平均粗さ(Ra)で0.05〜0.3μmとなるように調整された形状であることが好ましい。
本鋳型の凹凸形状を本防眩フィルターの表面粗度が中心線平均粗さ(Ra)で0.05μm以上となるように調整された形状とすることにより本防眩フィルターの防眩性を良好とすることができる傾向にある。また、本鋳型の凹凸形状を本防眩フィルターの表面粗度が中心線平均粗さ(Ra)で0.3μm以下となるように調整された形状とすることにより本防眩フィルターの光の透過率を良好とすることができる傾向にある。
本鋳型を構成する材料としては、例えば、ガラス、ステンレス鋼又はアルミニウム等の金属及びそれらの金属にニッケルメッキ、硬質クロムメッキ、合成樹脂等の表面処理が施されたものが挙げられる。
これらの材料の中で、耐傷つき性及び耐久性の点で、ガラス及び表面処理された金属が好ましい。
本鋳型の形状としては、例えば、板状及びロール状が挙げられる。
本鋳型の表面に凹凸形状を付与する方法としては、例えば、エッチング処理による方法が挙げられる。本鋳型としてガラスを使用する場合のエッチング処理の具体例としては、ガラス表面をフッ化水素を含む水溶液と接触させる処理が挙げられる。

合成樹脂基材

本発明に用いられる合成樹脂基材としては、室温で剛性を持つ透視性の優れた透明樹脂が画像表示装置前面板等の用途に使用される防眩フィルターを得る点で好ましい。
合成樹脂基材の具体例としては、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチルを主構成単位とする共重合体、ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体及びポリカーボネートが挙げられる。
本発明においては、合成樹脂基材としては板状品が好ましく、その厚みとしては通常0.2〜20mmである。

耐擦傷性皮膜形成原料

本発明に用いられる耐擦傷性皮膜形成原料としては、例えば、分子中に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する重合性化合物(以下、「本重合性化合物」という)を含有するものが挙げられる。
本重合性化合物の具体例としては、1モルの多価アルコールと2モル以上の(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物;及び多価アルコールと多価カルボン酸又はその無水物と(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物が挙げられる。
尚、本発明において、「(メタ)アクリ」は「アクリ」及び「メタクリ」から選ばれる少なくとも1種を示す。
1モルの多価アルコールと2モル以上の(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物としては、例えば、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。
多価アルコールと多価カルボン酸又はその無水物と(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物としては、例えば、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、セバシン酸、フマル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等の多価カルボン酸又はその無水物と、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アルコールと、(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物が挙げられる。
本発明においては、耐擦傷性皮膜形成原料中に必要に応じて熱重合開始剤又は光重合開始剤を添加することができる。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等のリン系化合物が挙げられる。
光重合に使用される光源としては、例えば、紫外線エックス線及び電子線が挙げられる。
光重合開始剤の添加量としては、紫外線による硬化性の点で、本重合性化合物100質量部に対して0.1質量部以上が好ましく、後述する耐擦傷性皮膜の良好な色調を維持できる点で10質量部以下が好ましい。
本発明においては、耐擦傷性皮膜形成原料は本鋳型と合成樹脂基材との間に展延される。
耐擦傷性皮膜形成原料を本鋳型と合成樹脂基材との間に展延する際の鋳型温度は40℃以下に設定される。
鋳型温度を40℃以下、好ましくは37℃以下とすることにより、耐擦傷性皮膜形成原料の粘度が低くなり過ぎず、耐擦傷性皮膜形成原料を安定に展延することができ、本防眩フィルターにおける耐擦傷性皮膜の厚み不足を抑制することができる。また、鋳型温度としては30℃以上、好ましくは33℃以上が好ましい。鋳型温度を30℃以上とすることにより、本鋳型を繰返し使用する時の、耐擦傷性皮膜形成原料の重合硬化後の耐擦傷性皮膜を剥離した後の、本鋳型の冷却時間の短時間化が図れ、本防眩フィルターの生産性の低下を抑制することができる。
尚、本発明において、耐擦傷性皮膜に発生するヒケ欠陥とは、本鋳型と合成樹脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料を展延させた際に耐擦傷性皮膜形成原料中に気泡が混入することに起因する、重合硬化後の耐擦傷性皮膜中に形成された液枯れした部分をいう。
本鋳型と合成樹脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料を展延させる方法としては、例えば、耐擦傷性皮膜形成原料を40℃以下に温調した本鋳型の凹凸形状を有する面に流延させ、その上に鋳型温度と同じか鋳型温度より7℃以下の範囲で高い温度に調整された合成樹脂基材を積層し、上からプレスロールにより本鋳型と合成樹脂基材との間に気泡が残らないように展延する方法が挙げられる。
前記の通り、耐擦傷性皮膜形成原料を本鋳型と合成樹脂基材との間に展延する際の合成樹脂基材温度は鋳型温度と同じか鋳型温度より7℃以下の範囲で高く設定される。
合成樹脂基材温度が鋳型温度よりも低い場合には、合成樹脂基材の表面のうちの耐擦傷性皮膜形成原料と接触している面側が本鋳型の熱で膨張し、合成樹脂基材が凹状に反り、合成樹脂基材の四辺に浮きが発生する。合成樹脂基材の四辺に浮きが発生した場合、展延した耐擦傷性皮膜形成原料の周辺部分から展延された耐擦傷性皮膜形成原料中に気泡が混入してしまい、ヒケ欠陥となり、好ましくない。また、合成樹脂基材温度が鋳型温度よりも7℃を超えて高い場合、合成樹脂基材の表面のうちの耐擦傷性皮膜形成原料と接触している面側が鋳型によって冷却され、合成樹脂基材の凸状の反りが過大となり、その結果、膜厚が不均一となり好ましくない。更に、合成樹脂基材温度が鋳型温度よりも7℃を超えて高い場合、耐擦傷性皮膜形成原料の粘度が低くなり過ぎて、耐擦傷性皮膜形成原料を安定に展延することが難しくなり、好ましくない。
合成樹脂基材を温調する方法としては、例えば、通常の熱風循環式加熱炉及び赤外線ヒーターによる温調方法が挙げられる。
本発明においては、耐擦傷性皮膜形成原料の重合硬化法としては、例えば、熱重合法及び光重合法が挙げられるが、装置が比較的簡単なこと及び生産性が高い点で、紫外線照射による光重合法が好ましい。
耐擦傷性皮膜形成原料の光重合を行うときの光照射法としては、合成樹脂基材を通して紫外線等の活性エネルギー線を照射する方法が一般に有効である。また、活性エネルギー線不透過性の合成樹脂基材を用いるときは、鋳型としてガラスを用い、ガラスを通して紫外線を照射する方法が有効である。

耐擦傷性皮膜

本発明において、耐擦傷性皮膜は耐擦傷性皮膜形成原料を本鋳型と合成樹脂基材との間に展延させた後に重合硬化させて得られるものである。
耐擦傷性皮膜の厚みとしては5〜50μmが好ましく、7〜20μmがより好ましい。耐擦傷性皮膜の厚みが5μm以上で、耐擦傷性皮膜の、表面硬度及び耐擦傷性が良好となる傾向にある。また、耐擦傷性皮膜の厚みが50μm以下で、本防眩フィルターが脆くならない傾向にある。

本積層体

本発明においては、合成樹脂基材の表面に凹凸形状を有する耐擦傷性皮膜が積層された本積層体と本鋳型とが、本積層体の耐擦傷性皮膜の面と本鋳型とが接触する状態で形成されている。

本防眩フィルター

本発明において、本鋳型から本積層体を剥離することにより本防眩フィルターが得られる。
また、本防眩フィルターの耐擦傷性皮膜の表面には、本鋳型表面の形状が転写されて、凹凸形状が付与されている。本防眩フィルターの表面粗度としては、中心線平均粗さ(Ra)で0.05〜0.3μmであることが好ましい。
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。尚、防眩フィルターの評価は以下の方法により実施した。また、以下において、「部」は「質量部」を示す。
(1)表面粗度
JIS B 0601に準じてナノスケールハイブリッド顕微鏡((株)キーエンス製、商品名:VN−8000)を用いて防眩フィルターの耐擦傷性皮膜の面の中心線平均粗さ(Ra)を測定し、表面粗度を評価した。
(2)耐擦傷性
太平理科工業(株)製ラビングテスターを使用した。スチールウール(日本スチールウール(株)製、商品名:ボンスター#0000)を装着した直径1インチの円形パッドを防眩フィルターの耐擦傷性皮膜の面に圧着し、パッドに荷重を掛けた状態で10往復擦傷させたときの防眩フィルターの耐擦傷性皮膜形成面に傷のつき始める最低荷重である限界荷重を測定した。限界荷重の大きいものほど耐擦傷性が良好と判断した。
(3)ヒケ欠陥
光源に蛍光灯((株)日立製作所製、40W形蛍光灯三波長タイプ、昼光色)を使用し、防眩フィルターに蛍光灯の光を透過させ、透過光の散乱状態を目視観察することによって、防眩フィルターのヒケの有無を以下の基準により判断した。
○:光が一様に散乱し、ヒケ欠陥が認められない。
×:光が散乱することなく透過している部分であるヒケ欠陥が認められる。
[実施例1]
トリメチロールエタンとアクリル酸と無水コハク酸との縮合エステル(大阪有機化学工業(株)製、商品名:TAS)40部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート30部、1,6ヘキサンジオールジアクリレート30部及び2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド2部を混合した耐擦傷性皮膜形成原料を調整した。
面積約630mm×530mm及び厚さ3mmを有し、表面に微細な凹凸が形成されたガラス板(三和フロスト工業(株)製、商品名:フロスト加工65%(ソーダガラス片面フロスト加工、表面光沢度65%))を鋳型として用い、鋳型温度(Tm)が35℃に温調された鋳型の表面に上述の耐擦傷性皮膜形成原料を展延させた。
次いで、展延された耐擦傷性皮膜形成原料の上に合成樹脂基材温度(Tb)を35℃に設定した厚さ1mmの無色透明のメタクリル樹脂板(三菱レイヨン(株)製、商品名:アクリライトL#001)を積層し、メタクリル樹脂板の上からローラーによりメタクリル樹脂板とガラス板との間に気泡が残らないようにプレスし、耐擦傷性皮膜形成原料の厚さが約10μmの積層物を得た。
上記の積層物に、まず400mm間隔で配列された2本のメタルハライドランプ(ウシオ電機(株)製、商品名:UVL−12K1M3−N)を用いて12cmの高さからガラス板側から10秒間照射し、厚さが10μmの耐擦傷性皮膜を形成させた。
次いで、耐擦傷性皮膜が積層されたメタクリル樹脂板の積層体をガラス板から剥離し、積層体に上記の照射条件と同条件で耐擦傷性皮膜の面側からメタルハライドランプを照射して耐擦傷性皮膜の後硬化を行い、防眩フィルターを得た。得られた防眩フィルターの耐擦傷性皮膜が形成された側の表面粗度を評価したところ、Raで0.15μmであり、耐擦傷性評価時の限界荷重は1,000gであった。また、防眩フィルターの外観を目視観察したところ、ヒケ欠陥は認められなかった。得られた結果を表1に示す。
[実施例2及び比較例1〜6]
鋳型温度及び合成樹脂基材温度を表1に示す温度とする以外は実施例1と同様にして防眩フィルターを得た。得られた防眩フィルターの評価結果を表1に示す。
[実施例3]
鋳型として、表面光沢度110%のガラス板(三和フロスト工業(株)製、商品名:フロスト加工110%(ソーダガラス片面フロスト加工、表面光沢度110%))を使用する以外は実施例1と同様にして防眩フィルターを得た。得られた防眩フィルターの評価結果を表1に示す。
[実施例4]
鋳型として、表面光沢度30%のガラス板(三和フロスト工業(株)製、商品名:フロスト加工30%(ソーダガラス片面フロスト加工、表面光沢度30%))を使用する以外は実施例1と同様にして防眩フィルターを得た。得られた防眩フィルターの評価結果を表1に示す。
表1の実施例1〜5の結果から明らかなように、鋳型温度を40℃以下とし、(合成樹脂基材温度−金型温度)を0〜5℃とすることにより、アンチグレア性及び耐擦傷性に優れ、ヒケ欠陥の少ない防眩フィルターが得られた。これに対し、比較例1〜3、5では鋳型温度は40℃以下であるが、(合成樹脂基材温度−金型温度)が0℃未満であるか5℃を超えていることからヒケ欠陥又は耐擦傷性が低位であった。また、比較例4では金型温度が40℃を超え、(合成樹脂基材温度−金型温度)も0℃未満であることからヒケ欠陥が低位であった。比較例6では(合成樹脂基材温度−金型温度)は0〜5℃の範囲内であったが、金型温度が40℃を超えていることから耐擦傷性が低位であった。
Figure 2011227148

Claims (4)

  1. 表面に凹凸形状を有する鋳型と合成樹脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料を展延させた後に耐擦傷性皮膜形成原料を重合硬化させて耐擦傷性皮膜を形成し、次いで、合成樹脂基材の表面に凹凸形状を有する耐擦傷性皮膜が積層された積層体を鋳型から剥離する防眩フィルターの製造方法であって、表面に凹凸形状を有する鋳型と合成樹脂基材との間に耐擦傷性皮膜形成原料を展延させる際の鋳型温度及び合成樹脂基材温度が以下の条件である防眩フィルターの製造方法。
    <鋳型温度及び合成樹脂基材温度の条件>
    鋳型温度:40℃以下
    7℃≧(合成樹脂基材温度−鋳型温度)≧0℃
  2. 鋳型が、得られる防眩フィルターの表面粗度が中心線平均粗さ(Ra)で0.05〜0.3μmとなるような凹凸形状を付与した表面を有するものである請求項1に記載の防眩フィルターの製造方法。
  3. 合成樹脂基材がポリメタクリル酸メチルである請求項1又は2のいずれかに記載の防眩フィルターの製造方法。
  4. 耐擦傷性皮膜形成原料が、分子中に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する重合性化合物を含有するものである請求項1〜3のいずれかに記載の防眩フィルターの製造方法。
JP2010094356A 2010-04-15 2010-04-15 防眩フィルターの製造方法 Expired - Fee Related JP5495913B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010094356A JP5495913B2 (ja) 2010-04-15 2010-04-15 防眩フィルターの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010094356A JP5495913B2 (ja) 2010-04-15 2010-04-15 防眩フィルターの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011227148A true JP2011227148A (ja) 2011-11-10
JP5495913B2 JP5495913B2 (ja) 2014-05-21

Family

ID=45042587

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010094356A Expired - Fee Related JP5495913B2 (ja) 2010-04-15 2010-04-15 防眩フィルターの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5495913B2 (ja)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0549991A (ja) * 1991-08-08 1993-03-02 Konica Corp リバースロール塗布方法および装置
JPH06195757A (ja) * 1992-12-21 1994-07-15 Toppan Printing Co Ltd 光学式記録媒体の製造方法
JP2002067057A (ja) * 2000-08-24 2002-03-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd レンズシートの製造方法
JP2003011218A (ja) * 2001-04-09 2003-01-15 Idemitsu Unitech Co Ltd マイクロエンボスシートの製造方法およびマイクロエンボスシート
JP2004090539A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Toppan Printing Co Ltd 光学物品の製造方法、光学物品、画像投影スクリーン及び画像投影装置
JP2005156615A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Konica Minolta Opto Inc 防眩フイルム、防眩性反射防止フィルム及びそれらの製造方法、並びに偏光板及び表示装置
JP2005178048A (ja) * 2003-12-16 2005-07-07 Daiwa Can Co Ltd ポリエステルフィルム被覆金属板、ポリエステルフィルム被覆金属板の製造方法、及びポリエステルフィルム被覆金属缶
JP2008238536A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Konica Minolta Opto Inc 防眩性フィルム、及びその製造方法
JP2009086410A (ja) * 2007-10-01 2009-04-23 Konica Minolta Opto Inc 防眩フィルム、その製造装置、防眩性反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置
JP2010058521A (ja) * 2007-03-16 2010-03-18 Sony Corp 光学シートの製造方法及び光学シート

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0549991A (ja) * 1991-08-08 1993-03-02 Konica Corp リバースロール塗布方法および装置
JPH06195757A (ja) * 1992-12-21 1994-07-15 Toppan Printing Co Ltd 光学式記録媒体の製造方法
JP2002067057A (ja) * 2000-08-24 2002-03-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd レンズシートの製造方法
JP2003011218A (ja) * 2001-04-09 2003-01-15 Idemitsu Unitech Co Ltd マイクロエンボスシートの製造方法およびマイクロエンボスシート
JP2004090539A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Toppan Printing Co Ltd 光学物品の製造方法、光学物品、画像投影スクリーン及び画像投影装置
JP2005156615A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Konica Minolta Opto Inc 防眩フイルム、防眩性反射防止フィルム及びそれらの製造方法、並びに偏光板及び表示装置
JP2005178048A (ja) * 2003-12-16 2005-07-07 Daiwa Can Co Ltd ポリエステルフィルム被覆金属板、ポリエステルフィルム被覆金属板の製造方法、及びポリエステルフィルム被覆金属缶
JP2010058521A (ja) * 2007-03-16 2010-03-18 Sony Corp 光学シートの製造方法及び光学シート
JP2008238536A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Konica Minolta Opto Inc 防眩性フィルム、及びその製造方法
JP2009086410A (ja) * 2007-10-01 2009-04-23 Konica Minolta Opto Inc 防眩フィルム、その製造装置、防眩性反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP5495913B2 (ja) 2014-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI504500B (zh) 壓模及其製造方法、成形體的製造方法以及壓模的鋁原型
US7867602B2 (en) Scratch-resistant optical film
CN103534219A (zh) 防眩光表面处理方法及其制品
TW200923434A (en) Polyester film for brightness enhancement sheet
WO2010024274A1 (ja) 樹脂積層体の製造方法
JP2013061636A (ja) 防眩性前面板
JPWO2012141238A1 (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、成形品、微細凹凸構造体、撥水性物品、モールド、及び微細凹凸構造体の製造方法
JP6686284B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を含む物品
JP2008209540A (ja) 反射防止物品
TW201127916A (en) Multilayer film and production method of the same
JP6229204B2 (ja) 樹脂積層体及びその製造方法並びにディスプレー前面板
JP2010253820A (ja) スタンパ製造用アルミニウム基材およびスタンパの製造方法
WO2015093404A1 (ja) 樹脂積層体及びその製造方法
TWI481908B (zh) 光學片及液晶顯示裝置用面光源
JP2013029804A (ja) 光学フィルム及びそれを用いた光学装置
JP6755184B2 (ja) 光制御パネル及び光結像装置
JP5402463B2 (ja) 光学シート及び面光源装置
JP2010275525A (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いたナノ凹凸構造体とその製造方法、及びナノ凹凸構造体を備えた撥水性物品
JP5425516B2 (ja) スタンパ製造用アルミニウム基材およびスタンパの製造方法
JP5495913B2 (ja) 防眩フィルターの製造方法
JP2015215593A (ja) 光学用ポリエステルフィルム及びそれを用いた偏光板、透明導電性フィルム
JP5668960B2 (ja) 防眩層形成用金型の製造方法、防眩性フィルムの製造方法及び防眩性板の製造方法
JP5398521B2 (ja) 艶消しシートの製造方法
TW201042325A (en) Optical element and manufacturing method therfor
WO2016158979A1 (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物及び物品

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130412

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131106

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131128

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140114

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140206

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140304

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5495913

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees