JP2011153969A5 - - Google Patents

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本発明のX線撮像装置は、X線源からX線を回折する回折格子と、
記回折格子を透過したX線強度分布を検出するX線検出器と、前記X線検出器で検出された強度分布から、被検物の位相情報を演算する演算手段と、を有するX線撮像装置であって、
前記X線検出器は、
第1の強度分布と、該第1の強度分布と異なる第2の強度分布と、を検出し、前記演算手段は、
前記第1の強度分布と前記第2の強度分布との差分の周波数スペクトルを演算し、
記周波数スペクトルから前記位相情報演算ることを特徴とする。
また、本発明の波面計測装置は、
光源と、
前記光源から照射された光線の位相もしくは強度を周期的に変調する回折格子と、
前記回折格子を透過もしくは反射した光線によるタルボ効果によって生じる強度分布、もしくはさらに遮光部材を配置することによって生じるモアレ縞の強度分布を取得する検出器と、
前記光源と前記回折格子の間、または前記回折格子と撮像装置の間に配置した被検物を透過した光線の微分位相分布を得る演算手段とを有し、前記被検物の透過波面を計測する波面計測装置であって、
前記検出器は、
第1の強度分布と、該第1の強度分布と異なる第2の強度分布と、を検出し、前記演算手段は、
前記第1の強度分布と前記第2の強度分布との差分の周波数スペクトルを演算し、
前記周波数スペクトルから前記位相情報を演算することを特徴とする

Claims (11)

  1. X線源からX線を回折する回折格子と、
    記回折格子を透過したX線強度分布を検出するX線検出器と、前記X線検出器で検出された強度分布から、被検物の位相情報を演算する演算手段と、を有するX線撮像装置であって、
    前記X線検出器は、
    第1の強度分布と、該第1の強度分布と異なる第2の強度分布と、を検出し、前記演算手段は、
    前記第1の強度分布と前記第2の強度分布との差分の周波数スペクトルを演算し、
    記周波数スペクトルから前記位相情報演算ることを特徴とするX線撮像装置。
  2. 前記第2の強度分布は、
    前記X線検出器上で前記第1の強度分布が前記第1の強度分布の周期方向に半周期だけずれた強度分布であることを特徴とする請求項1に記載のX線撮像装置。
  3. 前記回折格子と前記X線検出器の間に配置されている遮蔽部材を有し、
    前記第1の強度分布と前記第2の強度分布とは、
    前記回折格子による強度分布と、前記強度分布の一部を周期的に遮光する前記遮蔽部材とにより形成されるモアレ縞であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のX線撮像装置。
  4. 前記第1の強度分布と前記第2の強度分布とは、2方向に周期を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のX線撮像装置。
  5. 前記第1の強度分布をIA、
    前記第1の強度分布を第1の方向に移動して検出した第2の強度分布をIB、
    前記第1の強度分布を前記第1の方向と垂直な第2の方向に移動して検出した強度分布をIC、
    前記第1の強度分布を前記第1の方向および第2の方向に移動して検出した強度分布をIDとするとき、
    前記演算手段は、下記の式を満たす強度分布IEの空間周波数スペクトルを演算し、該空間周波数スペクトルから前記位相情報を演算することを特徴とする請求項4に記載のX線撮像装置。

    IE=IA−IB−IC+ID
  6. 前記第1の強度分布と前記第2の強度分布との周期は、前記X線検出器の画素のサイズの4倍であり、
    前記第1の強度分布と前記第2の強度分布との周期方向は、前記X線検出器の画素の配列方向と一致しており、
    前記演算手段は、前記周波数スペクトルから、前記強度分布の周期方向において周波数がゼロからナイキスト周波数までを含み、
    前記強度分布の周期方向に垂直な方向においてナイキスト周波数間の周波数を含む、長方形領域を切り出すことを特徴とする請求項4または5に記載のX線撮像装置。
  7. 前記第1の強度分布と前記第2の強度分布との周期は、前記X線検出器の画素サイズの2√2倍であり、
    前記第1の強度分布と前記第2の強度分布との周期方向は、前記X線検出器の画素配列に対し45°傾いており
    前記演算手段は、前記周波数スペクトルから、前記X線検出器の画素配列の2つの周期方向のそれぞれにおいて、周波数がゼロからナイキスト周波数までを含む正方形領域を切り出すことを特徴とする請求項4または5に記載のX線撮像装置。
  8. X線源からのX線を回折する回折格子と、
    前記回折格子を透過したX線の強度分布を検出するX線検出器と、前記X線検出器で検出された強度分布から、被検物の位相情報を演算する演算手段と、を有するX線撮像装置であって、
    前記X線検出器は、
    第1の強度分布と、該第1の強度分布と異なる第2の強度分布と、を検出し
    前記演算手段は、
    前記第1の強度分布と前記第2の強度分布との差分を演算することで得られる強度分布をフーリエ変換すること、または、前記第1の強度分布と前記第2の強度分布をそれぞれフーリエ変換して得られた周波数スペクトルの差分をとることで、前記位相情報を演算することを特徴とするX線撮像装置。
  9. 光源と、
    前記光源から照射された光線の位相もしくは強度を周期的に変調する回折格子と、
    記回折格子を透過もしくは反射した光線によるタルボ効果によって生じる強度分布、もしくはさらに遮光部材を配置することによって生じるモアレ縞の強度分布を取得する検出器と、
    前記光源と前記回折格子の間、または前記回折格子と撮像装置の間に配置した被検物を透過した光線の微分位相分布を得る演算手段とを有し、前記被検物の透過波面を計測する波面計測装置であって、
    前記検出器は、
    第1の強度分布と、該第1の強度分布と異なる第2の強度分布と、を検出し、前記演算手段は、
    前記第1の強度分布と前記第2の強度分布との差分の周波数スペクトルを演算し、
    前記周波数スペクトルから前記位相情報を演算することを特徴とする波面計測装置。
  10. 複数の強度分布から被検体の位相情報を演算するプログラムであって、
    第1の強度分布と、該第1の強度分布と異なる第2の強度分布と、の差分の周波数スペクトルを演算し、
    前記周波数スペクトルから前記位相情報を演算することをコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム
  11. 複数の強度分布から被検体の位相情報を演算するプログラムであって、
    第1の強度分布と、該第1の強度分布と異なる第2の強度分布と、の差分を演算することで得られる強度分布をフーリエ変換すること、または、前記第1の強度分布と、前記第2の強度分布と、をそれぞれフーリエ変換して得られた周波数スペクトルの差分をとることで、前記位相情報を演算することをコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5725870B2 (ja) 2010-02-22 2015-05-27 キヤノン株式会社 X線撮像装置およびx線撮像方法
JP5586986B2 (ja) 2010-02-23 2014-09-10 キヤノン株式会社 X線撮像装置
JP5796976B2 (ja) 2010-05-27 2015-10-21 キヤノン株式会社 X線撮像装置
CN103168228B (zh) * 2010-10-19 2015-11-25 皇家飞利浦电子股份有限公司 微分相位对比成像
US10028716B2 (en) * 2010-10-19 2018-07-24 Koniklijke Philips N.V. Differential phase-contrast imaging
JP2014132913A (ja) * 2011-04-25 2014-07-24 Fujifilm Corp 放射線撮影システム及び放射線撮影方法
JP2014223091A (ja) * 2011-09-12 2014-12-04 富士フイルム株式会社 放射線撮影装置及び画像処理方法
AU2012258412A1 (en) * 2012-11-30 2014-06-19 Canon Kabushiki Kaisha Combining differential images by inverse Riesz transformation
JP6090995B2 (ja) * 2013-04-25 2017-03-08 国立大学法人 東京大学 光子検出装置および放射線測定装置
DE102013221818A1 (de) * 2013-10-28 2015-04-30 Siemens Aktiengesellschaft Bildgebendes System und Verfahren zur Bildgebung
US9423306B2 (en) 2014-01-03 2016-08-23 Ram Photonics, LLC Method and apparatus for wavefront sensing
JP2015166676A (ja) * 2014-03-03 2015-09-24 キヤノン株式会社 X線撮像システム
JP2015205174A (ja) * 2014-04-10 2015-11-19 キヤノン株式会社 画像処理装置および画像処理装置の制御方法
JP6369206B2 (ja) * 2014-08-06 2018-08-08 コニカミノルタ株式会社 X線撮影システム及び画像処理装置
CN105628718A (zh) * 2014-11-04 2016-06-01 同方威视技术股份有限公司 多能谱x射线光栅成像***与成像方法
JP6402780B2 (ja) * 2014-12-22 2018-10-10 株式会社島津製作所 放射線位相差撮影装置
US11073487B2 (en) * 2017-05-11 2021-07-27 Kla-Tencor Corporation Methods and systems for characterization of an x-ray beam with high spatial resolution
WO2020073346A1 (zh) * 2018-10-11 2020-04-16 广州博冠光电科技股份有限公司 一种基于数字激光全息快速检测透镜中心偏的装置及方法
CN112022178A (zh) * 2020-09-02 2020-12-04 上海联影医疗科技股份有限公司 X射线成像设备及***

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04323955A (ja) 1991-04-24 1992-11-13 Chubu Nippon Denki Software Kk ファクシミリ受信通知システム
JP2002336230A (ja) * 2001-05-16 2002-11-26 Fuji Photo Film Co Ltd 位相コントラスト画像生成方法および装置並びにプログラム
JP4118535B2 (ja) * 2001-07-03 2008-07-16 株式会社日立メディコ X線検査装置
US6781681B2 (en) 2001-12-10 2004-08-24 Ophthonix, Inc. System and method for wavefront measurement
US7034949B2 (en) 2001-12-10 2006-04-25 Ophthonix, Inc. Systems and methods for wavefront measurement
US7171031B2 (en) 2002-04-30 2007-01-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method, apparatus, and program for restoring phase information
JP4261125B2 (ja) * 2002-04-30 2009-04-30 富士フイルム株式会社 位相情報復元方法及び位相情報復元装置、並びに、位相情報復元プログラム
JP4137580B2 (ja) * 2002-10-04 2008-08-20 富士フイルム株式会社 位相情報復元方法及び位相情報復元装置、並びに、位相情報復元プログラム
JP4445397B2 (ja) 2002-12-26 2010-04-07 敦 百生 X線撮像装置および撮像方法
EP1731099A1 (en) 2005-06-06 2006-12-13 Paul Scherrer Institut Interferometer for quantitative phase contrast imaging and tomography with an incoherent polychromatic x-ray source
EP2073040A2 (en) * 2007-10-31 2009-06-24 FUJIFILM Corporation Radiation image detector and phase contrast radiation imaging apparatus
JP5237707B2 (ja) 2008-07-03 2013-07-17 株式会社東海理化電機製作所 暗号認証システム及び暗号通信方法
CN103876761B (zh) * 2008-10-29 2016-04-27 佳能株式会社 X射线成像装置和x射线成像方法
JP5725870B2 (ja) 2010-02-22 2015-05-27 キヤノン株式会社 X線撮像装置およびx線撮像方法
JP5586986B2 (ja) 2010-02-23 2014-09-10 キヤノン株式会社 X線撮像装置
US9066704B2 (en) 2011-03-14 2015-06-30 Canon Kabushiki Kaisha X-ray imaging apparatus

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