CN103876761B - X射线成像装置和x射线成像方法 - Google Patents
X射线成像装置和x射线成像方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103876761B CN103876761B CN201410089754.9A CN201410089754A CN103876761B CN 103876761 B CN103876761 B CN 103876761B CN 201410089754 A CN201410089754 A CN 201410089754A CN 103876761 B CN103876761 B CN 103876761B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- phase
- ripple
- grating
- ray
- detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 55
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 46
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 30
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 claims description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 7
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims description 6
- LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H lead(2+);trioxido(oxo)-$l^{5}-arsane Chemical compound [Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-][As]([O-])([O-])=O.[O-][As]([O-])([O-])=O LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000001020 rhythmical effect Effects 0.000 claims 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 102100029469 WD repeat and HMG-box DNA-binding protein 1 Human genes 0.000 description 3
- 101710097421 WD repeat and HMG-box DNA-binding protein 1 Proteins 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000003467 diminishing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 210000004872 soft tissue Anatomy 0.000 description 1
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
- G01N23/041—Phase-contrast imaging, e.g. using grating interferometers
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/20075—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials by measuring interferences of X-rays, e.g. Borrmann effect
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/42—Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis
- A61B6/4291—Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis the detector being combined with a grid or grating
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/48—Diagnostic techniques
- A61B6/484—Diagnostic techniques involving phase contrast X-ray imaging
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/40—Imaging
- G01N2223/401—Imaging image processing
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/067—Construction details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Surgery (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
公开了能够至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。X射线成像装置包括相位光栅(130)、吸收光栅(150)、检测器(170)和算术单元(180)。算术单元(180)执行通过对于由检测器获取的波纹图案的强度分布的傅立叶变换来获取空间频率谱的傅立叶变换处理。算术单元还执行使与载波频率对应的谱与由傅立叶变换处理获取的空间频率谱分离并然后使用逆傅立叶变换来获取微分相位图像的相位恢复处理。
Description
本申请是于2009年10月27日提交的、题为“X射线成像装置和X射线成像方法”的国际申请号为PCT/JP2009/068434、国家申请号为200980142837.7的专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及X射线成像装置和X射线成像方法。
背景技术
由于X射线具有高的物质透过性并且可以用高的空间分辨率执行成像,因此,例如,X射线在工业用途中被用于物体的非破坏性检查,以及在医疗用途中用于放射线照相(radiography)。在这些情况下,根据物质或活体的构成元素或者由于物质或活体的密度差,通过利用当X射线透射通过物质或活体时物质或活体的X射线吸收系数的差来形成对比度图像。这种成像方法被称为X射线吸收对比度方法。但是,轻元素以非常少的量吸收X射线。难以通过X射线吸收对比度方法来对由作为活体的构成元素的碳、氢、氧等构成的活体软组织或软材料进行成像。
与此相反,作为用于清楚地对甚至由轻元素构成的组织进行成像的方法,自20世纪90年代以来研究了使用X射线的相位差的X射线相位对比度方法。
开发了大量的X射线相位对比度方法。这些方法中的一个可以是作为能够使用常规的X射线管的方法的使用Talbot干涉的X射线相位对比度方法(专利文献1)。
在专利文献1中描述的使用Talbot干涉的方法包括产生X射线的X射线管、调制X射线的相位并且产生干涉强度分布的相位光栅、将干涉强度分布转变成波纹(Moiré)的强度分布的吸收光栅和检测干涉强度分布的X射线检测器。
在专利文献1中所描述的方法中,通过沿光栅周期的方向扫描吸收光栅来执行成像。通过该扫描,被检测的波纹移动。当扫描长度达到吸收光栅的一个周期时,波纹的图像恢复到原来的状态。通过在扫描期间使用图像数据的至少三个图像来执行算术处理,并由此获取微分相位图像。
引用列表
专利文献
专利文献1:美国专利No.7180979
发明内容
技术问题
在专利文献1中描述的方法通过对于至少三个图像执行成像来获取微分相位图像,并且从微分相位图像计算相位图像。
由于专利文献1中描述的方法必须对于至少三个图像执行成像,因此,如果被检体在成像期间移动,那么图像质量会劣化。
而且,如果用于成像的时间段增加,那么对于被检体的X射线剂量增加。这对于医疗用途来说是不希望的。
因此,本发明的一个目的是,提供可至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。
问题的解决方案
根据本发明的X射线成像装置包括:X射线源;相位光栅,用于透射来自X射线源的X射线并通过Talbot效应形成干涉强度分布;吸收光栅,用于部分遮蔽由相位光栅形成的干涉强度分布并产生波纹;检测器,用于检测由吸收光栅产生的波纹的强度分布;和算术单元,用于根据由检测器检测的波纹的强度分布来将被检体的信息成像并输出该信息。算术单元执行包含以下的步骤的处理:傅立叶变换步骤,用于对于由检测器获取的波纹的强度分布执行傅立叶变换并获取空间频率谱;以及相位恢复步骤,用于使与载波频率对应的谱与在傅立叶变换步骤中获取的空间频率谱分离,对于所分离的谱执行逆傅立叶变换以及获取微分相位图像。
本发明的有益效果
通过本发明,可以提供可至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。
附图说明
图1是根据本发明的第一实施例的X射线成像装置的说明图。
图2提供根据本发明的第二和第三实施例的二维相位光栅的说明图。
图3提供根据本发明的第一和第二实施例的二维相位光栅的说明图。
图4示出干涉强度分布的谱图案。
图5示出使用二维相位光栅时的波纹的强度分布和谱图案。
图6是根据本发明的由算术单元执行的分析方法的流程图的说明图。
图7提供根据本发明的第二实施例的波纹的强度分布和空间频率谱的说明图。
图8提供根据本发明的第三实施例的波纹的强度分布和空间频率谱的说明图。
图9是根据本发明的第四实施例的变焦机构的说明图。
具体实施方式
(第一实施例)
图1示出使用Talbot干涉的X射线成像装置的示例性配置。将详细描述通过使用X射线成像装置获取相位图像的过程。
(X射线源)
由X射线源110产生的X射线111透射通过被检体120。当X射线111透射通过被检体120时,X射线111的相位改变并且X射线111根据被检体120的成分、形状等被吸收。
X射线可以是连续X射线或特征X射线。在从约的范围中选择X射线的波长。可在X射线源110的下游设置波长选择滤波器和/或源用光栅。
(相位光栅)
透射通过被检体120的X射线111透射通过相位光栅130。然后,X射线111通过Talbot效应形成干涉强度分布140。
相位光栅130被布置在被检体120的上游或下游。
相位光栅130包含通过周期性改变X射线透射部件的厚度形成的相位超前部分131和相位滞后部分132。可以形成相位超前部分131和相位滞后部分132,使得透射通过相位超前部分131的X射线的相位与透射通过相位滞后部分132的X射线的相位不同。例如,透射通过相位超前部分131的X射线的相位相对于透射通过相位滞后部分132的X射线的相位超前π。由要被使用的X射线的波长和部件确定厚度的变化量。
相位光栅130一般相对于透射通过相位滞后部分132的X射线的相位将透射通过相位超前部分131的X射线的相位调制π或π/2。前一种光栅可被称为π相位光栅,后一种光栅可被称为π/2相位光栅。相位的调制量只需要是周期性的。例如,调制可以为π/3调制。
相位光栅130可具有一维线性形状。作为替代方案,相位光栅130可具有图2(A)所示的二维棋盘设计图案(checkerboarddesignedpattern)。作为另一替代方案,相位光栅130可具有图2(B)所示的格栅状图案。参照图2,附图标记d表示周期,201表示二维相位光栅,210表示相位超前部分,220表示相位滞后部分。
各相位超前部分210或各相位滞后部分220的形状在图2(A)和图2(B)中为正方形,但是,其外边缘可通过制造变形为圆形形状。即使当形状变形为圆形形状时,变形的部分也可被用作相位光栅。
如果相位光栅130具有一维周期,那么获取仅沿被检体120的一维方向的相位梯度信息。相反,如果相位光栅130具有二维周期,那么可以获取沿二维方向的相位梯度信息,这是有利的。
相位光栅130的材料希望为透射X射线的物质。例如,材料可以为硅。
在X射线透射通过相位光栅130之后形成的干涉强度分布最明显地在当Z0为从X射线源到相位光栅130的距离并且Z1为从相位光栅130到吸收光栅150的距离时距离Z1满足下式(1)的位置处。这里,“干涉强度分布”是反映相位光栅130的光栅周期的周期性强度分布。
在式(1)中,λ是X射线的波长并且d是相位光栅130的光栅周期。
值N根据相位光栅的形式改变,并且为可如下表示的实数。应当注意,值n是自然数。
一维阵列中的π相位光栅:N=n/4-1/8
一维阵列中的π/2相位光栅:N=n-1/2
二维阵列中的具有棋盘设计图案的π相位光栅:N=n/4-1/8
二维的具有棋盘设计图案的π/2相位光栅:N=n/2-1/4
(吸收光栅)
干涉强度分布的周期一般比X射线检测器170的像素尺寸小。由此,不能在该状态中检测干涉强度分布。因此,使用吸收光栅150以产生具有比X射线检测器170的像素尺寸大的周期的波纹,使得X射线检测器170检测波纹的强度分布。希望吸收光栅150被设置在与相位光栅130分开距离Z1的位置处。
吸收光栅150包含被周期性地排列和布置的透射部分151和遮光部分152以部分遮蔽由相位光栅130形成的干涉强度分布140的明部。各透射部分151不必具有贯穿吸收光栅150的开口,只要透射部分151可部分透射X射线就行。吸收光栅150的材料不被特别限制,只要材料对于X射线具有高的吸收性就行。材料例如可以为金。
吸收光栅150的周期与干涉强度分布的周期相当或者稍有不同。
如果使用具有相当于干涉强度分布的周期的周期的吸收光栅,那么由吸收光栅的面内旋转产生波纹。当干涉强度分布的周期由D表示并且在干涉强度分布中的明部和暗部的取向和吸收光栅的取向之间限定的角度由θ表示(这里,θ<<1)时,波纹的周期Dm为D/θ。
相反,如果使用具有与干涉强度分布的周期稍有不同的周期的吸收光栅,那么在没有吸收光栅的面内旋转的情况下产生波纹。当吸收光栅的周期由Da=D+δ表示(这里,δ<<D)时,波纹的周期Dm为D2/δ。
在吸收光栅150中,透射部分151可以被一维或二维排列。
例如,如果使用具有如图2(A)所示的具有棋盘设计图案的π相位光栅,那么使用具有如图3(A)所示的那样二维排列透射部分351和遮光部分352的格栅状图案的吸收光栅300。如果使用具有图2(A)所示的棋盘设计图案的π/2相位光栅,那么使用具有如图3(B)所示的那样二维排列透射部分351和遮光部分352的棋盘设计图案的吸收光栅300。
相位光栅和吸收光栅的上述组合仅是例子,并且,可以进行各种组合。
(检测器)
通过X射线检测器170,透射通过吸收光栅140的X射线的干涉强度分布的信息被检测为波纹的强度分布。X射线检测器170是可检测X射线的干涉强度分布的信息的元件。例如,可以使用能够进行向数字信号的转变的平板检测器(FPD)。
(算术单元)
由X射线检测器170检测的波纹的强度分布的信息通过将在后面描述的分析方法通过算术单元180而被分析,以将微分相位图像或相位图像成像。获取的微分相位图像或相位图像是将在显示单元190上显示的输出图像。算术单元180例如包含中央处理单元(CPU)。
以下描述用于从由检测器获取的波纹的强度分布的信息获取相位图像的分析方法。然后,描述由算术单元执行的处理步骤。
(分析方法)
当形成干涉强度分布时,衍射光的许多光线叠加并相互干涉。由此,干涉强度分布包含基频(以下,称为载波频率)和载波频率的大量的谐波分量。波纹具有干涉强度分布中的载波频率分量在空间上扩展的形状。当使用刻线与x轴正交的一维相位光栅时,波纹可由式(2)表示:
g(x,y)=a(x,y)+b(x,y)cos(2πf0x+φ(x,y))…(2)
相反,当使用二维相位光栅时,在式(2)的结果上叠加y方向的载波频率分量。
在式(2)中,波纹由背景第一项和周期性第二项的和表示。这里,a(x,y)表示背景,并且,b(x,y)表示载波频率分量的振幅。并且,值f0表示干涉条纹的载波频率,并且,φ(x,y)表示载波频率分量的相位。
当使用具有棋盘设计图案的π/2相位光栅作为相位光栅130时,由于0次衍射光和+1次衍射光之间的干涉以及0次衍射光和-1次衍射光之间的干涉,产生载波频率分量。当使用具有棋盘设计图案的π相位光栅作为相位光栅130时,由于+1次衍射光和-1次衍射光之间的干涉,产生载波频率分量。
对于0次衍射光和1次衍射光,在相位光栅130上相互叠加彼此分开距离Nd的光线。对于+1次衍射光和-1次衍射光,在相位光栅130上相互叠加彼此分开距离2Nd的光线。即,这种干涉是在π/2相位光栅的情况下具有与Nd对应的剪切量s的剪切干涉或者是在π相位光栅的情况下具有与2Nd对应的剪切量s的剪切干涉。
当相位光栅130的位置处的被检体120的相位图像是W(x,y)时,相位φ(x,y)和相位图像W(x,y)具有以下的关系。
φ(x,y)=W(x+s,y)-W(x,y)
值s一般非常小。因此,获得以下的关系:
关于式(3),发现相位φ(x,y)是通过对被检体120的相位图像W(x,y)进行微分而获取的信息。因此,可通过对φ(x,y)进行积分来获取被检体120的相位图像W(x,y)。
同时,可通过傅立叶变换从式(2)获取相位φ(x,y)。即,式(2)可被如下表示。
g(x,y)=a(x,y)+c(x,y)exp(2πifOx)+c*(x,y)exp(-2πif0x)…(4)
这里,获得以下的关系。
因此,可通过从干涉条纹提取c(x,y)的分量或c*(x,y)的分量获取相位φ(x,y)的信息。
这里,通过傅立叶变换,式(4)如下。
G(fx,fy)=A(fx,fy)+C(fx-f0,fy)+C*(fx+f0,fy)…(6)
这里,G(fx,fy)、A(fx,fy)和C(fx,fy)是对于g(x,y)、a(x,y)和c(x,y)的二维傅立叶变换。
图4是使用一维光栅时的干涉强度分布的谱图案。一般地,如图4所示,产生三个峰值。中心峰值是主要从A(fx,fy)得到的峰值。与之对照的是,两边的峰值是从C(fx,fy)和C*(fx,fy)得到的载波频率峰值。在±f0的位置上产生这些峰值。
然后,提取包含从C(fx,fy)或C*(fx,fy)得到的峰值的区域。例如,通过提取从A(fx,fy)得到的峰值的周边和从C(fx,fy)或C*(fx,fy)得到的峰值的周边,从C(fx,fy)或C*(fx,fy)得到的峰值被分离。
然后,从C(fx,fy)或C*(fx,fy)得到的分离的峰值移动到频率空间中的原点,并且,执行逆傅立叶变换。通过逆傅立叶变换,获取复数信息。通过该复数信息,获取相位φ(x,y),即微分相位信息。
图5(A)是使用具有棋盘设计图案(图2(A))的π/2相位光栅和具有格栅状图案(图3(A))的吸收光栅或具有棋盘设计图案(图3(B))的吸收光栅时的波纹的强度分布的例子。附图标记510表示波纹的明部,520表示波纹的暗部。应当注意,即使当使用具有棋盘设计图案(图2(A))的π相位光栅和具有棋盘设计图案(图3(B))的吸收光栅时,在斜的方向上也产生波纹的强度分布。
图5(B)是使用具有棋盘设计图案(图2(A))的π相位光栅和具有格栅状图案(图3(A))的吸收光栅时的波纹的强度分布的例子。附图标记530表示波纹的明部,540表示波纹的暗部。在这种情况下,沿垂直方向和水平方向产生波纹的强度分布。
应当注意,即使当使用具有格栅状图案(图2(B))的相位光栅时,也产生波纹的强度分布。
图5(C)和图5(D)示出通过由作为一种类型的傅立叶变换的快速傅立叶变换(FFT)对于图5(A)和图5(B)所示的波纹的强度分布执行处理而获取的空间频率谱。当P是X射线检测器170的像素周期时,可由FFT计算的最大空间频率是1/(2P)。
分别处于相互正交的位置处的两个峰值570和571以及峰值580和581的周边以与一维配置类似的方式被提取,并且被移动到原点以执行逆傅立叶变换。提取的区域由虚线表示。通过逆傅立叶变换,获取复数信息。通过该复数信息,获取相互正交的两个方向的微分相位信息。
这里,在图5(C)中,获取±45度的方向的微分相位信息。在图5(D)中,获取X方向和Y方向的微分相位信息。
在许多情况下,由此获取的微分相位信息被折叠成(被卷绕成)2π的区域。特别地,当屏幕上的任意点的真实相位为φ(x,y)并且卷绕相位为φwrap(x,y)时,建立以下的关系。
φwrap(x,y)=φ(x,y)+2πn(x,y)…(7)
这里,n是整数,它被确定以使得φwrap(x,y)被布置在具有2π的宽度的区域(例如从0到2π的区域或从-π到+π的区域)中。
通过这种信息,对于φ(x,y)wrap执行相位展开以将该值恢复到原φ(x,y)。
可通过对由式(8)恢复的φ(x,y)进行积分来获取被检体的相位图像W(x,y)。
当使用一维光栅时,积分方向可仅是与光栅刻线方向正交的方向。由此,为了正确地测量相位图像W(x,y),用不透射通过被检体120的X射线照射X射线检测器170的与刻线方向平行的边,使得事先获取相位图像W(x,y)中的识别部分。
当使用二维光栅时,可以沿两个方向执行积分。即使以透射通过被检体120的X射线完全照射X射线检测器170,也可正确地测量相位图像W(x,y)。
(算术单元的处理步骤)
关于上述的描述,将在图6中示出由算术单元180执行的处理流程的例子。
首先,从X射线检测器170获取波纹的强度分布的信息(S610)。
然后,执行傅立叶变换步骤(S620),使得对于在S610中获取的波纹的强度分布的信息执行傅立叶变换,并且获取空间频率谱。
然后,执行峰值分离步骤(S631),使得从在S620中获取的频率空间提取与载波频率对应的谱(具有相位信息的谱)。如果难以提取与载波频率对应的谱,那么提取谱的周边区域的信息。
然后,在S631中提取的谱移动到频率空间中的原点,并且,执行逆傅立叶变换(S632)。因此,可以获取具有相位信息的复数信息。
然后,从在S632中获取的复数信息获取作为微分相位信息的相位φ(x,y)(S633)。应当注意,步骤S631、S632和S633可被统称为相位恢复步骤(S630)。
然后,当φ(x,y)被卷绕时,执行展开,并且获取真实φ(x,y)(S640)。该步骤可被称为相位展开步骤。如果φ(x,y)未被卷绕,那么步骤S640可被省略。这里,φ(x,y)是微分相位信息(微分相位图像)。
然后,通过对φ(x,y)进行积分,获取相位图像W(x,y)(S650)。
通过以上的配置,可以提供可至少通过单个成像操作获取被检体的相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。另外,可以提供使计算机执行以上步骤的程序。
(第二实施例)
将参照图7描述根据本发明的第二实施例的X射线成像装置。在本实施例中,增大空间分辨率,而不是在第一实施例中描述的如图5(C)所示的空间频率谱。
图7(B)示出在本实施例中描述的空间频率谱。为了获取这种频率谱,从干涉强度分布和吸收光栅得到的二维波纹的基本周期被确定为关于X射线检测器的像素周期实现以下的比。
并且,波纹的取向被调整为关于像素阵列以45度倾斜。
图7(A)示出这种状态下的X射线检测器上的波纹的强度分布。附图标记710表示X射线检测器的光接收面,720表示波纹的明部,d表示波纹的周期,P表示X射线检测器的像素周期。在本实施例中,使用具有棋盘设计图案(图2(A))的π/2相位光栅和具有棋盘设计图案(图3(B))的吸收光栅。但是,可以使用其它的相位光栅和其它的吸收光栅,只要产生的波纹的强度分布等同就行。
图7(B)是通过对于图7(A)所示的波纹的强度分布执行FFT获取的空间频率谱。当阵列中的像素的数量对于垂直的边和水平的边中的每一个为n时,由FFT获取的谱空间为n×n的离散数据。当P是X射线检测器170的像素周期时,可表示的最大频率为1/(2P)。
在本实施例中,波纹的基本周期如下。
因此,具有该频率的载波频率的绝对值如下。
并且,由于波纹的取向以45度倾斜,因此,在以下的位置上产生载波峰值711。
频率坐标
载波峰值711是与波纹的强度分布的载波频率对应的峰值。
在四个载波峰值711中包含的两个相邻的峰值用以45度倾斜的正方形区域的形式被提取,该正方形区域各自具有如下表示的边。
在提取正方形区域之后,执行在第一实施例中描述的处理。因此,可以恢复被检体的相位图像。
如果尽可能地以大的区域提取谱区域,那么可以增大空间分辨率。但是,除了载波频率的峰值以外,在谱空间中存在不必要的峰值721。不必要的峰值721是高频分量和DC分量的峰值,并且位于与载波频率分量的峰值坐标的和值或差值对应的位置。
如果提取区域太大,那么可能包含不必要的峰值721周围的区域。由于不必要的峰值721的影响,因此不再提供正确的相位图像。因此,要提取的谱区域是关于载波频率的峰值和不必要的峰值721之间的中间线位于内侧的提取区域731。
要在本实施例中恢复的相位图像的空间频率是提取区域731的尺寸的1/2。因此,从图7(B)可以看出,像素阵列方向的最大频率为1/(4P),并且,45度方向的最大频率被如下确定。
为了表示可用作为分辨率的值恢复的基于像素的最小周期,最小周期是最大频率的倒数。因此,像素阵列方向的最小周期是4个像素,并且,45度的方向的最小周期如下。
个像素≈5.7个像素
与图5(C)中的提取区域相比,图7(B)中的提取区域比图5(C)中的提取区域大,由此,可恢复的空间频率更大。因此,通过本实施例,与上述的实施例相比,可以增大空间频率。
(第三实施例)
参照图8描述根据本发明的第三实施例的X射线成像装置。在本实施例中,增大空间分辨率,而不是在第一实施例中描述的图5(D)所示的空间频率谱。
图8(B)示出在本实施例中描述的空间频率谱。为了获取这种频率谱,从干涉强度分布和吸收光栅得到的二维波纹的基本周期被确定为X射线检测器的像素周期的三倍,并且,波纹的取向与像素阵列对准。
图8(A)示出这种状态下的X射线检测器上的波纹的强度分布。附图标记810表示X射线检测器的光接收面,820表示波纹的明部,d表示波纹的周期,P表示X射线检测器的像素周期。在本实施例中,使用具有棋盘设计图案(图2(A))的π相位光栅和具有格栅状图案(图3(A))的吸收光栅。但是,可以使用其它的相位光栅和其它的吸收光栅,只要产生的波纹的强度分布等同就行。
图8(A)是通过对于图8(B)所示的波纹的强度分布执行FFT获取的空间频率谱。由于波纹的基本周期在本实施例中为3P,因此,载波频率的绝对值为1/(3P)。因此,载波峰值811在以下的位置产生。
频率坐标 或
载波峰值811是与波纹的强度分布的载波频率对应的峰值。与第二实施例类似,对于包含于四个载波峰值811中的两个相邻的峰值提取各自具有1/(3P)的边的正立(erecting)正方形区域。在提取正方形区域之后,执行在第一实施例中描述的处理。因此,可以恢复被检体的相位图像。
但是,在本实施例中,除了载波频率的峰值以外,在谱空间中存在不必要的峰值821。不必要的峰值821是高频分量和DC分量的峰值,并且位于与载波频率分量的峰值坐标的和值或差值对应的位置上。因此,提取的谱区域是关于载波频率的峰值和不必要的峰值821之间的中间线位于内侧的提取区域831。
在本实施例中恢复的相位图像的空间频率是提取区域831的尺寸的1/2。因此,参照图8(B),像素阵列方向的最大频率是1/(6P),并且,45度的方向的最大频率被确定如下。
为了表示通过作为分辨率的上述值所恢复的基于像素的最小周期,最小周期为最大频率的倒数。因此,像素阵列方向的最小周期为6个像素,并且,45度的方向的最小周期如下。
个像素≈4.2个像素
因此,本实施例中的关于像素阵列的45度方向的空间分辨率比第二实施例好。
(第四实施例)
参照图9描述根据本发明的第三实施例的X射线成像装置。本实施例的X射线成像装置是根据第一到第三实施例中的任一个的X射线成像装置,其包含被检体移动装置900。被检体移动装置900可沿X射线的光轴移动被检体920。
X射线检测器具有L1/L2的对于被检体920的成像倍率,这里,L1是从X射线源910到吸收光栅940的距离,L2是从X射线源910到被检体920的距离。
因此,随着被检体920移动为更接近相位光栅930,L2变大,并且,可以用低倍率执行成像。相反,随着被检体920移动为更接近X射线源910,L2变小,并且可以用高倍率执行成像。
附图标记列表
110X射线源
111X射线
120被检体
130相位光栅
150吸收光栅
151透射部分
152遮光部分
170X射线检测器
180算术单元
Claims (10)
1.一种用于对被检体进行成像的X射线成像装置,其特征在于包括:
相位光栅,用于透射来自X射线源的X射线以用于通过Talbot效应形成干涉强度分布;
吸收光栅,用于部分遮蔽由相位光栅形成的干涉强度分布以用于产生波纹;
检测器,用于检测由吸收光栅产生的波纹的强度分布的信息;和
算术单元,用于通过对由检测器所检测的波纹的强度分布的信息执行傅立叶变换来计算被检体的微分相位信息,
其中,具有二维周期的相位光栅包括相位超前部分和相位滞后部分,
其中,相位超前部分和相位滞后部分是二维排列的,
其中,具有二维周期的吸收光栅包括透射部分和遮蔽部分,
其中,透射部分和遮蔽部分是二维排列的,
其中,检测器检测在两个方向上具有周期的波纹,以及
其中,算术单元通过对由检测器获取的波纹的强度分布的信息执行傅立叶变换从与载波频率对应的谱计算在所述两个方向上的微分相位信息。
2.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其中,算术单元对微分相位信息进行积分并获取相位图像的信息。
3.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其中,算术单元展开微分相位信息。
4.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其中,以棋盘设计图案布置相位超前部分和相位滞后部分。
5.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其中,相位光栅被配置为使得透射通过相位超前部分的X射线的相位和透射通过相位滞后部分的X射线的相位之间的差值为π/2或π。
6.根据权利要求1所述的X射线成像装置,
其中,相位光栅、吸收光栅和检测器被调整,使得在通过对波纹的强度分布的信息执行傅立叶变换所获取的波纹的频率空间中,峰值在如下表示的位置处产生,
频率坐标
其中,P是检测器的像素周期。
7.根据权利要求6所述的X射线成像装置,
其中,吸收光栅提供如下表示的波纹的周期,
波纹的周期的方向对于检测器的像素阵列以45度被布置,并且,
其中,算术单元执行对检测结果执行傅立叶变换、从所获取的波纹的频率空间提取两个正方形区域以用于将峰值与波纹的强度分布的空间频率谱分离并使用所述两个正方形区域从而获取被检体的微分相位信息的步骤,所述正方形区域中的每一个具有如下表示的边,
所述正方形区域对于检测器的像素阵列方向以45度倾斜。
8.根据权利要求1所述的X射线成像装置,
其中,相位光栅、吸收光栅和检测器被调整,使得在通过对波纹的强度分布的信息执行傅立叶变换所获取的波纹的频率空间中,峰值在如下表示的位置处产生,
频率坐标 或
其中,P是检测器的像素周期。
9.根据权利要求8所述的X射线成像装置,
其中,吸收光栅被布置,使得波纹的周期为3P,并且波纹的周期的方向与检测器的像素阵列对准,并且,
其中,算术单元执行对于检测结果执行傅立叶变换、从所获取的波纹的频率空间提取两个正方形区域以用于将峰值与波纹的强度分布的空间频率谱分离并使用所述两个正方形区域从而获取被检体的微分相位信息的步骤,所述正方形区域中的每一个关于检测器的像素阵列方向正立并且具有1/(3P)的边。
10.根据权利要求1所述的X射线成像装置,还包括能够沿X射线的光轴方向移动被检体的被检体移动装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008278425 | 2008-10-29 | ||
JP2008-278425 | 2008-10-29 | ||
CN2009801428377A CN102197303A (zh) | 2008-10-29 | 2009-10-27 | X射线成像装置和x射线成像方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2009801428377A Division CN102197303A (zh) | 2008-10-29 | 2009-10-27 | X射线成像装置和x射线成像方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103876761A CN103876761A (zh) | 2014-06-25 |
CN103876761B true CN103876761B (zh) | 2016-04-27 |
Family
ID=41664696
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410089754.9A Active CN103876761B (zh) | 2008-10-29 | 2009-10-27 | X射线成像装置和x射线成像方法 |
CN2009801428377A Pending CN102197303A (zh) | 2008-10-29 | 2009-10-27 | X射线成像装置和x射线成像方法 |
CN2009801423636A Expired - Fee Related CN102197302B (zh) | 2008-10-29 | 2009-10-28 | 分析方法、使用其的放射线成像装置和执行其的分析设备 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2009801428377A Pending CN102197303A (zh) | 2008-10-29 | 2009-10-27 | X射线成像装置和x射线成像方法 |
CN2009801423636A Expired - Fee Related CN102197302B (zh) | 2008-10-29 | 2009-10-28 | 分析方法、使用其的放射线成像装置和执行其的分析设备 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (5) | US8520799B2 (zh) |
EP (2) | EP2343537B1 (zh) |
JP (4) | JP5174180B2 (zh) |
KR (1) | KR101258927B1 (zh) |
CN (3) | CN103876761B (zh) |
DE (1) | DE112009002606B4 (zh) |
RU (1) | RU2519663C2 (zh) |
WO (2) | WO2010050483A1 (zh) |
Families Citing this family (101)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5339975B2 (ja) * | 2008-03-13 | 2013-11-13 | キヤノン株式会社 | X線位相イメージングに用いられる位相格子、該位相格子を用いたx線位相コントラスト像の撮像装置、x線コンピューター断層撮影システム |
CN103876761B (zh) * | 2008-10-29 | 2016-04-27 | 佳能株式会社 | X射线成像装置和x射线成像方法 |
CN101943668B (zh) * | 2009-07-07 | 2013-03-27 | 清华大学 | X射线暗场成像***和方法 |
JP5586899B2 (ja) * | 2009-08-26 | 2014-09-10 | キヤノン株式会社 | X線用位相格子及びその製造方法 |
US8532252B2 (en) * | 2010-01-27 | 2013-09-10 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray shield grating, manufacturing method therefor, and X-ray imaging apparatus |
JP5631013B2 (ja) * | 2010-01-28 | 2014-11-26 | キヤノン株式会社 | X線撮像装置 |
JP5725870B2 (ja) * | 2010-02-22 | 2015-05-27 | キヤノン株式会社 | X線撮像装置およびx線撮像方法 |
JP5796976B2 (ja) * | 2010-05-27 | 2015-10-21 | キヤノン株式会社 | X線撮像装置 |
JP5731214B2 (ja) * | 2010-08-19 | 2015-06-10 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影システム及びその画像処理方法 |
US9412184B2 (en) * | 2010-09-03 | 2016-08-09 | Koninklijke Philips N.V. | Regularized phase retrieval in differential phase-contrast imaging |
WO2012038857A1 (en) * | 2010-09-20 | 2012-03-29 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Phase gradient unwrapping in differential phase contrast imaging |
US8995614B2 (en) * | 2010-09-29 | 2015-03-31 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Method for displaying medical images and medical image display system |
JP2012103237A (ja) * | 2010-10-14 | 2012-05-31 | Canon Inc | 撮像装置 |
US10028716B2 (en) * | 2010-10-19 | 2018-07-24 | Koniklijke Philips N.V. | Differential phase-contrast imaging |
CN103168228B (zh) * | 2010-10-19 | 2015-11-25 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 微分相位对比成像 |
JP5875280B2 (ja) * | 2010-10-20 | 2016-03-02 | キヤノン株式会社 | トールボット干渉を用いた撮像装置および撮像装置の調整方法 |
CN103188996B (zh) * | 2010-10-29 | 2015-06-24 | 富士胶片株式会社 | 放射线照相相衬成像设备 |
JP2012095865A (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-24 | Fujifilm Corp | 放射線撮影装置、放射線撮影システム |
JP2012143553A (ja) * | 2010-12-24 | 2012-08-02 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮影装置および放射線画像検出器 |
JP5777360B2 (ja) * | 2011-03-14 | 2015-09-09 | キヤノン株式会社 | X線撮像装置 |
US20140010344A1 (en) * | 2011-03-23 | 2014-01-09 | Konica Minolta, Inc. | Medical image display system |
JP2012200567A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び放射線撮影方法 |
JP2014113168A (ja) * | 2011-03-29 | 2014-06-26 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び放射線撮影方法 |
JP5475925B2 (ja) | 2011-04-20 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影装置及び画像処理方法 |
JP2014132913A (ja) * | 2011-04-25 | 2014-07-24 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び放射線撮影方法 |
JP2012236005A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-12-06 | Fujifilm Corp | 放射線撮影装置 |
JP5787597B2 (ja) * | 2011-04-26 | 2015-09-30 | キヤノン株式会社 | 撮像装置 |
JP2014155508A (ja) * | 2011-06-08 | 2014-08-28 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム |
JP2014155509A (ja) * | 2011-06-10 | 2014-08-28 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム |
JP5885405B2 (ja) * | 2011-06-13 | 2016-03-15 | キヤノン株式会社 | 撮像装置、干渉縞解析プログラム及び干渉縞解析方法 |
JP2013024731A (ja) | 2011-07-21 | 2013-02-04 | Canon Inc | 放射線検出装置 |
JP2013050441A (ja) * | 2011-08-03 | 2013-03-14 | Canon Inc | 波面測定装置、波面測定方法、及びプログラム並びにx線撮像装置 |
JP2014217397A (ja) * | 2011-08-22 | 2014-11-20 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影装置及びアンラップ処理方法 |
JP2014223091A (ja) * | 2011-09-12 | 2014-12-04 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影装置及び画像処理方法 |
JP2014238265A (ja) * | 2011-09-30 | 2014-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 放射線画像検出器及びその製造方法、並びに放射線画像検出器を用いた放射線撮影システム |
JP5475737B2 (ja) | 2011-10-04 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影装置及び画像処理方法 |
US20130108015A1 (en) * | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Csem Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique S.A - Recherche Et Developpement | X-ray interferometer |
US20150117599A1 (en) * | 2013-10-31 | 2015-04-30 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
JP5868132B2 (ja) * | 2011-11-14 | 2016-02-24 | キヤノン株式会社 | 撮像装置および画像処理方法 |
US9597050B2 (en) * | 2012-01-24 | 2017-03-21 | Koninklijke Philips N.V. | Multi-directional phase contrast X-ray imaging |
WO2013151342A1 (ko) * | 2012-04-05 | 2013-10-10 | 단국대학교 산학협력단 | 방사선 위상차 영상 장치 |
JP2014006247A (ja) * | 2012-05-28 | 2014-01-16 | Canon Inc | 被検体情報取得装置、被検体情報取得方法及びプログラム |
AU2012258412A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Combining differential images by inverse Riesz transformation |
JP6116222B2 (ja) * | 2012-12-13 | 2017-04-19 | キヤノン株式会社 | 演算装置、プログラム及び撮像システム |
JP6079204B2 (ja) * | 2012-12-18 | 2017-02-15 | コニカミノルタ株式会社 | 医用画像システム |
US10578563B2 (en) | 2012-12-21 | 2020-03-03 | Carestream Health, Inc. | Phase contrast imaging computed tomography scanner |
US10096098B2 (en) * | 2013-12-30 | 2018-10-09 | Carestream Health, Inc. | Phase retrieval from differential phase contrast imaging |
US9357975B2 (en) | 2013-12-30 | 2016-06-07 | Carestream Health, Inc. | Large FOV phase contrast imaging based on detuned configuration including acquisition and reconstruction techniques |
AU2012268876A1 (en) * | 2012-12-24 | 2014-07-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Non-linear solution for 2D phase shifting |
US9364191B2 (en) * | 2013-02-11 | 2016-06-14 | University Of Rochester | Method and apparatus of spectral differential phase-contrast cone-beam CT and hybrid cone-beam CT |
JP2014171799A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Canon Inc | X線撮像装置及びx線撮像システム |
KR20140111818A (ko) | 2013-03-12 | 2014-09-22 | 삼성전자주식회사 | 엑스선 영상 장치 및 그 제어 방법 |
JP2014178130A (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-25 | Canon Inc | X線撮像装置及びx線撮像システム |
US9855018B2 (en) | 2013-04-08 | 2018-01-02 | Konica Minolta, Inc. | Diagnostic medical image system and method of introducing Talbot capturing device to diagnostic medical image system used for general capturing |
EP2827339A1 (en) | 2013-07-16 | 2015-01-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Source grating, interferometer, and object information acquisition system |
US10416099B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-09-17 | Sigray, Inc. | Method of performing X-ray spectroscopy and X-ray absorption spectrometer system |
US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
DE102013221818A1 (de) * | 2013-10-28 | 2015-04-30 | Siemens Aktiengesellschaft | Bildgebendes System und Verfahren zur Bildgebung |
CN105637351B (zh) * | 2013-10-31 | 2018-11-13 | 国立大学法人东北大学 | 非破坏检查装置 |
USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
JP6396472B2 (ja) | 2013-12-17 | 2018-09-26 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 走査微分位相コントラストシステムのための位相回復 |
AU2013273822A1 (en) * | 2013-12-23 | 2015-07-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Modulation guided phase unwrapping |
EP3105763B1 (en) * | 2014-02-14 | 2019-09-11 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray talbot interferometer and x-ray talbot interferometer system |
JP2015166676A (ja) * | 2014-03-03 | 2015-09-24 | キヤノン株式会社 | X線撮像システム |
JP2015190776A (ja) | 2014-03-27 | 2015-11-02 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置および撮像システム |
JP6362914B2 (ja) * | 2014-04-30 | 2018-07-25 | キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | X線診断装置及び画像処理装置 |
US10401309B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-09-03 | Sigray, Inc. | X-ray techniques using structured illumination |
CN104111120B (zh) * | 2014-07-25 | 2017-05-31 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于朗奇剪切干涉仪的相位提取方法 |
JP2016032573A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | キヤノン株式会社 | トールボット干渉計、トールボット干渉システム、及び縞走査法 |
WO2016083182A1 (en) * | 2014-11-24 | 2016-06-02 | Koninklijke Philips N.V. | Detector and imaging system for x-ray phase contrast tomo-synthesis imaging |
US10117629B2 (en) | 2014-12-03 | 2018-11-06 | Board Of Supervisors Of Louisiana State University And Agricultural And Mechanical College | High energy grating techniques |
KR101636438B1 (ko) * | 2015-03-18 | 2016-07-05 | 제이피아이헬스케어 주식회사 | 단일 그리드를 이용한 pci 기반의 엑스선 영상 생성 방법 및 그 장치 |
JP6604772B2 (ja) * | 2015-08-05 | 2019-11-13 | キヤノン株式会社 | X線トールボット干渉計 |
JP6608246B2 (ja) * | 2015-10-30 | 2019-11-20 | キヤノン株式会社 | X線回折格子及びx線トールボット干渉計 |
DE102015226571B4 (de) * | 2015-12-22 | 2019-10-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Wellenfrontanalyse |
JP6774188B2 (ja) | 2016-02-23 | 2020-10-21 | キヤノン株式会社 | シンチレータプレート、放射線検出器及び放射線計測システム |
JP6613988B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2019-12-04 | コニカミノルタ株式会社 | 放射線撮影システム |
DE102016206559B3 (de) * | 2016-04-19 | 2017-06-08 | Siemens Healthcare Gmbh | Verfahren zur Korrektur eines Röntgenbilds auf Effekte eines Streustrahlenrasters, Röntgeneinrichtung, Computerprogramm und elektronisch lesbarer Datenträger |
US10247683B2 (en) | 2016-12-03 | 2019-04-02 | Sigray, Inc. | Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams |
CN109087348B (zh) * | 2017-06-14 | 2022-04-29 | 北京航空航天大学 | 一种基于自适应区域投射的单像素成像方法 |
JP6838531B2 (ja) * | 2017-09-06 | 2021-03-03 | 株式会社島津製作所 | 放射線位相差撮影装置 |
CN110913764B (zh) * | 2017-10-11 | 2023-08-04 | 株式会社岛津制作所 | X射线相位差摄影***以及相位对比度图像修正方法 |
JP7020169B2 (ja) | 2018-02-23 | 2022-02-16 | コニカミノルタ株式会社 | X線撮影システム |
US10578566B2 (en) | 2018-04-03 | 2020-03-03 | Sigray, Inc. | X-ray emission spectrometer system |
DE112019002822T5 (de) | 2018-06-04 | 2021-02-18 | Sigray, Inc. | Wellenlängendispersives röntgenspektrometer |
EP3809121A4 (en) * | 2018-06-12 | 2022-03-09 | University of Tsukuba | PHASE IMAGE CAPTURE METHOD AND PHASE IMAGE CAPTURE DEVICE USING THE SAME |
GB2591630B (en) | 2018-07-26 | 2023-05-24 | Sigray Inc | High brightness x-ray reflection source |
US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
WO2020051061A1 (en) | 2018-09-04 | 2020-03-12 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray fluorescence with filtering |
WO2020051221A2 (en) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | Sigray, Inc. | System and method for depth-selectable x-ray analysis |
DE102019111463A1 (de) * | 2019-05-03 | 2020-11-05 | Wipotec Gmbh | Röntgenstrahlungsdetektorvorrichtung und Vorrichtung zur Röntgeninspektion von Produkten, insbesondere von Lebensmitteln |
CN114729907B (zh) | 2019-09-03 | 2023-05-23 | 斯格瑞公司 | 用于计算机层析x射线荧光成像的***和方法 |
CN111089871B (zh) * | 2019-12-12 | 2022-12-09 | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 | X射线光栅相衬图像的相位信息分离方法及***、储存介质、设备 |
US11175243B1 (en) | 2020-02-06 | 2021-11-16 | Sigray, Inc. | X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples |
JP7395775B2 (ja) | 2020-05-18 | 2023-12-11 | シグレイ、インコーポレイテッド | 結晶解析装置及び複数の検出器素子を使用するx線吸収分光法のためのシステム及び方法 |
DE112021004828T5 (de) | 2020-09-17 | 2023-08-03 | Sigray, Inc. | System und verfahren unter verwendung von röntgenstrahlen für tiefenauflösende messtechnik und analyse |
WO2022126071A1 (en) | 2020-12-07 | 2022-06-16 | Sigray, Inc. | High throughput 3d x-ray imaging system using a transmission x-ray source |
US11992350B2 (en) | 2022-03-15 | 2024-05-28 | Sigray, Inc. | System and method for compact laminography utilizing microfocus transmission x-ray source and variable magnification x-ray detector |
CN115265524A (zh) * | 2022-03-24 | 2022-11-01 | 北京控制工程研究所 | 一种临近空间x射线角秒级星*** |
US11885755B2 (en) | 2022-05-02 | 2024-01-30 | Sigray, Inc. | X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer |
CN117475172B (zh) * | 2023-12-28 | 2024-03-26 | 湖北工业大学 | 一种基于深度学习的高噪声环境相位图解包裹方法和*** |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101257851A (zh) * | 2005-06-06 | 2008-09-03 | 保罗·谢勒学院 | 用于利用不相干的多色x射线源进行定量相衬成像和断层照相术的干涉仪 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU1673933A1 (ru) * | 1988-12-28 | 1991-08-30 | Ереванский политехнический институт им.К.Маркса | Рентгеноинтерферометрический способ исследовани кристаллов |
SU1748030A1 (ru) * | 1990-06-07 | 1992-07-15 | Ереванский политехнический институт им.К.Маркса | Способ получени рентгеновских проекционных топограмм |
US5424743A (en) * | 1994-06-01 | 1995-06-13 | U.S. Department Of Energy | 2-D weighted least-squares phase unwrapping |
US5812629A (en) | 1997-04-30 | 1998-09-22 | Clauser; John F. | Ultrahigh resolution interferometric x-ray imaging |
JP2000088772A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-03-31 | Hitachi Ltd | X線撮像装置 |
JP4015394B2 (ja) * | 2001-09-19 | 2007-11-28 | 株式会社日立製作所 | X線撮像法 |
JP4445397B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2010-04-07 | 敦 百生 | X線撮像装置および撮像方法 |
US7268891B2 (en) * | 2003-01-15 | 2007-09-11 | Asml Holding N.V. | Transmission shear grating in checkerboard configuration for EUV wavefront sensor |
JP4704675B2 (ja) * | 2003-11-28 | 2011-06-15 | 株式会社日立製作所 | X線撮像装置及び撮像方法 |
JP2006263180A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像処理装置およびこれを用いた放射線撮影システム |
DE102006063048B3 (de) * | 2006-02-01 | 2018-03-29 | Siemens Healthcare Gmbh | Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen |
DE102006037257B4 (de) * | 2006-02-01 | 2017-06-01 | Siemens Healthcare Gmbh | Verfahren und Messanordnung zur zerstörungsfreien Analyse eines Untersuchungsobjektes mit Röntgenstrahlung |
CN101011253B (zh) * | 2006-02-01 | 2011-06-15 | 西门子公司 | 产生投影或断层造影的相位对比照片的焦点-检测器装置 |
JP5041750B2 (ja) * | 2006-07-20 | 2012-10-03 | 株式会社日立製作所 | X線撮像装置及び撮像方法 |
JP2008197593A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-08-28 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | X線用透過型回折格子、x線タルボ干渉計およびx線撮像装置 |
US20100080436A1 (en) * | 2007-02-21 | 2010-04-01 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Radiographic imaging device and radiographic imaging system |
JP2008200360A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | X線撮影システム |
JP2008200359A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | X線撮影システム |
JP5339975B2 (ja) * | 2008-03-13 | 2013-11-13 | キヤノン株式会社 | X線位相イメージングに用いられる位相格子、該位相格子を用いたx線位相コントラスト像の撮像装置、x線コンピューター断層撮影システム |
CN103876761B (zh) * | 2008-10-29 | 2016-04-27 | 佳能株式会社 | X射线成像装置和x射线成像方法 |
JP2010253157A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | X線干渉計撮影装置及びx線干渉計撮影方法 |
-
2009
- 2009-10-27 CN CN201410089754.9A patent/CN103876761B/zh active Active
- 2009-10-27 KR KR1020117011759A patent/KR101258927B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2009-10-27 WO PCT/JP2009/068434 patent/WO2010050483A1/ja active Application Filing
- 2009-10-27 DE DE112009002606.0T patent/DE112009002606B4/de active Active
- 2009-10-27 CN CN2009801428377A patent/CN102197303A/zh active Pending
- 2009-10-27 EP EP09823593.0A patent/EP2343537B1/en active Active
- 2009-10-27 JP JP2010535804A patent/JP5174180B2/ja active Active
- 2009-10-28 JP JP2011514216A patent/JP5456032B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-28 US US13/060,112 patent/US8520799B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-28 CN CN2009801423636A patent/CN102197302B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-28 EP EP09788095A patent/EP2342551A1/en not_active Withdrawn
- 2009-10-28 WO PCT/JP2009/068863 patent/WO2010050611A1/en active Application Filing
-
2010
- 2010-07-23 US US12/842,937 patent/US8009797B2/en active Active
-
2011
- 2011-07-26 US US13/190,770 patent/US8340243B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-09-05 RU RU2012137875/28A patent/RU2519663C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2012-11-20 US US13/682,445 patent/US8537966B2/en active Active
- 2012-12-27 JP JP2012284424A patent/JP5595473B2/ja active Active
-
2013
- 2013-07-17 US US13/943,932 patent/US8681934B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-08-07 JP JP2014161638A patent/JP2014205079A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101257851A (zh) * | 2005-06-06 | 2008-09-03 | 保罗·谢勒学院 | 用于利用不相干的多色x射线源进行定量相衬成像和断层照相术的干涉仪 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
X-ray Phase-contrast Imaging with 2D Grating Interferometry;Ming Jiang et al.;《Proc. of SPIE》;20080916;第7078卷;707816 * |
X-Ray Phase-Contrast Imaging with Three 2D Gratings;Ming Jiang et al.;《International Journal of Biomedical Imaging》;20080324;第2008卷;Artical ID:827152 * |
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103876761B (zh) | X射线成像装置和x射线成像方法 | |
CN108720857B (zh) | X射线相位差摄像*** | |
US9080858B2 (en) | Wavefront measuring apparatus, wavefront measuring method, and computer-readable medium storing program | |
CN102781327B (zh) | 相衬成像 | |
US9939392B2 (en) | Demodulation of intensity modulation in X-ray imaging | |
US20130070895A1 (en) | X-ray imaging apparatus | |
JP2014171799A (ja) | X線撮像装置及びx線撮像システム | |
Berujon et al. | Near-field speckle-scanning-based x-ray imaging | |
CN103365068A (zh) | 光栅剪切三维成像***及光栅剪切三维成像方法 | |
US20140286475A1 (en) | Interferometer and object information acquisition system | |
EP3341714B1 (en) | Omnidirectional scattering- and bidirectional phase-sensitivity with single shot grating interferometry | |
EP3344979B1 (en) | Dual phase grating interferometer for x-ray phase contrast imaging | |
US10578563B2 (en) | Phase contrast imaging computed tomography scanner | |
Vassholz et al. | New X-ray tomography method based on the 3d Radon transform compatible with anisotropic sources | |
JP2017090414A (ja) | 二次元干渉パターン撮像装置 | |
EP3598115A1 (en) | Radiographic image generating device | |
RU2472137C1 (ru) | Устройство формирования рентгеновских изображений и способ формирования рентгеновских изображений | |
Wang et al. | At-wavelength metrology using the moiré fringe analysis method based on a two dimensional grating interferometer | |
George et al. | Geometric calibration and correction for a lens-coupled detector in x-ray phase-contrast imaging | |
Nagai et al. | New phase retrieval method for single-shot x-ray Talbot imaging using windowed Fourier transform | |
JP2013042983A (ja) | トモシンセシス撮像装置及びトモシンセシス画像の撮像方法 | |
Horii et al. | Phase Unwrapping Algorithm for Phase‐Contrast X‐Ray Computed Tomography using 2‐D Auto Regressive Model |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |