JP2011148811A - ビアリールウレア誘導体 - Google Patents

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Abstract

【課題】Ｃｄｋファミリーに対する高い阻害作用を有する化合物の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）
Figure 2011148811

［式中、Ａｒは、含窒素複素芳香環基、Ｘ及びＺは、炭素原子等、Ｙは、ＣＯ等、Ｒ１は、水素原子等、Ｒ２及びＲ３は、水素原子等、Ｒ４及びＲ５は、水素原子等を示し、式
Figure 2011148811

は、単結合又は二重結合を示す］で表される化合物。本化合物は、腫瘍細胞に対して、顕著な増殖阻止作用を示すことから、悪性腫瘍の治療を目的とするＣｄｋ４及び／又はＣｄｋ６阻害剤等とすることができる。
【選択図】なし

Description

本発明は、医薬として有用な、芳香環又は複素芳香環が二置換したビアリールウレア誘導体、その製造法及びその用途に関するものである。
正常細胞の増殖は、細胞周期に従って進行する細胞***とその停止が秩序正しく起こるのに対し、癌細胞の増殖は無秩序であることがその特徴とされていることから、細胞周期制御機構の異常が発癌又は癌の悪性化に直接関係すると推定されている。哺乳動物細胞の細胞周期は、サイクリン依存性キナーゼ（以下、「Ｃｄｋ」という。）ファミリーと呼ばれるセリン／スレオニンキナーゼによって制御されており、Ｃｄｋがその酵素活性を発現する為にはサイクリンと呼ばれる制御サブユニットと複合体を形成することが必要である。サイクリンもファミリーを形成しており、それぞれのＣｄｋ分子は細胞周期特異的に発現する限定されたサイクリン分子と複合体を形成することで、特定の細胞周期の進行を制御していると考えられている。例えばＤタイプサイクリンは、Ｃｄｋ４あるいはＣｄｋ６と結合してＧ１期の進行を、サイクリンＥ−Ｃｄｋ２はＧ１／Ｓ境界を、 サイクリンA−Ｃｄｋ２はＳ期の進行を、さらにサイクリンＢ−ｃｄｃ２はＧ２／Ｍの進行をそれぞれ制御している。なお、ＤタイプサイクリンにはＤ１、Ｄ２、Ｄ３と３つのサブタイプが知られている。更に、Ｃｄｋの活性はサイクリンとの結合のみならず、Ｃｄｋ分子のリン酸化／脱リン酸化、サイクリン分子の分解及びＣｄｋ阻害蛋白質との結合により制御されていると考えられている［アドバンス・キャンサー・リサーチ（Ａｄｖａｎｃｅ Ｃａｎｃｅｒ Ｒｅｓ．）、第６６巻、１８１−２１２頁（１９９５年）；カレント・オピニオン・イン・セル・バイオロジー（Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｏｐｉｎ． Ｃｅｌｌ Ｂｉｏｌ．）、第７巻、７７３−７８０頁、（１９９５年）；ネイチャー（Ｎａｔｕｒｅ）、第３７４巻、１３１―１３４頁、（１９９５年）］。
哺乳動物細胞におけるＣｄｋ阻害蛋白質は、構造・性質の違いからＣｉｐ／ＫｉｐファミリーとＩＮＫ４ファミリーの２種に大別される。 前者は幅広くサイクリン−Ｃｄｋ複合体を阻害するのに対し、後者はＣｄｋ４、Ｃｄｋ６と結合してこれらを特異的に阻害する。［ネイチャー（Ｎａｔｕｒｅ）、第３６６巻、７０４−７０７頁、（１９９３年）；モレキュラー・アンド・セルラー・バイオロジー（Ｍｏｌ． Ｃｅｌｌ． Ｂｉｏｌ．）、第１５巻、２６２７−２６８１頁、（１９９５年）；ジーンズ・アンド・デベロプメント（Ｇｅｎｅｓ Ｄｅｖ．）、第９巻、１１４９−１１６３頁（１９９５年）］
前者の代表例には例えばｐ２１（Ｓｄｉ１／Ｃｉｐ１／Ｗａｆ１）が挙げられ、このものは癌抑制遺伝子産物ｐ５３によりＲＮＡ転写が誘導される［ジーンズ・アンド・デベロプメント（Ｇｅｎｅｓ Ｄｅｖ．）、第９巻、９３５−９４４頁（１９９５年）］。
一方、例えばｐ１６（ ＩＮＫ４ａ／ＭＴＳ１／ＣＤＫ４Ｉ／ＣＤＫＮ２）は後者に属するＣｄｋ阻害蛋白質の１つである。ｐ１６遺伝子は、ヒト癌細胞において高頻度に異常の見られるヒト染色体９ｐ２１に存在し、実際、臨床においてｐ１６遺伝子の欠失が多数報告されている。また、ｐ１６ノックアウトマウスにおける癌の発症頻度が高いことが報告されている［ネイチャー・ジェネティクス（Ｎａｔｕｒｅ Ｇｅｎｅｔ．）、第８巻、２７−３２頁、（１９９４年）；トレンズ・イン・ジェネティクス（Ｔｒｅｎｄｓ Ｇｅｎｅｔ．）、第１１巻、１３６−１４０頁、（１９９５年）；セル（Ｃｅｌｌ）、第８５巻、２７−３７頁、（１９９６年）］。
それぞれのＣｄｋは細胞周期の特定の時期にある標的蛋白質をリン酸化することで細胞周期の進行を制御しているが、中でも網膜芽細胞腫（ＲＢ）蛋白質はもっとも重要な標的蛋白質の一つと考えられている。ＲＢ蛋白質はＧ１期からＳ期への進行の鍵を握る蛋白質で、Ｇ１後期からＳ初期にかけて急速にリン酸化を受ける。そのリン酸化は細胞周期の進行に伴ってサイクリンＤ−Ｃｄｋ４／Ｃｄｋ６複合体、次いでサイクリンＥ−Ｃｄｋ２複合体が担っていると考えられている。ＲＢ蛋白質が高リン酸化体になるとそれまでＧ１前期に低リン酸化体ＲＢと転写因子Ｅ２Ｆによって形成されていた複合体が解離する。その結果Ｅ２Ｆが転写活性体になると共にＲＢ−Ｅ２Ｆ複合体によるプロモーター活性の抑制が解除され、 Ｅ２Ｆ依存的な転写が活性化される。 現在のところ、Ｅ２Ｆとそれを抑制するＲＢ蛋白質、さらにＲＢ蛋白質の機能を抑制的に制御するＣｄｋ４／Ｃｄｋ６、それらのキナーゼ活性を調節するＣｄｋ阻害蛋白質およびＤタイプサイクリンからなるＣｄｋ−ＲＢ経路が、Ｇ１期からＳ期への進行を制御する重要な機構ととらえられている［セル（Ｃｅｌｌ）、第５８巻、１０９７−１１０５頁、（１９８９年）；セル（Ｃｅｌｌ）、第６５巻、１０５３−１０６１頁、（１９９１年）；オンコジーン（Ｏｎｃｏｇｅｎｅ）、第７巻、１０６７−１０７４頁、（１９９２年）；カレント・オピニオン・イン・セル・バイオロジー（Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｏｐｉｎ． Ｃｅｌｌ Ｂｉｏｌ．）、第８巻、８０５−８１４頁、（１９９６年）；モレキュラー・アンド・セルラー・バイオロジー（Ｍｏｌ． Ｃｅｌｌ． Ｂｉｏｌ．）、第１８巻、７５３−７６１頁、（１９９８年）］。実際にＥ２Ｆの結合ＤＮＡ配列は例えばＳ期に重要な多くの細胞増殖関連遺伝子の上流に存在しており、このうちの複数の遺伝子でＥ２Ｆ依存的にＧ１後期からＳ初期にかけて転写が活性化されることが報告されている［ジ・エンボ・ジャーナル（ＥＭＢＯ Ｊ．）、第９巻、２１７９−２１８４頁、（１９９０年）；モレキュラー・アンド・セルラー・バイオロジー（Ｍｏｌ． Ｃｅｌｌ． Ｂｉｏｌ．）、第１３巻、１６１０−１６１８頁、（１９９３年）］。
Ｃｄｋ−ＲＢ経路を構成するいずれかの因子の異常、例えば機能的ｐ１６の欠失やサイクリンＤ１高発現やＣｄｋ４高発現や機能的ＲＢ蛋白質の欠失などがヒトの癌において高頻度に検出されている［サイエンス（Ｓｃｉｅｎｃｅ）、第２５４巻、１１３８−１１４６頁、（１９９１年）；キャンサー・リサーチ（Ｃａｎｃｅｒ Ｒｅｓ．）、第５３巻、５５３５−５５４１頁、（１９９３年）；カレント・オピニオン・イン・セル・バイオロジー（Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｏｐｉｎ． Ｃｅｌｌ Ｂｉｏｌ．）、第８巻、８０５−８１４頁、（１９９６年）］。これらは、いずれもＧ１期からＳ期への進行を促進する方向への異常であり、この経路が癌化あるいは癌細胞の異常増殖において重要な役割を担っていることは明らかである。
Ｃｄｋファミリー阻害作用を有する公知の化合物としては、例えばｆｌａｖｏｐｉｒｉｄｏｌ（フラボピリドール）に代表される一連のクロモン誘導体が知られている。（ＷＯ９７／１６４４７、９８／１３３４４）。
また、本発明の化合物に構造的に近似する先行技術としては、例えばＷＯ９６／２５１５７公報（引例Ａ）、ＷＯ９７／２９７４３公報（引例Ｂ）、米国特許第５６９６１３８号公報（引例Ｃ）及び特開平２−１１５１７６号公報（引例Ｄ）が挙げられる。
引例Ａ及び引例Ｂには、アリール基がＮ−及びＮ’−置換したウレア又はチオウレア誘導体が開示されている。しかしながら、引例Ａ及び引例Ｂに記載されたアリール基と本発明の含窒素複素芳香環基とは化学的に構造が全く異なるので、引例Ａ及び引例Ｂに記載の化合物は、本発明とは直接には関係がない化合物であると言える。さらには引例Ａ及び引例Ｂに記載の化合物の用途は、ケモカイン受容体拮抗物質に係り、例えば乾癬、アトピー性皮膚炎、喘息、慢性閉塞性肺疾患、アルツハイマー病等に対する疾患治療剤を目的とするものであり、本発明の用途とは全く関連性のないものである。
引例Ｃには、１個の窒素原子を有してもよい芳香環基および縮合してもよいベンゼン環基を有するウレア又はチオウレア誘導体が開示されている。しかしながら、引例Ｃの発明の主たる化合物は、２つのフェニル基がＮ−及びＮ’−置換したウレア誘導体であり、僅かに明細書第３欄（第１１行目、第１３行目及び第２６行目）、第５欄（第１７行目及び第１９行目）、第７欄（第１３行目及び第１５行目）、第１７欄（第２４行目及び第４２行目）、第２０欄（下から１４行目）等には、何れの箇所においても記載が共通する、ピリジル基がＮ’−置換した３種類のウレア化合物が記載されているにすぎない。なお、このウレア化合物のＮ−置換基は、全てフェニル基であり、本発明化合物とは、化学構造が全く異なる。また引例Ｃの化合物において、Ｎ−置換基が縮合ベンゼン環となる場合、縮合部分は、飽和であっても不飽和であってもよいと定義されているものの、縮合環部分の置換基は言及されておらず、無置換の縮合環と解され（本発明は、オキソ基を有する）、さらに引例Ｃの具体的開示を見る限り、縮合ベンゼン環の開示例はナフチル基に限定されていることから、引例Ｃの化合物は本発明の化合物とは化学構造が異なり、両発明は直接関係しないものであると言える。
さらには引例Ｃに記載の化合物の用途は、第１６欄に記載されているように、カリウムチャネンネル活性化物質に係り、例えばカリウムチャンネル依存性の痙攣、喘息、虚血等に対する疾患治療剤を目的とするものであり、本発明の用途とは全く関連性のないものである。
引例Ｄには、実施例７において、トリアジン基がＮ−置換し、９−フルオレノン基がＮ’−置換した尿素化合物が開示されている。
しかしながら、引例Ｄの発明は、放射性感受性組成物、即ち感光剤に係る発明であって、本発明とは発明の属する技術分野が全く異なる発明である上、前述の実施例７以外に類似する化合物は何ら言及されていない。その理由は、引例Ｄの化合物は、トリアジン核を基本骨格とし、光開始性部分がフルオレノン基を含む十数種類の置換基が採用され、トリアジン核に光開始性部分を連結させている基として、尿素を含む十数種の連結基の組合せが列挙されている関係で、様々な構造の化合物群が例示されているからである。従って、本発明の化合物及び本発明の用途は、実施例７の化合物を含めて引例Ｄの記載に基づいて、何ら想到できないものであり、引例Ｄは本発明とは直接関係しない発明であると言える。
したがって、本発明は、文献未記載の新規な化合物及び新規な用途に関する発明であって、上記引例ＡないしＤに基づいては容易になし得ない発明である。
また、現在のところ、Ｃｄｋ６阻害剤は具体的には知られていない。
上述したとおり、Ｃｄｋファミリー阻害作用を有する化合物には、クロモン誘導体が挙げられるが、これらの化合物のＣｄｋ４に対する阻害活性は、十分ではなく、一層阻害活性の高い化合物が求められている。さらに例えばＣｄｋ６等に対する異質な阻害活性を併せ持った新たな化合物が求められている。
本発明者らは、優れたＣｄｋ４阻害作用又はＣｄｋ６阻害作用を有する化合物を提供することを目的として、鋭意研究した結果、ビアリールウレア骨格を有する新規な化合物がＣｄｋ４及び／又はＣｄｋ６阻害作用を発揮することを見出し、本発明を完成した。
本発明は、一般式（Ｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒは、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、
（１）低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｒｐは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜１ないし３個、さらには
Figure 2011148811
 からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｑ、ＳＯ２ＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２ＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｑ）、ＣＯＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｑ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｑ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｑ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑ及びＲｒは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ１及びＹ２は、同一又は異なって、単結合又は該２環性若しくは３環性の縮合環を１個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、
（２）低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基及び低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基（以下、環上置換基と略す。）が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし７員環を形成する含窒素複素芳香環基又は
（３）式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｙ１、Ｗ１、Ｙ２及びＲｐは前記の意味を有する）で表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし７員環を形成する含窒素複素芳香環基、Ｘ及びＺは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、Ｒ１又はＲ２及び／若しくはＲ３と一緒になって、ＣＨ又は窒素原子、Ｙは、ＣＯ、ＳＯ又はＳＯ２、Ｒ１は、水素原子若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ２は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｔ、ＳＯ２ＮＲｔ、Ｎ（Ｒｔ）ＳＯ２ＮＲｕ、Ｎ（Ｒｔ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｔ）、ＣＯＮＲｔ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＮＲｕ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｖ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｔ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｔ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｔ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｔ及びＲｕは、水素原子若しくは低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ３及びＹ４は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基、又は低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Ｘと共に窒素原子を形成し、Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は、前記の意味を有する）で示される置換基であるか、Ｒ２及びＲ３の何れか一方が、Ｒ１及びＸと共に一緒になって形成する、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和の５員ないし８員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに５員ないし７員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するＺと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するＺ、Ｒ１及びＸと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｒｐ、Ｗ１、Ｙ１及びＹ２は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和若しくは不飽和の５員ないし８員環基を形成し、Ｒ４及びＲ５は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は前記の意味を有する）で示される置換基又は低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、式
Figure 2011148811
 は、単結合又は二重結合を示す）で表される化合物又はその塩及びその製造法に関するものである。
次に、本明細書に記載された記号及び用語について説明する。
含窒素複素芳香環基とは、少なくとも１個の窒素原子を有する芳香環基を示し、上記窒素原子の他、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１種又はそれ以上のヘテロ原子を有する芳香環基を示す。具体的には、例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基又はベンゾオキサゾリル等が挙げられ、中でも例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、ピラゾリル基又はイミダゾリル基等が好ましく、特に例えばピリジル基又はピラゾリル基等が特に好ましい。
低級アルキル基としては、炭素数１ないし６個の直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、中でも、例えばメチル基、エチル基、ブチル基等が好適である。
ハロゲン原子とは、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも例えばフッ素原子、塩素原子等が好適である。
低級アルカノイル基としては、カルボニル基に炭素数１ないし５個よりなるアルキル基が置換した基が好ましく、具体的には例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ペンタノイル基等が挙げられ、中でも例えばアセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基等が好ましい。
低級アルカノイルオキシ基とは、酸素原子に上記の低級アルカノイル基が置換した基を意味し、具体的には例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基等が挙げられ、中でも例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイルオキシ基等が好ましい。
ヒドロキシ低級アルキル基としては、水酸基が置換した炭素数１ないし６個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばヒドロキシメチル基、ジヒドロキシメチル基、トリヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシ−２−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル基、１−ヒドロキシ−２，２−ジメチルエチル基、１−ヒドロキシペンチル基、１−ヒドロキシ−２−メチルブチル基、１−ヒドロキシヘキシル基、１−ヒドロキシ−２−メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシ−２−メチルエチル基等が好ましい。
シアノ低級アルキル基としては、シアノ基が置換した炭素数１ないし６個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばシアノメチル基、１−シアノエチル基、２−シアノエチル基、１−シアノプロピル基、２−シアノプロピル基、３−シアノプロピル基、１−シアノ−２−メチルエチル基、１−シアノブチル基、１−シアノ−２−メチルプロピル基、１−シアノ−２，２−ジメチルエチル基、１−シアノペンチル基、１−シアノ−２−メチルブチル基、１−シアノヘキシル基、１−シアノ−２−メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばシアノメチル基、１−シアノエチル基、２−シアノシエチル基、１−シアノ−２−メチルエチル基等が好ましい。
ハロ低級アルキル基としては、ハロゲン原子が置換した炭素数１ないし６個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、２−フルオロエチル基、１−クロロエチル基、２−クロロエチル基、１−クロロプロピル基、２−クロロプロピル基、１−フルオロ−２−メチルエチル基、１−クロロ−２−メチルエチル基、１−クロロブチル基、１−クロロ−２−メチルプロピル基、１−クロロ−２，２−ジメチルエチル基、１−クロロペンチル基、１−クロロ−２−メチルブチル基、１−クロロヘキシル基、１−クロロ−２−メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばクロロメチル基、トリフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、１−クロロエチル基、１−クロロ−２−メチルエチル基等が好ましい。
カルボキシ低級アルキル基としては、カルボキシ基が置換した炭素数１ないし６個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばカルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２−カルボキシエチル基、１−カルボキシプロピル基、２−カルボキシプロピル基、３−カルボキシプロピル基、１−カルボキシ−２−メチルエチル基、１−カルボキシブチル基、１−カルボキシ−２−メチルプロピル基、１−カルボキシ−２，２−ジメチルエチル基、１−カルボキシペンチル基、１−カルボキシ−２−メチルブチル基、１−カルボキシヘキシル基、１−カルボキシ−２−メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばカルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２−カルボキシエチル基、１−カルボキシ−２−メチルエチル基等が好ましい。
カルバモイル低級アルキル基としては、カルバモイル基が置換した炭素数１ないし６個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばカルバモイルメチル基、１−カルバモイルエチル基、２−カルバモイルエチル基、１−カルバモイルプロピル基、２−カルバモイルプロピル基、３−カルバモイルプロピル基、１−カルバモイル−２−メチルエチル基、１−カルバモイルブチル基、１−カルバモイル−２−メチルプロピル基、１−カルバモイル−２，２−ジメチルエチル基、１−カルバモイルペンチル基、１−カルバモイル−２−メチルブチル基、１−カルバモイルヘキシル基、１−カルバモイル−２−メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばカルバモイルメチル基、１−カルバモイルエチル基、２−カルバモイルエチル基、１−カルバモイル−２−メチルエチル基等が好ましい。
低級アルコキシ基としては、酸素原子に炭素数１ないし６個よりなるアルキル基が置換した基等が好ましく、具体的には例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基等が挙げられ、中でも例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が好ましい。
低級アルコキシカルボニル基とは、カルボニル基に上記の低級アルコキシ基が置換した基を意味し、具体的には例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、イソヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられ、中でも例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等が好ましい。
低級アルキルカルバモイル基とは、カルバモイル基に上記の低級アルキル基がＮ−置換した置換基を示し、例えばＮ−メチルカルバモイル基、 Ｎ−エチルカルバモイル基、 Ｎ−プロピルカルバモイル基、 Ｎ−イソプロピルカルバモイル基、 Ｎ−ブチルカルバモイル基、 Ｎ−イソブチルカルバモイル基、 Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル基、 Ｎ−ペンチルカルバモイル基、 Ｎ−ヘキシルカルバモイル基等が挙げられ、中でも例えばＮ−メチルカルバモイル基、 Ｎ−エチルカルバモイル基、 Ｎ−ブチルカルバモイル基等が好適である。
ジ低級アルキルカルバモイル基とは、カルバモイル基に上記の低級アルキル基がＮ，Ｎ−ジ置換した置換基を示し、例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、 Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、 Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル基、 Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル基、 Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基、 Ｎ，Ｎ−ジイソブチルカルバモイル基、 Ｎ，Ｎ−ジｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル基、 Ｎ，Ｎ−ジペンチルカルバモイル基、 Ｎ，Ｎ−ジヘキシルカルバモイル基、、Ｎ− エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ −メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル基等が挙げられ、中でも例えばＮ，Ｎ −ジメチルカルバモイル基、 Ｎ，Ｎ −ジエチルカルバモイル基、 Ｎ，Ｎ −ジブチルカルバモイル基、Ｎ− エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ −メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル基等が好適である。
低級アルキルカルバモイルオキシ基とは、酸素原子に上記の低級アルキルカルバモイル基置換した置換基を示し、例えばＮ−メチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ−エチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ−プロピルカルバモイルオキシ基、 Ｎ−イソプロピルカルバモイルオキシ基、 Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ−イソブチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ−ペンチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ−ヘキシルカルバモイルオキシ基等が挙げられ、中でも例えばＮ−メチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ−エチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ基等が好適である。
ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基とは、酸素原子に上記のジ低級アルキルカルバモイルが置換した置換基を示し、例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルオキシ基、 Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイルオキシ基、 Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ，Ｎ−ジイソブチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ，Ｎ−ジｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ，Ｎ−ジペンチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ，Ｎ−ジヘキシルカルバモイルオキシ基、、Ｎ− エチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ基、Ｎ −メチル−Ｎ−プロピルカルバモイルオキシ基等が挙げられ、中でも例えばＮ，Ｎ −ジメチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ，Ｎ −ジエチルカルバモイルオキシ基、 Ｎ，Ｎ −ジブチルカルバモイルオキシ基、Ｎ− エチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ基、Ｎ −メチル−Ｎ−プロピルカルバモイルオキシ基等が好適である。
低級アルキルアミノ基とは、アミノ基に上記の低級アルキル基がＮ−置換した置換基を示し、例えばＮ−メチルアミノ基、 Ｎ−エチルアミノ基、 Ｎ−プロピルアミノ基、 Ｎ−イソプロピルアミノ基、 Ｎ−ブチルアミノ基、 Ｎ−イソブチルアミノ基、 Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、 Ｎ−ペンチルアミノ基、 Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられ、中でも例えばＮ−メチルアミノ基、 Ｎ−エチルアミノ基、 Ｎ−ブチルアミノ基等が好適である。
ジ低級アルキルアミノ基とは、アミノ基に上記の低級アルキル基がＮ，Ｎ−ジ置換した置換基を示し、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、 Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基等が挙げられ、中でも例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基等が好適である。
トリ低級アルキルアンモニオ基とは、アミノ基に上記の低級アルキル基がＮ，Ｎ，Ｎ−三置換した置換基を示し、例えばＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリプロピルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリイソプロピルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリブチルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリイソブチルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリｔｅｒｔ−ブチルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリペンチルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリヘキシルアンモニオ基、、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピルアンモニオ基等が挙げられ、中でも例えばＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリブチルアンモニオ基、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ基、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピルアンモニオ基等が好適である。
アミノ低級アルキル基としては、アミノ基が置換した炭素数１ないし６個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばアミノメチル基、ジアミノメチル基、トリアミノメチル基、１−アミノエチル基、２−アミノエチル基、１−アミノプロピル基、２−アミノプロピル基、３−アミノプロピル基、１−アミノ−２−メチルエチル基、１−アミノブチル基、１−アミノ−２−メチルプロピル基、１−アミノ−２，２−ジメチルエチル基、１−アミノシペンチル基、１−アミノ−２−メチルブチル基、１−アミノヘキシル基、１−アミノ−２−メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばアミノメチル基、１−アミノエチル基、２−アミノエチル基、１−アミノ−２−メチルエチル基等が好ましい。
低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、低級アルキル基に上記の低級アルキルアミノ基が置換した置換基を示し、例えばＮ−メチルアミノメチル基、Ｎ−エチルアミノメチル基、Ｎ−プロピルアミノメチル基、Ｎ−イソプロピルアミノメチル基、 Ｎ−ブチルアミノメチル基、Ｎ−イソブチルアミノメチル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノメチル基、Ｎ−ペンチルアミノメチル基、Ｎ−ヘキシルアミノメチル基等が挙げられ、中でも例えばＮ−メチルアミノメチル基、Ｎ−エチルアミノメチル基、Ｎ−ブチルアミノメチル基等が好適である。
ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、低級アルキル基に上記のジ低級アルキルアミノ基が置換した置換基を示し、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジｔｅｒｔ−ブチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノメチル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノメチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノメチル基等が挙げられ、中でも例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノメチル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノメチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノメチル基等が好適である。
トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基とは、低級アルキル基に上記のトリ低級アルキルアンモニオ基が置換した置換基を示し、例えばＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリプロピルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリイソプロピルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリブチルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリイソブチルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリｔｅｒｔ−ブチルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリペンチルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリヘキシルアンモニオメチル基、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピルアンモニオメチル基等が挙げられ、中でも例えばＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリブチルアンモニオメチル基、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオメチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピルアンモニオメチル基等が好適である。
低級アルカノイルアミノ基とは、アミノ基に上記の低級アルカノイル基が置換した置換基を示し、例えばＮ−アセチルアミノ基、Ｎ−プロピオニルアミノ基、Ｎ−ブチリルアミノ基等が挙げられ、中でも例えばＮ−アセチルアミノ基、Ｎ−プロピオニルアミノ基等が好適である。
低級アロイルアミノ基とは、アミノ基にアロイル基が置換した置換基を示し、例えばＮ−ベンゾイルアミノ基、 Ｎ−ナフチルカルボニルアミノ基等が挙げられ、中でも例えばＮ−ベンゾイルアミノ基等が好適である。
低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基とは、アミジノ低級アルキル基に上記の低級アルカノイル基が置換した置換基を示し、例えばＮ−アセチルアミジノメチル基、Ｎ−プロピオニルアミジノメチル基、Ｎ−ブチリルアミジノメチル基等が挙げられ、中でも例えばＮ−アセチルアミジノメチル基、Ｎ−プロピオニルアミジノメチル基等が好適である。
低級アルキルスルフィニル基とは、スルフィニル基に上記の低級アルキル基が置換した基を示し、例えばＮ−メチルスルフィニル基、 Ｎ−エチルスフィニル基、 Ｎ−ブチルスルフィニル基等が挙げられ、中でも例えばＮ−メチルスルフィニル基、 Ｎ−エチルスルフィニル基等が好適である。
低級アルキルスルホニル基とは、スルホニル基に上記の低級アルキル基が置換した基を示し、例えばＮ−メチルスルホニル基、Ｎ−エチルスホニル基、Ｎ−ブチルスルホニル基等が挙げられ、中でも例えばＮ−メチルスルホニル基、Ｎ−エチルスルホニル基等が好適である。
低級アルキルスルホニルアミノ基とは、アミノ基に上記の低級アルキルスルホニル基がＮ−置換した置換基を示し、例えばＮ−メチルスルホニルアミノ基、Ｎ−エチルスホニルアミノ基、Ｎ−ブチルスルホニルアミノ基等が挙げられ、中でも例えばＮ−メチルスルホニルアミノ基、Ｎ−エチルスルホニルアミノ基等が好適である。
低級アルコキシイミノ基とは、イミノ基に上記の低級アルコキシ基が置換した置換基を示し、例えばメトキシイミノ基、エトキシイミノ基、 プロポキシイミノ基等が挙げられ、中でも例えばメトキシイミノ基、 エトキシイミノ基等が好適である。
低級アルケニル基としては、炭素数２ないし６個の直鎖状または分岐状のアルケニル基等が好ましく、例えばビニル基、１−プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、１，３−ブタンジエニル基、２−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基等が挙げられ、中でも例えば１−プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基等が好適である。
低級アルキニル基としては、炭素数２ないし６個の直鎖状または分岐状のアルキニル基等が好ましく、例えば２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、２−ペンチニル基等が挙げられ、中でも例えば２−プロピニル基、２−ブチニル基等が好適である。
シクロ低級アルキル基としては、炭素数３ないし１０個の単環ないし２環性のアルキル基等が好ましく、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられ、中でも例えばシクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が好適である。
アリール基としては、炭素数６ないし１５個よりなるアリール基が好ましく、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、中でも例えばフェニル基等が好ましい。
芳香族複素環基としては、例えばイミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基等が好ましく、中でも例えばイミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、インドリル基、エチレンジオキシフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノリル基、ベンゾイミダゾリル基、チアゾリル基、チエニル基等が好ましく、特にピリジル基、ピラゾリル基等がより好適である。
脂肪族複素環基とは、単環または２もしくは３環からなる縮合環である脂肪族複素環基を示し、それらは飽和脂肪族複素環基であっても不飽和脂肪族複素環基であってもよい。具体的には、例えばイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基、テトラヒドロイソキノリニル基等が好ましく、中でも例えばイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロイソキノリニル基等が好ましく、特にイソキサゾリニル基、テトラヒドロピリジル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロイソキノリニル基等がより好ましい。
アラルキル基としては、炭素数７〜１５個よりなるアラルキル基等が好ましく、具体的には例えばベンジル基、α−メチルベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、α−メチル（１−ナフチル）メチル基、α−メチル（２−ナフチル）メチル基、α−エチル（１−ナフチル）メチル基、α−エチル（２−ナフチル）メチル基、ジフェニルメチル基等、ジナフチルメチル基等が挙げられ、特に例えばベンジル基、α−メチルベンジル基、フェネチル基等が好ましい。
直鎖状又は分岐状の低級アルキレン基としては、炭素数１ないし６のアルキレン基等が好ましく、具体的には例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ジメチルメチレン基、ジエチルメチレン基等が挙げられ、中でも例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ジメチルメチレン基等が好適である。
スピロシクロ低級アルキル基としては、炭素数３ないし６個のスピロ環を形成するアルキル基等が好ましく、例えばスピロシクロプロピル基、スピロシクロブチル基、スピロシクロペンチル基、スピロシクロヘキシル基等が挙げられ、中でも例えばスピロシクロペンチル基、スピロシクロヘキシル基等が好適である。
Ａｒとは、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基を示し、中でも例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基等が好ましく、特に例えばピリジル基、ピラゾリル基等がより好ましい。
当該含窒素複素芳香環基は、（１）低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｒｐは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜１ないし３個、さらには
Figure 2011148811
 からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｑ、ＳＯ２ＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２ＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｑ）、ＣＯＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｑ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｑ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｑ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑ及びＲｒは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ１及びＹ２は、同一又は異なって、単結合又は該２環性若しくは３環性の縮合環を１個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよく、
（２）低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基及び低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基（以下、環上置換基と略す。）が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし７員環を形成することができ、
（３）式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｙ１、Ｗ１、Ｙ２及びＲｐは前記の意味を有する）で表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし７員環を形成することができる。
ここで、（１）の置換基の形態を、詳しく説明すると、具体的な置換基としては、（１−１）低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに
（１−２）式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｒｐは、水素原子又は低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくはシクロ低級アルキル基、アリール基、芳香族複素環基若しくは脂肪族複素環基、Ｗ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｑ、ＳＯ２ＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２ＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｑ）、ＣＯＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｑ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｑ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｑ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑ及びＲｒは、水素原子、該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す）、Ｙ１及びＹ２は、同一又は異なって、単結合又は該２環性若しくは３環性の縮合環を１個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基からなる群から選択される置換基が挙げられ、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基が当該含窒素複素芳香環基に置換することができる。
（１−１）において、好適な置換基は、例えば低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ホルミル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基等が挙げられ、特に例えば水酸基、ハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ低級アルキル基等がより好ましい。
（１−２）の式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐにおいて、Ｒｐが低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基又はシクロ低級アルキル基、アリール基、芳香族複素環基若しくは脂肪族複素環基の場合、これらの各置換基は、低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基を、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基が当該含窒素複素芳香環基に置換することができる。
Ｒｐがシクロ低級アルキル基、アリール基、芳香族複素環基又は脂肪族複素環基の場合、これらの各置換基は、上記置換基に加えて、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を有することができる。
式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐにおいて、Ｗ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｑ、ＳＯ２ＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２ＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｑ）、ＣＯＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｑ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｑ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｑ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑ及びＲｒは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）を示し、中でも例えば酸素原子、硫黄原子、ＮＲｑ、ＳＯ２ＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２、ＣＯＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＯ、Ｃ（Ｒｑ）＝ＣＲｒ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑ、Ｃ（Ｏ）Ｏ等が好ましく、特に例えばＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２、ＣＯＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＯ、ＯＣ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）Ｏ等が好ましい。
なお、Ｗ１中のＲｑ及びＲｒは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す。該低級アルキル基、該アリール基若しくは該アラルキル基は、低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基を適宜１ないし３個有することができる。
式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐにおいて、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す。該直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基は、上記の
Figure 2011148811
 からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を１個有することができる。
次に、（２）の置換基の形態を詳しく説明すると、本置換基は、上記の含窒素複素芳香環基上の置換基の内、例えば低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基等の置換基置が関与し、これらの環上置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし７員環を形成されたものである。
なお、該環上置換基としては、例えば低級アルキル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基等が好ましく、中でも、例えば低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基等がより好ましい。
次に、（３）の置換基の形態を詳しく説明すると、本置換基は、式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｙ１、Ｗ１、Ｙ２及びＲｐは前記の意味を有する）で表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって形成された、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし７員環等を意味する。
当該含窒素複素芳香環基の置換基又は形成基は、（１）、（２）及び（３）の何れにおいても好ましいが、好適な形態は、
（１’）低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ホルミル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基及び低級アルキルスルホニルアミノ基からなる群より選択される置換基並びに式：Ｙ１a−Ｗ１a−Ｙ２a−Ｒｐa（式中、Ｒｐaは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜１ないし３個、さらには
Figure 2011148811
 からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、インドリル基、エチレンジオキシフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノリル基、ベンゾイミダゾリル基、チアゾリル基、チエニル基及びトリアゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ１aは、酸素原子、硫黄原子、ＮＲｑa、ＳＯ２ＮＲｑa、Ｎ（Ｒｑa）ＳＯ２、ＣＯＮＲｑa、Ｎ（Ｒｑa）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑa）ＣＯＯ、Ｃ（Ｒｑa）＝ＣＲｒa、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑa又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑa及びＲｒaは、水素原子、低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ホルミル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基及び低級アルキルスルホニルアミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ１a及びＹ２aは、同一又は異なって、単結合又は該２環性若しくは３環性の縮合環を１個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基からなる群から選択される置換基、
（２’）低級アルキル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群より選択される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし６員環を形成する含窒素複素芳香環基又は
（３’）式：Ｙ１a−Ｗ１a−Ｙ２a−Ｒｐa（式中、Ｙ１a、Ｗ１a、Ｙ２a及びＲｐaは前記の意味を有する）で表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし６員環であり、さらには、
（１’’）水酸基、ハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基並びに式：Ｙ１ｂ−Ｗ１ｂ−Ｙ２ｂ−Ｒｐｂ（式中、Ｒｐｂは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜１ないし３個、さらには
Figure 2011148811
 からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、ピリジル基及びピラゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、テトラヒドロピリジル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ１ｂは、ＮＲｑｂ、Ｎ（Ｒｑｂ）ＳＯ２、ＣＯＮＲｑｂ、Ｎ（Ｒｑｂ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑｂ）ＣＯＯ、ＯＣ（Ｏ）又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑｂ及びＲｒｂは、水素原子若しくは水酸基、ハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ１ｂ及びＹ２ｂは、同一又は異なって、単結合又は該２環性若しくは３環性の縮合環を１個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基からなる群から選択される置換基、
（２’’）低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし６員環又は
（３’’）式：Ｙ１ｂ−Ｗ１ｂ−Ｙ２ｂ−Ｒｐｂ（式中、Ｙ１ｂ、Ｗ１ｂ、Ｙ２ｂ及びＲｐｂは前記の意味を有する）で表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし６員環等が好適である。
Ｘ及びＺは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、Ｒ１又はＲ２及び／若しくはＲ３と一緒になって、ＣＨ又は窒素原子を示す。
Ｙは、ＣＯ、ＳＯ又はＳＯ２を示す。
Ｒ１は、水素原子若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ２は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｔ、ＳＯ２ＮＲｔ、Ｎ（Ｒｔ）ＳＯ２ＮＲｕ、Ｎ（Ｒｔ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｔ）、ＣＯＮＲｔ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＮＲｕ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｖ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｔ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｔ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｔ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｔ及びＲｕは、水素原子若しくは低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ３及びＹ４は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基、又は低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Ｘと共に窒素原子を形成する。
ここで、Ｒ１の形態を、詳しく説明すると、Ｒ１は、水素原子又は式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は、前記の意味を有する）で示される置換基であるか、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Ｘと共に窒素原子を形成することが挙げられる。
式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓにおいて、Ｒｓは、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、芳香族複素環基又は脂肪族複素環基等であり、これらの各置換基は、低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基を適宜１ないし３個有することができる。なお、好ましい置換基群は、Ar上の置換基と同様に列挙することができる。
式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓにおいて、Ｗ２は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｔ、ＳＯ２ＮＲｔ、Ｎ（Ｒｔ）ＳＯ２ＮＲｕ、Ｎ（Ｒｔ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｔ）、ＣＯＮＲｔ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＮＲｕ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｖ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｔ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｔ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｔ又はＣ（Ｏ）Ｏを示す。ここにおいて、Ｒｔ及びＲｕは、水素原子若しくは低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基であり、該低級アルキル基、該アリール基又は該アラルキル基の各置換基は、Ｒｓと同様に、置換基を適宜１ないし３個有することができる。
式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓにおいて、Ｙ３及びＹ４は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す。
Ｒ１の好ましい例は、例えば水素原子若しくは式：Ｙ３a−Ｗ２a−Ｙ４a−Ｒｓa（式中、Ｒｓaは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基及びインドリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはテトラヒドロピリジル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基及びモルホリノ基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ２aは、単結合、ＮＲｔa、ＣＨ（ＯＲｔa）、ＣＯＮＲｔa、Ｎ（Ｒｔa）ＣＯ、Ｎ（Ｒｔa）ＣＯＯ、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｔa又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｔa及びＲｕaは、水素原子、該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す）、Ｙ３a及びＹ４aは、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基又は低級アルキル基、水酸基、カルバモイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３a−Ｗ２a−Ｙ４a−Ｒｓa（式中、Ｒｓa、Ｗ２a、Ｙ３a及びＹ４aは、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Ｘと共に窒素原子を形成する場合が挙げられ、特に水素原子若しくは式：Ｙ３ｂ−Ｗ２ｂ−Ｙ４ｂ−Ｒｓｂ（式中、Ｒｓｂは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、シクロ低級アルキル基及びアリール基、Ｗ２ｂは、単結合、、Ｎ（Ｒｔｂ）ＣＯＯ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｔｂは、水素原子、該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す）、Ｙ３ｂ及びＹ４ｂは、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基又はヒドロキシ低級アルキル基及び式：Ｙ３ｂ−Ｗ２ｂ−Ｙ４ｂ−Ｒｓｂ（式中、Ｒｓｂ、Ｗ２ｂ、Ｙ３ｂ及びＹ４ｂは、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Ｘと共に窒素原子を形成する場合が挙げられる。
Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なって、
（ｉ）独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は、前記の意味を有する）で示される置換基であるか、
（ｉｉ）Ｒ２及びＲ３の何れか一方が、Ｒ１及びＸと共に一緒になって形成する、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和の５員ないし８員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに５員ないし７員環形成するか、
（ｉｉｉ）又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するＺと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するＺ、Ｒ１及びＸと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｒｐ、Ｗ１、Ｙ１及びＹ２は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和若しくは不飽和の５員ないし８員環基を形成する。
ここで、Ｒ２及びＲ３を具体的に説明すると、（ｉ）Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なって、独立して置換基を担う場合、（ｉｉ）Ｒ２及びＲ３の何れか一方が他の置換基と共に一緒になって置換基を形成し、形成された当該置換基と他方が一緒になってさらなる置換基を形成する場合及び（ｉｉｉ）Ｒ２及びＲ３が一緒になって置換基を形成したり、Ｒ２及びＲ３が他の置換基等と一緒になって置換基を形成する場合の何れの場合も本発明に包含される。
次に、Ｒ２及びＲ３の置換基の各態様について説明する。
（ｉ）Ｒ２及びＲ３は、水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基又は式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は、前記の意味を有する）で示される置換基を意味し、同一でも異なってもよく、それぞれ依存することなく、独立している。
（ｉｉ）Ｒ２及びＲ３の何れか一方が、Ｒ１及びＸと共に一緒になって
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和の５員ないし８員環を形成し、他方は、当該５員ないし８員環と一緒になって、当該環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子と共に５員ないし７員環を形成することができる。
（ｉｉｉ）Ｒ２及びＲ３は、（ｉｉｉ−１）一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基を形成するか、（ｉｉｉ−２）結合するＺと共にオキソ基を形成するか、（ｉｉｉ−３）結合するＺ、Ｒ１及びＸと共に、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよい
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和若しくは不飽和の５員ないし８員環基を形成することができる。
当該飽和若しくは不飽和の５員ないし８員環基は、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｒｐ、Ｗ１、Ｙ１及びＹ２は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有することができる。
なお、スピロシクロ低級アルキル基の置換基としては、例えば低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、アリール基等が挙げられ、中でも例えば低級アルキル基、低級アルコキシ基等が好ましい。
当該飽和若しくは不飽和の５員ないし８員環基は、さらには、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合することができる。
この縮合環は、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有することができる。具体的な置換基は、Ar上の置換基と同様のものを例示することができる。
Ｒ２及びＲ３は、（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）の何れにおいても好ましいが、好適な形態は、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式：Ｙ３a−Ｗ２a−Ｙ４a−Ｒｓa（式中、Ｒｓa、Ｗ２a、Ｙ３a及びＹ４aは、前記の意味を有する）で示される置換基であるか、
Ｒ２a及びＲ３aの何れか一方が、Ｒ１a及びＸaと共に一緒になって形成する、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和の５員ないし８員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに５員ないし７員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するＺと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するＺa、Ｒ１a及びＸaと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ１a−Ｗ１a−Ｙ２a−Ｒｐa（式中、Ｒｐa、Ｗ１a、Ｙ１a及びＹ２aは、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、ピリジル基及びピラゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにピペリジニル基及びピロリジニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和若しくは不飽和の５員ないし８員環基を形成する場合が挙げられる。
中でも、Ｒ２ｂ及びＲ３ｂは、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式：Ｙ３ｂ−Ｗ２ｂ−Ｙ４ｂ−Ｒｓｂ（式中、Ｒｓｂ、Ｗ２ｂ、Ｙ３ｂ及びＹ４ｂは、前記の意味を有する）で示される置換基であるか、Ｒ２ｂ及びＲ３ｂの何れか一方が、Ｒ１ｂ及びＸｂと共に一緒になって形成する、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和の５員ないし7員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに５員ないし７員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するＺと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するＺｂ、Ｒ１ｂ及びＸｂと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ１ｂ−Ｗ１ｂ−Ｙ２ｂ−Ｒｐｂ（式中、Ｒｐｂ、Ｗ１ｂ、Ｙ１ｂ及びＹ２ｂは、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基並びにピペリジニル基及びピロリジニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和若しくは不飽和の５員ないし７員環基を形成する場合が好ましい。
Ｒ４及びＲ５は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は前記の意味を有する）で示される置換基又は低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す。
ここで、Ｒ４及びＲ５の形態を、詳しく説明すると、Ｒ４及びＲ５は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は前記の意味を有する）で示される置換基又は置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す。
該低級アルキル基、該アリール基又は該アラルキル基は、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有することができる。
置換基の具体例としては、例えば低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基が挙げられる。
式
Figure 2011148811
 は、単結合又は二重結合を示す。当該式に関与する、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸの種類により、何れの結合をとることができる。
次に、本発明の一般式（Ｉ）の化合物について説明する。
一般式（Ｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4、Ｒ5及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する。］の化合物は、良好なＣｄｋ４及び／又はＣｄｋ６阻害作用を有するが、中でも、一般式（Ｉ−ａ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒａ、Ｘａ、Ｙａ、Ｚａ、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ４ａ、Ｒ５ａ及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する。］の化合物が好適であり、特に一般式（Ｉ−ｂ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒｂ、Ｘｂ、Ｙｂ、Ｚｂ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する。］の化合物が好ましい。
なお、一般式（Ｉ−ｐ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒｐは、適宜置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、Ｘｐは、炭素原子（ＣＨ）又は窒素原子、Ｒ１ｐは、水素原子又は適宜置換基を有してもよい低級アルキル基、Ｒ２ｐは、水素原子又はオキソ基（結合する炭素原子と共にカルボニル基を形成する）を示すか、又は結合する炭素原子、Ｒ１ｐ及びＸｐと共に窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種もしくはそれ以上包含してもよく適宜置換基を有していてもよい、飽和もしくは不飽和の５員もしくは６員環基を形成し、Ｒ４ｐ及びＲ５ｐは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基又は適宜置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す］で表される化合物は、一般式（Ｉ）の化合物に包含され、良好なＣｄｋ４及び／又はＣｄｋ６阻害作用を示す。
以下、一般式（Ｉ−ｐ）の化合物について説明すると、Ａｒｐは、例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であり、中でも例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、ピラゾリル基及びイミダゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基が好ましく、特に例えばピリジル基及びピラゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基が好ましい。
Ｒ２ｐが結合する炭素原子、Ｒ１ｐ及びＸと共に形成する飽和もしくは不飽和の５員又は６員環基の具体例としては、
Figure 2011148811
 又は
Figure 2011148811
 等が挙げられる。
一般式（Ｉ−ｐ）の化合物の内、Ａｒｐ又はＲ２ｐが結合する炭素原子、Ｒ１ｐ及びＸｐと共に形成する飽和もしくは不飽和の５員もしくは６員環基の置換基が、低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基、低級アルコキシイミノ基並びに式：Ｙ１ｐ−Ｗ−Ｙ２ｐ−Ｒｐｐ［式中、Ｒｐｐは、水素原子又は適宜置換基を有していてもよい、低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基もしくは脂肪族複素環基、Ｗは、単結合、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、ＮＲｑｐ、ＳＯ２ＮＲｑｐ、Ｎ（Ｒｑｐ）ＳＯ２ＮＲｒｐ、Ｎ（Ｒｑｐ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｑｐ）、ＣＯＮＲｑｐ、Ｎ（Ｒｑｐ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑｐ）ＣＯＮＲｒｐ、Ｎ（Ｒｑｐ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｑｐ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｑｐ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｑｐ）＝ＣＲｒｐ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑｐ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｑｐ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｑｐ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑｐ及びＲｒｐは、水素原子、適宜置換していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す）、 Ｙ１ｐ及びＹ２ｐは、同一又は異なって、単結合又は直鎖状もしくは分枝状の低級アルキレン基を示す］からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい化合物は良好な化合物である。
また、一般式（Ｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4、Ｒ5及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する。］の化合物中、Ｒ４、Ｒ５及び−ＨＮＣＯＮＨ−Ａｒは、ベンゼン環部分であれば、何れの置換位置においても置換することができる。
従って、一般式（Ｉ）の化合物は、一般式（Ｉ−１）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4、Ｒ5及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物、一般式（Ｉ−２）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4、Ｒ5及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物、一般式（Ｉ−３）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4、Ｒ5及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物及び一般式（Ｉ−４）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4、Ｒ5及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物から構成され、これらの化合物の中で、一般式（Ｉ−１）の化合物が好適である。
一般式（Ｉ）の化合物の医薬として許容される塩としては、医薬上許容される慣用的なものを意味し、置換基として存在する場合の、カルボキシル基または側鎖上の塩基または酸性残基における塩類を挙げることができる。
該カルボキシル基または酸性残基における塩基性付加塩としては、例えばアルカリ金属である例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩の他；例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩；例えばアンモニウム塩；例えばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩；ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、プロカイン塩等の脂肪族アミン塩；例えばジベンジルエチレンジアミン等のアラルキルアミン塩；例えばピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩、イソキノリン塩等の複素環芳香族アミン塩；例えばテトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩；アルギニン塩、リジン塩等の塩基性アミノ酸塩等が挙げられる。
側鎖上の塩基における酸付加塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、りん酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過塩素酸塩等の無機酸塩；例えば酢酸塩、プロピオン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石酸塩、りんご酸塩、くえん酸塩、アスコルビン酸塩等の有機酸塩；例えばメタンスルホン酸塩、イセチオン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩；例えばアスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等の酸性アミノ酸塩等が挙げられる。
一般式（Ｉ）の化合物の医薬として許容される無毒性エステルとしては、該カルボキシル基における医薬上許容される慣用的なものを意味する。
以下に、本発明の一般式（Ｉ）の化合物中、好適な化合物例について言及するが、後述する実施例化合物を含めて、好適な化合物群は、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−オクチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア（５６３の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−メチル−４，４−ジメチルペンチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア（５６４の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（５−メトキシインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア（５８１の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−メチルインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア（５８９の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（５−クロロインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア（５９５の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（６−メチルピリジン−２−イル）ピラゾール−３−イル）ウレア（６０５の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（ピロリジン−２−イル）ピラゾール−３−イル）ウレア（６１１の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（ｔ−ブチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア（６６２の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（ピラゾロ［５，４−ｂ］ピリジン−３−イル）ウレア（６１３の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（１−ヒドロキシメチルシクロペンチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア（５７２の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］−４−オキソイソインドリン−８−イル）−Ｎ−（５−（Ｎ−ｔーブチルーＮーメチルーアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア（５９６の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−４−イル）ピリジン−２−イル）ウレア（２５４の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−４−ピペリジル）ピリジン−２−イル）ウレア（２５５の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア（２５６の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−３−ピペリジル）ピリジン−２−イル）ウレア（２５７の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］−４−オキソイソインドリン−８−イル）−Ｎ−（４−（１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−アセチル−３−ピペリジル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（ピペリジノ［３，４−ｃ］ピリジン−６−イル）ウレア（３１７の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（ピロリジノ［３，４−ｃ］ピリジン−５−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（シクロヘキシルアミノエチル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−シクロヘキシルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア（１８０の化合物）、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア（１６５の化合物）、Ｎ’−（Ｎ−シクロペンチル−３−メチルイソインドリン−１−オン−４−イル）−Ｎ−（ピリジン−２−イル）ウレア（４２８の化合物）、Ｎ’−（３−ｔ−ブチルイソインドリノ［３，２−ｂ］オキサゾリジン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア（５２６の化合物）、Ｎ’−（２−メチルイソインドリノ［３，２−ｂ］ペルヒドロ−１，３−オキサジン−５−オン−９−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア（５４１の化合物）及びＮ’−（イソインドリノ［２，３−ｂ］ペルヒドロ−１，４−メタノ−６，１１ａ−ベンゾキサジン−１１−オン−７−イル）Ｎ−（ピリジン−２−イル）ウレア（４７６の化合物）等であり、中でも例えば Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−オクチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−メチル−４，４−ジメチルペンチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（５−メトキシインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−メチルインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（５−クロロインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−４−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−４−ピペリジル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（ピペリジノ［３，４−ｃ］ピリジン−６−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−シクロヘキシルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（３−ｔ−ブチルイソインドリノ［３，２−ｂ］オキサゾリジン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（２−メチルイソインドリノ［３，２−ｂ］ペルヒドロ−１，３−オキサジン−５−オン−９−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア及びＮ’−（イソインドリノ［２，３−ｂ］ペルヒドロ−１，４−メタノ−６，１１ａ−ベンゾキサジン−１１−オン−７−イル）Ｎ−（ピリジン−２−イル）ウレア等が特に好ましい。
次に、本発明の一般式（Ｉ）の化合物の製造方法について説明する。
一般式（Ｉ）の化合物は、以下の製造法Ａ、製造法Ｂ又は製造法Ｃにより製造することができる。
製造法Ａ
一般式（Ｉ）の化合物は、一般式（ＩＩＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ及びＺは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、Ｒ10又はＲ20及び／若しくはＲ30と一緒になって、ＣＨ又は窒素原子、Ｙは、ＣＯ、ＳＯ又はＳＯ２、Ｒ１０は、水素原子若しくは式：Ｙ３０−Ｗ２０−Ｙ４０−Ｒｓ０（式中、Ｒｓ０は、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ20は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｔ０、ＳＯ２ＮＲｔ０、Ｎ（Ｒｔ０）ＳＯ２ＮＲｕ０、Ｎ（Ｒｔ０）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｔ０）、ＣＯＮＲｔ０、Ｎ（Ｒｔ０）ＣＯ、Ｎ（Ｒｔ０）ＣＯＮＲｕ０、Ｎ（Ｒｔ０）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｔ０）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｔ０）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｖ０）＝ＣＲｒ０、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｔ０、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｔ０、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｔ０又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｔ０及びＲｕ０は、水素原子若しくは低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ３０及びＹ４０は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基、又は低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３０−Ｗ２０−Ｙ４０−Ｒｓ０（式中、Ｒｓ０、Ｗ２０、Ｙ３０及びＹ４０は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Ｘと共に窒素原子を形成し、Ｒ２０及びＲ３０は、同一又は異なって、独立して水素原子、保護されていてもよい水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式：Ｙ３０−Ｗ２０−Ｙ４０−Ｒｓ０（式中、Ｒｓ０、Ｗ２０、Ｙ３０及びＹ４０は、前記の意味を有する）で示される置換基であるか、Ｒ２０及びＲ３０の何れか一方が、Ｒ１０及びＸと共に一緒になって形成する、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和の５員ないし８員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに５員ないし７員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するＺと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するＺ、Ｒ１０及びＸと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ１０−Ｗ１０−Ｙ２０−Ｒｐ０（式中、Ｒｐ０は、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜１ないし３個、さらには
Figure 2011148811
 からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ１０は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｑ０、ＳＯ２ＮＲｑ０、Ｎ（Ｒｑ０）ＳＯ２ＮＲｒ０、Ｎ（Ｒｑ０）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｑ０）、ＣＯＮＲｑ０、Ｎ（Ｒｑ０）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑ０）ＣＯＮＲｒ０、Ｎ（Ｒｑ０）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｑ０）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｑ０）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｑ０）＝ＣＲｒ０、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑ０、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｑ０、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｑ０又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑ０及びＲｒ０は、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ１０及びＹ２０は、同一又は異なって、単結合又は該２環性若しくは３環性の縮合環を１個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和若しくは不飽和の５員ないし８員環基を形成し、Ｒ４０及びＲ５０は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、保護されていてもよい水酸基、保護されていてもよいアミノ基若しくは式：Ｙ３０−Ｗ２０−Ｙ４０−Ｒｓ０（式中、Ｒｓ０、Ｗ２０、Ｙ３０及びＹ４０は前記の意味を有する）で示される置換基又は低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３０−Ｗ２０−Ｙ４０−Ｒｓ０（式中、Ｒｓ０、Ｗ２０、Ｙ３０及びＹ４０は前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、式
Figure 2011148811
 は、単結合又は二重結合を示す］で表される化合物と、一般式（ＩＶ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ0は、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、
（１）低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに式：Ｙ１０−Ｗ１０−Ｙ２０−Ｒｐ０（式中、Ｒｐ０、Ｗ１０、Ｙ１０及びＹ２０は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、
（２）低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基及び低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基（以下、保護されていてもよい環上置換基と略す。）が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該保護されていてもよい環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される保護されていてもよい５員ないし７員環を形成する含窒素複素芳香環基又は
（３）式：Ｙ１０−Ｗ１０−Ｙ２０−Ｒｐ０（式中、Ｙ１０、Ｗ１０、Ｙ２０及びＲｐ０は前記の意味を有する）で表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される保護されていてもよい５員ないし７員環を形成する含窒素複素芳香環基を示す］で表される化合物とを反応させ、一般式（ＩＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ0、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、 Ｒ20、Ｒ30、Ｒ4０、Ｒ5０及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物とし、適宜保護基を除去することにより、一般式（Ｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒは、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、
（１）低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｒｐは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜１ないし３個、さらには
Figure 2011148811
 からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｑ、ＳＯ２ＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２ＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｑ）、ＣＯＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｑ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｑ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｑ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑ及びＲｒは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ１及びＹ２は、同一又は異なって、単結合又は該２環性若しくは３環性の縮合環を１個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、
（２）低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基及び低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基（以下、環上置換基と略す。）が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし７員環を形成する含窒素複素芳香環基又は
（３）式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｙ１、Ｗ１、Ｙ２及びＲｐは前記の意味を有する）で表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
Figure 2011148811
 からなる群より選択される５員ないし７員環を形成する含窒素複素芳香環基、Ｒ１は、水素原子若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ２は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｔ、ＳＯ２ＮＲｔ、Ｎ（Ｒｔ）ＳＯ２ＮＲｕ、Ｎ（Ｒｔ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｔ）、ＣＯＮＲｔ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＮＲｕ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｖ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｔ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｔ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｔ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｔ及びＲｕは、水素原子若しくは低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ３及びＹ４は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基、又は低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Ｘと共に窒素原子を形成し、Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は、前記の意味を有する）で示される置換基であるか、Ｒ２及びＲ３の何れか一方が、Ｒ１及びＸと共に一緒になって形成する、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和の５員ないし８員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに５員ないし７員環形成するか、又は一緒になって、スピロ低級アルキル基、結合するＺと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するＺ、Ｒ１及びＸと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｒｐ、Ｗ１、Ｙ１及びＹ２は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、
Figure 2011148811
 並びに
Figure 2011148811
 からなる群より選択される飽和若しくは不飽和の５員ないし８員環基を形成し、Ｒ４及びＲ５は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は前記の意味を有する）で示される置換基又は低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、Ｘ、Ｙ、Ｚ及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物とすることによって、製造することができる。
また、一般式（Ｉ）の化合物は一般式（ＩＩＩ）の化合物に対し、例えばトリクロロアセチル化又はｐ−ニトロフェノキシカルボニル化を行った後、一般式（ＶＩ）の化合物と反応させることによっても製造することができる。
一般式（ＩＩＩ）の化合物と一般式（ＩＶ）の化合物との反応は、一般式（ＩＩＩ）の化合物１モルに対して、一般式（ＩＶ）の化合物を好ましくは概ね１モル用いて行われる。
また、一般式（ＩＩＩ）の化合物に対するトリクロロアセチル化又はｐ−ニトロフェノキシカルボニル化は一般式（ＩＩＩ）の化合物１モルに対して、対応するハロゲン化物を１〜５モル、好ましくは概ね１モル用いて行われる。次いで、得られた一般式（ＩＩＩ）の化合物のトリクロロアセチル化物又はｐ−ニトロフェノキシカルボニル化物１モルに対し、一般式（ＶＩ）の化合物を１〜５モル、好ましくは概ね１モル用いて反応を行う。
反応は、通常、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、又はそれらの混合溶媒等不活性溶媒中で行われる。
反応温度は、使用される原料化合物に応じて適宜選択されるが、通常、０℃から反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは２０〜１００℃である。
反応時間は、通常、２０分〜２４時間、好ましくは１時間〜４時間で完結するが、適宜増減することができる。
なお、一般式（ＩＩＩ）の化合物及び一般式（ＩＶ）の化合物において例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の官能基又は当該官能基を含む例えばヒドロキシ低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基等の置換基が存在する場合、当該水酸基、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基等の置換基を、適宜、水酸基の保護基、アミノ基の保護基、カルボキシル基の保護基で保護した後に反応を行を行うことが好ましい。反応終了後に得られた一般式（ＩＩ）の化合物の当該保護基を除去することにより、一般式（Ｉ）の化合物を製造することができる。
水酸基の保護基としては、例えばｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基等の低級アルキルシリル基；例えばメトキシメチル基、２−メトキシエトキシメチル基等の低級アルコキシメチル基；例えばベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基等のアラルキル基；例えばホルミル基、アセチル基等のアシル基等が挙げられ、特にｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基等が好ましい。
アミノ基の保護基としては、例えばベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基等のアラルキル基；例えばホルミル基、アセチル基等のアシル基；例えばエトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等の低級アルコキシカルボニル基；例えばベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基等のアラルキルオキシカルボニル基等が挙げられ、特にｐ−ニトロベンジル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等が好ましい。
カルボキシル基の保護基としては、例えばメチル基、エチル基、ｔｅｒｔ −ブチル基等の低級アルキル基；例えばベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基等のアラルキル基等が挙げられ、特にメチル基、エチル基、ベンジル基等が好ましい。
保護基の除去はその種類及び化合物の安定性により異なるが、文献記載の方法［プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ），Ｔ．Ｗ．グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ）著、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ社（１９８１）年参照］又はそれに準ずる方法に従って、例えば酸又は塩基を用いる加溶媒分解、水素化金属錯体等を用いる化学的還元又はパラジウム炭素触媒、ラネーニッケル触媒等を用いる接触還元等により行うことができる。
一般式（Ｉ）の化合物が２環性の縮合環基を形成するときの１例に挙げられる例えばＲ2及びＲ3がＺと共にオキソ基を形成する化合物、即ち一般式（Ｉ’）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ、Ｘ、Ｙ、Ｒ1、Ｒ４及びＲ５は、前記の意味を有する］の化合物は、
一般式（ＩＶ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ0は、前記の意味を有する］で表される化合物と一般式（ＩＩＩ’）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ10、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物とを反応させて、一般式（ＩＩ’−ａ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ0、Ｘ、Ｙ、Ｒ10、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物とし、適宜保護基を除去することにより製造することができる。各工程の反応条件は、製造法Ａと同様に行うことができる。
なお、この製造法はＲ2及びＲ3が水素原子、アルキル基又はアルコキシ基である化合物の製造にも適用することができる。
製造法Ｂ
一般式（Ｉ）の化合物は、一般式（Ｖ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］で表される化合物と一般式（ＶＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ0は、前記の意味を有する］で表される化合物とを反応させ、一般式（ＩＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ0、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、 Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物とし、適宜保護基を除去することにより、一般式（Ｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ1、 Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物とし、製造することができる。
本製造法の工程は、製造法Ａの一般式（Ｉ）の化合物及び一般式（ＩＩ）の化合物を製造する工程の方法に準じて行うことができる。
製造法Ｃ
本製造法は、一般式（Ｉ）において、Ａｒがピラゾリル基である化合物の製造方法である。
即ち、一般式（ＶＩＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｌは、保護されていてもよい他の官能基に変換可能な官能基を有する反応性置換基、Ｔ10は、単結合又は適宜、保護された置換基を有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基、アリール基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基若しくはアラルキル基を含む変換可能な官能基を有するＡｒ０を示す］の化合物と一般式（ＶＩＩＩ）
Ｈ2Ｎ−ＮＨ−Ｒ60 （ＶＩＩＩ）
［式中、 Ｒ60は、水素原子又はアミノ基の保護基を示す］の化合物を反応させて、一般式（ＩＸ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｔ１０、Ｒ60及びＬは、前記の意味を有する］の化合物とし、該化合物、一般式（ＩＩＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、 Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物及びギ酸エステルの反応性誘導体を、適宜塩基の存在下に反応させて、一般式（Ｘ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｔ１０、Ｒ10、 Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50、Ｒ60、
式
Figure 2011148811
 及びＬは、前記の意味を有する］の化合物とした後、置換基Ｌの変換反応及び／又は保護基を除去することにより、一般式（Ｉ’’）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｔ１は、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基、アリール基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基若しくはアラルキル基を含む変換可能な官能基を有するＡｒ、Ｑは、Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐを示し（ここで、Ｗ１、Ｙ２及びＲｐは前記の意味を有する）、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ、Ｒ1、 Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を製造することができる。
一般式（ＶＩＩ）の化合物と一般式（ＶＩＩＩ）の化合物とを反応させて、一般式（ＩＸ）の化合物を製造する反応は、一般式（ＶＩＩ）の化合物１モルに対し、一般式（ＶＩＩＩ）の化合物１モルないし過剰モル、好ましくは２〜３モルを、例えばエタノール、ブタノール等のアルコール中で反応させることにより行うことができる。用いる一般式（ＶＩＩＩ）の化合物が酸との塩である場合、例えばトリエチルアミン等の塩基を一般式（ＶＩＩＩ）の化合物１モルに対し２〜５モル、好ましくは２〜３モルの存在下、一般式（ＶＩＩＩ）の化合物の遊離体を生成させることが好ましい。
反応温度は、通常、２０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは５０℃〜１５０℃であり、反応時間は、通常、１時間〜４８時間、好ましくは２時間〜２４時間である。
一般式（ＩＸ）の化合物、一般式（ＩＩＩ）の化合物及びギ酸エステルの反応性誘導体を、適宜塩基の存在下に反応させて、一般式（Ｘ）の化合物を製造する反応は、一般式（ＩＸ）の化合物１モルに対し、一般式（ＩＩＩ）の化合物を１モルないし過剰モル、好ましくは１〜３モルを用いる。ギ酸エステルの反応性誘導体は、一般式（ＩＸ）の化合物１モルに対し１モルないし過剰モル、好ましくは１〜３モルを、塩基はギ酸エステルの反応性誘導体に対し、１モルないし過剰モル、好ましくは１〜３モルを用いる。なお、ギ酸エステルの反応性誘導体とは、アミドカルボン酸エステルを生成しうるものであれば、特に限定されないが、具体的には例えばクロロギ酸ｐ−ニトロフェニル、クロロギ酸メチル等が挙げられる。
反応は通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；例えばジメチルホルムアミド、アセトン、酢酸エチル等の非プロトン性極性溶媒、又はその混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、一般式（ＩＸ）の化合物とギ酸エステルの反応性誘導体との反応では、通常、２０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは２０℃〜５０℃であり、反応時間は、通常、３０分間〜２４時間、好ましくは１時間〜２４時間である。この反応が完結した後、一般式（ＩＩＩ）の化合物と反応させる段階においては、通常、２０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは５０℃〜１００℃である。
さらに一般式（Ｘ）の化合物に金属錯体を触媒としてカルボキシル基を導入し、常法に従って例えばアミド体、エステル体等に誘導化した後、必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式（Ｉ’’）の化合物を製造することができる。
また、一般式（Ｘ）の化合物は、一般式（ＩＸ）の化合物、一般式（ＩＩＩ）の化合物及びギ酸エステルの反応性誘導体を使用する方法に代えて、例えば一般式（ＩＩＩ）の化合物を活性炭存在下においてジホスゲンと反応させイソシアネートとした後、一般式（ＩＸ）の化合物と反応させることによっても製造することができる。
反応は、通常不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては例えばテトラヒドロフラン等が挙げられる。
反応に用いる各試薬の量は、一般式（ＩＩＩ）の化合物１モルに対し、ジホスゲンを１モルないし過剰モル、好ましくは１モルであり、活性炭は５ｇ、一般式（ＩＸ）の化合物は１モルないし過剰モル、好ましくは１モルである。
反応温度は、通常、２０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは３０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常、３０分〜２４時間、好ましくは３０分〜６時間である。
一般式（Ｘ）の化合物の他の官能基に変換可能な官能基を有する反応性置換基Ｌを変換する工程は、例えばＲが芳香環でＬがハロゲン原子である場合、パラジウム錯体を触媒として、ホスフィン配位子及び塩基の存在下、一般式（Ｘ）の化合物と一酸化炭素とを例えばメタノール、エタノール等のアルコール溶媒中で反応させて、一般式（Ｘ）のエステルを生成した後、塩基性条件下で当該エステルを加水分解する方法が適用できる。
他の官能基に変換可能な官能基を有する反応性置換基とは、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エステル基、ハロゲン原子等の置換基が挙げられる。
反応に用いる各試薬の量は、一般式（Ｘ）の化合物１モルに対し、例えば酢酸パラジウム等のパラジウム錯体及び例えば１，１−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等のホスフィン配位子をそれぞれ５〜５０重量％、好ましくは１０〜２０重量％を用い、また例えば炭酸水素ナトリウム等の塩基は一般式（Ｘ）の化合物１モルに対し、２モル〜１０モル、好ましくは２モル〜３モル用いる。
反応温度は、通常、２０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは５０℃〜１００℃であり、反応時間は、通常、３０分間〜２４時間、好ましくは５時間〜２４時間である。
このようにして製造されたカルボン酸をさらに変換する方法は、後述するＡｒの置換基の変換方法と同様に行うことができる。
反応終了後、通常の処理を行った後、必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式（Ｉ’’）の化合物を製造することができる。
保護基の除去方法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。
次に、一般式（Ｉ）の化合物のＡｒ上の置換基の変換方法を説明する。
Ａｒは、前述したように、各種の置換基を有することができる。例えば製造法Ａ及び製造法Ｂに示すように、当初の原料化合物に所望の置換基を導入したものを使用すれば、所望の化合物を製造することができる。しかしながら、反応性、収率等を向上させるため、例えば−Ｔ１−ＯＲ７（ここにおいて、Ｒ７は、水酸基の保護基、Ｔ１は、前記の意味を有する）を有する一般式（ＩＩ）の化合物を製造した後、更に官能基の変換反応を行ったり（変換法Ａ）、或いは一般式（ＩＩ）の化合物のウレア部分を保護し、次いで所望の置換基を導入するため、例えば以下の変換法Ｂないし変換法Ｈに示すように各種変換反応を行うことができる。
変換法Ａ
本変換法は、当該ウレア部分を保護せずにＡｒ上の官能基の変換を行う方法である。各種の変換方法は、例えば一般式（ＩＩ−ｃ）
Figure 2011148811
 ［式中、ＡｒC0は、置換基：−Ｔ１−ＯＲ７（ここにおいて、Ｒ７及びＴ１は前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を示し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を出発物質として、一般式（ＩＩ−ｄ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒd0は、置換基：−Ｔ１−ＯＨ（ここにおいて、Ｔ１は前記の意味を有する）含む前記のＡｒ０を示し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物としたり、一般式（ＩＩ−ｄ）の化合物を有機合成化学においてよく知られた、アルコールをアミンへ変換する各種の合成方法を利用して、一般式（ＩＩ−ｅ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒe0は、置換基：−Ｔ１−ＮＨ２（ここにおいて、Ｔ１は前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を示し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物とする等が挙げられる。
水酸基の保護基の除去法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。
アルコールをアミンへ変換する各種の合成方法及び反応条件としては、例えばアゾジカルボン酸ジエチルエステル、トリフェニルホスフィン及びフタルイミド（又はジフェニルリン酸アジド）を用いる、いわゆる光延反応を行うか、又はトリエチルアミン等の塩基の存在下、塩化メタンスルホニル等のスルホニル化剤でスルホニル化し、次いで塩基の存在下、フタルイミド（又はアジ化ナトリウム）を作用させた後、得られたフタルイミド体（又はアジド体）をヒドラジンで処理（又は還元）する方法等が好ましい。
上記反応は通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、前記光延反応では、例えばテトラヒドロフラン、クロロホルム、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン等が、またスルホニル化及びフタルイミド（又はアジ化ナトリウム）を作用させる反応においては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ベンゼン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
また、ヒドラジンによるフタルイミド基の除去反応では、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類等が、さらにアジド体の還元反応において水素化金属錯体を用いる場合、例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類を、トリフェニルホスフィン等でホスフィン還元を行う場合、例えば含水テトラヒドロフラン等を、接触還元による還元では、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類等を使用することが好ましい。
使用される試薬の量は、例えば前記光延反応では、一般式（ＩＩ−ｄ）の化合物１モルに対し、アゾジカルボン酸ジエチルエステル、トリフェニルホスフィン及びフタルイミド（又はジフェニルリン酸アジド）がそれぞれ１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モルである。また、スルホニル化後、フタルイミド（又はアジ化ナトリウム）を反応させる反応では、一般式（ＩＩ−ｄ）の化合物１モルに対し、スルホニル化剤が１モルないし過剰モル、好ましくは１〜３モルであり、この際使用される塩基はスルホニル化剤に対し、１モルないし過剰モル、好ましくは１〜３モルである。次段階のフタルイミド（又はアジ化ナトリウム）を反応させる反応では、スルホニル化剤１モルに対し、フタルイミド及び塩基又はアジ化ナトリウムを１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モル使用する。ヒドラジンによるフタルイミド基の除去反応では、フタルイミド体１モルに対し、ヒドラジンが１モルないし過剰モル、好ましくは１〜１０モルであり、アジド体の水素化金属錯体又はトリフェニルホスフィンによる還元反応では、アジド体１モルに対し、還元剤が１モルないし過剰モル、好ましくは１〜２モルである。
前記光延反応では、反応温度は、通常、−７０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜５０℃であり、反応時間は、通常、５分間〜４８時間、好ましくは３０分間〜２４時間である。ヒドラジンによるフタルイミド基の除去反応の場合、反応温度は、通常、０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは２０℃〜１００℃であり、反応時間は、通常、５分間〜４８時間、好ましくは３０分間〜２４時間である。アジド体を還元してアミン体へ変換する反応では、還元剤として水素化金属錯体を用いる場合、反応温度は、通常、−７０℃〜１５０℃、好ましくは−２０℃〜５０℃であり、反応時間は、通常、５分間〜４８時間、好ましくは１０分間〜１０時間であり、また還元剤としてトリフェニルホスフィンを用いる場合、反応温度は、通常、２０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは３０℃〜１００℃であり、反応時間は、通常、１０分間〜４８時間、好ましくは３０分間〜２４時間である。接触還元による還元の場合、反応温度は、通常、０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜５０℃であり、反応時間は、通常、１０分間〜４８時間、好ましくは１０分間〜２４時間である。
反応終了後、通常の処理を行った後、必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式（ＩＩ−ｅ）の化合物を製造することができる。
一般式（ＩＩ−ｄ）の化合物の中で、一般式（ＩＩ−ｄ１）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒｄ１は、置換基：−Ｔ１−ＣＨ（Ｒｄ１）−ＯＨ（ここにおいて、Ｒｄ１は、水素原子、適宜、保護された置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アラルキル基、芳香環基、複素芳香環基又は窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく適宜置換基を有していてもよい飽和若しくは不飽和の脂肪族環基を意味し、Ｔ１は前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］で表される化合物について、酸化反応を行い、一般式（ＩＩ−ｄ２）
Figure 2011148811
［式中、Ａｒｄ２は、置換基：−Ｔ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｄ１（ここにおいて、Ｒｄ１及びＴ１は前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物とした後、還元的アミノ化を行い、一般式（ＩＩ−ｄ３）
Figure 2011148811
［式中、Ａｒｄ３は、置換基：−Ｔ１−ＣＨ（Ｒｄ１）−ＮＲｄ２Ｒｄ３（ここにおいて、Ｒｄ２及びＲｄ３は、どちらか一方が水素原子、又は同一若しくは異なって、適宜、保護された置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アラルキル基、芳香環基、複素芳香環基若しくは窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく適宜置換基を有していてもよい飽和若しくは不飽和の脂肪族環基を意味し、Ｒｄ１及びＴ１は前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を製造することができる。
一般式（ＩＩ−ｄ１）の化合物を酸化して一般式（ＩＩ−ｄ２）の化合物を合成する反応は、合成上一般によく知られた酸化反応を適用することができる。
一般式（ＩＩ−ｄ２）の化合物とＲｄ２Ｒｄ３ＮＨ（式中、Ｒｄ２及びＲｄ３は前記の意味を有する）で表される化合物との還元的アミノ化反応は、一般式（ＩＩ−ｄ２）の化合物１モルに対し、Ｒｄ２Ｒｄ３ＮＨを１モルないし過剰モル、好ましくは３〜５モル用い、還元剤として、例えば水素化ホウ素ナトリウム又は水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム等を１モルないし過剰モル、好ましくは３〜５モル用い、必要に応じてモレキュラーシーブス３Ａを一般式（ＩＩ−ｄ２）の化合物の重量の３倍量を加えて行う。
反応は、通常不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、クロロホルム、メタノール又はこれらの混合溶媒等が好ましい。反応温度は、２０℃から用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは２０〜６０℃である。
一般式（ＩＩ−ｄ１）の化合物から一般式（ＩＩ−ｄ２）の化合物を経て、一般式（ＩＩ−ｄ３）の化合物を合成する工程は、変換法Ｂに示すようにウレア部分を保護した後においても同様に行うことができる。
このようにして得られた一般式（ＩＩ−ｃ）の化合物、一般式（ＩＩ−ｄ）の化合物及び一般式（ＩＩ−ｅ）の化合物は、適宜保護基を除去することにより、一般式（Ｉ）の化合物を製造することができる。なお、保護基の除去方法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。
変換法Ｂ
本製造法は、当該ウレア部分を保護した後、変換を行う方法である。
一般式（ＸＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、ＡｒC0、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物は、
一般式（ＩＩ−ｃ）
Figure 2011148811
 ［式中、ＡｒC0は、置換基：−Ｔ１−ＯＲ6（ここにおいて、Ｒ6及びＴ１は前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物をｔｅｒｔ−ブチルアミン及びパラホルムアルデヒドから調製したイミン中で攪拌することにより製造し、本変換反応の原料化合物とすることができ、さらに一般式（ＸＩ）の化合物の水酸基の保護基を除去することにより、一般式（ＸＩＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒd0は、置換基：−Ｔ１−ＯＨ（ここにおいて、Ｔ１は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を製造することができる。
一般式（ＸＩ）の化合物を製造する反応は、一般式（ＩＩ−ｃ）の化合物１モルに対し、ｔｅｒｔ−ブチルアミン及びパラホルムアルデヒドから調製したイミンを３〜５モル、好ましくは４モルを用いて行う。
上記反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
反応温度は、通常、５０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは８０℃〜１５０℃であり、反応時間は、通常、１２時間〜７２時間、好ましくは２４時間〜７２時間である。必要に応じて、反応を促進させるために例えば硫酸等の鉱酸を１滴加えてもよい。
一般式（ＸＩＩ）の化合物は、一般式（ＸＩ）の化合物を用いて、前記変換法Ａの一般式（ＩＩ−ｃ）の化合物から一般式（ＩＩ−ｄ）の化合物を製造する工程の方法に準じて行うことができる。
一般式（ＸＩＩ）の化合物は、一般式（Ｉ）の化合物を製造するための鍵中間体であり、例えば以下の変換法Ｃないし変換法Ｅに示すように、一般式（ＸＩＩ）の化合物又はその誘導体を用いて、誘導化を行うことができる。
変換法Ｃ
一般式（ＸＩＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒd0、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物と一般式（ＸＩＩＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ2は１ないし２個のニトロ基により置換されたフェニル基を示し、Ｒ８は１ないし３個のメトキシ基により置換されたベンジル基を意味する］で表される化合物と反応させることにより、一般式（ＸＩＶ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒd1は、置換基：−Ｔ１−Ｎ（Ｒ８）ＳＯ2Ａｒ2（ここにおいて、Ｔ１、Ｒ８、Ａｒ2は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］で表される化合物を製造することができる。
反応は、一般式（ＸＩＩ）の化合物１モルに対して、一般式（ＸＩＩＩ）の化合物を１モルないし過剰モル、好ましくは１〜３モル用いて、光延反応の常法に従って行われる。例えばジエチルアゾジカルボキシレート等のアゾジカルボン酸のジエステルとトリフェニルホスフィン等のホスフィン類により一般式（ＸＩＩ）の化合物を活性化し、一般式（ＸＩＩＩ）の化合物と反応させることにより、一般式（ＸＩＶ）の化合物を得ることができる。
反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類又はそれらの混合溶媒等が挙げられる。
使用される試薬の量は、一般式（ＸＩＩ）の化合物１モルに対して、例えばジエチルアゾジカルボキシレート等のアゾジカルボン酸のジエステルと例えばトリフェニルホスフィン等のホスフィン類をそれぞれ１モルないし過剰モル、好ましくは１モル〜３モルである。
反応温度は、通常、０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは２０℃〜４０℃である。
反応時間は、通常、１時間〜２４時間、好ましくは２時間〜２４時間である。
反応終了後、通常の処理を行い、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の粗生成物を得ることができる。このようにして得られた一般式（ＸＩＶ）で表される化合物を、常法に従って精製し、一般式（ＸＩＶ）の化合物を得ることができる。
一般式（ＸＩＶ）の化合物から一般式（ＸＶ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒd2は、置換基：−Ｔ１−ＮＨＳＯ2Ａｒ2（ここにおいて、Ｔ１、Ａｒ2は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を生成する反応は、アミノ基の保護基の１種であるアラルキル基の通常の除去方法、例えば前記文献記載の方法に従って行われる。
一般式（ＸＶ）の化合物から一般式（ＸＶＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒd3は、置換基：−Ｔ１−Ｎ（Ｒq）ＳＯ2Ａｒ2（ここにおいて、Ｒq、 Ｔ１、Ａｒ2は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を生成する反応は、一般式（ＸＶ）の化合物１モルに対し、Ｒq−ＯＨ（ここにおいて、Ｒqは前記の意味を有する）を１モルないし過剰モル、好ましくは１〜３モル用いて、一般式（ＸＩＩ）の化合物と一般式（ＸＩＩＩ）の化合物との反応と同様な方法で行うことができ、従って、反応条件等も同様な条件を適用できる。
一般式（ＸＶＩ）の化合物から一般式（ＸＶＩＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒd4は、置換基：−Ｔ１−ＮＨＲq（ここにおいて、Ｒq、Ｔ１は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を生成する反応は、例えばアリールスルホンアミドの加水分解の常法に従って、例えばチオフェノール、炭酸ナトリウム等を使用して、不活性溶媒中で作用させることにより行うことができる。当該不活性溶媒としては例えばジメチルホルムアミド等が好ましい。
Ｒqに合成上、変換可能な置換基が存在する場合、一般式（ＸＶＩ）の化合物に対し、必要に応じて合成反応を行うことにより、適宜置換基を導入した後、一般式（ＸＶＩ）の化合物から一般式（ＸＶＩＩ）へ変換する反応と同様の条件を適用することができる。
反応温度は、通常、２０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは２０℃〜８０℃である。
反応時間は、通常、２時間〜４８時間、好ましくは２時間〜２４時間である。
一般式（ＸＶＩＩ）の化合物から一般式（ＩＩ−ｆ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒd4は、置換基：−Ｔ１−ＮＨＲq（ここにおいて、Ｒq、Ｔ１は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を生成する反応は、一般式（ＸＶＩＩ）の化合物に適当な酸、例えば塩酸、トリフルオロ酢酸等を作用させて行うことができる。必要であれば、テトラヒドロフラン、クロロホルム等の不活性溶媒と酸とを混合して反応を行うことができる。
また、一般式（ＸＶＩ）の化合物に対し、必要に応じてＲｑ上の置換基の変換反応を行うことにより、適宜置換基を導入した化合物に対しても同様の反応を行うことができる。
一般式（ＩＩ−ｆ）の化合物は、一般式（ＸＸＩＩＩ）の化合物に対し、還元的アミノ化を行うことによっても合成できる。この合成方法においては、還元的アミノ化反応の前後の適当な段階において、例えば、塩酸、トリフルオロ酢酸等で処理することにより、ウレア部分の保護基を除去することにより、一般式（ＩＩ−ｆ）の化合物を製造することができる。
本製造法の各工程における化合物中に保護基が存在する場合、それぞれ上記工程の適当な段階において、これらの保護基の除去を行い、最終的にすべての保護基を除去することにより、一般式（Ｉ）の化合物を製造することができる。
保護基の除去方法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。
変換法Ｄ
本変換は、変換法Ｃで製造した一般式（ＸＶＩＩ）の化合物を使用して、一般式（ＸＩＸ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒd5は、置換基：−Ｔ１−ＮＲq−Ｔ２−Ｒp（ここにおいて、Ｔ２は、カルボニル基又はスルホニル基を示し、Ｒp、Ｒq、Ｔ１、Ａｒ2は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物とし、次いで一般式（ＩＩ−ｇ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒd5は、置換基：−Ｔ１−ＮＲq−Ｔ２−Ｒp（ここにおいて、Ｔ１、Ａｒ2、Ｒp、Ｒq及びＴ２は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を製造するものである。
一般式（ＸＶＩＩ）の化合物から一般式（ＸＩＸ）を製造する反応は、一般式（ＸＶＩＩ）の化合物と一般式（ＸＶＩＩＩ）Ｒp−Ｔ２−ＯＨ［Ｒp及びＴ２は前記の意味を有する］で表されるカルボン酸、スルホン酸、又はそれらの反応性誘導体とを反応させることにより製造することができる。一般式（ＸＶＩＩＩ）のカルボン酸又はスルホン酸の反応性誘導体としては、例えば酸ハロゲン化物、混合酸無水物、活性エステル、活性アミド等が用いられる。
一般式（ＸＶＩＩＩ）のカルボン酸を用いる場合には、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、２−クロロ１、３−ジメチルイミダゾリルクロリド等の縮合剤の存在下、反応を行うことが好ましい。
一般式（ＸＶＩＩ）化合物と一般式（ＸＶＩＩＩ）の化合物との反応は、一般式（ＸＶＩＩ）の化合物１モルに対して、一般式［（ＸＶＩＩＩ）の化合物を１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モル用いて行われる。
反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；例えばジメチルホルムアミド、アセトン、酢酸エチル等の非プロトン性極性溶媒、又はそれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、通常、−２０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは０℃〜５０℃である。
反応時間は、通常、１０分間〜４８時間、好ましくは３０分間〜２４時間である。
また、上記反応は反応を円滑に進めるために塩基の存在下に行うことができる。当該塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、又は例えばトリエチルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基の存在下に行うことが好ましい。
当該塩基の使用量は、一般式（ＸＶＩＩＩ）の化合物１モルに対し、１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モルである。
一般式（ＸＶＩＩＩ）の酸ハロゲン化物は、一般式（ＸＶＩＩＩ）のカルボン酸又はスルホン酸を定法に従って、ハロゲン化剤と反応させることによって得ることができる。ハロゲン化剤としては、例えば塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、三臭化リン、オキザリルクロリド、ホスゲン等が用いられる。
一般式（ＸＶＩＩＩ）のカルボン酸の混合酸無水物は、一般式（ＸＶＩＩＩ）のカルボン酸を定法に従って、例えばクロロギ酸エチル等のクロロギ酸エステル；アセチルクロリド等の脂肪族カルボン酸クロリド等と反応させることにより得ることができる。
一般式（ＸＶＩＩＩ）のカルボン酸の活性エステルは、一般式（ＸＶＩＩＩ）のカルボン酸を定法に従って、例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド等の縮合剤の存在下、例えばＮ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール等のＮ−ヒドロキシ化合物；４−ニトロフェノール、ペンタクロロフェノール等のフェノール化合物等と反応させることにより得ることができる。
一般式（ＸＶＩＩＩ）のカルボン酸の活性アミドは、一般式［ｘｖｉｉｉ］のカルボン酸を定法に従って、例えば１，１’−カルボニルジイミダゾール、１，１’−カルボニルビス（２−メチルイミダゾール）等と反応させることにより得ることができる。
このようにして得られた一般式（ＸＩＸ）の化合物から適宜保護基を除去して、一般式（ＩＩ−ｇ）の化合物を得、更に保護基を除去することにより、一般式（Ｉ）の化合物を製造することができる。
一般式（ＸＩＸ）の化合物に適当な酸、例えば塩酸、トリフルオロ酢酸等を作用させて一般式（ＩＩ−ｇ）の化合物を製造することができる。必要であれば、例えばテトラヒドロフラン、クロロホルム等の不活性溶媒と酸とを混合して反応を行うことができる。
また、一般式（ＩＩ−ｇ）の化合物は、本製造法の方法に準じて、変換法Ａの一般式（ＩＩ−ｆ）の化合物を原料として製造することができる。
変換法Ｅ
本変換法は、一般式（ＸＩＩ）の化合物を使用して、一般式（ＸＸ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒh0は、置換基：−Ｔ１−ＯＲp（ここにおいて、Ｒp及びＴ１は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物とし、次いで一般式（ＩＩ−ｈ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒh0は、置換基：−Ｔ１−Ｏ−Ｒp（ここにおいて、Ｒp及びＴ１は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を製造するものである。
一般式（ＸＩＩ）の化合物を使用して一般式（ＸＸ）の化合物を製造する方法は、アルコールをエーテルへ変換する各種の合成方法及び反応条件が利用できる。例えばアリールエーテルの合成には、アゾジカルボン酸ジエチルエステル、トリフェニルホスフィンを用いてアリールアルコールと反応を行う、いわゆる光延反応を行うのが好ましい。また、アルキルエーテルの合成方法としては、例えば塩基の存在下、一般式（ＸＸＩ）Ｒp−ＯＨ（式中、Ｒpは、前記の意味を有する）のアルコールから得られるハロゲン化物（市販の試薬が入手できる場合は市販の試薬）又はスルホン酸エステル、例えばメタンスルホン酸エステルを反応させる方法等が挙げられる。さらにアルキルエーテル及びアリールエーテルの合成方法としては、例えば一般式（ＸＩＩ）の化合物をハロゲン化物あるいはスルホン酸エステルへ変換した後、塩基存在下、一般式（ＸＸＩ）Ｒp−ＯＨのアルコールと反応させる方法等が挙げられる。該アルコールから該ハロゲン化物への変換は、通常の方法、例えば四臭化炭素、トリフェニルホスフィンを四塩化炭素等の不活性溶媒中で反応させることにより得ることができる。また、スルホン酸エステル、例えばメタンスルホン酸エステルは、メタンスルホニルクロリドとトリエチルアミン等の塩基を酢酸エチル等の不活性溶媒中で反応を行うことにより得ることができる。
こうして得られた一般式（ＸＸ）の化合物を必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式（ＩＩ−ｈ）の化合物を製造することができる。
上記反応は通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、前記光延反応では、例えばテトラヒドロフラン、クロロホルム、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン等が、ハロゲン化においては、例えば四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、またスルホニル化においては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ベンゼン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド等が好ましい。
使用される試薬の量は、例えば前記光延反応では、一般式（ＸＩＩ）の化合物１モルに対し、アゾジカルボン酸ジエチルエステル、トリフェニルホスフィン及びアリールアルコールがそれぞれ１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モルである。また、一般式（ＸＸＩ）のアルコールをハロゲン化後、一般式（ＸＩＩ）の化合物を反応させる反応では、一般式（ＸＸＩ）のアルコール１モルに対し、ハロゲン化剤が１モルないし過剰モル、好ましくは１〜３モルであり、次段階の一般式（ＸＩＩ）の化合物を反応させる反応では、一般式（ＸＩＩ）の化合物１モルに対し、ハロゲン化物を１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モル、また塩基をハロゲン化物１モルに対し、１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モル使用する。さらに一般式（ＸＸＩ）のアルコールをスルホン酸エステルへ変換した後、一般式（ＸＩＩ）の化合物を反応させる反応では、一般式（ＸＸＩ）のアルコール１モルに対し、スルホニル化剤が１モルないし過剰モル、好ましくは１〜３モル、また塩基をスルホニル化剤１モルに対し、１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モル使用であり、次段階の一般式（ＸＩＩ）の化合物を反応させる反応では、一般式（ＸＩＩ）の化合物１モルに対し、スルホン酸エステルを１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モル、また塩基をスルホン酸エステル１モルに対し、１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モル使用する。
一般式（ＸＩＩ）の化合物をハロゲン化物あるいはスルホン酸エステルへ変換した後、塩基存在下、一般式（ＸＸＩ）のアルコールと反応させる場合も、上記に従って行うことができる。
前記光延反応では、反応温度は、通常、−７０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜５０℃であり、反応時間は、通常、５分間〜４８時間、好ましくは３０分間〜２４時間である。一般式（ＸＸＩ）のアルコールをハロゲン化後、一般式（ＸＩＩ）の化合物を反応させる反応では、反応温度は、通常、０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは２０℃〜１００℃であり、反応時間は、通常、５分間〜４８時間、好ましくは３０分間〜２４時間である。一般式（ＸＸＩ）のアルコールをスルホン酸エステルへ変換した後、一般式（ＸＩＩ）の化合物を反応させる反応では、反応温度は、通常、０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜３０℃であり、反応時間は、通常、５分間〜４８時間、好ましくは１０分間〜１０時間である。なお、一般式（ＸＩＩ）の化合物をハロゲン化物あるいはスルホン酸エステルへ変換した後、塩基存在下、一般式（ＸＸＩ）のアルコールと反応させる場合も、上記に従って行うことができる。
反応終了後、通常の処理を行った後、必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式（ＩＩ−ｈ）の化合物を製造することができ、更に全ての保護基を除去することにより、一般式（Ｉ）の化合物を製造することができる。
保護基の除去方法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。
変換法Ｆ
本変換法は、一般式（ＸＩＩ）の化合物を使用して、一般式（ＸＸＩＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒｉ０は、置換基：−Ｔ１−ＣＨＯ（ここにおいて、Ｔ１は、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］
の化合物とした後、一般式（ＸＸＩＩＩ）
Figure 2011148811
 [式中、Ａｒｉ2は、置換基：−Ｔ１−ＣＨ＝Ｒｖ（ここにおいて、Ｔ１は、前記の意味を有し、Ｒｖは、エステル基を示す）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を製造するものである。
反応は、一般式（ＸＩＩ）の化合物１モルに対し、二酸化マンガンを１モルないし過剰モル、好ましくは２０モル用いて行い、一般式（ＸＸＩＩ）の化合物とした後、例えば，ジアルキルホスホノ酢酸エステルと適当な塩基、例えば、水素化ナトリウムをそれぞれ１モルないし過剰モル、好ましくは３〜５モル用いて反応を行い、一般式（ＸＸＩＩＩ）の化合物を得ることができる。
反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等が挙げられる。
反応温度は、一般式（ＸＩＩ）の化合物から一般式（ＸＸＩＩ）の化合物を合成する反応においては、通常、０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは、２０℃から５０℃である。また、一般式（ＸＸＩＩ）の化合物から一般式（ＸＸＩＩＩ）の化合物を合成する反応においては、通常、−７８℃〜２０℃、好ましくは−７８℃〜０℃である。
一般式（ＸＸＩＩＩ）の化合物に対し、反応性ジエン化合物とのディールス・アルダー反応、又は一般的によく知られた１、３双極子付加反応を行った後、酸で処理することにより、一般式（ＩＩ−ｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒｉ２は、置換基：−Ｔ１−Ｃｙ（ここにおいて、Ｔ１は、前記の意味を有し、Ｃｙは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、ヘテロ原子を含んでもよい脂肪族環基を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を製造することができる。
反応に用いる各試薬の量は、一般式（ＸＸＩＩＩ）の化合物１モルに対し、反応性ジエン化合物１モルないし過剰モル、好ましくは１０モルである。
上記反応は通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、又はアセトニトリル等が好ましい。
反応温度は、０℃〜反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは２０℃〜１２０℃である。
反応後、得られた化合物に対し、一般式（ＸＶＩＩ）の化合物から一般式（ＩＩ−ｆ）の化合物を製造する工程と同様の条件を適用することにより、一般式（ＩＩ−ｉ）の化合物を製造することができる。
変換法Ｇ
一般式（ＸＸＩＶ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒｊ0は、置換基：−Ｓｎ−Ｒｗ３（ここにおいて、Ｒｗは、低級アルキル基を示す）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物に対し、一般式（ＸＸＶ）
Ｒｘ−Ｌ１ （ＸＸＶ）
［式中、Ｒｘは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、Ｌ１が結合する炭素原子が不飽和結合を有する環式若しくは非環式であってもよい、脂肪族基、芳香環基又は複素芳香環基、Ｌ１はハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示す］の化合物を反応させることにより、一般式（ＩＩ−ｊ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒｊ１は、置換基：−Ｒｘ（ここにおいて、Ｒｘは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、Ａｒｊ１と結合する炭素原子が不飽和結合を有する環式若しくは非環式であってもよい、脂肪族基、芳香環基又は複素芳香環基を示す）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を製造することができる。
反応は、一般式（ＸＸＩＶ）の化合物１モルに対し、一般式（ＸＸＶ）の化合物を１モルないし過剰モル、好ましくは１〜３モル用い、例えばトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（Ｐｄ２（ｄｂａ）３）等のパラジウム触媒、例えばトリフェニルホスフィン等のホスフィン配位子を加え、及び必要に応じて塩化リチウムを添加して、不活性ガス中にて行う。
反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、例えばトルエン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。反応温度は、２０℃から用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは５０〜１３０℃である。
変換法Ｈ
一般式（ＸＩＩ−ｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒｋ０は、置換基：−（ＣＨ２）２−ＯＨを含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物から一般式（ＸＸＶＩ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒｋ１は、置換基：−ＣＨ＝ＣＨ２を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を合成した後、該化合物と一般式（ＸＸＶＩＩ）
Ｒｙ−ＳＨ （ＸＸＶＩＩ）
［ここにおいて、Ｒｙは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、脂肪族基又は芳香環基を示す］の化合物とを反応させ、一般式（ＩＩ−ｋ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒｋ２は、置換基：−（ＣＨ２）２−ＳＲｙ（ここにおいて、Ｒｙは、前記の意味を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を製造することができる。
一般式（ＸＩＩ−ｉ）の化合物から一般式（ＸＸＶＩ）の化合物を合成する反応において、一般式（ＸＩＩ−ｉ）の化合物１モルに対し、例えば塩化メタンスルホニルを１ないし過剰モル、好ましくは１〜３モルを用い、適当な塩基、例えば１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）等の脂肪族第３級アミンを１ないし過剰モル、好ましくは１〜３モルを用いて行う。
反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等が挙げられる。反応温度は、２０℃から用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは２０〜５０℃である。
一般式（ＸＸＶＩ）の化合物から一般式（ＩＩ−ｋ）の化合物を合成する反応において、一般式（ＸＸＶＩ）の化合物１モルに対し、Ｒｙ−ＳＨを１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モル用い、ナトリウムエトキシド等の塩基を１モルないし過剰モル、好ましくは１〜５モル加えて、反応終了後、塩酸等の酸で処理することにより一般式（ＩＩ−ｋ）の化合物を得る。
反応は、通常、例えばメタノール、エタノール等のアルコール中で行う。
反応温度は、０℃から用いる反応の沸点、好ましくは０〜５０℃である。
一般式（ＸＸＶＩ）の化合物に対し、一般式（ＸＸＩＩＩ）の化合物から一般式（ＩＩ−ｉ）の化合物を合成する工程と同様の反応を行い、一般式（ＩＩ−ｉ’）
Figure 2011148811
 [式中、Ａｒｉ３は、置換基：−Ｔ１−Ｃｙ'（ここにおいて、Ｔ１は、前記の意味を有し、Ｃｙ'は、適宜、保護された置換基を有していてもよく、ヘテロ原子を含んでもよい脂肪族環基を有する）を含む前記のＡｒ０を意味し、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物を製造することができる。反応は、一般式（ＸＸＩＩＩ）の化合物から一般式（ＩＩ−ｉ）の化合物を合成する工程と同様の条件により行うことができる。
次に、本発明の原料化合物の製造法について説明する。
本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、前記の通り、主として一般式（ＩＩＩ）の化合物及び一般式（ＩＶ）の化合物並びに一般式（Ｖ）の化合物及び一般式（ＶＩ）の化合物を原料化合物として使用して製造することができる。これらの原料化合物は、公知化合物からそれ自体公知の一般的な合成手法を利用して、製造することができるが、主要な製造ルートを以下に説明する。
一般式（ＩＩＩ）の化合物は、合成法Ａないし合成法Ｊの方法により、一般式（ＩＶ）の化合物は、合成法Ｋないし合成法Ｍの方法により、一般式（Ｖ）の化合物は、合成法Ｎの方法により、製造することができる。
製造法Ａで使用する一般式（ＩＩＩ）の化合物の内、Ｘが窒素原子で、ＹがＣ＝Ｏの化合物、即ち一般式（ＩＩＩ−ｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ１は窒素原子、Ｙ１はＣＯを示し、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物は、以下の合成法Ａで製造することができる。
合成法Ａ
一般式（１）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｑは、ハロゲン原子を示し、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］で表されるカルボン酸を活性誘導体に導き、該活性誘導体（１’）と一般式（２）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ１、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30及びＺは、前記の意味を有する］の化合物とを反応し、一般式（３）
Figure 2011148811
 ［式中、 Ｘ１、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50、Ｑ及びＺは、前記の意味を有する］の化合物とした後、パラジウム錯体を触媒として用いて、この化合物を分子内閉環反応に付すことにより、一般式（４）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ１、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及びＺは、前記の意味を有する］の化合物とし、次いで還元剤を作用させることにより製造することができる。
一般式（１）のカルボン酸の活性誘導体（１’）と一般式（２）の化合物との反応は、前記変換法Ｄで一般式（ＸＶＩＩ）の化合物から一般式（ＸＩＸ）の化合物を製造する工程と同様な方法で行うことができ、従って反応条件等も同様な条件が適用できる。
一般式（３）の化合物から一般式（４）の化合物を製造する反応は、一般式（３）の化合物１モルに対し、例えばテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム錯体を５〜５０重量％、好ましくは１０〜２０重量％、及び例えば酢酸カリウム等の塩基を２モル〜１０モル、好ましくは２モル〜５モル用いて行われる。
反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類； 例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；例えばジメチルホルムアミド、アセトン、酢酸エチル等の非プロトン性極性溶媒又はそれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、通常、２０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは５０℃〜１００℃であり、反応時間は、通常、３０分間〜２４時間、好ましくは５時間〜２４時間である。
一般式（ＩＩＩ−ｉ）の化合物は、一般式（４）の化合物を適当な条件を選択することにより、Ｒ20がＲ10及びＸと形成する５員又は６員環が不飽和である化合物（ＩＩＩ−ｉａ）及び飽和である化合物（ＩＩＩ−ｉｂ）を製造することができる。
反応は、一般式（４）の化合物１モルに対し、例えば塩酸酸性条件下で鉄粉を５モル〜２０モル、好ましくは５モル〜１０モルを作用することにより、不飽和である化合物（ＩＩＩ−ｉａ）を、また一般式（４）の化合物１モルに対し、例えば１０％パラジウム炭素触媒を５〜５０重量％、好ましくは１０％〜２０重量％用い、接触還元を行うことにより、飽和である化合物（ＩＩＩ−ｉｂ）を得ることができる。
反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、塩酸酸性条件下で鉄粉を作用させる反応においては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類が挙げられ、さらに接触還元に対しては例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；例えばメタノール、エタノール等のアルコール類又はそれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、通常、塩酸酸性条件下で鉄還元を行う場合、０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは２０℃〜５０℃であり、反応時間は、通常、３０分間〜２４時間、好ましくは３０分間〜２時間であり、接触還元に対しては０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは２０℃〜５０℃であり、反応時間は、通常、１時間〜４８時間、好ましくは５時間〜２４時間である。
反応終了後、通常の処理を行った後、必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式（ＩＩＩ）の化合物を製造することができる。
保護基の除去方法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。
製造法Ａの原料である、一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ２１は、水素原子又は水酸基、Ｒ31は、水素原子を示し、Ｒ10、Ｒ40、Ｒ50及びＸ１は、前記の意味を有する］で表される化合物（Ｘが窒素原子、ＹがＣＯ、Ｚが炭素原子の化合物）は、以下に示す製造法により製造することができる。
合成法Ｂ
一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）の化合物は、一般式（５）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物に対し、光延反応によりアルキル化を行った後、水素化ホウ素ナトリウムを用いて還元し、一般式（６）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ１、Ｒ10、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物とし、さらにパラジウム触媒による接触還元を行うことにより合成することができる。
一般式（５）の化合物の光延反応は、一般式（ＸＩＩ）の化合物から一般式（ＸＸ）の化合物を製造する方法と同様に行うことができる。光延反応の後、水素化ホウ素ナトリウムを用いる一般的に知られた還元方法を適用することにより、一般式（６）の化合物を合成する。
一般式（６）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）の化合物を合成する反応は、例えば水酸化パラジウム等のパラジウム触媒を用いて、接触還元を行う。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはテトラヒドロフラン、メタノール等が挙げられる。反応温度は、通常、２０℃から用いる溶媒の沸点、好ましくは２０〜５０℃である。
接触還元の反応条件を適宜、調節することにより、一般式（ＩＩＩ−ｉｉa）（ここにおいて、Ｒ２１は水素原子を示し、Ｘ１、Ｒ10、Ｒ31、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する）の化合物と、一般式（ＩＩＩ−ｉｉb）（ここにおいて、、Ｒ２１は水酸基を示し、Ｘ１、Ｒ10、Ｒ31、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する）の化合物とを合成することができる。
製造法Ａの原料である、一般式（ＩＩＩ−ｉｉｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｔ3は、単結合又は炭素数が１ないし３の、適宜、保護された置換基を有していてもよい、アルキル基若しくはアラルキル基、Ｒ１０ａ及びＲ２０ａは、同一又は異なって、適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和又は不飽和炭化水素基、Ｒ８０は、水素原子又はＲ２０ａ若しくはＴ3と結合して環構造を形成していてもよく、適宜、保護された置換基を有していてもよい飽和若しくは不飽和炭化水素基を示し、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］で表される化合物は、以下に示す製造法により製造することができる。
合成法Ｃ
一般式（ＩＩＩ−ｉｉｉ）の化合物は、一般式（５）の化合物に対し、一般式（７）
Ｒ１０ａ−ＣＨ（ＯＨ）−Ｔ3−ＣＯ−Ｒ２０ａ （７）
［式中、Ｔ3、Ｒ１０ａ及びＲ２０ａは、前記の意味を有する］の化合物を用いて光延反応を行った後、水素化ホウ素ナトリウムにより還元し、酸性条件において環化することにより、一般式（８）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｔ3、Ｒ１０ａ、Ｒ２０ａ、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物を合成した後、接触還元を行うことにより一般式（ＩＩＩ−ｉｉｉ’）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｔ3、Ｒ１０ａ、Ｒ２０ａ、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物を合成し、さらにＲ８０−Ｌｉｉｉ（ここにおいて、Ｌｉｉｉはハロゲン原子を示す）を用いて置換基の導入を行い、一般式（ＩＩＩ−ｉｉｉ）の化合物を製造することができる。
一般式（５）の化合物の光延反応は、一般式（ＸＩＩ）の化合物から一般式（ＸＸ）の化合物を製造する方法と同様に行うことができる。光延反応の後、水素化ホウ素ナトリウムを用いる一般的に知られた還元方法により還元を行う。次いで、例えばトリフルオロ酢酸、酢酸又はギ酸等の有機酸を加えて、テトラヒドロフラン等の不活性溶媒中で反応を行うことにより、一般式（８）の化合物を合成することができる。
反応温度は、２０℃から用いる不活性溶媒の沸点まで、好ましくは７０〜１３０℃である。
一般式（８）の化合物の接触還元は、一般式（６）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）の化合物を合成する反応と同様な条件を適用して行い、一般式（ＩＩＩ−ｉｉｉ’）の化合物を製造することができる。
一般式（ＩＩＩ−ｉｉｉ’）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｉｉｉ）の化合物へ変換する工程は、合成上、一般によく知られたアミノ基の保護基、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等で保護した後、適当な塩基、例えばリチウムヘキサメチルジシラジド等の存在下、Ｒ８０−Ｌｉｉｉと反応させ、アミノ基の保護基を除去することにより一般式［（ＩＩＩ−ｉｉｉ）の化合物を製造することができる。
アミノ基の保護は、通常の条件に従うことができる。
Ｒ８０−Ｌｉｉｉとの反応は、一般式（ＩＩＩ−ｉｉｉ’）の化合物の保護体１モルに対し、Ｒ８０−Ｌｉｉｉを１モルから過剰モル、好ましくは３モル用い、リチウムヘキサメチルジシラジド等の塩基を１モルから過剰モル、好ましくは３モル用いて行う。反応温度は、−７８〜２０℃が好ましい。なお、アミノ基の保護基の除去方法は、通常の方法に従うことができる。
一般式（８）の化合物は、一般式（９）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物を還元して、一般式（１０）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物とした後、一般式（１１）
Ｒ１０ａ−ＣＨ（ＮＨ２）−Ｔ３−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ２０ａ （１１）
［式中、Ｔ３、Ｒ１０ａ及びＲ２０ａは、前記の意味を有する］の化合物と反応させることによっても合成することができる。
一般式（９）の化合物の還元は、一般式（９）の化合物１モルに対し、水素化ホウ素ナトリウムを０．５モル用い、例えばテトラヒドロフラン等の不活性溶媒中で行うのが好ましい。反応温度は、０℃以下、好ましくは−７８℃である。
一般式（１０）の化合物と一般式（１１）の化合物との反応は、一般式（１０）の化合物１モルに対し、一般式（１１）の化合物を１モルないし過剰量、好ましくは１モル用いて、モレキュラーシーブ４Ａを、一般式（１０）の化合物の重量の３倍量を加えて行う。
反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等が好ましい。
反応温度は、２０℃から用いる不活性溶媒の沸点まで、好ましくは１００〜１２０℃である。
製造法Ａの原料である、一般式（ＩＩＩ−ｉｖ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ２０ｂは、適宜、保護されていてもよい置換基を有する、低級アルキル基又はアラルキル基を示し、Ｒ10、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物は、一般式（６）の化合物を原料として、以下の方法により合成できる。
合成法Ｄ
一般式（６）の化合物をＲ２０ｂ−ＯＨ（Ｒ２０ｂは、前記の意味を有する）と反応させた後、接触還元を行うことにより、一般式（ＩＩＩ−ｉｖ）の化合物を合成することができる。
一般式（６）の化合物とＲ２０ｂ−ＯＨとの反応は、一般式（６）の化合物をＲ２０ｂ−ＯＨに溶解し、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸を触媒量、好ましくは、一般式（６）の化合物１モルに対し、ｐ−トルエンスルホン酸を０．１モル添加して行う。
反応温度は、２０℃から用いるＲ２０ｂ−ＯＨ（Ｒ２０ｂは、前記の意味を有する）の沸点まで、好ましくは、９０〜１００℃である。
次いで、一般式（６）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）の化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式（ＩＩＩ−ｉｖ）の化合物を合成することができる。
一般式（ＩＩＩ−ｉｖ）の化合物を原料として、製造法Ａに従って合成される一般式（ＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ−ｉｖ’）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ10、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物と一般式（ＩＶ）の化合物から合成される一般式（ＩＩ）の化合物に対して、一般式（６）の化合物とＲ２０ｂ−ＯＨとの反応と同様の条件を適用することによっても製造することができる。
製造法Ａの原料である、一般式（ＩＩＩ−ｖ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｔ4は、適宜、保護された置換基を有していてもよい、炭素数１ないし２のアルキレン基を示し、Ｒ10ａ、Ｒ20ａ、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物は、一般式（１）の化合物を、ヒドラジドとした後、環化し、一般式（１２）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物とした後、一般式（１３）
Ｒ１０ａ−ＣＨ（Ｌａ）−Ｔ4−ＣＨ（Ｌａ）−Ｒ２０ａ （１３）
［式中、Ｌａは、ハロゲン原子を示し、Ｔ4、Ｒ10ａ及びＲ20ａは、前記の意味を有する］の化合物と反応を行い、次いで接触還元を行うことにより合成することができる。
合成法Ｅ
一般式（１）の化合物のヒドラジドは、一般式（１）の化合物と一般式（２）の化合物との反応と同様に行うことができ、従って、一般式（１）の化合物を同様の条件を用いて活性化した後、ヒドラジンと反応させることにより合成することができる。
用いる試薬の量は、一般式（１）の化合物に対し、ヒドラジンを１モルから過剰量、好ましくは１〜３モルである。
反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等が好ましい。
反応温度は、２０℃から用いる不活性溶媒の沸点まで、好ましくは、２０〜５０℃である。
このようにして得られたヒドラジドは、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒中で加熱することにより、一般式（１２）の化合物を合成できる。
一般式（１２）の化合物と一般式（１３）の化合物との反応は、一般式（１２）の化合物１モルに対し、一般式（１３）の化合物を１モルから少過剰、好ましくは１モルを用い、例えばジメチルホルムアミド等の不活性溶媒中で行う。通常、塩基を加える必要はないが、適宜、例えばトリエチルアミン等の第３級アミンの存在下で反応を行うことができる。
反応温度は、通常、室温から用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは１００〜１２０℃である。
上記反応を行った後、一般式（６）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）の化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式（ＩＩＩ−ｉｖ）の化合物を合成することができる。
製造法Ａの原料である一般式（ＩＩＩ−ｖｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ10、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物の合成は、一般式（１２）の化合物を原料として以下に示す方法により行うことができる。
合成法Ｆ
一般式（ＩＩＩ−ｖｉ）の化合物は、一般式（１２）の化合物に対し、一般式（１４）
Ｒ１０−Ｌａ （１４）
［式中、Ｌａは前記の意味を有する］の化合物と反応させた後、接触還元を行うことにより合成できる。
一般式（１２）の化合物と一般式（１４）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｖｉ）の化合物を合成する反応は、一般式（１２）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｖ）の化合物を合成する反応と同様の条件を適用して行うことができる。
製造法Ａの原料である一般式（ＩＩＩ−ｖｉｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｐ１は、水酸基の保護基を示し、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物は、一般式（１）の化合物を原料として以下に示す方法により行うことができる。
合成法Ｇ
一般式（１）の化合物とアミノマロン酸ジエチルエステルとからアミド化合物を合成した後、環化し、次いで塩基性条件下で脱炭酸反応を行う。得られた化合物のエステル基を還元し、新たに生じた水酸基を適当な保護基を用いて保護した後、接触還元を行うことにより、一般式（ＩＩＩ−ｖｉｉ）の化合物を合成することができる。
一般式（１）の化合物とアミノマロン酸ジエチルエステルとの反応は、一般式（ＸＶＩＩ）の化合物から一般式（ＸＩＸ）の化合物を合成する工程と同様の条件を適用して行うことができる。
環化反応は、適当な塩基、例えば、水素化ナトリウムを用いて行う。反応に用いる試薬の量は、アミド化合物１モルに対し、水素化ナトリウムを１モルから過剰モル、好ましくは１〜３モルを用いる。
反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシド等が挙げられる。反応温度は、０℃から用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは２０〜１００℃である。
次いで行う脱炭酸反応は、適当な塩基、例えば水酸化ナトリウムを、環化体１モルに対し、１モルから過剰モル、好ましくは３〜５モル用いて行う。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはエタノール等のアルコール類が好ましい。反応温度は、２０℃から用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは５０〜１００℃が好ましい。
エステルの還元は、合成に一般的に用いられるエステルの還元方法、例えば、水素化ホウ素ナトリウムを用いて行うことができる。用いる試薬の量は、エステル体１モルに対し、水素化ホウ素ナトリウムを１モルから過剰モル、好ましくは３〜１０モルである。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはメタノール、エタノール等が好ましい。反応温度は、０℃から２０℃、好ましくは０℃である。
新たに生じた水酸基の保護基としては、製造法Ａに挙げたものを用いることができるが、好ましくはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基等である。反応条件は、一般によく知られた条件を適用することができる。
上記反応を行った後、一般式（６）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）の化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式（ＩＩＩ−ｖｉｉ）の化合物を合成することができる。
製造法Ａの原料である、一般式（ＩＩＩ−ｖｉｉｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ１０ａは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和又は不飽和炭化水素基、Ｒ２０ｃは、水素原子又は適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和若しくは不飽和炭化水素基を示し、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物は、一般式（１）の化合物を原料として、下記に示す方法により合成することができる。
合成法Ｈ
一般式（１）の化合物をエステル化し、該エステル化合物と一般式（１５）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒｚは、メチル基又はエチル基を示し、Ｒ２０ｃは、前記の意味を有する］の化合物とのカップリング反応を行い、一般式（１６）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒｚ、Ｒ２０ｃ、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物を得る。次いで、一般式（１６）の化合物をＲ１０ａ−ＮＨ２（Ｒ１０ａは、前記の意味を有する）を用いてアミド化し、酸性条件下で環化を行った後、アルコキシ基及びニトロ基を順次還元して、一般式（ＩＩＩ−ｖｉｉｉ）の化合物を合成することができる。
一般式（１）の化合物をメタノール中、少量の濃硫酸を加えて加熱し、メチルエステルとする反応は、合成上、一般的によく知られた条件を用いて行う。
上記メチルエステル体と一般式（１５）の化合物との反応は、メチルエステル体１モルに対し、一般式（１５）の化合物を１から過剰モル、好ましくは１〜３モル用い、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム錯体を触媒量、好ましくは３〜５モル％用いて行う。
反応は、通常、不活性溶媒中において行い、当該不活性溶媒としてはテトラヒドロフラン等が挙げられる。反応温度は、５０〜用いる溶媒の沸点、好ましくは７０〜１００℃である。
一般式（１６）の化合物とＲ１０ａ−ＮＨ２のアミド化は、一般式（ＸＶＩＩ）の化合物から一般式（ＸＩＸ）の化合物を合成する工程と同様の条件を適用して行うことができる。
上記反応により得られるアミド体の環化反応は、酸成条件下、例えば濃塩酸とエタノール等の不活性溶媒との混合溶媒中において行う反応温度は、２０℃から用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは２０〜５０℃である。
アルコキシ基の還元は、例えばトリエチルシランを用いて、適当な酸を加えて行うことができる。用いる試薬の量は、環化体１モルに対し、トリエチルシランを１モルから過剰モル、好ましくは３〜５モル、添加する酸としては、例えば三フッ化ボランのエーテル錯体を１モルから過剰モル、好ましくは３〜５モルを用いる。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、例えばクロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。反応温度は、０〜５０℃、好ましくは２０℃である。
ニトロ基の還元反応は、一般式（６）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）の化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式（ＩＩＩ−ｖｉｉｉ）の化合物を合成することができる。
一般式（ＩＩＩ−ｖｉｉｉ’）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ２０ｃ１は、水素原子を示し、Ｒ１０ａ、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物を原料として、製造法Ａに従って合成される、一般式（ＩＩ−ｖｉｉｉ’）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ０、Ｒ１０ａ、Ｒ２０ｃ１、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］で表される化合物は、以下の方法によっても合成することができる。
一般式（ＩＩＩ−ｖｉｉ）の化合物を一般式（１４）と反応させた後、一般式（ＩＶ）の化合物を用いて製造法Ａに従い、一般式（ＩＩ−ｖｉｉｉ’’）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ０、Ｒ１０ａ、Ｐ１、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］で表される化合物を得る。次いで、水酸基の保護基を除去し、メタンスルホン酸エステル化後、塩基性条件下で処理を行い、接触還元することにより、一般式（ＩＩ−ｖｉｉｉ’）の化合物を合成することができる。
一般式（ＩＩ−ｖｉｉｉ’’）の化合物の水酸基の保護基を除去は、合成上、一般によく知られた方法を適用することができる。例えば、保護基がｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等である場合、濃塩酸を用いてメタノール中で反応を行うことができる。
メタンスルホン酸エステル化は、上記反応において得られたアルコール体１モルに対し、トリエチルアミンを１モルから過剰モル、好ましくは、１〜３モル、塩化メタンスルホニルを１モルから過剰モル、好ましくは、１〜３モル用いて行う。続く塩基処理に用いる塩基としては、例えば１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）等を１モルから過剰モル、好ましくは、１〜３モル用いて行う。反応は、通常、不活性溶媒中にて行い、当該不活性溶媒としてはジメチルホルムアミド等が好ましい。反応温度は、０〜５０℃、好ましくは０〜２０℃である。
上記反応により得られた化合物に対し、一般式（６）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）の化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式（ＩＩ−ｖｉｉｉ’）の化合物を合成することができる。
製造法Ａの原料である、一般式（ＩＩＩ−ｉｘ’）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ１０ｃは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和又は不飽和炭化水素基を示し、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物及び一般式（ＩＩＩ−ｉｘ’’）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ１０ｃ、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物は、一般式（１７）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］で表される既知化合物又は当該既知化合物から自体公知の方法で製造される化合物を原料として下記の方法により合成することができる。
合成法Ｉ
一般式（１７）の化合物とＲ１０ｃ−ＯＨ［式中、Ｒ１０ｃは前記の意味を有する］とを用いて光延反応を行った後、接触還元を行うことにより、一般式（ＩＩＩ−ｉｘ’）の化合物と一般式（ＩＩＩ−ｉｘ’’）の化合物とを合成することができる。
一般式（１７）の化合物の光延反応は、一般式（ＸＩＩ）の化合物から一般式（ＸＸ）の化合物を製造する方法と同様に行うことができる。
上記反応により得られた化合物の接触還元は、一般式（６）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）の化合物を合成する反応と同様な条件を適用して行い、適当な条件で精製分離することにより、一般式（ＩＩＩ−ｉｘ’）の化合物と一般式（ＩＩＩ−ｉｘ’’）の化合物とを合成することができる。
製造法Ａの原料である、一般式（ＩＩＩ−ｘ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ１０ｄは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和又は不飽和炭化水素基を示し、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物は、合成法Ｉにおける中間体である、一般式（１８）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ１０ｃ、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物を原料として下記の方法により合成することができる。
合成法Ｊ
一般式（１８）の化合物を還元し、一般式（１９）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ40及びＲ50は、前記の意味を有する］の化合物とし、Ｒ１０ｄ−ＯＨ［式中、Ｒ１０ｃは、前記の意味を有する］と光延反応を行った後、接触還元を行うことにより、一般式（ＩＩＩ−ｘ）の化合物を合成することができる。
一般式（１８）の化合物の還元は、水素化ホウ素ナトリウムを、一般式（１８）の化合物１モルに対し、１モルから過剰モル、好ましくは３〜５モル用いて行う。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはテトラヒドロフラン等が好ましい。反応温度は、０℃から５０℃、好ましくは２０℃である。
一般式（１９）の化合物の光延反応は、一般式（ＸＩＩ）の化合物から一般式（ＸＸ）の化合物を製造する方法と同様に行うことができる。
次いで、一般式（６）の化合物から一般式（ＩＩＩ−ｉｉ）の化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式（ＩＩＩ−ｘ）の化合物を合成することができる。
なお、一般式（１）の化合物、一般式（５）の化合物及び一般式（１５）の化合物は公知化合物であるか、公知化合物を利用して自体公知の化学的手法により、製造することができる。
次に、製造法Ａのもう一方の原料化合物である一般式（ＩＶ）の化合物の製造法について説明する。一般式（ＩＶ）の化合物は、以下の合成法Ｋないし合成法Ｍにより、製造することができる。
合成法Ｋ
一般式（ＩＶ）の化合物は、一般式（２０）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ’は、低級アルキル基を示し、Ａｒ0は、前記の意味を有する］で表されるエステルをヒドラジンで処理した後、亜硝酸を作用させることにより、一般式（ＩＶ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ0は、前記の意味を有する］の化合物を製造することができる。
一般式（２０）の化合物をヒドラジンで処理した後、亜硝酸を作用させて一般式（ＩＶ）の化合物へ変換する反応において、用いる各試薬の量は、一般式（２０）のエステル１モルに対し、ヒドラジンは１モル〜１０モル、好ましくは３モル〜５モルであり、次段階の亜硝酸を作用させる反応で一般式（２０）のエステル１モルに対し、亜硝酸ナトリウムが１モル〜５モル、好ましくは３モル〜５モルであり、１Ｎ塩酸は亜硝酸ナトリウム１モルに対し、１Ｌ〜５Ｌ、好ましくは１Ｌ〜３Ｌである。
反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、ヒドラジンとの反応に対しては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類等が挙げられ、また亜硝酸を作用させる反応では、例えば水；例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、又はそれらの混合物が挙げられる。
反応温度は、通常、ヒドラジンとの反応に対しては０℃ないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは２０℃〜５０℃であり、反応時間は、通常、１時間〜４８時間、好ましくは５時間〜２４時間であり、また亜硝酸を作用させる反応では、０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜２０℃であり、反応時間は、通常、３０分間〜５時間、好ましくは３０分間〜２時間である。
なお、一般式（２０）の化合物は、公知化合物であるか、エステルの合成法の定法に従って、製造することができる。
合成法Ｌ
一般式（ＩＶ−ｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ’’及びＲ’’’は、それぞれが結合する炭素原子と共に、窒素原子を包含してもよく、適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和若しくは不飽和の５員又は６員環基を示す］の化合物は、公知化合物である、１，２，４−トリアジン−５−カルボン酸エチルエステルを原料として、一般式（２１）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ’’及びＲ’’’は、前記の意味を有する］の化合物を合成した後、合成法Ｋに従い製造することができる。
１，２，４−トリアジン−５−カルボン酸エチルエステルを一般式（２２）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｒ’’及びＲ’’’は、前記の意味を有する］の化合物と反応を行い、一般式（２１）の化合物を得る。
反応に用いる試薬の量は、１，２，４−トリアジン−５−カルボン酸エチルエステル１モルに対し、一般式（２２）の化合物を１モルから過剰モル、好ましくは１から５モルである。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはクロロホルム等が挙げられる。反応温度は、２０℃から用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは２０〜７０℃である。
一般式（２１）の化合物から一般式（ＩＶ−ｉ）の化合物を合成する反応は、合成法Ｋの一般式（２０）の化合物から一般式（ＩＶ）の化合物を製造する工程と同様に行い、一般式（ＩＶ−ｉ）の化合物を製造することができる。
合成法Ｍ
一般式（ＩＶ−ｉｉ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ１０は、置換基：−Ｓｎ（ｎ−Ｂｕ）３を含む前記のＡｒ０を示す］の化合物は、一般式（２３）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ１０ｉは、置換基：−Ｘ１０（ここにおいて、Ｘ１０はハロゲン原子を意味する）を含む前記のＡｒ０を示し、Ｒ’は、前記の意味を有する］の化合物を原料として合成することができる。
一般式（２３）の化合物を、パラジウム錯体、例えばテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムを触媒として、ヘキサ−ｎ−ブチルジチンと反応させることにより、一般式（２４）
Figure 2011148811
 ［式中、Ａｒ１０及びＲ’は、前記の意味を有する］の化合物を合成した後、合成法Ｋに従い製造することができる。
一般式（２３）の化合物とヘキサ−ｎ−ブチルジチンとの反応において、一般式（２３）の化合物１モルに対し、ヘキサ−ｎ−ブチルジチンを１モルから過剰モル、好ましくは１．５〜３モル用い、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム錯体を０．０５〜０．２モル、好ましくは０．１モルを用いる。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはジオキサン等が挙げられる。反応温度は、５０℃から用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは７０〜１３０℃である。
一般式（２４）の化合物から一般式（ＩＶ−ｉｉ）の化合物を合成する反応は、合成法Ｋの一般式（２０）の化合物から一般式（ＩＶ）の化合物を製造する工程と同様に行い、一般式（ＩＶ−ｉｉ）の化合物を製造することができる。
次に、製造法Ｂの原料化合物である一般式（Ｖ）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物の製造法について説明する。一般式（Ｖ）の化合物は、以下の合成法Ｎの方法で製造することができる。
合成法Ｎ
一般式（Ｖ）の化合物は、一般式（２５）
Figure 2011148811
 ［式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ10、Ｒ20、Ｒ30、Ｒ40、Ｒ50及び式
Figure 2011148811
 は、前記の意味を有する］の化合物をクロリドとした後、アジ化ナトリウムを作用させることにより生成することができる。
一般式（２５）のカルボン酸クロリドへ変換する工程は、一般式（２５）の化合物を、一般式（ＸＶＩＩＩ）から酸ハロゲン化物を製造する工程と同様な方法で行うことができ、従って反応条件等も同様な条件が適用できる。こうして得られた酸クロリド１モルに対し、アジ化ナトリウム１モル〜５モル、好ましくは１モル〜３モルを水又は必要であれば水とテトラヒドロフランの混合溶媒中で反応を行い、一般式（Ｖ）の化合物を得ることができる。
反応温度は、通常、０℃ないし５０℃まで、好ましくは０℃〜２０℃であり、反応時間は、通常、３０分間〜１２時間、好ましくは１時間〜５時間である。
また、製造法Ｂの他の原料化合物の一般式（ＶＩ）の化合物は、公知化合物であるか、アミノ化合物の合成法の定法に従って製造することができる。
次に、本発明の有用性を具体的に示すため、本発明品のＣｄｋ４及びＣｄｋ６活性並びに細胞増殖阻害に対する５０％阻害濃度（ＩＣ５０値）を求めた。
Ｃｄｋ４阻害作用
（１） サイクリンＤ１−Ｃｄｋ４及びサイクリンＤ２−Ｃｄｋ４の調製
まず、 Ｃｄｋ４及びその活性化因子サイクリンＤ１もしくはサイクリンＤ２それぞれのｃＤＮＡをバキュロウイルス発現ベクタ−に組み込み、組み換えバキュロウイルスを作製した。それを昆虫細胞Ｓｆ９に共感染させてサイクリンＤ１−Ｃｄｋ４又はサイクリンＤ２−Ｃｄｋ４活性複合体として高発現させた。その細胞を回収して可溶化した後、ＨＰＬＣカラムクロマトグラフィ−で精製した［ジ・エンボ・ジャ−ナル（ＥＭＢＯ Ｊ．）、第１５巻、７０６０−７０６９頁、（１９９６年）］。
（２）サイクリンＤ１−Ｃｄｋ４及びサイクリンＤ２−Ｃｄｋ４の活性測定
サイクリンＤ１−Ｃｄｋ４及びサイクリンＤ２−Ｃｄｋ４の活性測定において、基質はＲＢタンパク質のアミノ酸７７５番から７８７番に相当する合成ペプチド（Ａｒｇ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−Ｔｈｒ−Ｌｅｕ−Ｓｅｒ−Ｐｒｏ−Ｉｌｅ−Ｐｒｏ−Ｈｉｓ−Ｉｌｅ−Ｐｒｏ−Ａｒｇ）を用いた［ジ・エンボ・ジャ−ナル（ ＥＭＢＯ Ｊ．）、第１５巻、７０６０−７０６９頁、（１９９６年）］。
反応は北川等の方法［オンコジ−ン（Ｏｎｃｏｇｅｎｅ）、第７巻、１０６７−１０７４頁、（１９９２年）］を一部改変して行った。反応液量は２１．１ μlで、反応バッファ−（Ｒバッファー）の組成は２０ ｍＭ トリス−塩酸バッファ−（ｐＨ７．４）／１０ ｍＭ 塩化マグネシウム／４．５ ｍＭ 2−メルカプトエタノ−ル／１ ｍＭ エチレングリコールビス（β−アミノエチルエーテル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチック アシッド（ＥＧＴＡ）で、そこに精製したサイクリンＤ１−Ｃｄｋ４もしくはサイクリンＤ２−Ｃｄｋ４と１００ μMの基質ペプチドと５０ μＭの非標識アデノシン三リン酸（ＡＴＰ）および1 μＣｉの［ γ −３３Ｐ］標識ＡＴＰ（２０００−４０００ Ｃｉ／ｍｍｏｌｅ）を添加して、反応温度３０℃で４５分間反応させた。その後、１０ μlの３５０ ｍＭ リン酸バッファ−を反応系に添加して反応を停止させた。基質ペプチドをＰ８１ペ−パ−に吸着させた後、その放射活性を液体シンチレ−ションカウンタ−で測定した。［γ−３３Ｐ］標識ＡＴＰは第一化学薬品社から購入した。
被検化合物の反応系への添加は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）に溶解させた溶液を１．１ μl加えることによって行った。反応系へＤＭＳＯのみを１．１μl加えたものを対照群とした。
本発明化合物の代表化合物として実施例１３１、１６５、３２９、５７９を選択し、この化合物のサイクリンＤ１−Ｃｄｋ４又はサイクリンＤ２−Ｃｄｋ４活性に対するＩＣ５０値を求めた。その結果を下記の表に示す。
Figure 2011148811
本発明の化合物のサイクリンＤ１−Ｃｄｋ４又はサイクリンＤ２−Ｃｄｋ４阻害活性は、 Ｃｄｋ４阻害活性を有する公知の化合物（±）ｆｌａｖｏｐｉｒｉｄｏｌのそれと比較して著しく高いことは明らかである。
Ｃｄｋ６阻害作用
（１） サイクリンＤ１−Ｃｄｋ６及びサイクリンＤ３−Ｃｄｋ６の調製
サイクリンＤ１−Ｃｄｋ４と同様に、 Ｃｄｋ６及びその活性化因子サイクリンＤ１もしくはサイクリンＤ３それぞれのｃＤＮＡをバキュロウイルス発現ベクタ−に組み込み、組み換えバキュロウイルスを作製した。それを昆虫細胞Ｓｆ９に共感染させてサイクリンＤ１−Ｃｄｋ６又はサイクリンＤ３−Ｃｄｋ６活性複合体として高発現させた。その細胞を回収して可溶化した後、ＨＰＬＣカラムクロマトグラフィ−で精製した。
（２）サイクリンＤ１−Ｃｄｋ６及びサイクリンＤ３−Ｃｄｋ６の活性測定
サイクリンＤ１−Ｃｄｋ６の活性測定において、基質は合成ペプチド（Ｌｙｓ−Ａｌａ−Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｓｅｒ− Ｐｒｏ−Ｌｙｓ−Ｌｙｓ−Ａｌａ−Ｌｙｓ）を用い、サイクリンＤ３−Ｃｄｋ６の活性測定において、基質は合成ペプチド（Ａｒｇ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−Ｔｈｒ−Ｌｅｕ−Ｓｅｒ−Ｐｒｏ−Ｉｌｅ−Ｐｒｏ−Ｈｉｓ−Ｉｌｅ−Ｐｒｏ−Ａｒｇ）を用いた［ジ・エンボ・ジャ−ナル（ ＥＭＢＯ Ｊ．）、第１５巻、７０６０−７０６９頁、（１９９６年）］。
反応は北川等の方法［オンコジ−ン（Ｏｎｃｏｇｅｎｅ）、第７巻、１０６７−１０７４頁、（１９９２年）］を一部改変して行った。反応液量は２１．１ μlで、Ｒバッファーに精製したサイクリンＤ１−Ｃｄｋ６と４００ μMの基質ペプチド、もしくはサイクリンＤ３−Ｃｄｋ６と１００ μMの基質ペプチド、と５０ μＭの非標識ＡＴＰおよび1 μＣｉの［ γ −３３Ｐ］標識ＡＴＰ（２０００−４０００ Ｃｉ／ｍｍｏｌｅ）を添加して、反応温度３０℃で２０分間もしくは４５分間反応させた。その後、１０ μlの３５０ ｍＭ リン酸バッファ−を反応系に添加して反応を停止させた。基質ペプチドをＰ８１ペ−パ−に吸着させた後、その放射活性を液体シンチレ−ションカウンタ−で測定した。
本発明化合物の反応系への添加は、ＤＭＳＯに溶解させた溶液を１．１ μl加えることによって行った。反応系へＤＭＳＯを１．１ μl加えたものを対照群とした。
本発明化合物の代表化合物として実施例１３１、１６５、３２９、５７９を選択し、この化合物のサイクリンＤ１−Ｃｄｋ６又はサイクリンＤ３−Ｃｄｋ６活性に対するＩＣ５０値を求めた。その結果を下記の表に示す。
Figure 2011148811
この結果から本発明化合物が強いサイクリンＤ１−Ｃｄｋ６又はサイクリンＤ３−Ｃｄｋ６阻害活性を有することは明らかである。
細胞増殖抑制作用
（１）細胞培養の方法
臨床分離癌細胞株ＨＣＴ１１６は１０％牛胎児血清添加ダルベッコ変法イ−グル培地を用いて、臨床分離癌細胞株ＭＫＮ−１は１０％牛胎児血清添加ＲＰＭＩ１６４０培地を用いて３７℃で５％ ＣＯ２存在下、飽和水蒸気の環境にて培養した。
（２）細胞増殖抑制作用の測定
細胞増殖抑制作用は、スケハン（Ｓｋｅｈａｎ）等の方法［ジャ−ナル・オブ・ナショナル・キャンサ−・インスティテュ−ト（Ｊ． Ｎａｔｌ． Ｃａｎｃｅｒ Ｉｎｓｔ．）、第８２巻、１１０７−１１１２頁、（１９９０年）］を改変して測定した。 ＨＣＴ１１６あるいはＭＫＮ−１を生細胞数として１Ｘ１０３個含むそれぞれの細胞の培養用培地1００μｌずつを９６ウエル細胞培養用ディッシュに分注し、一晩培養した。翌日、まず化合物１３１および（±）ｆｌａｖｏｐｉｒｉｄｏｌのＤＭＳＯ溶液から、ＤＭＳＯによる希釈系列を調製した。次いでその希釈系列をあるいは薬剤非添加対照用としてＤＭＳＯのみをそれぞれの細胞の培養用培地に添加した。最後に、９６ウエルディッシュで培養した細胞に、各薬剤の希釈系列あるいはＤＭＳＯのみを添加した培養用培地を１００μｌずつ添加し、さらに３日間培養した。
各ウエルに５０％トリクロロ酢酸を５０ μｌずつ加えて細胞を固定した。０．４％スルホロ−ダミンBで細胞を染色した後、１０ ｍＭトリスバッファ−を用いてスルホロ−ダミンBを抽出した。４５０ ｎｍを対照波長として５６０ ｎｍにおける光学濃度を測定して対照群と比較した。実施例１３１の化合物と（±）ｆｌａｖｏｐｉｒｉｄｏｌ の細胞増殖５０％阻害濃度（ＩＣ５０）を求めた結果を以下の表に示した。
Figure 2011148811
本発明化合物は、Ｃｄｋ阻害作用を有する既知の化合物（±）ｆｌａｖｏｐｉｒｉｄｏｌと比較して明らかに強い細胞増殖阻害作用を示していることから、抗腫瘍剤として有用である。
従って、本発明化合物の治療効果が期待される好適な腫瘍としては、例えばヒトの大腸癌等が挙げられる。
本発明化合物は、抗腫瘍剤として使用される場合には、その薬学的に許容しうる塩としても使用することができる。薬学的に許容しうる塩の典型例としては、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩等を挙げることができる。
本発明の化合物の薬学的に許容しうる塩の製造法は、有機合成化学分野で通常用いられる方法を適宜組み合わせて行うことができる。具体的には、本発明化合物の遊離型の溶液をアルカリ溶液で中和滴定すること等が挙げられる。
本発明化合物を抗腫瘍剤として使用する際の投与形態としては各種の形態を選択でき、例えば錠剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤、液剤等の経口剤、例えば溶液、懸濁液等の殺菌した液状の非経口剤等が挙げられる。
固体の製剤は、そのまま錠剤、カプセル剤、顆粒剤又は粉末の形態として製造することもできるが、適当な添加物を使用して製造することもできる。該添加物としては、例えば乳糖、ブドウ糖等の糖類、例えばトウモロコシ、小麦、米等の澱粉類、例えばステアリン酸等の脂肪酸、例えばメタケイ酸ナトリウム、アルミン酸マグネシウム、無水リン酸カルシウム等の無機塩、例えばポリビニルピロリドン、ポリアルキレングリコール等の合成高分子、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム等の脂肪酸塩、例えばステアリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール類、例えばメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の合成セルロース誘導体、その他、水、ゼラチン、タルク、植物油、アラビアゴム等通常用いられる添加物等が挙げられる。
これらの錠剤、カプセル剤、顆粒剤、粉末等の固形製剤は、一般的には０．１〜１００重量％、好ましくは５〜１００重量％の有効成分を含むことができる。
液状製剤は、水、アルコール類又は例えば大豆油、ピーナツ油、ゴマ油等の植物由来の油等液状製剤において通常用いられる適当な添加物を使用し、懸濁液、シロップ剤、注射剤等の形態として製造することができる。
特に、非経口的に筋肉内注射、静脈内注射、皮下注射で投与する場合の適当な溶剤としては、例えば注射用蒸留水、塩酸リドカイン水溶液（筋肉内注射用）、生理食塩水、ブドウ糖水溶液、エタノール、静脈内注射用液体（例えばクエン酸、クエン酸ナトリウム等の水溶液）、電解質溶液（例えば点滴静注、静脈内注射用）等又はこれらの混合溶液が挙げられる。
又、これらの注射剤は予め溶解したものの他、粉末のまま又は適当な添加物を加えたものを用時溶解する形態もとることができる。これらの注射液は、通常０．１〜１０重量％、好ましくは１〜５重量％の有効成分を含むことができる。
又、経口投与の懸濁剤又はシロップ剤等の液剤は、０．５〜１０重量％の有効成分を含むことができる。
本発明の化合物の実際に好ましい投与量は、使用される化合物の種類、配合された組成物の種類、適用頻度及び治療すべき特定部位及び患者の病状によって適宜増減することができる。例えば、一日当りの成人一人当りの投与量は、経口投与の場合、１０ないし５００ｍｇであり、非経口投与、好ましくは静脈内注射の場合、１日当り１０ないし１００ｍｇである。なお、投与回数は、投与方法及び症状により異なるが、単回又は２ないし５回に分けて投与することができる。
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、もとより本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
実施例および参考例の薄層クロマトグラフィーは、プレートとしてＳｉｌｉｃａ ｇｅｌ６０Ｆ２５４（Ｍｅｒｃｋ）を、検出法としてＵＶ検出器を用いた。カラム用シリカゲルとしては、ＷａｋｏｇｅｌＴＭ Ｃ−３００又はＣ−２００（和光純薬）を用いた。高速液体クロマトグラフィーとしては、 ＨＰ１１００シリーズ（ヒューレット パッカード（ＨＰ））を用いた。 ＭＳスペクトルは、ＪＭＳ−ＳＸ１０２Ａ（日本電子（ＪＥＯＬ））又はＱＵＡＴＴＲＯ ＩＩ（マイクロマス）を用いて測定した。ＮＭＲスペクトルは、重クロロホルム溶液で測定する場合には、内部基準としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を用い、重メタノール溶液で測定する場合にはメタノールを、重ジメチルスルホキシド溶液で測定する場合にはジメチルスルホキシドを用い、 Ｇｅｍｉｎｉ−２００（２００ＭＨｚ；Ｖａｒｉａｎ）、Ｇｅｍｉｎｉ−３００（３００ＭＨｚ；Ｖａｒｉａｎ）、またはＶＸＲ−３００（３００ＭＨｚ；Ｖａｒｉａｎ）型スペクトロメータを用いて測定し、全δ値をｐｐｍで示した。
ＮＭＲ測定における略号の意味を以下に示す。
ｓ：シングレット
ｄ：ダブレット
ｄｄ：ダブル ダブレット
ｔ：トリプレット
ｄｔ：ダブル トリプレット
ｑ：クァルテット
ｍ：マルチプレット
ｂｒ：ブロード
Ｊ：カップリング定数
Ｈｚ：ヘルツ
ＣＤＣｌ３：重クロロホルム
Ｄ２Ｏ：重水
ＤＭＳＯ−ｄ６：重ジメチルスルホキシド
ＣＤ３ＯＤ：重メタノール
反応式等における略号の意味を以下に示す。
Ａｃ：アセチル基
Ｅｔ：エチル基
ｎ−Ｂｕ：ｎ−ブチル基
Ｂｎ：ベンジル基
ｎ−Ｐｒ：ｎ−プロピル基
ｉ−Ｐｒ：イソプロピル基
Ｍｅ：メチル基
Ｐｈ：フェニル基
Ｐｙ：ピリジル基
ＴＥＡ：トリエチルアミン
次に、本発明に係る実施例化合物を以下の表に具体的に例示する。
Figure 2011148811
Figure 2011148811
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実施例１
４−アミノ−９−フルオレノン２９ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）に２−ピリジンカルボニルアジド２２ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン０．５ｍｌ溶液を室温にて加え、反応液を２時間還流した。反応液を室温に戻しヘキサン、酢酸エチルの混合液を加えて結晶化した。得られた粗生成物を酢酸エチル、メタノールにて順次洗浄後濾取し、黄色粉末３４ｍｇ（実施例１の化合物）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．０７（１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，５．１Ｈｚ），７．３４−７．４５（４Ｈ，ｍ），７．６４−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．７８−７．８４（１Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１．２Ｈｚ），１０．０（１Ｈ，ｓ），１１．１（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：３１６（Ｍ＋１）＋．
実施例２−実施例８
実施例１の方法に準じて、実施例２ないし実施例８の化合物を製造した。
実施例２
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．３５（３Ｈ，ｓ），７．０２−７．１１（１Ｈ，ｍ），７．３４−７．４８（３Ｈ，ｍ），７．６０−７．７４（３Ｈ，ｍ），８．０２−８．２２（３Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｍ），８．９２（１Ｈ，ｍ），１２．１（１Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：３３０（Ｍ＋１）＋．
実施例３
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，８．０Ｈｚ），７．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ），７．３５−７．４６（３Ｈ，ｍ），７．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，５．６Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，７．３Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｓ），１１．８（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３３２（Ｍ＋１）＋．
実施例４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：３．２８（２Ｈ，ｓ），７．３６−７．４６（６Ｈ，ｍ），７．５６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．６２−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），８．０４−８．１４（２Ｈ，ｍ），８．４８（１Ｈ，ｓ），１１．８（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４２２（Ｍ＋１）＋．
実施例５
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．２３−７．２８（１Ｈ，ｍ），７．３９−７．４８（３Ｈ，ｍ），７．６５−７．７０（２Ｈ，ｍ），８．０７−８．１０（２Ｈ，ｍ），８．４８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１．６Ｈｚ），８．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）．
ｍａｓｓ：３６０（Ｍ＋１）＋．
実施例６
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．３５（３Ｈ，ｓ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），７．１５（１Ｈ，ｓ），７．３６−７．４９（３Ｈ，ｍ），７．６４−７．７４（２Ｈ，ｍ），８．０８−８．１５（２Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），１０．０（１Ｈ，ｓ），１１．３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：３３０（Ｍ＋１）＋．
実施例７
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３５−７．４５（３Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｓ），７．６２−７．６７（２Ｈ，ｍ），７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），１０．１（１Ｈ，ｓ），１０．４（１Ｈ，ｓ）．
実施例８
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．９７（６Ｈ，ｓ），６．４３（１Ｈ，ｓ），６．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２．０Ｈｚ），７．３３−７．４１（３Ｈ，ｍ），７．６２−７．６７（２Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），９．６３（１Ｈ，ｓ）．
実施例９
参考例１の化合物および２−アミノ−４−（Ｎ−エトキシカルボニル）アミノピリジンを用いて実施例２６と同様の手順で調製した化合物５０ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）をエタノール２ｍｌに溶解したところへ５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液２．０ｍｌ（１０ｍｍｏｌ）を室温で加え、反応液を１時間還流した。反応液を室温に戻し水を加えて酢酸エチル−テトラヒドロフランで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１００：０〜９５：５）で精製し黄色結晶８ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：６．１９（１Ｈ，ｓ），６．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），６．２８（２Ｈ，ｓ），７．３４−７．４１（３Ｈ，ｍ），７．６２−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），８．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），９．６６（１Ｈ，ｓ），１２．３（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３１（Ｍ＋１）＋．
実施例１０
実施例９の化合物３３ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン３ｍｌに溶解し、ｎ−ブチルアルデヒド２７μｌ（０．３０ｍｍｏｌ）およびトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム６３ｍｇ（０．３０ｍｍｏｌ）を室温で加え、同温度で反応液を６時間攪拌した。反応液に飽和重曹水を加え酢酸エチル−テトラヒドロフランで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム−テトラヒドロフラン、７０：３０）で精製し、黄色結晶２３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．３１−１．４０（２Ｈ，ｍ），１．４８−１．５３（２Ｈ，ｍ），２．９８−３．０２（２Ｈ，ｍ），６．１９（１Ｈ，ｓ），６．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１．９Ｈｚ），６．７９（１Ｈ，ｄｔ），７．３１−７．４０（３Ｈ，ｍ），７．６２−７．６８（２Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１．９Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），９．６０（１Ｈ，ｓ），１２．３（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３８７（Ｍ＋１）＋．
実施例１１
実施例８０（２）の化合物を用い、実施例８０（３）の方法に準じて参考例３の化合物にかわって４−アミノ−９−フルオレノンと反応を行い調製した化合物に対し、実施例８０（４）と同様の操作を行って、無色結晶２１ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＣＤＣｌ３）δ：４．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），５．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ），７．２８−７．６９（６Ｈ，ｍ），８．０５−８．２２（３Ｈ，ｍ），１０．０（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３４６（Ｍ＋１）＋．
実施例１２−実施例１７
実施例１の方法に準じて、実施例１２ないし実施例１７の化合物を製造した。
実施例１２
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．２８（３Ｈ，ｓ），７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．１６−７．４５（３Ｈ，ｍ），７．６３−７．７２（３Ｈ，ｍ），８．０４−８．１４（３Ｈ，ｍ），９．９２（１Ｈ，ｓ），１１．１（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３０（Ｍ＋１）＋．
実施例１３
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．３４−７．４７（３Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．６６（２Ｈ，ｍ），７．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９９（２Ｈ，ｍ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），１０．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３５０，３５２（Ｍ＋１）＋．
実施例１４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．３５−７．４８（３Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．６２−７．７２（２Ｈ，ｍ），７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），８．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．２Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），１０．１（１Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：３９４，３９６（Ｍ＋１）＋．
実施例１５
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．３６−７．５６（４Ｈ，ｍ），７．６４−７．７４（２Ｈ，ｍ），７．９６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．９４−８．０２（１Ｈ，ｍ），８．６０（１Ｈ，ｍ），９．１６（１Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：３６１（Ｍ＋１）＋．
実施例１６
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．３９−７．４９（６Ｈ，ｍ），７．６８−７．７３（３Ｈ，ｍ），７．９９−８．０８（３Ｈ，ｍ），８．２３−８．２６（１Ｈ，ｍ），８．８０（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３５９（Ｍ＋１）＋．
実施例１７
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．３７−７．４８（３Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６２−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２．３Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ｍａｓｓ：３６０（Ｍ＋１）＋．
実施例１８
（１）参考例１の化合物および２−アミノ−５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノピリジンを用いて実施例２６と同様の手順で調製した化合物０．６１３ｇ（１．４０ｍｍｏｌ）にトリフルオロ酢酸１０ｍｌを室温で加え、同温度で反応液を６時間攪拌した。反応液に飽和重曹水を加え酢酸エチル−テトラヒドロフランで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１００：０〜９０：１０）で精製し粗結晶０．４３１ｇを得た。このものをエーテルで洗浄し黄色結晶０．３０２ｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物３３ｍｇを用いて実施例１０の方法に準じて黄色結晶３．４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．９３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．３７−１．４３（２Ｈ，ｍ），１．５０−１．５７（２Ｈ，ｍ），２．９７−３．０３（２Ｈ，ｍ），５．５９（１Ｈ，ｔ），７．１１−７．１３（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．４５（３Ｈ，ｍ），７．６４−７．７０（３Ｈ，ｍ），８．１１−８．１６（２Ｈ，ｍ），９．６１（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３８７（Ｍ＋１）＋．
実施例１９−実施例２０
実施例２６の方法に準じて、実施例１９及び実施例２０の化合物を製造した。
実施例１９
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：３．８１（３Ｈ，ｓ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．３８−７．４７（４Ｈ，ｍ），７．６４−７．７０（４Ｈ，ｍ），８．０２−８．１３（３Ｈ，ｍ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），１０．１（０．３Ｈ，ｓ），１１．０（０．２Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４２２（Ｍ＋１）＋．
実施例２０
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．５１（３Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．２１−７．２７（１Ｈ，ｍ），７．４７−７．５９（３Ｈ，ｍ），７．７２−７．８４（３Ｈ，ｍ），８．００−８．０４（１Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１０．１（１Ｈ，ｓ），１１．３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：３３０（Ｍ＋１）＋．
実施例２１
参考例１の化合物及び２−アミノ−６−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノピリジンを用いて実施例１８（１）に準じて目的化合物を製造した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：６．０７−６．１０（２Ｈ，ｍ），６．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３４−７．４１（４Ｈ，ｍ），７．４６−７．４８（１Ｈ，ｍ），７．５２−７．５７（１Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），９．５５（１Ｈ，ｓ），１１．６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：３３１（Ｍ＋１）＋．
実施例２２
実施例２１の化合物を用いて実施例１０に準じて目的化合物を製造した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．６８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．０３−１．１５（２Ｈ，ｍ），１．３２−１．４２（２Ｈ，ｍ），２．９９−３．０５（２Ｈ，ｍ），６．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．３４−７．４０（３Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，６．４Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），９．５６（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３８７（Ｍ＋１）＋．
実施例２３−実施例２５
実施例２６の方法に準じて、実施例２３ないし実施例２５の化合物を製造した。
実施例２３
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．１６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．３６（３Ｈ，ｓ），２．７３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．３６−７．４７（３Ｈ，ｍ），７．５７−７．６８（３Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）．
ｍａｓｓ：３５８（Ｍ＋１）＋．
実施例２４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．２６（３Ｈ，ｓ），２．３４（３Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｓ），６．８９（１Ｈ，ｓ），７．３８−７．４３（３Ｈ，ｍ），７．６３−７．６８（２Ｈ，ｍ），７．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１．９Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），９．９２（１Ｈ，ｓ），１１．４−１１．５（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３４４（Ｍ＋１）．＋
実施例２５
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．３９（３Ｈ，ｓ），２．４１（３Ｈ，ｓ），６．９４（１Ｈ，ｓ），７．３７−７．４８（３Ｈ，ｍ），７．６０−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），８．１１（２Ｈ，ｂｒｓ），８．７７（０．７Ｈ，ｓ），９．０２（０．３Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３８７（Ｍ＋１）＋．
実施例２６
２−アミノピリミジン１３ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１ｍｌ）溶液に参考例１の化合物１．２５ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１ｍｌ）溶液を加え３０分還流した。析出した結晶を濾取しクロロホルムで洗浄後乾燥し目的化合物１０ｍｇを黄色結晶として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．２３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），７．３８−７．５０（３Ｈ，ｍ），７．６７−７．７２（２Ｈ，ｍ），８．０６−８．１０（２Ｈ，ｍ），８．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），１０．６（０．３Ｈ，ｓ），１１．６（０．３Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３１７（Ｍ＋１）＋．
実施例２７−実施例５３
実施例２６の方法に準じて、実施例２７ないし実施例５３の化合物を製造した。
実施例２７
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．３６−７．９５（９Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：３３３（Ｍ＋１）＋．
実施例２８
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：３．２８（３Ｈ，ｓ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．３６−７．９７（６Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．５３（１Ｈ，ｄ）．
ｍａｓｓ：３３１（Ｍ＋１）＋．
実施例２９
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．３８（３Ｈ，ｓ），２．５２（３Ｈ，ｓ），７．２７−７．３５（３Ｈ，ｍ），７．５３−７．５７（２Ｈ，ｍ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），９．００（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３７３（Ｍ＋１）＋．
実施例３０
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．２７（３Ｈ，ｓ），２．３８（３Ｈ，ｓ），７．３６−７．４８（３Ｈ，ｍ），７．６５−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７５−７．７８（１Ｈ，ｍ），７．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），９．０２（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：３４５（Ｍ＋１）＋．
実施例３１
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：３．３４（３Ｈ，ｓ），３．９２（３Ｈ，ｓ），７．３９−７．５１（４Ｈ，ｍ），７．６９−７．８１（３Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）．
ｍａｓｓ：３７７（Ｍ＋１）＋．
実施例３２
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．１９（３Ｈ，ｓ），５．９５（１Ｈ，ｂｒ），６．７５（１Ｈ，ｂｒ），７．３９−７．４４（２Ｈ，ｍ），７．４９−７．５２（１Ｈ，ｍ），７．６３−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．７８−７．８１（１Ｈ，ｍ），７．９４−７．９７（１Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：３４７（Ｍ＋１）＋．
実施例３３
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．７６，１．８９（３Ｈ，ｓｘ２），２．０１，２．１８（３Ｈ，ｓｘ２），７．３７−７．５０（５Ｈ，ｍ），７．６１−７．６７（２Ｈ，ｍ），７．７７−７．８０（１Ｈ，ｍ），７．９３−７．９７（１Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：３６１（Ｍ＋１）＋．
実施例３４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．４３−７．５３（３Ｈ，ｍ），７．６８−７．７３（２Ｈ，ｍ），７．９４−８．０２（２Ｈ，ｍ），８．３４−８．３９（２Ｈ，ｍ），８．９９（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３１７（Ｍ＋１）＋．
実施例３５
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：６．６０（１Ｈ，ｂｒｓ），７．３３−７．４９（７Ｈ，ｍ），７．６３−７．７５（４Ｈ，ｍ），７．９１−８．０５（２Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例３６
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：５．８５（２Ｈ，ｂｒｓ），７．３０−７．４５（５Ｈ，ｍ），７．６１−７．６９（２Ｈ，ｍ），８．１３−８．２０（１Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：３２１（Ｍ＋１）＋．
実施例３７
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．３４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．０５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．１８（１Ｈ，ｍ），７．３３−７．４６（４Ｈ，ｍ），７．６３−７．７３（３Ｈ，ｍ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）．
ｍａｓｓ：３３３（Ｍ＋１）＋．
実施例３８
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：６．４５（１Ｈ，ｓ），７．３１−７．４７（４Ｈ，ｍ），７．５４−７．６３（８Ｈ，ｍ），７．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｓ），８．９５（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例３９
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．３９（３Ｈ，ｓ），５．４５（１Ｈ，ｓ），６．４９−６．６１（４Ｈ，ｍ），６．６９−６．８５（８Ｈ，ｍ），７．９１（１Ｈ，ｂｒｓ），８．０６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：３９５（Ｍ＋１）＋．
実施例４０
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：６．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），６．５５−６．６６（４Ｈ，ｍ），６．８１−６．８５（２Ｈ，ｍ），７．００−７．０４（１Ｈ，ｍ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），８．０３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：３２２（Ｍ＋１）＋．
実施例４１
ｍａｓｓ：３３６（Ｍ＋１）＋．
実施例４２
ｍａｓｓ：４２２（Ｍ＋１）＋．
実施例４３
ｍａｓｓ：４０８（Ｍ＋１）＋．
実施例４４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．３１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３６−７．５０（４Ｈ，ｍ），７．６０−７．６９（１Ｈ，ｍ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４３７（Ｍ＋１）＋．
実施例４５
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．２９−７．５０（６Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｓ），７．６０−７．６６（２Ｈ，ｍ），７．８１−７．９４（４Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：３９８（Ｍ＋１）＋．
実施例４６
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．４０（２Ｈ，ｔ），７．４９（３Ｈ，ｄ），７．６０−７．６６（３Ｈ，ｍ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．９１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）．
ｍａｓｓ：４３２（Ｍ＋１）＋．
実施例４７
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．３５−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．４８−７．５２（１Ｈ，ｍ），７．６０−７．６６（２Ｈ，ｍ），７．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），８．２０−８．２８（３Ｈ，ｍ），８．３８−８．４４（２Ｈ，ｍ），８．８９−９．０２（０．２Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５０７（Ｍ＋１）＋．
実施例４８
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．４５（３Ｈ，ｓ），６．５１−６．７０（３Ｈ，ｍ），６．７９−６．９７（４Ｈ，ｍ），７．１３−７．３７（１Ｈ，ｍ），７．８０（０．３Ｈ，ｓ），８．２０（０．３Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３３６（Ｍ＋１）＋．
実施例４９
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．３６−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６１−７．６５（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）．
ｍａｓｓ：４００，４０２（Ｍ＋１）＋．
実施例５０
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．３５−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．６０−７．６７（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例５１
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．２５（１Ｈ，ｔ），７．４０（３Ｈ，ｔ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．６０−７．６８（３Ｈ，ｍ），７．８６−７．９３（３Ｈ，ｍ），９．１５（０．５Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３７２（Ｍ＋１）＋．
実施例５２
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．４９（３Ｈ，ｓ），６．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．５７−６．９０（７Ｈ，ｍ），７．００−７．０５（１Ｈ，ｂｒｍ），７．１０−７．１５（１Ｈ，ｂｒｍ）．
ｍａｓｓ：３８６（Ｍ＋１）＋．
実施例５３
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：６．４５（１Ｈ，ｄｔ），６．６０（２Ｈ，ｔ），６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．８０−６．９０（３Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（３Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：３９０（Ｍ＋１）＋．
実施例５４−実施例５５
実施例５４及び実施例５５の化合物は、実施例１の方法に準じて製造した。
実施例５４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．０７−７．１１（１Ｈ，ｍ），７．３４−７．３８（１Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｓ），７．７８−７．８４（２Ｈ，ｍ），７．９２−７．９５（１Ｈ，ｍ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｓ）．
実施例５５
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，５．１Ｈｚ），７．２０−７．２３（１Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７１−７．８０（２Ｈ，ｍ），８．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１．９Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），１２．０（０．４Ｈ，ｓ），１１．３（０．４Ｈ，ｂｒｓ），１２．６（ｂｒ）．
実施例５６
実施例５５の化合物５６ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン１５７ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）およびメタノール１９ｍｇ（０．６０ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド５ｍｌに溶解し、室温にてジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液（６０％）０．１７ｍｌ（０．６０ｍｍｏｌ）を加え、同温で３０分反応液を攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し水で洗浄した。有機層を分離し、析出した結晶を濾取して目的化合物４１ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：３．０３（３Ｈ，ｓ），７．０４−７．０９（１Ｈ，ｍ），７．１９（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，０．８Ｈｚ），７．７０−７．８１（２Ｈ，ｍ），８．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１．９Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（０．３Ｈ，ｓ），１２．７（０．３Ｈ，ｂｒ）．
実施例５７−実施例７４
実施例５７ないし実施例７４の化合物は、実施例５６の方法に準じて製造した。
実施例５７
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，５．０Ｈｚ），７．１９−７．２１（１Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．７１−７．８１（２Ｈ，ｍ），８．３９（１Ｈ，ｍ），８．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（０．３Ｈ，ｓ），１２．７（０．３Ｈ，ｂｒ）．
実施例５８
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．６２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．５３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，５．１Ｈｚ），７．２２（１Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７１−７．８１（２Ｈ，ｍ），８．３８（１Ｈ，ｍ），８．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），１０．２（０．３Ｈ，ｓ），１２．６（０．３Ｈ，ｂｒ）．
実施例５９
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．４２（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．３７−４．４２（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．０９（１Ｈ，ｍ），７．２１−７．２３（１Ｈ，ｂｒｍ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．７０−７．８１（２Ｈ，ｍ），８．３９（１Ｈ，ｍ），８．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），１０．２（０．２Ｈ，ｓ），１２．６（０．２Ｈ，ｂｒ）．
実施例６０
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２６−１．３６（２Ｈ，ｍ），１．５４−１．６３（２Ｈ，ｍ），３．５７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，５．０Ｈｚ，１．０Ｈｚ），７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．７１−７．８１（２Ｈ，ｍ），８．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１．８Ｈｚ），８．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），１０．２（１Ｈ，ｓ），１２．６（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例６１
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．４０−１．４７（２Ｈ，ｍ），１．６１−１．６８（２Ｈ，ｍ），３．３９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），３．５８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．３８（０．３Ｈ，ｍ），７．０４−７．０９（１Ｈ，ｍ），７．１９−７．２２（１Ｈ，ｍ），７．４１−７．４７（１Ｈ，ｍ），７．７１−７．８２（２Ｈ，ｍ），８．３４−８．３９（１Ｈ，ｍ），８．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），１０．２（０．５Ｈ，ｓ），１２．６（０．４Ｈ，ｂｒ）．
実施例６２
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：３．３４−３．４８（３Ｈ，ｍ），３．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．４３（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．０９（１Ｈ，ｍ），７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．７１−７．８１（２Ｈ，ｍ），８．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１．６Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（１Ｈ，ｓ），１２．６（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例６３
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．４２（２Ｈ，ｓ），７．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，５．１Ｈｚ），７．１８−７．２１（１Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７５−７．８３（２Ｈ，ｍ），８．３５−８．３８（１Ｈ，ｍ），８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（０．５Ｈ，ｓ），１２．７（０．４Ｈ，ｂｒ）．
実施例６４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：４．７８（２Ｈ，ｓ），７．０６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，５．０Ｈｚ，１．０Ｈｚ），７．１９−７．３６（６Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．７４−７．８０（２Ｈ，ｍ），８．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１．９Ｈｚ），８．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０，２（０．３Ｈ，ｓ），１２．６（０．３Ｈ，ｂｒ）．
実施例６５
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．９４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．８１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，５．０Ｈｚ），７．１５−７．３３（６Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７０−７．８１（２Ｈ，ｍ），８．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１．４Ｈｚ），８．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（０．３Ｈ，ｓ），１２．６（０．３Ｈ，ｂｒ）．
実施例６６
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：４．６１（２Ｈ，ｓ），６．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），６．９３−７．０９（４Ｈ，ｍ），７．１７−７．２２（１Ｈ，ｍ），７．４１−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７４−７．８０（２Ｈ，ｍ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ），８．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（０．５Ｈ，ｓ），１２．６（０．５Ｈ，ｂｒ）．
実施例６７
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：４．６２（２Ｈ，ｓ），６．４１−６．４６（３Ｈ，ｍ），６．９５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，５．０Ｈｚ），７．１９−７．２２（１Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．７４−７．８０（２Ｈ，ｍ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），８．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．２（０．３Ｈ，ｓ），１２．６（０．３Ｈ，ｂｒ）．
実施例６８
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：４．９１（２Ｈ，ｓ），７．０３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１．１Ｈｚ），７．１７−７．２９（２Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１．０Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．７３−７．８２（３Ｈ，ｍ），８．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１．５Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１．８Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（０．３Ｈ，ｓ），１２．６（０．２Ｈ，ｂｒ）．
実施例６９
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：４．８１（２Ｈ，ｓ），７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，５．０Ｈｚ），７．０９−７．２２（１Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，４．８Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．７２−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１．６Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｓ），８．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），１０．２（０．３Ｈ，ｓ），１２．６（０．３Ｈ，ｂｒ）．
実施例７０
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：４．８１（２Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，５．５Ｈｚ），７．１８−７．２１（１Ｈ，ｍ），７．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．７４−７．８１（２Ｈ，ｍ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ），８．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（０．４Ｈ，ｓ），１２．６（０．３Ｈ，ｂｒ）．
実施例７１
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：３．８２（３Ｈ，ｓ），４．８５（２Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１．１Ｈｚ），７．０７−７．２１（１Ｈ，ｍ），７．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７４−７．８０（２Ｈ，ｍ），７．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），８．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（０．２Ｈ，ｓ），１２．６（０．２Ｈ，ｂｒ）．
実施例７２
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．６５−１．６８（１Ｈ，ｂｒｍ），１．８２−１．９８（２Ｈ，ｂｒｍ），２．０４−２．１４（３Ｈ，ｂｒｍ），４．７２−４．７６（１Ｈ，ｂｒｍ），５．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１．２Ｈｚ），５．８２−５．８６（１Ｈ，ｍ），７．０３−７．０６（１Ｈ，ｂｒｍ），７．２１−７．２７（１Ｈ，ｂｒｍ），７．４２−７．４５（１Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ），８．３６（１Ｈ，ｂｒｓ），８．７２−８．７４（１Ｈ，ｍ），１０．２（０．４Ｈ，ｂｒｓ），１２．４（０．４Ｈ，ｂｒ）．
実施例７３
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．９３−１．１１（２Ｈ，ｂｒｍ），１．１３−１．１６（３Ｈ，ｂｒｍ），１．６３−１．７４（６Ｈ，ｂｒｍ），３．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１．１Ｈｚ），７．１９−７．２３（１Ｈ，ｂｒｍ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．７２−７．８２（２Ｈ，ｍ），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），８．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（０．５Ｈ，ｓ），１２．７（０．４Ｈ，ｂｒ）．
実施例７４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：２．２８（４Ｈ，ｍ），２．４９（４Ｈ，ｍ），４．４９（３Ｈ，ｓ），５．７６−５．８５（１Ｈ，ｍ），７．０４−７．０９（１Ｈ，ｍ），７．１７−７．２１（１Ｈ，ｂｒｍ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．７１−７．８０（２Ｈ，ｍ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），８．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．２（０．５Ｈ，ｓ），１２．６（０．５Ｈ，ｂｒ）．
実施例７９
参考例３の化合物及び２−ピリジンカルボニルアジドを用いて実施例１の方法に準じて目的化合物を製造した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０６−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．３０−２．４３（２Ｈ，ｂｒｍ），２．５２−２．５７（１Ｈ，ｍ），３．２８−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．５０−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，５．７Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，５．１Ｈｚ），７．２８−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．７６−７．８２（１Ｈ，ｍ），８．２９−８．３２（２Ｈ，ｍ），９．９５（１Ｈ，ｓ），１１．２（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３０９（Ｍ＋１）＋．
実施例８０
（１）４−ヒドロキシメチルピコリン酸エチルエステル２．００ｇ（１１．０ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド８０ｍｌに溶解し、イミダゾール１．８８ｇ（２７．０ｍｍｏｌ）、クロロ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシラン７．６０ｍｌ（２７．０ｍｍｏｌ）を室温にて加え、同温度で反応液を２時間攪拌した。反応液をヘキサン−酢酸エチル（１：１）で希釈し飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、９５：５〜７０：３０）で精製し、無色固体４．２７ｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物３．１４ｇ（７．４０ｍｍｏｌ）をメタノール６０ｍｌに溶解し、ヒドラジン１水和物１．８０ｍｌ（３７．０ｍｍｏｌ）を室温にて加え、同温度で反応液を１２時間攪拌した。反応液を濃縮し残渣をクロロホルムに溶解した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、有機層を濃縮して油状物を得た。このものは精製を行わずに次の反応に使用した。
（３）（２）で得られた化合物をクロロホルム１０ｍｌに溶解したところへ１Ｎ塩酸２２．２ｍｌ（２２．２ｍｍｏｌ）を室温にて加えた。この混合物を氷冷し、亜硝酸ナトリウム１．０２ｇ（１４．８ｍｍｏｌ）を同温度で加え、さらに反応液を同温度で３０分攪拌した。反応液をクロロホルムで抽出し、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。得られた残渣に参考例３の化合物０．６２２ｇ（３．３０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液を室温にて加え、反応液を１晩還流した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−テトラヒドロフラン、１０：０〜９：１）で精製し淡褐色不定形物２．０３ｇを得た。
（４）（３）で得られた化合物２．０３ｇ（３．３０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、フッ化テトラ―ｎ−ブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液（１．０Ｍ）６．６０ｍｌ（６．６０ｍｍｏｌ）を室温で加え、反応液を同温度で１時間攪拌した。反応液をテトラヒドロフラン、酢酸エチルで希釈し飽和食塩水で洗浄した。有機層を濃縮し、析出した淡黄色結晶を濾取した。濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１００：０〜９５：５）で精製し黄色結晶を得た。先に濾取した結晶とあわせて目的化合物１．０２ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０７−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．３１−２．４４（２Ｈ，ｍ），２．４５−２．５８（１Ｈ，ｍ），３．２８−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．５０−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），４．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，５．３Ｈｚ），５．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ），７．２６（１Ｈ，ｓ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），９．９６（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例８１
（１）参考例５の化合物３．５０ｇのテトラヒドロフラン（３５ｍｌ）溶液にフッ化テトラ―ｎ−ブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液（１．０Ｍ）７．１０ｍｌ（７．１０ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で１時間攪拌した。反応液を濃縮しエーテルで希釈した。水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過濃縮した。残渣をエーテルで洗浄後、乾燥し目的化合物を無色固体として１．６６ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０２−１．２２（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．３１（２Ｈ，ｂｒｍ），２．４６−２．６２（１Ｈ，ｍ），２．７０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．２２−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．４８−３．７１（３Ｈ，ｍ），４．７１（１Ｈ，ｂｒｔ），４．７９−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｓ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．８６（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３５３（Ｍ＋１）＋．
実施例８２
（１）実施例８０の化合物４５ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）をピリジン１ｍｌに溶解し、メタンスルホニルクロリド４０μｌ（０．５２ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で１時間攪拌した。反応液を１Ｎ塩酸で酸性にして酢酸エチル、テトラヒドロフランの混合液で抽出した。有機層を１Ｎ塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をジメチルホルムアミド１ｍｌに溶解し、室温にてアジ化ナトリウム８５ｍｇ（１．３ｍｍｏｌ）を加え、反応液を８０℃で３０分攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し濃縮して淡黄色固体３５ｍｇを得た。このものは精製を行わずに次の反応に使用した。
（２）（１）で得られた化合物３５ｍｇをメタノール−テトラヒドロフラン（５：２）７ｍｌに溶解し、室温にて１０％パラジウム炭素触媒５ｍｇを加えた。容器内を水素置換し、水素気流下室温で反応液を１晩攪拌した。反応液をセライトで濾過し濾液を濃縮した。析出した結晶を濾取して淡黄色結晶１３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０２−１．１０（１Ｈ，ｍ），２．２１−２．６０（４Ｈ，ｍ），３．４５−３．５２（２Ｈ，ｍ），４．０６−４．０９（２Ｈ，ｍ），４．７９−４．８５（１Ｈ，ｍ），５．１６−５．２０（１Ｈ，ｍ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），７．２０（１Ｈ，ｓ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．３９−７．４５（１Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１０．３（１Ｈ，ｂｒ），１１．７（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３８（Ｍ＋１）＋．
実施例８３
参考例９の化合物２６０ｍｇをメタノール−テトラヒドロフラン（１：１）１０ｍｌに溶解し、１０％パラジウム炭素触媒２００ｍｇを室温にて加えた。反応容器内を水素で置換し、反応液を同温度で１晩攪拌した。不溶物を濾過し濾液を濃縮して表題化合物１０５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．０１−１．２２（１Ｈ，ｍ），２．２８−２．４０（３Ｈ，ｂｒｍ），２．６２−２．７２（２Ｈ，ｍ），２．８０−２．８８（２Ｈ，ｍ），３．１８（２Ｈ，ｓ），３．４５−３．６０（２Ｈ，ｍ），４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．８Ｈｚ，６．２Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，ｓ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），９．９４（１Ｈ，ｂｒ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３５２（Ｍ＋１）＋．
実施例８４
（１）実施例８０の化合物１．０２ｇ（３．０２ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド−テトラヒドロフラン（１：８）９０ｍｌに溶解し、室温にて二酸化マンガン３．９２ｇ（４５．１ｍｍｏｌ）を加え、反応液を同温度で６時間攪拌した。反応液をセライトで濾過した。濾液を濃縮し、析出した結晶を濾取して黄色結晶０．２１１ｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物３４ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ）およびｎ−ブチルアミン２２ｍｇ（０．３０ｍｍｏｌ）をクロロホルム５ｍｌに溶解し、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム２１２ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で２４時間攪拌した。反応液を３Ｎ塩酸で中和しクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。析出した結晶を濾取して目的化合物１３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．０８−１．１７（１Ｈ，ｍ），１．２８−１．３８（２Ｈ，ｍ），１．４２−１．５１（２Ｈ，ｍ），２．３１−２．３９（３Ｈ，ｍ），２．４７−２．５４（２Ｈ，ｍ），２．５９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．５０−３．５７（１Ｈ，ｍ），３．８１（２Ｈ，ｓ），４．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，５．５Ｈｚ），７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．３１−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），９．９８（１Ｈ，ｓ），１１．２（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９４（Ｍ＋１）＋．
実施例８５−９４
実施例８５ないし実施例９４の化合物は、実施例８４に準じて製造した。
実施例８５
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．１１−１．１８（１Ｈ，ｍ），２．２２−２．４４（５Ｈ，ｍ），２．５８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），３．４６−３．５８（３Ｈ，ｍ），３．７３（２Ｈ，ｓ），４．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），４．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，５．６Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．２６（１Ｈ，ｓ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），９．９３（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３８２（Ｍ＋１）＋．
実施例８６
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０６−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．２８−２．４３（２Ｈ，ｍ），２．４８−２．６０（１Ｈ，ｍ），３．００（１Ｈ，ｂｒ），３．２８−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．５０−３．６０（１Ｈ，ｍ），３．７１（４Ｈ，ｓ），４．８３（１Ｈ，ｍ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．２９−７．３９（６Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），９．９７（１Ｈ，ｓ），１１．５（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４２８（Ｍ＋１）＋．
実施例８７
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０６−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．２９−２．４３（２Ｈ，ｍ），２．４９−２．６０（１Ｈ，ｍ），３．３２（２Ｈ，ｓ），３．４９（２Ｈ，ｓ），３．５３−３．６０（１Ｈ，ｍ），３．６４（２Ｈ，ｓ），４．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，５．６Ｈｚ），４．９１（２Ｈ，ｓ），６．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．２６（１Ｈ，ｓ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），９．９４（１Ｈ，ｓ），１１．５（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例８８
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０７−１．１８（１Ｈ，ｍ），２．３２−２．４４（２Ｈ，ｍ），２．５１−２．６６（５Ｈ，ｍ），３．２８−３．４０（２Ｈ，ｍ），３．５４−３．６１（１Ｈ，ｍ），３．７２（２Ｈ，ｓ），４．８２（３Ｈ，ｓ），６．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｓ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），９．９４（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４５７（Ｍ＋１）＋．
実施例８９
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．１２−１．２１（１Ｈ，ｍ），２．３３−２．４２（２Ｈ，ｍ），２．５０−２．５９（２Ｈ，ｍ），２．９０−３．１５（１Ｈ，ｂｒ），３．５１−３．５８（１Ｈ，ｍ），３．７０（２Ｈ，ｓ），３．７７（２Ｈ，ｓ），４．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，５．６Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．２８−７．４６（４Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），９．９６（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５０７（Ｍ＋１）＋．
実施例９０
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０８−１．１５（１Ｈ，ｍ），２．３０−２．５７（５Ｈ，ｍ），２．７１−２．８３（４Ｈ，ｍ），３．４８−３．５５（１Ｈ，ｍ），３．７１（２Ｈ，ｓ），４．７８−４．８３（１Ｈ，ｍ），６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．２３−７．２５（３Ｈ，ｍ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），９．９１（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５２１（Ｍ＋１）＋．
実施例９１
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０５−１．１８（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．４６−２．６０（２Ｈ，ｍ），３．００（１Ｈ，ｂｒ），３．５０−３．５８（１Ｈ，ｍ），３．６９（２Ｈ，ｓ），３．７１（２Ｈ，ｓ），４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，５．９Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），９．９５（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例９２
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０３−１．１７（１Ｈ，ｍ），２．２８−２．４０（３Ｈ，ｍ），２．４７−２．５４（１Ｈ，ｍ），２．７３（４Ｈ，ｓ），３．２６−３．３４（１Ｈ，ｍ），３．５０−３．５８（１Ｈ，ｍ），３．７０（２Ｈ，ｓ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，５．６Ｈｚ），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｓ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），９．９１（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例９３
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０５−１．２５（１Ｈ，ｍ），２．２７−２．６４（４Ｈ，ｍ），３．２０−３．４１（３Ｈ，ｍ），３．４９−３．６０（２Ｈ，ｍ），４．２４（２Ｈ，ｂｒｍ），４．８４−４．９２（１Ｈ，ｍ），７．３３−７．６３（６Ｈ，ｍ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），９．０８（１Ｈ，ｓ），９．８５（２Ｈ，ｂｒｍ），１０．３（１Ｈ，ｓ），１０．７（１Ｈ，ｂｒｍ）．
ｍａｓｓ：４３２（Ｍ＋１）＋．
実施例９４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．９９−１．１４（５Ｈ，ｍ），１．７５−１．８５（４Ｈ，ｍ），２．２５−２．３８（３Ｈ，ｍ），２．４７−２．５５（１Ｈ，ｍ），３．２６−３．３５（２Ｈ，ｍ），３．４８−３．５７（１Ｈ，ｍ），３．７１（２Ｈ，ｓ），４．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），４．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，５．６Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｓ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），９．９０（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４３６（Ｍ＋１）＋．
実施例９５
Ｎ−（２−アミノエチル）カルバミド酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルを用いて実施例９６に準じて目的化合物を製造した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０１−１．１５（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．６１（３Ｈ，ｂｒｍ），２．９７−３．０３（２Ｈ，ｂｒｍ），３．１４−３．３５（６Ｈ，ｂｒｍ），３．５０−３．５９（１Ｈ，ｍ），３．８０−４．００（１Ｈ，ｂｒｍ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），７．０５（１Ｈ，ｂｒｄ），７．２５−７．３４（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｄｄ），８．２１−８．３０（４Ｈ，ｍ），９．４８（２Ｈ，ｂｒ），１０．２（１Ｈ，ｂｒｓ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９５（Ｍ＋１）＋．
実施例９６
（１）４−ニトロベンゼンスルホニルクロリド８４４ｍｇ（３．８１ｍｍｏｌ）のクロロホルム（９ｍｌ）溶液を氷冷したところへトリエチルアミン０．５３１ｍｌ（３．８１ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温にもどした。この溶液（０．３ｍｌ）を室温にてｎ−プロピルアミン１０μｌ（０．１２２ｍｍｏｌ）のクロロホルム０．３ｍｌ溶液に加え、反応液を同温度で１晩攪拌した。反応混合物を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１９：１）で精製し目的化合物を得た。
（２）（１）で得られた化合物に参考例７の化合物３８ｍｇとトリフェニルホスフィン２９ｍｇ（０．１１１ｍｍｏｌ）のクロロホルム（０．６ｍｌ）溶液を室温にて加え、さらに反応液にジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液（４０％）０．０４７ｍｌ（０．１０８ｍｍｏｌ）を加えて、反応液を室温で３日間攪拌した。反応混合物を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１９：１）で精製した。
（３）（２）で得られた化合物をジメチルホルムアミド１ｍｌに溶解し炭酸ナトリウム３５ｍｇ（０．３３０ｍｍｏｌ）及びチオフェノール１１μｌ（０．１０７ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で１日攪拌した。不溶物を濾過し濾液をテトラヒドロフラン３ｍｌに溶解し、反応液に１Ｎ塩酸１ｍｌを室温にて加え、さらに反応液を室温で１時間攪拌した。反応液を濃縮し残渣をトルエンで共沸した。ここへメタノール−エーテルを加えて、固化し目的化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．９３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．０３−１．１７（１Ｈ，ｍ），１．５８−１．７０（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．４０（２Ｈ，ｂｒｍ），２．５５−２．６５（１Ｈ，ｂｒｍ），２．８５−２．９５（２Ｈ，ｂｒｍ），２．９６−３．０３（２Ｈ，ｍ），３．１２−３．２２（２Ｈ，ｂｒｍ），２．２８−２．３５（１Ｈ，ｍ），３．５０−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），７．３０−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２７−８．３２（２Ｈ，ｍ），８．８６（２Ｈ，ｂｒ），１０．４（１Ｈ，ｂｒｓ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９４（Ｍ＋１）＋．
実施例９７−実施例９８
実施例９７及び実施例９８の化合物は、実施例９６に準じて製造した。
実施例９７
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．０１−１．１７（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．５２−２．６３（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．３９（２Ｈ，ｍ），２．５０−２．６１（１Ｈ，ｍ），２．８８−３．００（４Ｈ，ｍ），３．１０−３．２１（２Ｈ，ｍ），３．２６−３．３４（１Ｈ，ｍ），３．５０−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），７．２６−７．３４（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２６−８．３０（２Ｈ，ｍ），８．８０（２Ｈ，ｍ），１０．２（１Ｈ，ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４０８（Ｍ＋１）＋．
実施例９８
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．８６（３Ｈ，ｔ），１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ），１．２１−１．３４（４Ｈ，ｍ），１．５４−１．６６（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．３８（２Ｈ，ｍ），２．４０−２．６３（１Ｈ，ｍ），２．８５−３．００（４Ｈ，ｍ），３．０８−３．２３（２Ｈ，ｍ），３．２６−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．５０−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ），７．２６−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２６−８．３０（２Ｈ，ｍ），８．８１（２Ｈ，ｂｒｍ），１０．３（１Ｈ，ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４２２（Ｍ＋１）＋．
実施例９９
グリコールアルデヒドジエチルアセタールを用いて、実施例９６に準じて製造した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０５−１．１５（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．４０（３Ｈ，ｍ），２．４３−２．６３（１Ｈ，ｍ），２．９０−３．３７（６Ｈ，ｍ），３．４８−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．７７−４．８５（１Ｈ，ｍ），６．９７−７．０２（１Ｈ，ｍ），７．２３−７．３４（２Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（１Ｈ，ｍ），８．２３−８．３２（２Ｈ，ｍ），８．６６（０．５Ｈ，ｂｒｍ），９．００−９．２３（１Ｈ，ｂｒｍ），１０．１（１Ｈ，ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９４（Ｍ＋１）＋．
実施例１００
グリシンｔｅｒｔ−ブチルエステルを用いて実施例９６に準じて製造した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０３−１．１０（１Ｈ，ｍ），２．２３−２．４０（２Ｈ，ｂｒｍ），２．５４−２．６５（１Ｈ，ｂｒｍ），２．９７−３．０５（２Ｈ，ｂｒｍ），３．１７−３．４０（３Ｈ，ｍ），３．５０−３．５９（１Ｈ，ｍ），３．９４（２Ｈ，ｂｒｓ），４．８１−４．８６（１Ｈ，ｍ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．２８−７．３４（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），９．２３（２Ｈ，ｂｒ），１０．４（１Ｈ，ｂｒ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４６６（Ｍ＋１）＋．
実施例１０１−実施例１０８
実施例１０１ないし実施例１０８の化合物は、実施例９６に準じて製造した。
実施例１０１
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０３−１．１５（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．６３（３Ｈ，ｍ），２．９５−３．０５（２Ｈ，ｍ），３．１９−３．３７（３Ｈ，ｍ），３．５０−３．６１（１Ｈ，ｍ），４．１０−４．１９（２Ｈ，ｍ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），５．２６（２Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．２８−７．４９（８Ｈ，ｍ），８．２６−８．３２（２Ｈ，ｍ），９．３７（２Ｈ，ｂｒｍ），１０．２（１Ｈ，ｓ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５００（Ｍ＋１）＋．
実施例１０２
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０３−１．１７（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．６３（３Ｈ，ｂｒｍ），２．９７−３．０５（２Ｈ，ｂｒｍ），３．１０−３．２１（２Ｈ，ｂｒｍ），３．２６−３．３７（１Ｈ，ｂｒｍ），３．５０−３．６０（１Ｈ，ｍ），３．７８（３Ｈ，ｓ），４．０６−４．１７（２Ｈ，ｂｒｍ），４．８０−４．８８（１Ｈ，ｍ），６．９８−７．０３（３Ｈ，ｍ），７．２６（１Ｈ，ｂｒｍ），７．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．４３−７．５０（３Ｈ，ｍ），８．２５−８．３０（２Ｈ，ｍ），９．１８（２Ｈ，ｂｒｍ），１０．３（１Ｈ，ｂｒｓ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例１０３
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０２−１．１８（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．４０（３Ｈ，ｍ），２．４４−２．６３（２Ｈ，ｍ），３．０６−３．０９（２Ｈ，ｍ），３．２５−３．３５（３Ｈ，ｍ），３．５０−３．５９（１Ｈ，ｍ），４．８２−４．８８（１Ｈ，ｍ），７．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１．１Ｈｚ），７．３０−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４５−７．５５（３Ｈ，ｍ），７．９２（１Ｈ，ｔ），８．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），８．６７（１Ｈ，ｍ），９．３９（２Ｈ，ｂｒｍ），１０．４（１Ｈ，ｂｒｍ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例１０４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０１−１．１５（１Ｈ，ｍ），２．３０−２．４０（３Ｈ，ｍ），２．４１−２．５６（１Ｈ，ｍ），２．５７−２．６４（１Ｈ，ｍ），３．０４−３．１１（２Ｈ，ｍ），３．２０−３．３６（３Ｈ，ｍ），３．５０−３．５９（１Ｈ，ｍ），４．８２−４．８７（１Ｈ，ｍ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．３１−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８３−７．９０（１Ｈ，ｍ），８．２５−８．２９（２Ｈ，ｍ），８．４６（１Ｈ，ｄ），８．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１．３Ｈｚ），８．９８（１Ｈ，ｓ），９．７９（２Ｈ，ｂｒｍ），１０．３（１Ｈ，ｂｒ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例１０５
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０３−１．１７（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．５０−２．６５（１Ｈ，ｍ），３．０５−３．１５（２Ｈ，ｍ），３．２１−３．３７（３Ｈ，ｍ），３．５０−３．６１（１Ｈ，ｍ），４．４０−４．４５（２Ｈ，ｍ），４．８１−４．８９（１Ｈ，ｍ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），８．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），８．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），９．９０−１０．０（２Ｈ，ｍ），１０．３（１Ｈ，ｓ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例１０６
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０３−１．１７（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．３７（２Ｈ，ｍ），２．４０−２．６０（１Ｈ，ｍ），２．９１−３．０１（４Ｈ，ｍ），３．１４−３．３５（５Ｈ，ｍ），３．４９−３．５９（１Ｈ，ｍ），４．８０−４．８５（１Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．２６−７．３７（７Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ），８．２６−８．２９（２Ｈ，ｍ），８．９４（２Ｈ，ｂｒｍ），１０．２（１Ｈ，ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４５６（Ｍ＋１）＋．
実施例１０７
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０３−１．１７（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．５０（３Ｈ，ｂｒｍ），２．５４−２．６３（１Ｈ，ｂｒｍ），２．８３（２Ｈ，ｔ），３．００（２Ｈ，ｔ），３．０６−３．２３（３Ｈ，ｂｒｍ），３．２６−３．３７（１Ｈ，ｍ），３．５０−３．５８（１Ｈ，ｍ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），６．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．２８−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２６−８．３２（２Ｈ，ｍ），８．９４（２Ｈ，ｂｒｍ），１０．３（１Ｈ，ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４７２（Ｍ＋１）＋．
実施例１０８
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０５−１．１５（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．４０（２Ｈ，ｂｒｍ），２．４３−２．６３（２Ｈ，ｂｒｍ），２．９８−３．０６（２Ｈ，ｍ），３．２０−３．４３（６Ｈ，ｂｒｍ），３．５０−３．６５（１Ｈ，ｍ），４．８１−４．８８（１Ｈ，ｍ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．３０−７．３５（２Ｈ，ｍ），３．４５−３．５０（１Ｈ，ｍ），７．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．７２（２Ｈ，ｂｒｍ），１０．２（１Ｈ，ｓ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４５７（Ｍ＋１）＋．
実施例１０９
参考例８に記載のとおり、目的化合物８０ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０３−１．２５（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．４３（２Ｈ，ｂｒｍ），２．５０−２．６５（１Ｈ，ｍ），２．５７（６Ｈ，ｓ），２．８８−３．０６（３Ｈ，ｍ），３．２６−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．５０−３．５９（１Ｈ，ｍ），４．８２−４．８６（１Ｈ，ｍ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），６．２６−６．３４（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），１０．０（１Ｈ，ｓ），１０．５（０．５Ｈ，ｂｒ），１１．１（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３８０（Ｍ＋１）＋．
実施例１１０
参考例１１の化合物３０ｍｇ（０．０３８ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１ｍｌ）溶液に塩化ｎ−ブタノイル６μｌ（０．０５８ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン１３μｌ（０．０９３ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で１時間攪拌した。反応液に塩化ｎ−ブタノイル６μｌ（０．０５８ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン１０μｌ（０．０７２ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で１０分攪拌した。反応液に水１ｍｌを加え有機層を分離した。有機層を水１ｍｌで洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をテトラヒドロフラン１ｍｌに溶解し、反応液に１Ｎ塩酸１ｍｌを室温にて加えて、反応液を同温度で１５分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣にトリフルオロ酢酸２ｍｌを加えて、反応液を室温で１５分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣にメタノール−エーテルを加えて固化し目的化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．８０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．０３−１．１５（１Ｈ，ｍ），１．４２−１．５４（２Ｈ，ｍ），２．００（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．２５−２．４０（２Ｈ，ｂｒｍ），２．５５−２．６３（１Ｈ，ｂｒｍ），２．７０−２．７８（２Ｈ，ｂｒｍ），３．２８−３．３９（３Ｈ，ｂｒｍ），３．５０−３．６０（１Ｈ，ｂｒｑ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），７．１４（１Ｈ，ｓ），７．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８８（２Ｈ，ｂｒｍ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），１０．４（１Ｈ，ｂｒ），１１．１（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４２２（Ｍ＋１）＋．
実施例１１１−実施例１１４
実施例１１１ないし実施例１１４の化合物は、実施例１１０に準じて製造した。
実施例１１１
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．００−１．２３（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．６０（３Ｈ，ｍ），２．７０（２Ｈ，ｂｒ），３．１５（２Ｈ，ｂｒ），３．４０−３．６０（２Ｈ，ｍ），４．３４（２Ｈ，ｓ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），７．１５（１Ｈ，ｓ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．４０−７．５２（６Ｈ，ｍ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．５４−８．６３（１Ｈ，ｍ），９．９４（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４７０（Ｍ＋１）＋．
実施例１１２
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．４１−２．６０（１Ｈ，ｍ），２．８３（２Ｈ，ｂｒｔ），３．１５（１Ｈ，ｓ），３．２０−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．４３−３．５７（２Ｈ，ｍ），４．７５−４．８６（１Ｈ，ｍ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．１５（１Ｈ，ｓ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），７．４０−７．５２（４Ｈ，ｍ），７．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ），８．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），８．５９（１Ｈ，ｂｒｔ），９．９４（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４５６（Ｍ＋１）＋．
実施例１１３
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０６−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．４１（２Ｈ，ｍ），２．７２（２Ｈ，ｔ），３．１０−３．２０（２Ｈ，ｍ），３．２６−３．４２（１Ｈ，ｍ），３．４８−３．６０（１Ｈ，ｍ），３．７５−３．９０（１Ｈ，ｍ），４．３６（２Ｈ，ｓ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｓ），７．１９−７．４０（７Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），１０．０（１Ｈ，ｓ），１１．２（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例１１４
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．４３−１．６０（１Ｈ，ｍ），２．５０−３．００（３Ｈ，ｂｒｍ），３．０３−３．１５（２Ｈ，ｂｒｍ），３．３４−３．４８（２Ｈ，ｂｒｍ），３．６５−３．８０（１Ｈ，ｂｒｍ），３．８５−４．００（１Ｈ，ｍ），５．１７−５．２６（１Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｓ），７．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，０．６Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｔ），７．９４−８．０３（３Ｈ，ｍ），８．１０−８．２０（３Ｈ，ｍ），８．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１０．４（１Ｈ，ｓ），１１．７（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４９２（Ｍ＋１）＋．
実施例１１５
実施例８３の化合物を用いて実施例９６（１）に準じて目的化合物を製造した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０４−１．１９（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．４１（２Ｈ，ｍ），２．４８−２．６０（１Ｈ，ｍ），２．６６−２．７４（２Ｈ，ｍ），３．１０−３．２０（２Ｈ，ｍ），３．２８−３．３９（１Ｈ，ｍ），３．５１−３．５９（１Ｈ，ｍ），４．７９−４．８２（１Ｈ，ｍ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｓ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），８．１７（２Ｈ，ｍ），８．２９−８．３７（３Ｈ，ｍ），９．９０（１Ｈ，ｓ），１１．２（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５３７（Ｍ＋１）＋．
実施例１１６
フェノール及び参考例７の化合物を用いて実施例５６に準じて調製した化合物に対し実施例１２４と同様の操作を行い、目的化合物を製造した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．２５−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．６０−２．６９（１Ｈ，ｍ），３．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），３．２５−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．５４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），４．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．２５−７．３７（４Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），８．２３−８．２８（２Ｈ，ｍ），１０．５−１１．０（２Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例１１７
（１）３−アミノ−５−フェニルピラゾール５４４ｍｇ（３．４ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）溶液に水素化ナトリウム１６４ｍｇ（４．１ｍｍｏｌ）、ベンジルブロミド０．４５ｍｌ（３．８ｍｍｏｌ）を加え室温で６時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を分離し、水、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウム乾燥し、濾液を濃縮した。残差をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、４：１）で精製し、目的物５０９ｍｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物５０９ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）のピリジン（５．０ｍｌ）溶液にクロロギ酸メチル０．１９ｍｌ（２．５ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を分離し飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥し濾液を濃縮した。残差をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、４：１〜２：１）で精製し、目的物４５０ｍｇを得た。
（３）（２）で得られた化合物４４０ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）のトルエン（５．０ｍｌ）溶液にトリエチルアミン０．４０ｍｌ（２．９ｍｍｏｌ）を加え８０℃で１０分間攪拌し、Ｂ−クロロカテコールボラン４５０ｍｇ（２．９ｍｍｏｌ）を加え同温度で１０分間攪拌した。参考例３の化合物２９０ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加え同温度で３０分間攪拌した。 Ｂ−クロロカテコールボラン４４０ｍｇ（２．９ｍｍｏｌ）を加え１００℃で１時間攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加えクロロホルムで抽出した。有機層を分離し１Ｎ水酸化ナトリウム、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウム乾燥し濾液を濃縮した。残差にクロロホルム−エーテルを加え析出した結晶４００ｍｇを濾取した。
（４）（３）で得られた化合物４００ｍｇ（０．８７ｍｍｏｌ）をメタノール−テトラヒドロフラン（１：１）２０ｍｌに溶解した。１０％パラジウム炭素触媒２００ｍｇを加え反応容器内を水素置換し５０℃で１晩攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残差にエーテル−酢酸エチルを加えて結晶化し、目的化合物２２０ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０２−１．１０（１Ｈ，ｍ），２．２７−２．３７（２Ｈ，ｂｒｍ），２．６２−２．６７（１Ｈ，ｂｒｍ），３．２６−３．３７（１Ｈ，ｍ），３．４８−３．５７（１Ｈ，ｍ），４．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，５．７Ｈｚ），６．６０（１Ｈ，ｂｒｓ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３０−７．４８（４Ｈ，ｍ），７．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），９．６１（１Ｈ，ｓ），１２．８（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例１１８
（１）α−シアノ−ｏ−ヨードアセトフェノン３．８１ｇ（１３．３ｍｍｏｌ）、ベンジルヒドラジン２塩酸塩７．８０ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１８．０ｍｌ（１２９ｍｍｏｌ）及びｎ−ブタノール５０ｍｌの混合物を１２０℃で１晩攪拌した。反応液を室温に戻した後濃縮し、残渣をエーテルに溶解して水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、５：１〜２：１）で精製し、淡黄色結晶２．６１ｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物１．２３ｇ（３．２７ｍｍｏｌ）とクロロギ酸ｐ−ニトロフェニル０．８５９ｍｇ（４．２６ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン１．００ｇ（８．１９ｍｍｏｌ）、クロロホルム１０ｍｌの混合物を室温で３０分攪拌した。反応液に参考例３の化合物０．９２０ｇ（４．９６ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１００℃で１晩攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、１Ｎ水酸化ナトリウム、１Ｎ塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、９８：２〜９７：３）で精製し黄色固体１．６０ｇを得た。
（３）（２）で得られた化合物２３６ｍｇ（０．４６１ｍｍｏｌ）と酢酸パラジウム１１ｍｇ（０．０４９０ｍｍｏｌ）、１、１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン３０ｍｇ（０．０５４１ｍｍｏｌ）及び炭酸水素ナトリウム７１ｍｇ（０．８４５ｍｍｏｌ）をメタノール４ｍｌに混合し容器内を一酸化炭素で置換して、反応液を７時間還流した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、９８：２〜９７：３）で精製し黄色固体１８０ｍｇを得た。
（４）（３）で得られた化合物４０ｍｇをエタノール５ｍｌに溶解した。反応液に水酸化パラジウム１０ｍｇを室温にて加え容器内を水素で置換し、反応液を７０℃で1晩攪拌した。反応液をセライトで濾過し濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１０：１）で精製し、目的化合物８．６ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０３−１．１５（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．６２−２．７７（１Ｈ，ｍ），３．４３−３．５８（２Ｈ，ｍ），３．７３（３Ｈ，ｓ），４．７４−４．７８（１Ｈ，ｍ），６．２５（１Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．４１−７．７４（５Ｈ，ｍ），８．２３−８．２６（１Ｈ，ｍ），８．３１（１Ｈ，ｓ），９．５９（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４３２（Ｍ＋１）＋．
実施例１１９
（１）実施例１１８（３）で得られた化合物１４０ｍｇ（０．２６８ｍｍｏｌ）をメタノール３ｍｌに溶解し、反応液に１Ｎ水酸化ナトリウム１．００ｍｌ（１．００ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を室温で暫く攪拌した後、さらに５０℃に加熱して２時間攪拌した。反応液を１Ｎ塩酸で酸性とした後濃縮した。残渣をクロロホルムに溶解し、これを水で洗浄した。水層はさらにクロロホルムで２回抽出し、有機層をあわせて硫酸マグネシウム乾燥後濾過濃縮した。残渣にエーテル、クロロホルムを加えて析出した結晶７３ｍｇを濾取した。
（２）（１）で得られた化合物３６ｍｇ（０．０６９９ｍｍｏｌ）をエタノール４ｍｌに溶解し、室温にて反応液に水酸化パラジウム１０ｍｇを加えて容器内を水素で置換し、反応液を７０℃で１晩攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣にエーテル、クロロホルムを加えて結晶を析出させ目的化合物を１３ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０１−１．１４（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．３４（２Ｈ，ｍ），２．６５−２．６８（１Ｈ，ｍ），３．３５−３．５３（２Ｈ，ｍ），４．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，５．８Ｈｚ），６．３４（１Ｈ，ｂｒ），７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），９．５９（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４１８（Ｍ＋１）＋．
実施例１２０
（１）α−シアノ−ｍ−ヨードアセトフェノンを用いて実施例１１８（１）から（３）と同様の手順に従って調製した化合物に対し、実施例１１９（１）に準じて反応を行い、目的化合物を得た。
（２）（１）で得られた化合物を用いて、実施例１１９（２）に準じて目的化合物を製造した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０２−１．１７（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．４０（１Ｈ，ｍ），２．６３−２．７２（２Ｈ，ｍ），３．３４−３．４１（２Ｈ，ｍ），４．７４−４．８０（１Ｈ，ｍ），６．６５（１Ｈ，ｂｒ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ），９．６８（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４１８（Ｍ＋１）＋．
実施例１２１
（１）実施例１２０（１）で得られた化合物５６ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド１．５ｍｌに溶解し、反応液に室温にて、１、１’−カルボニルジイミダゾール２５ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温で３０分攪拌した。室温にて反応液にフェニルエチルアミン４２μｌ（０．３３ｍｍｏｌ）を加え、反応温度を室温から７０℃に加熱して反応液をさらに１０分攪拌した。反応液を濃縮し残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１０：１）で精製し粗生成物を得た。このものはこのまま次の反応に使用した。
（２）（１）で得られた化合物５１ｍｇ（０．０８４ｍｍｏｌ）をメタノール−テトラヒドロフラン（２：１）３ｍｌに溶解し、反応液に室温にて水酸化パラジウム５１ｍｇを加えて容器内を水素で置換し、反応液を室温で１晩攪拌した。反応液をセライトで濾過した後濾液を濃縮し目的化合物２５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０２−１．１０（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．３６（２Ｈ，ｍ），２．４３−２．５６（１Ｈ，ｍ），２．６５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．８７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．１６−３．２５（２Ｈ，ｍ），４．７３−４．７９（１Ｈ，ｍ），６．７０（１Ｈ，ｂｒ），７．１６−７．３３（７Ｈ，ｍ），７．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｓ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｂｒ），９．６９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５２１（Ｍ＋１）＋．
実施例１２２
（１）２−ブロモ−３−ニトロ安息香酸１０．０ｇ（４０．７ｍｍｏｌ）、ピロール−２−カルボキシアルデヒド７．７４ｇ（８１．４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン２０．０ｍｌ（１４３ｍｍｏｌ）及び塩化チオニル３０ｍｌを用いて参考例２（１）と同様の手順に従い、目的化合物９．０７ｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物９．０７ｇ（２８．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４００ｍｌ）溶液を−７８℃に冷却した。同温度で反応液に水素化ジイソプロピルアルミニウムのトルエン溶液（１．０Ｍ）３３．６ｍｌ（３３．６ｍｍｏｌ）を加え、さらに反応液を同温度で２時間攪拌した。反応液に同温度にて飽和塩化アンモニウム水溶液１５ｍｌを加え、室温に戻して反応液を２時間攪拌した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾液を濃縮した。得られた残渣を塩化メチレン２００ｍｌに溶解し、室温にて反応液にクロロｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラン６．３２ｇ（４１．９ｍｍｏｌ）およびイミダゾール３．８０ｇ（５５．８ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温で１晩攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、有機層を水２００ｍｌ３回、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル、１０：１〜５：１）で精製し、無色油状物９．３４ｇを得た。
（３）（２）で得られた化合物９．３４ｇ（２１．３ｍｍｏｌ）およびジイソプロピルエチルアミン８．２４ｇ（６３．８ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド２００ｍｌに溶解し、反応容器内を窒素で置換した。室温にて反応液にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム２．４６ｇ（２．１３ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１３０℃で２時間攪拌した。反応液を酢酸エチル１Ｌ、水５００ｍｌに加え有機層を分離した。水層をさらに酢酸エチル３００ｍｌで抽出し、有機層を合わせて水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグンネシウム乾燥後、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル、２０：１〜５：１）で精製し、黄色固体４．７３ｇを得た。
（４）（３）で得られた化合物４．７３ｇ（１３．２ｍｍｏｌ）をメタノール−テトラヒドロフラン（１：１）４００ｍｌに溶解し、反応液に室温にて１０％パラジウム炭素触媒５００ｍｇを加えた。反応容器内を水素置換し、反応液を室温で２時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル、２：１〜１：１）で精製した。画分１（低極性物質）としてピロール体１．２０ｇ、画分２（高極性物質）としてピロリジン体２．４０ｇを得た。
画分１（低極性物質）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．１４（６Ｈ，ｓ），０．９５（９Ｈ，ｓ），３．８４（２Ｈ，ｂｒｓ），４．８８（２Ｈ，ｓ），５．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），６．０９−６．１１（１Ｈ，ｍ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）．
画分２（高極性物質）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．０２（６Ｈ，ｓ），０．７４（９Ｈ，ｓ），１．６０−１．７０（１Ｈ，ｍ），２．１５−２．２３（１Ｈ，ｍ），２．４２−２．５０（２Ｈ，ｍ），３．６８（２Ｈ，ｂｒｓ），３．９５−４．０２（２Ｈ，ｍ），４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，５．２Ｈｚ），４．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，５．５Ｈｚ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．２０−７．２４（２Ｈ，ｍ）．
（５）（４）で得られた画分２（高極性物質）、２．４０ｇ（７．２３ｍｍｏｌ）を用いて実施例１と同様の手順に従い黄色固体２．７１ｇを得た。
（６）（５）で得られた化合物２．７１ｇ（６．００ｍｍｏｌ）をメタノール−テトラヒドロフラン（１：１）２００ｍｌに懸濁し、反応液に室温にて２Ｎ塩酸１０ｍｌを加えて、さらに反応液を同温度で６時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をトルエンで２回共沸脱水した。得られた粗生成物をヘキサン−酢酸エチル−テトラヒドロフランから再結晶し、目的化合物１．８５ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．２７−１．４０（１Ｈ，ｍ），１．７２−１．７８（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．２７（１Ｈ，ｍ），２．４０−２．５０（１Ｈ，ｍ），２．５３−２．６２（１Ｈ，ｍ），３．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．８５−３．９３（１Ｈ，ｍ），４．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，５．５Ｈｚ），５．９７（１Ｈ，ｂｒ），７．１７−７．２２（１Ｈ，ｍ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．９８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），１０．６（１Ｈ，ｂｒ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例１２３
（１）実施例１３１（１）で得られた化合物４．５０ｇ（１３．４ｍｍｏｌ）を用いて実施例１２２（２）と同様の手順に従い黄色固体３．９４ｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物３．９４ｇ（８．４７ｍｍｏｌ）を用いて実施例１２２（３）（４）と同様の手順に従い、画分１（低極性物質）２３８ｍｇ及び画分２（高極性物質）１．１４ｇを得た。
画分１（低極性物質）：
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３−ＣＤ３ＯＤ）δ：０．０８（３Ｈ，ｓ），０．１１（３Ｈ，ｓ），０．９３（９Ｈ，ｓ），１．５１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），３．８４（２Ｈ，ｂｒ），５．２６（１Ｈ，ｍ），５．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），６．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，１．０Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）．
画分２（高極性物質）：
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．０７（３Ｈ，ｓ），０．１１（３Ｈ，ｓ），０．８５−０．９５（１Ｈ，ｍ），０．９２（９Ｈ，ｓ），１．２４−１．３５（２Ｈ，ｍ），１．５２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．５２−１．５５（１Ｈ，ｍ），５．２７（１Ｈ，ｑ），６．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１．０Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１．０Ｈｚ）．
（３）（２）で得られた画分２（高極性物質）、３００ｍｇ（０．８７ｍｍｏｌ）を用いて実施例１と同様の手順に従い黄色固体３８９ｍｇを得た。
（４）（３）で得られた化合物２００ｍｇ（０．４２９ｍｍｏｌ）を用いて参考例７と同様の手順に従い目的化合物９２ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．８０−０．９５（１Ｈ，ｍ），１．１４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．１７−１．２８（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．４０（２Ｈ，ｍ），３．７０−３．７４（１Ｈ，ｍ），３．８０−３．９０（１Ｈ，ｍ），４．７８−４．８５（２Ｈ，ｍ），７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，５．０Ｈｚ），７．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．７６−７．８２（１Ｈ，ｍ），８．２６−８．３０（２Ｈ，ｍ），９．９０（１Ｈ，ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例１２４
実施例１２８（５）で得られた画分２（高極性物質）１４ｍｇをメタノール−テトラヒドロフラン（１：１）２ｍｌに溶解し、室温にて反応液に１Ｎ塩酸１．０ｍｌを加えて、反応液を同温度で３０分攪拌した。反応液を飽和重曹水で中和し、クロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル−メタノール、３０：１）で精製し目的化合物を４．１ｍｇおよび実施例１２７の化合物を３．８ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．９２−１．０９（１Ｈ，ｍ），１．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．６０−１．７４（１Ｈ，ｂｒ），２．６８−２．７６（１Ｈ，ｍ），２．８０−３．００（１Ｈ，ｍ），３．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，９．０Ｈｚ），３．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，８．５Ｈｚ），４．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，５．２Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），６．９９−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．４５−７．６０（２Ｈ，ｍ），７．６８−７．７６（１Ｈ，ｍ），８．１９−８．２３（１Ｈ，ｍ），８．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１．３Ｈｚ），８．９４（１Ｈ，ｂｒ），１２．００（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３２３（Ｍ＋１）＋．
実施例１２５
（１）実施例１２８（１）の化合物１２．３ｇ（３８．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１５０ｍｌに溶解し、反応液を−７８℃に冷却した。反応液に同温度で水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液（１．０Ｍ）４６．０ｍｌ（４６．０ｍｍｏｌ）を加え、そのまま反応液を１５分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液２５ｍｌを加えて室温に戻した。反応液に硫酸マグネシウムを加えて濾過し、濾液を濃縮した。残渣をクロロホルム１５０ｍｌに溶解し、イミダゾール５．２０ｇ（８１．１ｍｍｏｌ）およびクロロトリイソプロピルシラン９．４０ｍｌ（４３．９ｍｍｏｌ）を室温にて加えて容器内を窒素置換し、反応液を室温で１２時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈して、水、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、１０：１）で精製し、黄色固体１７．２ｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物１７．２ｇ（１５．６ｍｍｏｌ）を用いて参考例２の（２）に準じて反応を行い黄色固体を４．９０ｇ得た。
（３）（２）で得られた化合物４．９０ｇ（１２．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン７０ｍｌに溶解し、反応液に室温にて６Ｎ塩酸２０ｍｌを加えて、反応液を同温度にて１時間攪拌した。１Ｎ水酸化ナトリウムで反応液を塩基性にし、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。析出した結晶を濾取しヘキサン−酢酸エチルで洗浄、乾燥後黄色固体２．９４ｇを得た。
（４）（３）で得られた化合物１８０ｍｇ（０．７３ｍｍｏｌ）をメタノール５．０ｍｌおよびテトラヒドロフラン１６ｍｌに溶解し、トリエチルアミン０．２０ｍｌ、１０％パラジウム炭素触媒１００ｍｇを加え、水素気流下５０℃で１時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮して無色固体１６３ｍｇを得た。
（５）（４）で得られた化合物１６３ｍｇ（０．７５ｍｍｏｌ）と２−ピリジンカルボニルアジド１０７ｍｇ（０．７２ｍｍｏｌ）を用いて実施例１に準じて目的化合物７ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．０３−１．１０（１Ｈ，ｍ），３．０２−３．２１（１Ｈ，ｍ），３．３０−３．６５（４Ｈ，ｍ），３．８７−３．８９（１Ｈ，ｍ），４．９５−５．０２（１Ｈ，ｍ），７．０６−８．４５（７Ｈ，ｍ），９．０２（１Ｈ，ｂｒ），１１．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例１２６
（１）実施例１２５の化合物８５ｍｇ（０．２５１ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン１３２ｍｇ（０．５０３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６ｍｌ）溶液に、ジフェニルリン酸アジド０．１４０ｍｌ（０．６５０ｍｍｏｌ）及びジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液（４０％）０．２２０ｍｌ（０．５０５ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で１時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水及び飽和食塩水で順次洗浄して、有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１０：１）で精製した。エーテルを加えて結晶２４ｍｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物２４ｍｇをメタノール−テトラヒドロフラン（１：１）２ｍｌに溶解し、室温にて反応液に１０％パラジウム炭素触媒１０ｍｇを加えた。容器内を水素置換し、水素気流下、反応液を室温で原料が消失するまで攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣にエーテルを加えて結晶化した。この結晶を濾取して酢酸エチル、クロロホルムで洗浄後、乾燥し目的化合物４．６ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．９７−１．１０（１Ｈ，ｍ），２．７２−２．８２（１Ｈ，ｍ），２．８７−３．００（２Ｈ，ｍ），３．１０−３．２０（１Ｈ，ｍ），３．３０−３．６０（２Ｈ，ｍ），４．９６−５．０１（１Ｈ，ｍ），７．０３−７．１４（１Ｈ，ｍ），７．３１−７．３４（１Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．７７−７．８３（１Ｈ，ｍ），８．１６（２Ｈ，ｂｒ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），１０．１（１Ｈ，ｓ），１１．２（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３８（Ｍ＋１）＋．
実施例１２７
目的化合物は、実施例１２４の製造反応において得られた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：０．４５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．５５−１．７０（１Ｈ，ｂｒ），２．０８−２．１９（１Ｈ，ｍ），２．４８−２．６８（１Ｈ，ｍ），２．８８−３．０２（１Ｈ，ｍ），３．４１−３．５３（１Ｈ，ｍ），３．６６−３．８０（１Ｈ，ｍ），４．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），６．９９−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．４６−７．６０（２Ｈ，ｍ），７．７２−７．７７（１Ｈ，ｍ），８．２０−８．２３（１Ｈ，ｍ），８．３２−８．３７（１Ｈ，ｍ），８．６６（１Ｈ，ｂｒ），１２．００（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３２３（Ｍ＋１）＋．
実施例１２８
（１）ピロール−３−カルボキシアルデヒドを用いて参考例２の（１）と同様の操作を行い目的物を得た。
（２）（１）で得られた化合物１３９ｍｇ（０．４３３ｍｍｏｌ）を用いて実施例１２２の（２）と同様の手順に従い目的化合物を得た。
（３）（２）で得られた化合物を用いて参考例２の（２）と同様の手順に従い位置異性体との２：１の混合物を得た。
（４）（３）で得られた化合物を用いて実施例１２２の（４）と同様の手順に従い精製混合物を得た。このまま次の反応に使用した。
（５）（４）で得られた精製混合物２２ｍｇと２−ピリジンカルボニルアジド２６ｍｇ（０．１７ｍｍｏｌ）を用いて実施例１と同様の手順に従った。反応液を濃縮し、残渣を薄層クロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、１：２）で精製して、画分１（低極性物質）および画分２（高極性物質）を得た。
（６）（５）で得られた画分１（低極性物質）１１ｍｇをメタノール−テトラヒドロフラン（１：５）１．２ｍｌに溶解し、室温にて反応液に１Ｎ塩酸１．０ｍｌを加えて、反応液を同温度で攪拌した。反応液を濃縮し、残渣を酢酸エチルで希釈して、飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１０：１）で精製し、目的化合物３．１ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ６）δ：１．２９（１Ｈ，ｂｒ），２．５２−２．６１（２Ｈ，ｍ），３．００−３．１０（２Ｈ，ｍ），３．２９−３．４１（１Ｈ，ｍ），３．５４−３．７０（２Ｈ，ｍ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．０５−７．１２（１Ｈ，ｍ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３２−７．３６（１Ｈ，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．７８−７．８７（１Ｈ，ｍ），８．３６−８．４２（２Ｈ，ｍ），８．９６（１Ｈ，ｂｒ），１１．９（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例１２９
（１）参考例２（２）で得られた化合物１００ｍｇ（０．４６７ｍｍｏｌ）のメタノール（１５ｍｌ）溶液に室温にて鉄粉２００ｍｇ（３．５８ｍｍｏｌ）、６Ｎ塩酸０．５００ｍｌ（３．００ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温で３０分攪拌した。反応液を酢酸エチル２００ｍｌで希釈し、飽和重曹水１００ｍｌ、水、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム乾燥後、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル、５：１）で精製し、淡緑色固体７１ｍｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物５０ｍｇを用いて実施例１と同様の手順に従い目的化合物６５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：６．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，５．６Ｈｚ），７．２４−７．２９（３Ｈ，ｍ），７．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７７−７．８３（１Ｈ，ｍ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１．１Ｈｚ），１０．１（１Ｈ，ｂｒｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例１３０
実施例１２２（４）で得られた画分１（低極性物質）、３００ｍｇ（０．９１ｍｍｏｌ）を用いて実施例１２２（５）（６）と同様の手順に従い目的化合物２１６ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：４．６０（２Ｈ，ｓ），５．６５（１Ｈ，ｂｒ），６．２０（１Ｈ，ｓ），６．６８（１Ｈ，ｓ），７．１４−７．２０（１Ｈ，ｍ），７．２５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．３５−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），１０．８（２Ｈ，ｂｒ）．
実施例１３１
（１）２−ブロモ−３−ニトロ安息香酸１０．０ｇ（４０．７ｍｍｏｌ）、２−アセチルピロール８．９０ｇ（８１．６ｍｍｏｌ）を用いて参考例２（１）と同様の手順に従い黄色固体９．２０ｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物２．００ｇ（５．９３ｍｍｏｌ）を用いて参考例２（２）と同様の手順に従い、淡緑色固体９４１ｍｇを得た。
（３）（２）で得られた化合物３００ｍｇ（１．１７ｍｍｏｌ）を用いて実施例１２９と同様の手順に従い目的化合物２７７ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：６．３２−６．３５（１Ｈ，ｍ），６．７４（１Ｈ，ｓ），７．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，５．２Ｈｚ），７．１９（１Ｈ，ｓ），７．２６（１Ｈ，ｓ），７．４０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１．５Ｈｚ），７．７８−７．８３（１Ｈ，ｍ），８．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，１．６Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１．６Ｈｚ），１０．１（１Ｈ，ｓ），１０．８（１Ｈ，ｂｒｓ），１２．０（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３４７（Ｍ＋１）＋．
実施例１３２
（１）実施例１３１（１）で得られた化合物４．５ｇ（１３．４ｍｍｏｌ）を用いて実施例１２２（２）の手順に従い目的物３．９４ｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物３．９４ｇ（８．４７ｍｍｏｌ）を用いて実施例１２２（３）（４）と同様の手順に従い画分１（低極性物質）２３８ｍｇおよび画分２（高極性物質）１．１４ｇを得た。
（３）（２）で得られた画分１（低極性物質）２００ｍｇ（０．５８ｍｍｏｌ）を用いて実施例１と同様の手順に従い結晶２４７ｍｇを得た。
（４）（３）で得られた化合物２４７ｍｇ（０．５３ｍｍｏｌ）を用いて参考例７と同様の手順に従い目的化合物８５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．５８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．０２（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），７．２２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．６９−７．７５（１Ｈ，ｍ），８．２３−８．２７（２Ｈ，ｍ）．
実施例１３３
（１） 実施例２９９の（１）の化合物を１６ｍｇのエタノール（０．２ｍｌ）溶液に１−ブタンチオール４．２μｌ及びナトリウムエトキシド２．６ｍｇを加え室温で１５時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、ヘキサン−酢酸エチル（１：５））で精製し目的物８ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物８ｍｇのテトラヒドロフラン（２ｍｌ）溶液に１Ｎ塩酸１ｍｌを加え室温で１５分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をエーテル−メタノールで結晶化して、表題化合物である白色固体４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．０７−１．２４（１Ｈ，ｍ），１．２８−１．４０（２Ｈ，ｍ），１．４９（２Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝７．３，７．７Ｈｚ），２．２５−２．５８（５Ｈ，ｍ），２．７１−２．８８（４Ｈ，ｍ），３．２７−３．３４（１Ｈ，ｍ），３．３８−３．８２（１Ｈ，ｍ），４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１１Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．１７（１Ｈ，ｓ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．１（１Ｈ，ｂｒ），１１．１（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４２５（Ｍ＋１）＋．
実施例１３４
（１） 参考例８の化合物を用いて実施例２８９の（６）に準じて反応を行い、目的化合物を得た。
（２） （１）の化合物１９ｍｇ、イソプロパノール１５μｌ及びトリフェニルホスフィン５０ｍｇのテトラヒドロフラン（０．２ｍｌ）溶液を０℃に冷却し、アゾジカルボン酸ジエチルエステル８２μｌを加え、室温で３０分攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（２０：１））で精製し目的物１８ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物１８ｍｇを用いて、参考例１１に準じて反応を行った後、実施例１３３の（２）に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として白色固体５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０６−１．２０（１Ｈ，ｍ），１．２４（６Ｈ，ｓｘ２），２．２５−２．４４（３Ｈ，ｍ），２．９３−２．９９（２Ｈ，ｍ），３．１１−３．１６（２Ｈ，ｍ），３．２１−３．３６（２Ｈ，ｍ），３．４９−３．５９（１Ｈ，ｍ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），７．０４−７．０６（１Ｈ，ｍ），７．２６−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２６−８．２９（２Ｈ，ｍ），８．７８（２Ｈ，ｂｒ），１０．２（１Ｈ，ｓ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９４（Ｍ＋１）＋．
実施例１３５−１３６
実施例１３５及び実施例１３６の化合物は、実施例１３４に準じて製造した。
実施例１３５
ｍａｓｓ：４２０（Ｍ＋１）＋．
実施例１３６
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例１３７
（１） 参考例８の化合物及びサリチルアルデヒドのｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテルを用い、実施例８４の（２）に準じて目的化合物を得た。
（２） （１）の化合物を用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物である白色固体３ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：６９６（Ｍ＋１）＋．
実施例１３８
（１） 実施例１３７の（１）の化合物を用いて参考例７に準じて反応を行い、目的物を得た。
（２） （１）の化合物を用いて実施例１３３の（２）に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として白色固体４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０６−１．２４（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．４８（２Ｈ，ｍ），２．４９−２．６３（１Ｈ，ｍ），２．９８−３．０３（２Ｈ，ｍ），３．１３−３．２７（２Ｈ，ｍ），３．２７−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．４５−３．７９（１Ｈ，ｍ），４．１１−４．１４（２Ｈ，ｍ），４．８０−４．８５（１Ｈ，ｍ），６．８３−７．０１（３Ｈ，ｍ），７．２２−７．３８（３Ｈ，ｍ），７．４４−７．４９（１Ｈ，ｍ），８．２５−８．２９（２Ｈ，ｍ），８．９０（２Ｈ，ｂｒ），１０．１（１Ｈ，ｂｒ），１０．２（１Ｈ，ｂｒ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４５８（Ｍ＋１）＋．
実施例１３９
（１） 実施例１３７の（１）の化合物２９ｍｇ、ジｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（（Ｂｏｃ）２Ｏ）１６ｍｇ、トリエチルアミン１５μｌ及びクロロホルム０．２ｍｌの混合物を室温で３時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｈ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（２０：１））で精製し目的物３２ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物３５ｍｇを用いて参考例７に準じて目的物２４ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物２４ｍｇ、１−ブタノール５μｌを用いて、実施例１３４の（２）に準じて目的物３ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物８ｍｇを用いて実施例１３３の（２）に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として白色固体３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．０６−１．２４（１Ｈ，ｍ），１．４３（２Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝６．６，７．５Ｈｚ），１．７３（２Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝６．６，６．６Ｈｚ），２．２５−２．５９（３Ｈ，ｍ），２．９８―３．０５（２Ｈ，ｍ），３．１４−３．２４（２Ｈ，ｍ），３．２７−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．４３−３．６５（１Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｂｒｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），４．７９−４．８６（１Ｈ，ｍ），６．９７−７．１０（３Ｈ，ｍ），７．２７−７．４９（５Ｈ，ｍ），８．２５−８．２９（２Ｈ，ｍ），９．０１（１Ｈ，ｂｒ），１０．１（１Ｈ，ｂｒ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５１４（Ｍ＋１）＋．
実施例１４０
（１） 参考例８の化合物３０ｍｇ及びｏ−アニスアルデヒド９μｌを用い、実施例８４の（２）に準じてモノアルキル体（Ａ）１６ｍｇ及びジアルキル体（Ｂ）１１ｍｇを得た。
（２） （１）−Ａの化合物１６ｍｇを用いて実施例１３３の（２）に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として淡黄色固体１２ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０５−１．１２（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．６１（３Ｈ，ｍ），２．９９−３．０５（２Ｈ，ｍ），３．１４−３．２１（２Ｈ，ｍ），３．２２−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．４９−３．８４（１Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，ｓ），４．１３−４．１７（２Ｈ，ｍ），４．８１−４．８６（１Ｈ，ｍ），６．９８−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），７．２７−７．３４（２Ｈ，ｍ），７．４０−７．４９（３Ｈ，ｍ），８．２６−８．２９（２Ｈ，ｍ），９．０１（２Ｈ，ｂｒ），１０．３（１Ｈ，ｂｒ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４７２（Ｍ＋１）＋．
実施例１４１
実施例１４０の（１）−Ｂの化合物７ｍｇを用いて実施例１３３の（２）に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として淡黄色固体４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０３−１．１０（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．８１（３Ｈ，ｍ），３．１６−３．４０（４Ｈ，ｍ），３．７０（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．４３−３．９９（２Ｈ，ｍ），４．２９−４．４６（４Ｈ，ｍ），４．８１−４．８６（１Ｈ，ｍ），６．９０−７．１３（５Ｈ，ｍ），７．２７−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４２−７．５１（５Ｈ，ｍ），８．２２−８．２８（２Ｈ，ｍ），８．９３（１Ｈ，ｂｒ），１０．３（１Ｈ，ｂｒ），１０．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５９２（Ｍ＋１）＋．
実施例１４２
（１） 実施例１６４の（３）の化合物３０ｍｇをアセトニトリル−塩化メチレン（３：１）０．４ｍｌに溶解し、反応容器内を窒素置換した後、（Ｂｏｃ）２Ｏ０．１２ｍｌ、ニトロエタン２５μｌ及び４−ジメチルアミノピリジン４ｍｇを加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（３０：１））で精製し、付加体３２ｍｇを得た。このものについてＨＰＬＣでジアステレオマーを分割し、Ｒｔ＝９．６４分（ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（ダイセル化学工業（株）、０．４６φｘ２５ｃｍ）、ヘキサン−エタノール（２０：８０）、１．０ｍｌ／ｍｉｎ）の分画（Ａ）１２ｍｇ及びＲｔ＝１４．５８分の分画（Ｂ）１３ｍｇを得た。
（２） （１）−Ａ及び（１）−Ｂの化合物についてそれぞれ実施例１３３の（２）に準じて、（１）−Ａから実施例１４２の化合物として淡黄色粉末を、（１）−Ｂから実施例１４３の化合物として淡黄色粉末を得た。
ｍａｓｓ：３９２（Ｍ＋１）＋．
実施例１４３
実施例１４２の化合物のジアステレオマーとして、実施例１４３の化合物を得た。
ｍａｓｓ：３９２（Ｍ＋１）＋．
実施例１４４−１４７
実施例１４４ないし実施例１４７は、実施例１４２に準じて製造した。
実施例１４４
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．１６−１．４４（１Ｈ，ｍ），２．４０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．３６−２．４４（２Ｈ，ｍ），２．５７−２．６５（１Ｈ，ｍ），２．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１７Ｈｚ），３．４２−３．５３（２Ｈ，ｍ），３．７３−３．８２（１Ｈ，ｍ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１１Ｈｚ），５．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１１Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），６．９８（１Ｈ，ｂｒ），７．５６−７．５７（２Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），９．０５（１Ｈ，ｂｒ），１１．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４０６（Ｍ＋１）＋．
実施例１４５
ｍａｓｓ：４０６（Ｍ＋１）＋．
実施例１４６
ｍａｓｓ：４０６（Ｍ＋１）＋．
実施例１４７
ｍａｓｓ：４０６（Ｍ＋１）＋．
実施例１４８−１５１
実施例１４８ないし実施例１５１はジアステレオマーの混合物であり、実施例１４２に準じて製造した。
実施例１４８
ｍａｓｓ：４２０（Ｍ＋１）＋．
実施例１４９
ｍａｓｓ：４２０（Ｍ＋１）＋．
実施例１５０
ｍａｓｓ：４４８（Ｍ＋１）＋．
実施例１５１
ｍａｓｓ：４４８（Ｍ＋１）＋．
実施例１５２−１５５
実施例１５２ないし１５５は単一のジアステレオマーであり、実施例１５６に準じて製造した。
実施例１５２
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例１５３
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例１５４
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例１５５
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例１５６
（１） 実施例１６４の（３）の化合物３０ｍｇ、１−ピロリンＮ−オキシド５９ｍｇ及びクロロホルム２ｍｌの混合物を８０℃で２３時間攪拌した。反応液を室温に戻してクロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｈ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（２０：１））で精製し、淡黄色油状物２４ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物６ｍｇを用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．２２−１．３５（１Ｈ，ｍ），１．５８−１．８６（３Ｈ，ｍ），１．９９−２．１７（２Ｈ，ｍ），２．３５−２．６２（４Ｈ，ｍ），３．１３−３．２２（１Ｈ，ｍ），３．３３−３．４９（２Ｈ，ｍ），３．７２−３．８４（２Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１１Ｈｚ），５．０８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９５−７．０１（２Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｓ），８．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１１．９（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４２０（Ｍ＋１）＋．
実施例１５７
実施例１６４の（３）の化合物の光学異性体を用い、実施例１５６に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４２０（Ｍ＋１）＋．
実施例１５８
（１） 実施例１６４の（３）の化合物３０ｍｇ及び２−（２−ニトロエトキシ）テトラヒドロピラン５３μｌを用い、実施例１４２に準じて目的物３９ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物７ｍｇを用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物である淡黄色固体４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．２２−１．３９（１Ｈ，ｍ），２．３５−２．６２（３Ｈ，ｍ），３．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１７Ｈｚ），３．４２−３．８２（３Ｈ，ｍ），４．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），４．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１０Ｈｚ），５．６６−５．７３（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．８８（１Ｈ，ｍ），６．９９（１Ｈ，ｓ），７．２２−７．２６（１Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），８．２５−８．３０（１Ｈ，ｍ），９．１６（１Ｈ，ｂｒ），１１．９（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４０８（Ｍ＋１）＋．
実施例１５９
実施例１６４の（３）の化合物の光学異性体を用い、実施例１５８に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４０８（Ｍ＋１）＋．
実施例１６０
実施例１６０の化合物はジアステレオマーの混合物であり、実施例１５６に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４７８（Ｍ＋１）＋．
実施例１６１
実施例１６１の化合物はジアステレオマーの混合物であり、実施例１５７に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４７８（Ｍ＋１）＋．
実施例１６２
実施例１６４の（２）−Ｂの化合物を用い、実施例１６４の（３）から（５）に準じて反応を行い実施例１６２の化合物として淡黄色不定形物質７ｍｇ及び実施例１６３の化合物として淡黄色不定形物質９ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：４６８（Ｍ＋１）＋．
実施例１６３
実施例１６２の化合物のジアステレオマーとして、実施例１６３の化合物を得た。
ｍａｓｓ：４６８（Ｍ＋１）＋．
実施例１６４
（１） 参考例６の化合物３．０８ｇをＨＰＬＣで光学分割を行い、Ｒｔ＝１４．５４分（ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ（ダイセル化学工業（株）、０．４６φｘ２５ｃｍ）、ヘキサン−イソプロパノール（６０：４０）、０．４ｍｌ／ｍｉｎ）の分画（Ａ）１．３７ｇ及びＲｔ＝２５．５８分の分画（Ｂ）１．２１ｇを得た。
（２） （１）−Ａ１５．６ｇ及び（１）−Ｂ１５．９ｇについて、それぞれ参考例７に準じて反応を行い、（２）−Ａとして無色不定形物質１１．０ｇ及び（２）−Ｂとして無色不定形物質１０．９ｇを得た。
（３） （２）−Ａの化合物７２７ｍｇを用い、実施例２９９の（１）に準じて無色不定形物質６０６ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物６０６ｍｇを用い、実施例３００の（１）に準じて目的物７１２ｍｇを得た。このものについてＨＰＬＣを用いてジアステレオマーを分割し、Ｒｔ＝２２．５８分（ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（ダイセル化学工業（株）、０．４６φｘ２５ｃｍ）、エタノール、０．５ｍｌ／ｍｉｎ）の分画（Ａ）３６０ｍｇ及びＲｔ＝３８．８４分の分画（Ｂ）３２９ｍｇを得た。
（５） （４）−Ａ及び（４）−Ｂについて実施例１３３の（２）に準じて反応を行い、（４）−Ａから実施例１６４の化合物として淡黄色不定形物質２９１ｍｇを、（４）−Ｂから実施例１６５の化合物として淡黄色不定形物質２３５ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：４６８（Ｍ＋１）＋．
実施例１６５
実施例１６４の化合物のジアステレオマーとして、実施例１６５の化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．２４−１．３１（１Ｈ，ｍ），１．８２−１．９９（１Ｈ，ｍ），２．３０−２．４５（３Ｈ，ｍ），２．５８−２．７４（３Ｈ，ｍ），２．８２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５．４，９Ｈｚ），２．９０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），３．２９−３．３４（１Ｈ，ｍ），３．４１−３．５０（１Ｈ，ｍ），３．６２−３．８１（３Ｈ，ｍ），６．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６，１１Ｈｚ），６．８０（１Ｈ，ｓ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），７．２３−７．３６（５Ｈ，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｓ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），１２．０（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４６８（Ｍ＋１）＋．
実施例１６６−１６９
実施例１６６ないし１６９は、実施例１８３に準じて製造した。
実施例１６６
ｍａｓｓ：３９２（Ｍ＋１）＋．
実施例１６７
ｍａｓｓ：３９２（Ｍ＋１）＋．
実施例１６８
ｍａｓｓ：３９２（Ｍ＋１）＋．
実施例１６９
ｍａｓｓ：３９２（Ｍ＋１）＋．
実施例１７０
実施例１６２の化合物を用い、実施例１７１に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４７８（Ｍ＋１）＋．
実施例１７１
実施例１６４の化合物を２９１ｍｇ、（Ｂｏｃ）２Ｏ２．８６ｍｌ、２０％水酸化パラジウム−炭素触媒１５０ｍｇ、酢酸エチル３０ｍｌ及びメタノール５ｍｌの混合物を水素気流下で６０℃、１５．５時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコ−ゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル（１：１〜１：５））で精製し、表題化合物として無色不定形物質１８３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．２２−１．４４（１Ｈ，ｍ），１．４９（９Ｈ，ｓ），１．９６−２．０４（１Ｈ，ｍ），２．２７−２．４７（３Ｈ，ｍ），２．５８−２．６４（１Ｈ，ｍ），３．３０−３．３４（２Ｈ，ｍ），３．４１−３．４９（２Ｈ，ｍ），３．５７−３．８９（３Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１１Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｓ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．４６−７．５７（２Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．７６（０、５Ｈ，ｂｒ），８．８８（０．５Ｈ，ｂｒ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４７８（Ｍ＋１）＋．
実施例１７２
実施例１６５の化合物を用い、実施例１７１に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４７８（Ｍ＋１）＋．
実施例１７３
実施例１６３の化合物を用い、実施例１７１に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４７８（Ｍ＋１）＋．
実施例１７４
実施例１７０の化合物を２５ｍｇ及び４Ｎ塩酸−ジオキサン６ｍｌの混合物を室温で１５分攪拌した。反応液を濃縮後、乾燥し、表題化合物として白色固体１７ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０７−１．１４（１Ｈ，ｍ），１．８９−１．９７（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．４１（３Ｈ，ｍ），２．４２−２．５８（１Ｈ，ｍ），３．０４−３．７９（７Ｈ，ｍ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），７．０９−７．１１（１Ｈ，ｍ），７．３１−７．３４（２Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２６−８．２９（２Ｈ，ｍ），９．１６（２Ｈ，ｂｒ），１０．１（１Ｈ，ｓ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３７８（Ｍ＋１）＋．
実施例１７５
実施例１７３の化合物を用い、実施例１７４に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３７８（Ｍ＋１）＋．
実施例１７６
実施例１７１の化合物を用い、実施例１７４に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３７８（Ｍ＋１）＋．
実施例１７７
実施例１７２の化合物を用い、実施例１７４に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３７８（Ｍ＋１）＋．
実施例１７８
実施例１７４の化合物のラセミ体の塩酸塩を５ｍｇ及びｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−（２−オキソエチル）カーバメート８ｍｇを用い、実施例８４の（２）に準じて表題化合物５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．２２−１．４２（１Ｈ，ｍ），１．４５（９Ｈ，ｓ），１．８２−１．８９（１Ｈ，ｍ），２．２９−２．４９（３Ｈ，ｍ），２．５１−２．８０（４Ｈ，ｍ），２．８１−２．９８（２Ｈ，ｍ），３．２２−３．３４（３Ｈ，ｍ），３．４１−３．４９（１Ｈ，ｍ），３．７１−３．８１（１Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１１Ｈｚ），５．０４（１Ｈ，ｂｒ），６．８２（１Ｈ，ｓ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｂｒ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５２１（Ｍ＋１）＋．
実施例１７９−１８２
実施例１７９ないし実施例１８２の化合物は、実施例１８３に準じて製造した。
実施例１７９
ｍａｓｓ：４６０（Ｍ＋１）＋．
実施例１８０
ｍａｓｓ：４６０（Ｍ＋１）＋．
実施例１８１
ｍａｓｓ：４６０（Ｍ＋１）＋．
実施例１８２
ｍａｓｓ：４６０（Ｍ＋１）＋．
実施例１８３
実施例１７７の化合物を７ｍｇ及びブチルアルデヒド７μｌを用い、実施例１７８に準じて表題化合物である淡黄色油状物７ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
０．９３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．２５−１．４３（３Ｈ，ｍ），１．５２（２Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．７１−１．９１（１Ｈ，ｍ），２．３２−２．６６（８Ｈ，ｍ），２．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．９６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），３．３０−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．４２−３．４８（１Ｈ，ｍ），３．７２−３．８２（１Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１１Ｈｚ），６．８０（１Ｈ，ｂｒ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｂｒ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例１８４−１９０
実施例１８４ないし実施例１９０の化合物は、実施例１８３に準じて製造した。
実施例１８４
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例１８５
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例１８６
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例１８７
ｍａｓｓ：５６１（Ｍ＋１）＋．
実施例１８８
ｍａｓｓ：５６１（Ｍ＋１）＋．
実施例１８９
ｍａｓｓ：５６１（Ｍ＋１）＋．
実施例１９０
ｍａｓｓ：５６１（Ｍ＋１）＋．
実施例１９１
実施例１８７の化合物を用い、実施例１９３に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４６１（Ｍ＋１）＋．
実施例１９２
実施例１８８の化合物を用い、実施例１９３に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４６１（Ｍ＋１）＋．
実施例１９３
実施例１８９の化合物を６ｍｇ用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物の塩酸塩である黄色固体４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０４−１．１１（１Ｈ，ｍ），１．６５−２．０３（３Ｈ，ｍ），２．１９−２．５９（９Ｈ，ｍ），３．１３−３．３４（３Ｈ，ｍ），３．３６−４．０３（６Ｈ，ｍ），４．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１０Ｈｚ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．１６−７．５５（２Ｈ，ｍ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），９．５２（１Ｈ，ｂｒ），１０．３（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ），１０．８（１Ｈ，ｂｒ），１１．７（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４６１（Ｍ＋１）＋．
実施例１９４
実施例１９０の化合物を用い、実施例１９３に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４６１（Ｍ＋１）＋．
実施例１９５−２１０
実施例１９５ないし実施例２１０の化合物は、実施例１８３に準じて製造した。
実施例１９５
ｍａｓｓ：４８８（Ｍ＋１）＋．
実施例１９６
ｍａｓｓ：４８８（Ｍ＋１）＋．
実施例１９７
ｍａｓｓ：４８８（Ｍ＋１）＋．
実施例１９８
ｍａｓｓ：４８８（Ｍ＋１）＋．
実施例１９９
ｍａｓｓ：５０４（Ｍ＋１）＋．
実施例２００
ｍａｓｓ：５０４（Ｍ＋１）＋．
実施例２０１
ｍａｓｓ：５０４（Ｍ＋１）＋．
実施例２０２
ｍａｓｓ：５０４（Ｍ＋１）＋．
実施例２０３
ｍａｓｓ：４９４（Ｍ＋１）＋．
実施例２０４
ｍａｓｓ：４９４（Ｍ＋１）＋．
実施例２０５
ｍａｓｓ：４９４（Ｍ＋１）＋．
実施例２０６
ｍａｓｓ：４９４（Ｍ＋１）＋．
実施例２０７
ｍａｓｓ：５５１（Ｍ＋１）＋．
実施例２０８
ｍａｓｓ：５５１（Ｍ＋１）＋．
実施例２０９
ｍａｓｓ：５５１（Ｍ＋１）＋．
実施例２１０
ｍａｓｓ：５５１（Ｍ＋１）＋．
実施例２１１−２４０
実施例２１１ないし実施例２４０の化合物は、実施例１７８に準じて製造した。
実施例２１１
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例２１２
ｍａｓｓ：４４８（Ｍ＋１）＋．
実施例２１３
ｍａｓｓ：４８２（Ｍ＋１）＋．
実施例２１４
ｍａｓｓ：４６２（Ｍ＋１）＋．
実施例２１５
ｍａｓｓ：４２０（Ｍ＋１）＋．
実施例２１６
ｍａｓｓ：５１８（Ｍ＋１）＋．
実施例２１７
ｍａｓｓ：５１８（Ｍ＋１）＋．
実施例２１８
ｍａｓｓ：４４８（Ｍ＋１）＋．
実施例２１９
ｍａｓｓ：４４６（Ｍ＋１）＋．
実施例２２０
ｍａｓｓ：４７４（Ｍ＋１）＋．
実施例２２１
ｍａｓｓ：４２０（Ｍ＋１）＋．
実施例２２２
ｍａｓｓ：４６２（Ｍ＋１）＋．
実施例２２３
ｍａｓｓ：５０７（Ｍ＋１）＋．
実施例２２４
ｍａｓｓ：５１２（Ｍ＋１）＋．
実施例２２５
ｍａｓｓ：５１２（Ｍ＋１）＋．
実施例２２６
ｍａｓｓ：４８４（Ｍ＋１）＋．
実施例２２７
ｍａｓｓ：４５８（Ｍ＋１）＋．
実施例２２８
ｍａｓｓ：５０４（Ｍ＋１）＋．
実施例２２９
ｍａｓｓ：４５０（Ｍ＋１）＋．
実施例２３０
ｍａｓｓ：４３２（Ｍ＋１）＋．
実施例２３１
ｍａｓｓ：５１９（Ｍ＋１）＋．
実施例２３２
ｍａｓｓ：４５７（Ｍ＋１）＋．
実施例２３３
ｍａｓｓ：４７１（Ｍ＋１）＋．
実施例２３４
ｍａｓｓ：４６９（Ｍ＋１）＋．
実施例２３５
ｍａｓｓ：４６９（Ｍ＋１）＋．
実施例２３６
ｍａｓｓ：４６９（Ｍ＋１）＋．
実施例２３７
ｍａｓｓ：４５２（Ｍ＋１）＋．
実施例２３８
ｍａｓｓ：４７２（Ｍ＋１）＋．
実施例２３９
ｍａｓｓ：４５８（Ｍ＋１）＋．
実施例２４０
ｍａｓｓ：５２２（Ｍ＋１）＋．
実施例２４１
実施例１７８の化合物を４ｍｇを用い、実施例１３３の（２）に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）
１．１４−１．２８（１Ｈ，ｍ），１．５１−１．７６（１Ｈ，ｍ），２．３０−２．４８（３Ｈ，ｍ），２．６２−２．７５（２Ｈ，ｍ），３．４２−３．７６（１０Ｈ，ｍ），４．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１１Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｂｒ），７．５７−７．５９（３Ｈ，ｍ），８．０４−８．０７（１Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）．
ｍａｓｓ：４２１（Ｍ＋１）＋．
実施例２４２−２４７
実施例２４２ないし実施例２４７の化合物は、実施例１７８に準じて製造した。
実施例２４２
ｍａｓｓ：５００（Ｍ＋１）＋．
実施例２４３
ｍａｓｓ：５１４（Ｍ＋１）＋．
実施例２４４
ｍａｓｓ：５１４（Ｍ＋１）＋．
実施例２４５
ｍａｓｓ：４８６（Ｍ＋１）＋．
実施例２４６
ｍａｓｓ：４７２（Ｍ＋１）＋．
実施例２４７
ｍａｓｓ：４８４（Ｍ＋１）＋．
実施例２４８
実施例２４９に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４９６（Ｍ＋１）＋．
実施例２４９
実施例１７４の化合物のラセミ体の塩酸塩５ｍｇをアセトン−水（２：１）（０．３ｍｌ）に溶解し、酢酸ナトリウム４ｍｇを加えて０℃に冷却し、塩化２，６−ジクロロベンゾイル２μｌを加えて４時間攪拌した。反応液に水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｈ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（２０：１））で精製し、表題化合物として白色固体５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．２１−１．３６（１Ｈ，ｍ），２．０６−２．１８（１Ｈ，ｍ），２．３３−２．６４（４Ｈ，ｍ），３．２４−４．０３（６Ｈ，ｍ），４．２１−４．２７（１Ｈ，ｍ），４．７４−４．８３（１Ｈ，ｍ），６．７４（０．５Ｈ，ｓ），６．８２（０．５Ｈ，ｓ），６．８８（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．９４（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．２３−７．３８（３Ｈ，ｍ），７．４５−７．７７（２Ｈ，ｍ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５３（１Ｈ，ｓ），１１．８（０．５Ｈ，ｓ），１１．９（０．５Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：５５０（Ｍ＋１）＋．
実施例２５０−２５３
実施例２５０ないし実施例２５３の化合物は、実施例２４９に準じて製造した。
実施例２５０
ｍａｓｓ：４８８（Ｍ＋１）＋．
実施例２５１
ｍａｓｓ：４８３（Ｍ＋１）＋．
実施例２５２
ｍａｓｓ：４８３（Ｍ＋１）＋．
実施例２５３
ｍａｓｓ：４８３（Ｍ＋１）＋．
実施例２５４
（１） 実施例２６４の（１）の化合物３．８ｇ及びエノールトリフラート（１−ベンジル−４−ピペリドン、リチウムジイソプロピルアミド、Ｎ−フェニルトリフルオロメタンスルホンイミド及びテトラヒドロフランから通常の方法に従って調整した）２．８ｇを用いて実施例２６４の（３）の方法に準じて褐色油状物１．９ｇを得た。
（２） （１）の化合物１．９ｇを用いて実施例８０（２）、（３）の方法に準じて、白色固体２３０ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２８（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．８０（７Ｈ，ｍ），３．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），３．４５（１Ｈ，ｍ），３．６７（２Ｈ，ｓ），３．７８（１Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．３６（１Ｈ，ｂｒ），６．８８（１Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．２０−７．５０（６Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．８６（１Ｈ，ｓ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４８０（Ｍ＋１）＋．
実施例２５５
実施例２５４の化合物１６０ｍｇを用いて参考例３に準じて反応を行い、白色固体５２ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．３２（１Ｈ，ｍ），１．７０−２．００（４Ｈ，ｍ），２．０３（２Ｈ，ｍ），２．２５−２．８０（４Ｈ，ｍ）３．０８（２Ｈ，ｍ），３．４９（１Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｓ），３．８１（１Ｈ，ｍ），４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．７２（１Ｈ，ｓ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），７．２０−７．５０（５Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．０７（１Ｈ，ｓ，），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４８２（Ｍ＋１）＋．
実施例２５６
１−ベンジル−３−ピペリドンを用いて実施例２５４に準じて反応を行い、白色固体５２ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．３０（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．８０（７Ｈ，ｍ），３．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），３．４８（１Ｈ，ｍ），３．７２（２Ｈ，ｓ），３．７６（１Ｈ，ｍ），４．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１１Ｈｚ），６．４４（１Ｈ，ｍ），６．７８（１Ｈ，ｓ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｓ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４８０（Ｍ＋１）＋．
実施例２５７
実施例２５６の化合物を３０ｍｇ用いて参考例３に準じて反応を行い、白色固体１２ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２０−１．４０（１Ｈ，ｍ），１．６０−２．２０（５Ｈ，ｍ），２．２０−２．７０（３Ｈ，ｍ），２．８０−３．００（３Ｈ，ｍ），３．４５（１Ｈ，ｍ），３．５５（２Ｈ，ｓ），３．７５（１Ｈ，ｍ），４．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），７．１０−７．４０（５Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｓ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４８２（Ｍ＋１）＋．
実施例２５８
実施例２５６の化合物を１８０ｍｇ用いて実施例２６０に準じて、黄色固体１７ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２５（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．７０（５Ｈ，ｍ），３．０１（２Ｈ，ｍ），３．４５（１Ｈ，ｍ），３．７０（２Ｈ，ｓ），３．７５（１Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．４８（１Ｈ，ｍ），６．６７（１Ｈ，ｓ），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｓ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９０（Ｍ＋１）＋．
実施例２５９
実施例２５８の化合物を２０ｍｇ用いて実施例２６１に準じて白色固体５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２５（１Ｈ，ｍ），２．２０（３Ｈ，ｓ），２．３０−２．８０（５Ｈ，ｍ），３．４０−３．９０（４Ｈ，ｍ），４．４２（２Ｈ，ｍ），４．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．５０（１Ｈ，ｍ），５．８２（１Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２０（２Ｈ，ｍ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），１１．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４３２（Ｍ＋１）＋．
実施例２６０
（１） 実施例２５４の化合物を２８０ｍｇ、クロロギ酸１−クロロエチルエステル１００ｍｇ、トリエチルアミン７１ｍｇ及びクロロホルム５ｍｌの混合物を室温で３０分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９８：２））で精製し、２９５ｍｇの固体を得た。
（２） （１）の化合物２９５ｍｇをメタノール（５ｍｌ）に溶解し、３時間還流した。反応液を室温に戻して飽和重曹水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＦＬ６０Ｄ（富士シリシア株式会社）、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９５：５））で精製し、淡黄色固体１６０ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２８（１Ｈ，ｍ），２．４０（３Ｈ，ｍ），２．６２（１Ｈ，ｍ），３．１２（２Ｈ，ｍ），３．４５（１Ｈ，ｍ），３．５９（２Ｈ，ｓ），３．７７（１Ｈ，ｍ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．４２（１Ｈ，ｍ），６．８１（１Ｈ，ｓ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．２６（１Ｈ，ｓ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｓ，），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９０（Ｍ＋１）＋．
実施例２６１
実施例２６０の化合物を３０ｍｇ、塩化アセチル６．６μｌ、トリエチルアミン１３μｌ及びクロロホルム３ｍｌの混合物を室温で１時間攪拌した。反応液に飽和重曹水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過して、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（９：１））で精製し、白色結晶５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２５（１Ｈ，ｍ），２．２２（３Ｈ，ｓ），２．２０−２．８０（５Ｈ，ｍ），３．４０−３．９５（４Ｈ，ｍ），４．３５（２Ｈ，ｍ），４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．４０（１Ｈ，ｍ），６．８０（１Ｈ，ｓ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２０（２Ｈ，ｍ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），１１．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４３２（Ｍ＋１）＋．
実施例２６２
実施例２６０の化合物を２０ｍｇ用いて実施例８４の（２）に準じて白色固体３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０５−２．２０（１４Ｈ，ｍ），２．２０−２．９０（６Ｈ，ｍ），３．２２−３．５０（３Ｈ，ｍ），３．７０−３．８２（１Ｈ，ｍ），４．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８，１１Ｈｚ），６．３７（１Ｈ，ｍ），６．７７（１Ｈ，ｓ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１２．０（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４７２（Ｍ＋１）＋．
実施例２６３
実施例２６３の化合物は、実施例２６２に準じて製造した。
ｍａｓｓ：５０６（Ｍ＋１）＋．
実施例２６４
（１） ４−クロロピリジン−２−カルボン酸メチルエステルの塩酸塩３ｇをジオキサン１４０ｍｌに加え、ヘキサブチルジチン８．４ｇ及びテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムを加えて、窒素気流下、１２時間還流した。反応液を室温に戻し、１０％フッ化カリウム水溶液を加えて３０分攪拌後、エーテルで希釈して濾過した。濾液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（１：０〜２：１））で精製し、無色油状物０．９ｇを得た。
（２） （１）の化合物６．３ｇを用いて実施例８０（２）、（３）の方法に準じて、油状物２．８ｇを得た。
（３） （２）の化合物６０ｍｇ、３−ブロモピリジン４７ｍｇ、２−ジシクロヘキシリホスフィノ）ビフェニル２１ｍｇ、塩化リチウム９ｍｇ、トリスジベンジリデンジパラジウム２１ｍｇ及びテトラヒドロフラン２ｍｌの混合物を１晩還流した。反応液に１０％フッ化カリウム水溶液、クロロホルムを加え有機層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（９：１））で精製し、白色結晶５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１０−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．３３−２．４０（１Ｈ，ｍ），２．４０−２．７８〈２Ｈ，ｍ〉，３．２８−３．３３（１Ｈ，ｍ），３．５３（１Ｈ，ｍ），４．８４（１Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．４３−７．４９（１Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，７．７Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｓ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，７．７Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），１０．０（１Ｈ、ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３８６（Ｍ＋１）＋．
実施例２６５−２７７
実施例２６５ないし実施例２７７の化合物は、実施例２６４に準じて製造した。
実施例２６５
ｍａｓｓ：３８５（Ｍ＋１）＋．
実施例２６６
ｍａｓｓ：４２３（Ｍ＋１）＋．
実施例２６７
ｍａｓｓ：３８６（Ｍ＋１）＋．
実施例２６８
ｍａｓｓ：３８６（Ｍ＋１）＋．
実施例２６９
ｍａｓｓ：３９２（Ｍ＋１）＋．
実施例２７０
ｍａｓｓ：３９１（Ｍ＋１）＋．
実施例２７１
ｍａｓｓ：４６５（Ｍ＋１）＋．
実施例２７２
ｍａｓｓ：４３５（Ｍ＋１）＋．
実施例２７３
ｍａｓｓ：４３５（Ｍ＋１）＋．
実施例２７４
ｍａｓｓ：３９１（Ｍ＋１）＋．
実施例２７５
ｍａｓｓ：３８９（Ｍ＋１）＋．
実施例２７６
ｍａｓｓ：４０７（Ｍ＋１）＋．
実施例２７７
ｍａｓｓ：４４５（Ｍ＋１）＋．
実施例２７８
実施例８２の化合物を用いて実施例２６１に準じて反応を行い、白色固体９ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．１５（１Ｈ，ｍ），１．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．２０−２．６０（３Ｈ，ｍ），３．３０（１Ｈ，ｍ），３．５５（１Ｈ，ｍ），４．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｓ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．４２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），９．９７（１Ｈ，ｓ），１１．３（１Ｈ、ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４０８（Ｍ＋１）＋．
実施例２７９
実施例８０の化合物３０ｍｇ及び塩化ブタノイルをジメチルホルムアミドに溶解し、９０℃で３０分攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−テトラヒドロフラン（７：３））で精製し、白色結晶８ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２５（１Ｈ，ｍ），１．７０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．３０−２．６０（１Ｈ，ｍ），２．４０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．３０−２．５５（２Ｈ，ｍ），２．６０（１Ｈ，ｍ），３．４５（１Ｈ，ｍ），３．７９（１Ｈ，ｍ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．８４（１Ｈ，ｓ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），１１．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４０９（Ｍ＋１）＋．
実施例２８０
実施例２８０の化合物は、実施例２７９に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４４９（Ｍ＋１）＋．
実施例２８１
実施例２８１の化合物は、実施例２７８に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４４８（Ｍ＋１）＋．
実施例２８２
１） ２−アミノピリジン−４−カルボン酸１ｇ、塩化チオニル２．８ｍｌ及びメタノール３６ｍｌの混合物を1晩還流した。反応液を濃縮し、残渣に飽和重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９８：２））で精製し、目的物１．０５ｇを得た。
（２） 参考例３の化合物１．８ｇ、トリクロロ酢酸無水物０．３５ｍｌ、トリエチルアミン０．２ｍｌ、塩化メチレン５ｍｌ及びテトラヒドロフラン１０ｍｌの混合物を室温で２時間攪拌した。反応液に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−テトラヒドロフラン（９：１〜８：２））で精製し、褐色無定形物質２．９２ｇを得た。
得られた化合物１．７７ｇ、（１）の化合物１．０５ｇ、ＤＢＵ１ｍｌ及びジメチルスルホキシド８ｍｌの混合物を１００℃で３時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（９７：３））で精製し、目的物１．２１ｇを得た。
（３） （２）の化合物３００ｍｇ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１０ｍｌ及びメタノール３ｍｌの混合物を９０℃で１時間攪拌した。反応液を１Ｎ塩酸でｐＨ４にした後、クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をクロロホルム−酢酸エチルで洗浄し、白色固体８０ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物１８ｍｇを用いて実施例４０９の（１）に準じて、表題化合物である白色固体５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．１３（１Ｈ，ｍ），１．３２（１Ｈ，ｍ），１．５３（２Ｈ，ｍ），２．２０−２．７０（３Ｈ，ｍ），３．２０−３．７０（４Ｈ，ｍ），４．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｓ），８．３０（１Ｈ，ｄ，＝７．９Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１０．１（１Ｈ，ｓ），１０．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４０８（Ｍ＋１）＋．
実施例２８３−２８６
実施例２８３ないし実施例２８６の化合物は、実施例２８２に準じて製造した。
実施例２８３
ｍａｓｓ：４３４（Ｍ＋１）＋．
実施例２８４
ｍａｓｓ：４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例２８５
ｍａｓｓ：４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例２８６
ｍａｓｓ：４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例２８７
（１） イソキノリン−３−カルボン酸９０ｍｇを用いて参考例１に準じて黄色固体１４ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物１４ｍｇを用いて実施例７９に準じて表題化合物である白色固体１３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１０−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．５０（２Ｈ，ｍ），２．５８−２．７０（１Ｈ，ｍ），３．２０−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．４８−３．６２（１Ｈ，ｍ），４．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１０Ｈｚ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４９（２Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．０２（１Ｈ，ｓ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．１８（１Ｈ，ｓ），９．７０（１Ｈ，ｂｒ），９．９０（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３５９（Ｍ＋１）＋．
実施例２８８
（１） イソキノリン−３−カルボン酸３００ｍｇ、酸化白金３０ｍｇ、４Ｎ塩酸−ジオキサン５ｍｌ及びメタノール５ｍｌを混合し、容器内を水素置換して室温で６時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮して粗生成物３２ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物１３０ｍｇを用いて実施例２８７に準じて表題化合物である白色固体２３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ），１．６０−１．８０（４Ｈ，ｍ），２．２０−２．７０（７Ｈ，ｍ），３．２０−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．４５−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１０Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｓ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．００（１Ｈ，ｓ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．７１（１Ｈ，ｓ），１１．２（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３６３（Ｍ＋１）＋．
実施例２８９
（１） ４−ピリジンカルボキシアルデヒドのジメチルアセタール１５ｇのテトラヒドロフラン（３００ｍｌ）溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ）７３ｍｌを加えて−７８℃から０℃に昇温した。３−ブロモブタノールのｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル２５ｇを加えて０℃で３時間攪拌した。反応液を室温に戻し、飽和重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（２：１））で精製し、油状物１７ｇを得た。
（２） （１）の化合物７ｇを用いて参考例７に準じて油状物３．９ｇを得た。
（３） （２）の化合物３ｇを用いて参考例８に準じて褐色油状物７ｇを得た。
（４） （３）の化合物７ｇ、トリフェニルホスフィン５．８ｇを水−テトラヒドロフラン（１：１０）に加え、５０℃で２時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＦＬ６０Ｄ（富士シリシア株式会社）、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９８：２））で精製し、褐色油状物２．１ｇを得た。
（５） （４）の化合物２．１ｇのクロロホルム（１０ｍｌ）溶液にギ酸５ｍｌを加え８０℃で２時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をメタノール（１０ｍｌ）に溶解したところへ水素化ホウ素ナトリウム７．４ｇを加え室温で１時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＦＬ６０Ｄ（富士シリシア株式会社）、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９８：２））で精製し、０．５７ｇを得た。
（６） （５）の化合物０．５７ｇ、塩化ｐ−ニトロベンゼンスルホニル１．７ｇ、ジメチルアミノピリジン０．７１ｇ及びクロロホルム５ｍｌの混合物を室温で２時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９８：２））で精製し、目的物０．７３ｇを得た。
（７） （６）の化合物０．７３ｇ、二酸化マンガン５０ｍｇ、３０％過酸化水素水５ｍｌ及びクロロホルム２０ｍｌの混合物を室温で６時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９８：２））で精製し、結晶０．７８ｇを得た。
（８） （７）の化合物０．７８ｇ、トリエチルアミン０．７１ｍｌ、トリメチルシリルシアニド０．６６ｍｌ及びアセトニトリル−クロロホルムの混合物を８０℃で３時間攪拌した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９８：２））で精製し、結晶０．７１ｇを得た。
（９） （８）の化合物を用いて参考例４、５に準じて目的物７５ｍｇを得た。
（１０） （９）の化合物７５ｍｇを用いて参考例１１に準じて表題化合物である淡黄色固体を１８ｍｇ、及び実施例２９２の化合物である黄色固体１．４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２５（１Ｈ，ｍ），１．６０−２．００（３Ｈ，ｍ），２．２０−２．６０（４Ｈ，ｍ），２．６４（１Ｈ，ｍ），３．１５（２Ｈ，ｍ），３．４５（１Ｈ，ｍ），３．７８（１Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．９８（１Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），４．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｓ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３７８（Ｍ＋１）＋．
実施例２９０
実施例２８９の化合物７ｍｇをメタノール２ｍｌに溶解し、ホルマリン５０μｌを加えて室温で４時間攪拌した。反応液にメタノール３ｍｌを加え、水素化ホウ素ナトリウム１００ｍｇを加えて室温で１時間攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加えて過剰の試薬を分解した後、飽和重曹水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過，濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＦＬ６０Ｄ（富士シリシア株式会社）、クロロホルム−メタノール（９：１））で精製し、表題化合物である黄色固体３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２５（１Ｈ，ｍ），１．５５−２．１０（４Ｈ，ｍ），２．２２（３Ｈ，ｓ），２．２０−２．４０（３Ｈ，ｍ），２．６５（１Ｈ，ｍ），３．１４（１Ｈ，ｍ），３．２５（１Ｈ，ｍ），３．５０（１Ｈ，ｍ），３．７９（１Ｈ，ｍ），４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｓ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｓ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９２（Ｍ＋１）＋．
実施例２９１
実施例２８９の化合物を７ｍｇ、無水酢酸６ｍｇ、ジメチルアミノピリジン５ｍｇ及びクロロホルム２ｍｌの混合物を室温で1晩攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（７：３））で精製し、表題化合物の固体３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２５（１Ｈ，ｍ），１．８０−２．１０（３Ｈ，ｍ），２．１１（３Ｈ，ｓ），２．２０−２．７０（４Ｈ，ｍ），３．３０−３．８０（４Ｈ，ｍ），４．６０−５．２０（２Ｈ，ｍ），６．６０−６．９０（１Ｈ，ｍ），７．４０−７．６０（２Ｈ，ｍ），８．００−８．４０（２Ｈ，ｍ），９．１０（１Ｈ，ｂｒ），１１．９（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例２９２
実施例２９２の化合物は、実施例２８９の化合物を製造する最終工程において得られた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２０−１．６０（３Ｈ，ｍ），２．１０（２Ｈ，ｍ），２．４０（２Ｈ，ｍ），２．６０（１Ｈ，ｍ），２．９０（２Ｈ，ｍ），３．４５（１Ｈ，ｍ），３．７８（１Ｈ，ｍ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），７．１０−７．６０（４Ｈ，ｍ），８．００−８．４０（３Ｈ，ｍ），１１．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３７６（Ｍ＋１）＋．
実施例２９３
（１） 実施例８０の（３）の化合物９ｇを用いて参考例６に準じて褐色油状物８．５ｇを得た。
（２） （１）の化合物８．５ｇを用いて実施例８０の（４）に準じて褐色不定形物質４．７ｇを得た。
（３） （２）の化合物２５０ｍｇを用いて実施例８４の（１）に準じて目的物２１０ｍｇを得た。
（４） ジ−ｏ−トルイルホスホノ酢酸エチルエステル３８ｍｇのテトラヒドロフラン（２ｍｌ）溶液を−７８度に冷却し、（３）の化合物４３ｍｇのテトラヒドロフラン（１ｍｌ）溶液を加え−７８℃で２時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて室温に戻した。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９７：３））次いでＴＬＣ（Ｍｅｒｃｈ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−テトラヒドロフラン（９：１））で精製し、無色油状物４０ｍｇを得た。
（５） （４）の化合物４０ｍｇ、６Ｎ塩酸及びテトラヒドロフラン５ｍｌの混合物を室温で１５分攪拌した。反応液をクロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮して表題化合物である無色固体を１９ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．０９−１．１５（１Ｈ，ｍ），２．３０−３．３８（２Ｈ，ｍ），２．４８−２．５６（１Ｈ，ｍ），３．２０−３．３１（１Ｈ，ｍ），３．５１−３．５５（１Ｈ，ｍ），４．１１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．７９−４．８５（１Ｈ，ｍ），６．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ），７．０４（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．３２（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．２８−８．３０（２Ｈ，ｍ），９．９９（１Ｈ，ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４０７（Ｍ＋１）＋．
実施例２９４
（１） ジエチルホスホノ酢酸エチルエステル２２ｍｇのテトラヒドロフラン（２ｍｌ）溶液を氷冷し、水素化ナトリウム４ｍｇを加えて３０分攪拌した。実施例２９３の（３）の化合物４３ｍｇのテトラヒドロフラン（１ｍｌ）溶液を加えて２時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて室温に戻し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９７：３））で精製して白色固体４２ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物４２ｍｇを用いて実施例２９３の（５）に準じて表題化合物である白色固体２１ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ），１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２０−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．４０−２．６０（１Ｈ，ｍ），３．２０−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．４５−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．２３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．８４（１Ｈ，ｍ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４０−７．５０（３Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），１０．０（１Ｈ，ｓ），１０．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４０７（Ｍ＋１）＋．
実施例２９５
実施例２９４の（１）の化合物５０ｍｇのクロロホルム（５ｍｌ）溶液に塩化亜鉛２７ｍｇ及び水素化ホウ素ナトリウム７ｍｇを加え、３時間還流した。実施例２９０と同様の後処理を行い、表題化合物である白色固体３２ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．６０（３Ｈ，ｍ），３．２０−３．６０（２Ｈ，ｍ），４．１７（２Ｈ，ｍ），４．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），５．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．２２（１Ｈ，ｓ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．９４（１Ｈ，ｓ），１１．３（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３６５（Ｍ＋１）＋．
実施例２９６
実施例２９４の（１）の化合物３０ｍｇのメタノール（１０ｍｌ）溶液に塩化銅（Ｉ）１０ｍｇ及び水素化ホウ素ナトリウム４ｍｇを加え原料が消失するまで攪拌した。実施例２９０と同様の後処理を行い、表題化合物である白色固体１３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０５−１．２５（１Ｈ，ｍ），１．１５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２０−２．６０（３Ｈ，ｍ），２．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．８３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．２０−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．４５−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．０４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．８１（１Ｈ，ｍ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｓ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．９０（１Ｈ，ｓ），１２．３（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４０９（Ｍ＋１）＋．
実施例２９７
実施例２９３の化合物６０ｍｇをクロロホルム３０ｍｌに溶解し、水素化ジイソプロピルアルミニウムのトルエン溶液（１．０Ｍ）を０．９ｍｌ加えて−３０〜−２０℃で３０分攪拌した。実施例２９０と同様の後処理を行い、表題化合物である白色固体１７ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２５（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．７０（３Ｈ，ｍ），３．３０（１Ｈ，ｍ），３．５３（１Ｈ，ｍ），４．１５−４．４０（２Ｈ，ｍ），４．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），５．００（１Ｈ，ｍ），６．００（１Ｈ，ｍ），６．３８（１Ｈ，ｍ），６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，ｓ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２８（２Ｈ，ｍ），９．９０（１Ｈ，ｓ），１１．１（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３６５（Ｍ＋１）＋．
実施例２９８
実施例２９４の化合物を４０ｍｇ、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液５ｍｌ、テトラヒドロフラン２ｍｌ及びメタノール２ｍｌの混合物を室温で１時間攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加えてｐＨ３としてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｈ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（９：１））で精製した後、再結晶を行い、表題化合物の白色固体２２ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．６０（３Ｈ，ｍ），３．１５（１Ｈ，ｍ），３．４５−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．８２（１Ｈ，ｍ），６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），７．２０−７．６０（５Ｈ，ｍ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），１０．２（１Ｈ，ｓ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ），１２．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３７９（Ｍ＋１）＋．
実施例２９９
（１） 実施例７の化合物７２７ｍｇ、ＤＢＵ１．４９６ｍｌ及びテトラヒドロフラン１０ｍｌの混合物を０℃に冷却し、塩化メタンスルホニル０．３１０ｍｌのテトラヒドロフラン（２ｍｌ）溶液を加えて室温で１１時間攪拌した。反応液に水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（１：１〜０：１））で精製し、無色不定形物質６０６ｍｇを得た。
（２） 実施例１３３の（２）に準じて表題化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０７−１．１４（１Ｈ，ｍ），２．２９−２．５７（３Ｈ，ｍ），３．２４−３．８８（２Ｈ，ｍ），４．７９−４．８５（１Ｈ，ｍ），５．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），６．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），６．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１，１８Ｈｚ），７．２２−７．２４（１Ｈ，ｍ），７．２９−７．３４（２Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２２−８．２７（２Ｈ，ｍ），１０．１（１Ｈ，ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３５（Ｍ＋１）＋．
実施例３００
（１） 実施例２９４の（１）の化合物８０ｍｇの塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を氷冷し、トリフルオロ酢酸２７４ｍｇ及びＮ−（メトキシメチル）−Ｎ−トリメチルシリルメチル）ベンジルアミン１９０ｍｇを加え３時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（９：１））で精製した後、再結晶を行い、淡黄色油状物９１ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物９１ｍｇを用いて実施例２９３の（５）に準じて表題化合物である白色固体５０ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２４（１Ｈ，ｍ），１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｈ＝７．４Ｈｚ），２．２０−２．７５（３Ｈ，ｍ），２．８０（１Ｈ，ｍ），２．９５（１Ｈ，ｍ），３．０５（１Ｈ，ｍ），３．１９（１Ｈ，ｍ），３．４５（１Ｈ，ｍ），３．６０−３．９０（４Ｈ，ｍ），４．１８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｓ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．１０−７．４５（５Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．８２（１Ｈ，ｓ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５４０（Ｍ＋１）＋．
実施例３０１
実施例３０１の化合物は、実施例２９３の（４）の化合物を用い、実施例３００に準じて製造した。
ｍａｓｓ：５４０（Ｍ＋１）＋．
実施例３０２
実施例３００の化合物の３０ｍｇのテトラヒドロフラン（３ｍｌ）溶液を氷冷し、水素化アルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液（２Ｍ）５６μｌ及びメタノールのテトラヒドロフラン溶液（１Ｍ）０．２２ｍｌを加えて室温で３０分攪拌した。実施例２９０と同様の後処理を行い、表題化合物（低極性分画）の白色固体１．２ｍｇ及び表題化合物のジアステレオマーである実施例３０３の化合物（高極性分画）の白色固体２．３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２５（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．６０（３Ｈ，ｍ），３．３０−４．４０（１２Ｈ，ｍ），４．７８（１Ｈ，ｍ），６．６０−７．００（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．８０（７Ｈ，ｍ），８．１０−８．４０（２Ｈ，ｍ），１１．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４９８（Ｍ＋１）＋．
実施例３０３
実施例３０３の化合物は、実施例３０２のジアステレオマーとして得られた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２５（１Ｈ，ｍ），２．００−２．７０（３Ｈ，ｍ），２．８０−４．４０（１２Ｈ，ｍ），４．７８（１Ｈ，ｍ），６．７５（１Ｈ，ｓ），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．２０−７．７０（７Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），１１．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４９８（Ｍ＋１）＋．
実施例３０４
実施例３０４の化合物は、実施例３０１の化合物を用い、実施例３０３に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４９８（Ｍ＋１）＋．
実施例３０５
（１） 実施例２９３の（４）の化合物５０ｍｇ、イソプレン３４ｍｇ及びトルエン３ｍｌの混合物を封管中で１２０℃で1晩反応させた。反応液を濃縮し、残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｈ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（９：１））で精製し、付加体５２ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物について実施例２９３の（５）に準じて反応を行い、表題化合物である白色固体１８ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２５（１Ｈ，ｍ），１．６８（ｓ），１．７２（ｓ），１．６８−１．７２（３Ｈ），２．００−３．２０（９Ｈ，ｍ），３．４２（１Ｈ，ｍ），３．７８（１Ｈ，ｍ），３．９８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），５．４９（１Ｈ，ｍ），６．８４（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．２５（１Ｈ，ｓ），１２．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４７５（Ｍ＋１）＋．
実施例３０６
（１） 実施例３の化合物及び塩化４−ニトロベンゾイルを用いて実施例２６１に準じて黄色固体を得た。
（２） （１）の化合物２２．１ｇをＨＰＬＣ（ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ、ヘキサン−エタノール（１：１〜１：４））で光学分割して、Ｒｔ＝２２分の化合物（Ａ）を１１．２ｇ及びＲｔ＝３０分の化合物（Ｂ）１０．１ｇを得た。
（３） （２）−Ａの化合物１０ｇ、６Ｎ塩酸３０ｍｌ及び酢酸３０ｍｌの混合物を８０℃で３日間攪拌した。反応液を室温に戻して、飽和重曹水で塩基性とした後クロロホルムで抽出した。有機層を１Ｎ水酸化カリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９８：２））で精製した後、エタノールから再結晶を行い、白色固体３．１ｇ（９８％ｅｅ）を得た。
（４） （３）の化合物を用いて実施例８０に準じて白色固体を得た。
（５） （４）の化合物を用いて実施例８４に準じて表題化合物（実施例９１の化合物の光学活性体）白色固体を得た。
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３０７
実施例３０６の（２）−Ｂの化合物を用いて実施例３０６の（３）から（５）に準じて表題化合物である白色固体を得た。
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３０８
実施例３０８の化合物は、実施例３０６に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３０９
実施例３０９の化合物は、実施例３０７に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３１０
実施例３１０の化合物は、実施例３０７に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４６９（Ｍ＋１）＋．
実施例３１１
実施例３１１の化合物は、実施例３０６に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３１２
実施例３１２の化合物は、実施例３０７に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３１３
実施例９１の化合物５１ｍｇを用いて実施例２９０に準じて白色固体１２ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３１４
（１） シクロペンタノン５０４ｍｇ、ピロリジン４９８ｍｇ、モレキュラーシーブス４Ａ２ｇ及びトルエン３０ｍｌの混合物を室温で1晩攪拌した。反応液をセライト濾過して、濾液を濃縮した。残渣をクロロホルム２０ｍｌに溶解したところへ、１，２，４−トリアジン−５−カルボン酸エチルエステルのクロロホルム（１０ｍｌ）溶液を加え、室温で３０分、４５℃で６時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（４：１〜１：１））で精製し、黄色油状物７３４ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物１００ｍｇを用いて参考例５に準じて表題化合物である白色固体１０１ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．３０（１Ｈ，ｍ），２．１４（２Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．４０（２Ｈ，ｍ），２．６２（１Ｈ，ｍ），２．９２（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．４２（１Ｈ，ｍ），３．７５（１Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．６８（１Ｈ，ｓ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｓ），８．０３（１Ｈ，ｓ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１２．１（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３４９（Ｍ＋１）＋．
実施例３１５−３１９
実施例３１５ないし実施例３１９の化合物は、実施例３１４に準じて製造した。
実施例３１５
ｍａｓｓ：３７７（Ｍ＋１）＋．
実施例３１６
ｍａｓｓ：３７８（Ｍ＋１）＋．
実施例３１７
ｍａｓｓ：４５４（Ｍ＋１）＋．
実施例３１８
ｍａｓｓ：４５４（Ｍ＋１）＋．
実施例３１９
ｍａｓｓ：４５０（Ｍ＋１）＋．
実施例３２０
実施例３１９の化合物を１００ｍｇ、４Ｎ塩酸−ジオキサン５ｍｌ及びメタノール３ｍｌの混合物を室温３０分攪拌した。反応液にトリエチルアミンを加えた後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＦＬ６０Ｄ（富士シリシア株式会社）、クロロホルム−メタノール（１００：０〜９５：５））で精製し、白色固体７２ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：３５０（Ｍ＋１）＋．
実施例３２１
実施例３２０の化合物を１７ｍｇ及びシクロペンタノン１２ｍｇを用い、実施例８４の（２）に準じて表題化合物を得た。
ｍａｓｓ：４１８（Ｍ＋１）＋．
実施例３２２
実施例３２２の化合物は、実施例３２１に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３６４（Ｍ＋１）＋．
実施例３２３
（１） 実施例１６４の（２）−Ａの化合物を用い、参考例８に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物を用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物の塩酸塩を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．００−１．２３（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．９０（７Ｈ，ｍ），３．４０−３．６１（２Ｈ，ｍ），４．８１（１Ｈ，ｍ），６．９０−７．５１（４Ｈ，ｍ），８．０８−８．３７（２Ｈ，ｍ），９．９５（１Ｈ，ｂｒｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：３５２（Ｍ＋１）＋．
実施例３２４
実施例１６４の（２）−Ｂの化合物を用い、実施例３２３に準じて表題化合物の塩酸塩を得た。
ｍａｓｓ：３５２（Ｍ＋１）＋．
実施例３２５
実施例１６４の（２）−Ａの化合物を用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．００−１．２１（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．７９（５Ｈ，ｍ），３．２１−３．７２（４Ｈ，ｍ），４．６５−４．９０（２Ｈ，ｍ），６．９０−７．５２（４Ｈ，ｍ），８．１３−８．３８（２Ｈ，ｍ），９．８５（１Ｈ，ｓ），１１．４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：３５３（Ｍ＋１）＋．
実施例３２６
実施例１６４の（２）−Ｂの化合物を用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物を得た。
ｍａｓｓ：３５３（Ｍ＋１）＋．
実施例３２７
（１） 実施例３２３の（１）の化合物を用い、実施例９６の（１）に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物を用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０１−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．２２−２．７８（５Ｈ，ｍ），３．０８−３．２０（２Ｈ，ｍ），３．３２（１Ｈ，ｍ），３．５５（１Ｈ，ｍ），４．８１（１Ｈ，ｍ），６．８５−７．５２（４Ｈ，ｍ），７．９２−８．４０（７Ｈ，ｍ），９．９０（１Ｈ，ｓ），１１．２（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：５３８（Ｍ＋１）＋．
実施例３２８
（１） 実施例１６４の（２）−Ｂの化合物を用い、実施例３２３の（１）に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物を用い、実施例３２７に準じて表題化合物を得た。
ｍａｓｓ：５３８（Ｍ＋１）＋．
実施例３２９
実施例３２７の（１）の化合物及び１−ブタノールを用い、実施例９６の（２）及び（３）に準じて表題化合物の塩酸塩を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．０１−１．１７（１Ｈ，ｍ），１．２５−１．４１（２Ｈ，ｍ），１．５２−１．６４（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．５２−２．６３（１Ｈ，ｍ），２．８５−３．００（４Ｈ，ｍ），３．０８−３．２３（２Ｈ，ｍ），３．２６−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．５０−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．８０−４．８６（１Ｈ，ｍ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ），７．２６−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２６−８．３０（２Ｈ，ｍ），８．８１（２Ｈ，ｍ），１０．３（１Ｈ，ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：４０８（Ｍ＋１）＋．
実施例３３０
（１） 実施例３２８の（１）の化合物を用い、実施例３２７の（１）に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物を用い、実施例３２９に準じて表題化合物の塩酸塩を得た。
ｍａｓｓ：４０８（Ｍ＋１）＋．
実施例３３１
参考例８の化合物及び（Ｒ）−３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−１，４−ジメタンスルホニルオキシブタンを用い、実施例３３４に準じて表題化合物の塩酸塩を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０５（１Ｈ，ｍ），２．００−２．７５（５Ｈ，ｍ），３．０５−４．９５（１１Ｈ，ｍ），７．１２−７．５２（４Ｈ，ｍ），８．２１−８．８０（４Ｈ，ｍ），１０．５−１１．８（４Ｈ，ｍ）．
実施例３３２
実施例３３１の化合物を１５ｍｇ、塩化アセチル２４μｌ、トリエチルアミン９２μｌ及びジメチルホルムアミド０．５ｍｌの混合物を室温で５分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７１３、クロロホルム−メタノール（１９：１））で精製し、表題化合物である淡黄色固体１１ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）
１．１０−１．３０（１Ｈ，ｍ），１．６５（１Ｈ，ｍ），１．９０（３Ｈ，ｓ），２．２２（１Ｈ，ｍ），２．４０−２．９２（１１Ｈ，ｍ），３．４５（１Ｈ，ｍ），３．６５（１Ｈ，ｍ），４．２９（１Ｈ，ｍ），４．８６（１Ｈ，ｍ），６．８７−７．００（２Ｈ，ｍ），７．３９−７．５２（２Ｈ，ｍ），８．１４−８．３０（２Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：４６３（Ｍ＋１）＋．
実施例３３３
実施例３３１の化合物２０ｍｇを用い、実施例９６の（１）に準じて表題化合物である淡黄色固体１６ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１２（１Ｈ，ｍ），１．４５（１Ｈ，ｍ），１．８９（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．７５（１０Ｈ，ｍ），３．２５−３．７５（４Ｈ，ｍ），４．７５−４．８５（１Ｈ，ｍ），６．８７−７．５０（４Ｈ，ｍ），８．００−８．４３（６Ｈ，ｍ）．
実施例３３４
（１） 実施例３２３の（１）の化合物１００ｍｇ、（Ｓ）−３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−１，４−ジメタンスルホニルオキシブタン３４ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン４６ｍｇ及びジメチルホルムアミド１ｍｌの混合物を８０℃で１時間攪拌した。反応液を室温に戻し、クロロホルムで希釈して飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（１：０〜４：１）にて精製し、エステルを９０ｍｇ得た。
（２） （１）の化合物１００ｍｇを用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物の塩酸塩である白色固体５０ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０５（１Ｈ，ｍ），２．００−２．７５（５Ｈ，ｍ），３．０５−４．９５（１１Ｈ，ｍ），７．１２−７．５２（４Ｈ，ｍ），８．２１−８．８０（４Ｈ，ｍ），１０．５−１１．８（４Ｈ，ｍ）．
ｍａｓｓ：４２１（Ｍ＋１）＋．
実施例３３５
実施例１６４の（２）−Ｂを用い、参考例８に準じて合成した化合物に対し、実施例３３４に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩を得た。
ｍａｓｓ：４２１（Ｍ＋１）＋．
実施例３３６
（１） ２−（Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）−４−メチルピリジン２．２６ｇのテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５Ｍ）１８．２ｍｌを加え室温に上げた。反応液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルアルデヒド１．４８ｍｌを加え徐々に室温に上げた。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル（１：０〜１：１）にて精製し、白色固体１．３７ｇ得た。
（２） （１）の化合物１．００ｇを用い、参考例８の（１）に準じて目的物７００ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物７００ｍｇ、トリフェニルホスフィン７００ｍｇ、水２ｍｌ及びテトラヒドロフラン３０ｍｌの混合物を３０分攪拌した。反応液を室温に戻し、トルエン及びメタノールを加えて濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、クロロホルム−メタノール（１：０〜４：１）にて精製し、目的物６００ｍｇ得た。
（４） （３）の化合物を用い、実施例９６の（１）に準じて目的物を得た。
（５） （４）の化合物１００ｍｇ及びエタノールを用い、実施例９６の（２）に準じて目的物１０５ｍｇを得た。
（６） （５）の化合物５３ｍｇを用い、実施例１１８の（２）に準じてウレア体４０ｍｇを得た。このものをＨＰＬＣ（ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ）で分割し、Ｒｔの小さい順に化合物Ａとして１９ｍｇ、化合物Ｂとして１９ｍｇを得た。
（７） （６）−Ａの化合物２０ｍｇを用い、実施例９６の（３）に準じて表題化合物である無色油状物３．８ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．７０−１．４２（１１Ｈ，ｍ），２．１０−２．８２（８Ｈ，ｍ），３．０５−３．８１（２Ｈ，ｍ），４．３７−４．８８（１Ｈ，ｍ），６．９０−６．９７（１Ｈ，ｍ），７．１０（１Ｈ，ｓ），７．２８−７．５１（２Ｈ，ｍ），８．１５−８．３７（２Ｈ，ｍ），９．８８（１Ｈ，ｓ），１１．８（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４２２（Ｍ＋１）＋．
実施例３３７
実施例３３６の（６）−Ｂの化合物を用い、実施例９６の（３）に準じて表題化合物である無色油状物５．７ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：４２２（Ｍ＋１）＋．
実施例３３８
（１） 参考例８の化合物及び２，４−ジメトキシベンズアルデヒドを用い、実施例８４の（２）に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物及び１−プロパンスルホニルクロリドを用い、実施例９６の（１）に準じて目的物を得た。
（３） （２）の化合物のトリフルオロ酢酸溶液を室温で１５分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣にエーテル−メタノールを加えて結晶化し、表題化合物を得た。
ｍａｓｓ：４５８（Ｍ＋１）＋．
実施例３３９
実施例３３９の化合物は、実施例１４０に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４７２（Ｍ＋１）＋．
実施例３４０
実施例３４０の化合物は、実施例１３８に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４５８（Ｍ＋１）＋．
実施例３４１
（１） ｏ−アニシジンを用い参考例１０に準じて目的化合物を得た。
（２） （１）の化合物を用いて参考例１１に準じて反応を行った後、粗生成物をメタノールに溶解して１Ｎ塩酸で処理した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をエーテル−メタノールで固化して、表題化合物である白色固体を得た。
ｍａｓｓ：４５８（Ｍ＋１）＋．
実施例３４２−３６０
実施例３４２ないし実施例３６０の化合物は、実施例３４１に準じて製造した。
実施例３４２
ｍａｓｓ：４５８（Ｍ＋１）＋．
実施例３４３
ｍａｓｓ：４１９（Ｍ＋１）＋．
実施例３４４
ｍａｓｓ：４７２（Ｍ＋１）＋．
実施例３４５
ｍａｓｓ：４８５（Ｍ＋１）＋．
実施例３４６
ｍａｓｓ：５１０（Ｍ＋１）＋．
実施例３４７
ｍａｓｓ：４３５（Ｍ＋１）＋．
実施例３４８
ｍａｓｓ：４３６（Ｍ＋１）＋．
実施例３４９
ｍａｓｓ：４７９．（Ｍ＋１）＋．
実施例３５０
ｍａｓｓ：４２８（Ｍ＋１）＋．
実施例３５１
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０７（１Ｈ，ｍ），２．２５−２．３５（２Ｈ，ｍ），２．５８（１Ｈ，ｍ），２．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．２９（１Ｈ，ｍ），３．５３（１Ｈ，ｍ），３．８６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｓ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｓ），８．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），８．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），１０．３（１Ｈ，ｂｒ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ），１３．０（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：６２０（Ｍ＋１）＋．
実施例３５２
ｍａｓｓ：４３０（Ｍ＋１）＋．
実施例３５３
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３５４
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３５５
ｍａｓｓ：４２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３５６
ｍａｓｓ：４７９（Ｍ＋１）＋．
実施例３５７
ｍａｓｓ：４３０（Ｍ＋１）＋．
実施例３５８
ｍａｓｓ：４６８（Ｍ＋１）＋．
実施例３５９
ｍａｓｓ：４７９（Ｍ＋１）＋．
実施例３６０
ｍａｓｓ：４３０（Ｍ＋１）＋．
実施例３６１
（１） ６−アミノキノリンを用い、参考例１０及び参考例１１に準じて反応を行い、副生成物としてスルフィド体を得た。
（２） （１）の化合物６４ｍｇを用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物である白色固体２１ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：４４５（Ｍ＋１）＋．
実施例３６２
（１） ６−アミノキノリンを用い、参考例１０及び参考例１１に準じて反応を行い、副生成物として塩化物を得た。
（２） （１）の化合物２６ｍｇを用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物である白色固体１８ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：３７１（Ｍ＋１）＋．
実施例３６３−３６４
実施例３６３及び実施例３６４は、実施例３４１に準じて製造した。
実施例３６３
ｍａｓｓ：４７９（Ｍ＋１）＋．
実施例３６４
ｍａｓｓ：４１８（Ｍ＋１）＋．
実施例３６５
（１） ４−ヒドロキシベンズアルデヒドのｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテルを用い、実施例１３７の（１）に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物を用い、実施例１３９に準じて表題化合物の塩酸塩である黄色粉末を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０７−１．１６（１Ｈ，ｍ），２．２６−２．６１（３Ｈ，ｍ），２．８０（３Ｈ，ｓ），２．８３（３Ｈ，ｓ），３．００−３．１７（３Ｈ，ｍ），３．２５−３．３４（１Ｈ，ｍ），３．４５−３．５６（３Ｈ，ｍ），４．１１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），４．３６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．３Ｈｚ），４．８２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．２，１２Ｈｚ），６．９７−７．０７（３Ｈ，ｍ），７．２５−７．５４（５Ｈ，ｍ），８．２３−８．２８（２Ｈ，ｍ），９．３７（２Ｈ，ｂｒ），１０．２（１Ｈ，ｂｒ），１０．４（１Ｈ，ｂｒ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３６６−３７５
実施例３６６ないし実施例３７５の化合物は、実施例３６５に準じて製造した。
実施例３６６
ｍａｓｓ：５４９（Ｍ＋１）＋．
実施例３６７
ｍａｓｓ：５５５（Ｍ＋１）＋．
実施例３６８
ｍａｓｓ：５６９（Ｍ＋１）＋．
実施例３６９
ｍａｓｓ：５７１（Ｍ＋１）＋．
実施例３７０
ｍａｓｓ：５４９（Ｍ＋１）＋．
実施例３７１
ｍａｓｓ：５７７（Ｍ＋１）＋．
実施例３７２
ｍａｓｓ：５４９（Ｍ＋１）＋．
実施例３７３
ｍａｓｓ：５７７（Ｍ＋１）＋．
実施例３７４
ｍａｓｓ：５８３（Ｍ＋１）＋．
実施例３７５
ｍａｓｓ：５８５（Ｍ＋１）＋．
実施例３７６
（１） ２−ピリジンカルボキシアルデヒド５１０ｍｇのベンゼン（２０ｍｌ）溶液にトリフェニルホスホラニリデン酢酸メチルエステル１．７０ｇを加え、室温で２時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル（４：１〜３：１））で精製し、目的物を６２１ｍｇ得た。
（２） （１）の化合物６２１ｍｇを用い、実施例２９７に準じて目的物２５２ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物２０ｍｇを用い、実施例３６５に準じて表題化合物の塩酸塩である黄色固体２４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）
１．１３（１Ｈ，ｍ），２．４２（２Ｈ，ｍ），２．７０（１Ｈ，ｍ），３．６０−３．８２（２Ｈ，ｍ），３．３７−３．４７（３Ｈ，ｍ），４．０３（１Ｈ，ｍ），４．２０−４．３８（３Ｈ，ｍ），４．９６（２Ｈ，ｍ），６．８１−８．７２（１６Ｈ，ｍ）．
実施例３７７
（１） ３−ヒドロキシベンズアルデヒドのｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテルを用い、実施例１３７の（１）に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物を用い、実施例１３９に準じて表題化合物の塩酸塩である白色固体を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０４（１Ｈ，ｍ），２．２３−２．３４（２Ｈ，ｍ），２．７０（１Ｈ，ｍ），３．０７−３．２０（４Ｈ，ｍ），３．２８（１Ｈ，ｍ），３．５１（１Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｍ），４．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．４，１０Ｈｚ），５．３９（２Ｈ，ｓ），７．０８−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２８−７．３９（４Ｈ，ｍ），７．４３−７．５２（２Ｈ，ｍ），７．７１（１Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．２０−８．２８（２Ｈ，ｍ），８．７７（１Ｈ，ｍ），９．６４（２Ｈ，ｂｒ），１０．７（１Ｈ，ｂｒ），１１．１（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：５４９（Ｍ＋１）＋．
実施例３７８−３８７
実施例３７８ないし実施例３８７の化合物は、実施例３７７に準じて製造した。
実施例３７８
ｍａｓｓ：５４９（Ｍ＋１）＋．
実施例３７９
ｍａｓｓ：５４９（Ｍ＋１）＋．
実施例３８０
ｍａｓｓ：５７７（Ｍ＋１）＋．
実施例３８１
ｍａｓｓ：５７７（Ｍ＋１）＋．
実施例３８２
ｍａｓｓ：５２９（Ｍ＋１）＋．
実施例３８３
ｍａｓｓ：５８５（Ｍ＋１）＋．
実施例３８４
ｍａｓｓ：５７１（Ｍ＋１）＋．
実施例３８５
ｍａｓｓ：５５５（Ｍ＋１）＋．
実施例３８６
ｍａｓｓ：５６９（Ｍ＋１）＋．
実施例３８７
ｍａｓｓ：５８３（Ｍ＋１）＋．
実施例３８８
実施例３７６を１９ｍｇを用い、参考例３に準じて表題化合物１４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）
１．１２（１Ｈ，ｍ），２．２４−２．４１（３Ｈ，ｍ），２．７０（１Ｈ，ｍ），３．３２−３．４１（４Ｈ，ｍ），３．５５−３．７５（２Ｈ，ｍ），４．０２−４．３２（５Ｈ，ｍ），４．９２（３Ｈ，ｍ），６．８８（２Ｈ，ｍ），７．２２（２Ｈ，ｍ），７．３０（１Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（３Ｈ，ｍ），７．８９（１Ｈ，ｍ），８．０３（２Ｈ，ｍ），８．２２（１Ｈ，ｍ），８．４３（１Ｈ，ｍ），８．６９（１Ｈ，ｍ）．
実施例３８９
（１） ６−アミノニコチン酸１．０１ｇ、水素化リチウムアルミニウム８３５ｍｇ及びテトラヒドロフランの混合物を２３時間還流した。反応液を室温に戻し、水８４０μｌ、１Ｎ水酸化ナトリウム８４０μｌ及び水８４０μｌを順次加えてセライトで濾過した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（５０：１〜１０：１）で精製し、目的物を２２３ｍｇ得た。
（２） （１）の化合物２２３ｍｇ、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン３３２ｍｇ、イミダゾール２４４ｍｇ及びジメチルホルムアミド５ｍｌの混合物を室温で３０分攪拌した。反応液に水を加えて、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（３：２）で精製し、目的物を３４１ｍｇ得た。
（３） （２）の化合物３２０ｍｇを用い、実施例１１８の（２）に準じて目的物１３８ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物１０３ｍｇ、酢酸１ｍｌ、水１ｍｌ及びテトラヒドロフラン１ｍｌの混合物を室温で３日間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（１０：１））で精製し、表題化合物として白色粉末４４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０７（１Ｈ，ｍ），２．２２−２．５７（３Ｈ，ｍ），３．３０（１Ｈ，ｍ），３．５３（１Ｈ，ｍ），４．４６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１０Ｈｚ），５．２３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，８．０Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．６Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，８．０Ｈｚ），９．９２（１Ｈ，ｓ），１１．２（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例３９０
実施例３９０の化合物は、実施例４９８に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３５２（Ｍ＋１）＋．
実施例３９１
（１） 実施例３８９の化合物を１０３ｍｇ、トリエチルアミン０．６ｍｌ及びジメチルスルホキシド３ｍｌの混合物に三酸化硫黄ピリジン錯体２６５ｍｇを加えて室温で４時間攪拌した。ここへ、三酸化硫黄ピリジン錯体１９５ｍｇを加えて室温で１時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈して水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。得られた粗生成物はそのまま次の反応に用いた。
（２） （１）の化合物３６ｍｇ及びエチルアミンのメタノール溶液（２．０Ｍ）２ｍｌを用い、実施例８４の（２）に準じて表題化合物である白色粉末２０ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１５（１Ｈ，ｍ），１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．３２−２．３８（２Ｈ，ｍ），２．５３（１Ｈ，ｍ），３．００（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．３０（１Ｈ，ｍ），３．５５（１Ｈ，ｍ），４．１４（２Ｈ，ｓ），４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１０Ｈｚ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．８Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），１０．１（０．２Ｈ，ｓ），１０．６（０．３Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３６６（Ｍ＋１）＋．
実施例３９２
実施例３９２の化合物は、実施例３９１に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３８０（Ｍ＋１）＋．
実施例３９３
（１） ２−アミノ−５−ニトロピリジン１３９ｍｇを用い実施例１１８の（２）に準じて目的物３３ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物３３ｍｇを用い参考例３に準じて表題化合物である白色粉末２６ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１２（１Ｈ，ｍ），２．３１−２．４５（３Ｈ，ｍ），２．５５（１Ｈ，ｍ），３．５３（１Ｈ，ｍ），４．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，１０Ｈｚ），５．０５（２Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｍ），７．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１，８．８Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），９．４７（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３２４（Ｍ＋１）＋．
実施例３９４
（１） ２−アミノ−５−ブロモピリジン６４３ｍｇを用い実施例１１８の（２）に準じて目的物９８９ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物２１８ｍｇを用い参考例６に準じて目的物１５０ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物３０ｍｇ、１−メチルピペラジン１０μｌ、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）３ｍｇ、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン３ｍｇ、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル３ｍｇ、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド９ｍｇ及びテトラヒドロフラン２ｍｌの混合物を封管中で１００℃で２時間反応させた。反応液を室温に戻し、シリカゲル及びセライトを通して濾過した。濾液を濃縮し、残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（１０：１））で精製し、目的化合物１７ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物１７ｍｇを用い、実施例１３３の（２）に準じて表題化合物の塩酸塩である白色固体１５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０４（１Ｈ，ｍ），２．２３−２．３８（２Ｈ，ｍ），２．５８（１Ｈ，ｍ），２．８０（ｓ），２．８１（ｓ），２．８０−２．８１（３Ｈ），３．０６−３．２２（４Ｈ，ｍ），３．３０（１Ｈ，ｍ），３．４８−３．５８（３Ｈ，ｍ），３．７５−３．７９（２Ｈ，ｍ），４．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１０Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，８．１Ｈｚ），７．３６（１Ｈｂｒｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，９．２Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，８．１Ｈｚ），１０．１（１Ｈ，ｂｒ），１０．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４０７（Ｍ＋１）＋．
実施例３９５−３９７
実施例３９５ないし実施例３９７の化合物は、実施例３９４に準じて製造した。
実施例３９５
ｍａｓｓ：３６６（Ｍ＋１）＋．
実施例３９６
ｍａｓｓ：３５２（Ｍ＋１）＋．
実施例３９７
ｍａｓｓ：３３８（Ｍ＋１）＋．
実施例３９８
（１） ２−アミノ−５−ブロモピリジン、トリブチルビニルスズを用いて実施例４２９の（２）に準じて反応を行い、目的物を得た。
（２） （１）の化合物６ｍｇを用いて実施例１１８の（２）に準じて表題化合物である白色粉末２ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．８０−０．９２（１Ｈ，ｍ），２．３５−２．５０（２Ｈ，ｍ），２．５５−２．６５（１Ｈ，ｍ），３．０２−３．５０（１Ｈ，ｍ），３．７２−３．８２（１Ｈ，ｍ），４．７７−４．８４（１Ｈ，ｍ），５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），５．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），６．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，１８Ｈｚ），６．７２−７．００（１Ｈ，ｍ），７．４５−７．６０（３Ｈ，ｍ），７．８０（１Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｍ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１１．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３５（Ｍ＋１）＋．
実施例３９９
実施例３９８の化合物４ｍｇを用いて参考例３に準じて表題化合物である白色粉末３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．８０−０．９０（１Ｈ，ｍ），１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．４０−２．５０（２Ｈ，ｍ），２．５８−２．６５（１Ｈ，ｍ），２．６２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．４２−３．５０（１Ｈ，ｍ），３．７０−３．８２（１Ｈ，ｍ），４．８０（１Ｈ，ｍ），６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．５０−７．６０（２Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｄ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１１．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３７（Ｍ＋１）＋．
実施例４００
（１） ２−アセトアミノピリジン−４−カルボン酸メチルエステル１９ｍｇ、過ヨウ素酸ナトリウム７ｍｇ、ヨウ素１２ｍｇ、水２５μｌ及び酢酸０．１２ｍｌを混合したところへ濃硫酸を１滴加えて８５℃で２３時間攪拌した。反応液にチオ硫酸ナトリウム水溶液５ｍｌを加えてクロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（２０：１））で精製し、目的物として黄色粉末１５ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物を用いて実施例３９８に準じて反応を行い、表題化合物として白色粉末２ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．８５−０．９２（１Ｈ，ｍ），２．３７−２．４７（２Ｈ，ｍ），２．５５−２．５９（１Ｈ，ｍ），３．４３−３．５１（１Ｈ，ｍ），３．７４−３．８１（１Ｈ，ｍ），３．９７（３Ｈ，ｓ），４．８２（１Ｈ，ｍ），５．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ），５．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０，１０Ｈｚ），７．２２−７．３２（１Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｓ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｓ），１１．５（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９３（Ｍ＋１）＋．
実施例４０１
実施例４００の化合物２ｍｇを用いて参考例３に準じて表題化合物である白色粉末１ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．７０−０．８０（１Ｈ，ｍ），１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．３０−２．５０（２Ｈ，ｍ），２．９４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．４１−３．５０（１Ｈ，ｍ），３．７４−３．８２（１Ｈ，ｍ），３．９８（３Ｈ，ｓ），４．２４−４．３０（１Ｈ，ｍ），４．７８−４．８２０（１Ｈ，ｍ），７．２０（１Ｈ，ｓ），７．４３−７．６０（２Ｈ，ｍ），７．６７−７．７６（１Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｓ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１１．６（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９５（Ｍ＋１）＋．
実施例４０２
２−アミノピリミジン８６ｍｇを用い、実施例１１８の（２）に準じて表題化合物である淡赤色粉末１５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１７（１Ｈ，ｍ），２．２４−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．５２（１Ｈ，ｍ），３．３０（１Ｈ，ｍ），３．５４（１Ｈ，ｍ），４．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１０Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，７．８Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，７．８Ｈｚ），８．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），１０．４（１Ｈ，ｓ），１１．６（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３１０（Ｍ＋１）＋．
実施例４０３
（１） ２−アミノ−４，６−ジクロロピリミジン１．０ｇ、１−メチルピペラジン７３３ｍｇ、トリエチルアミン１．３ｍｌ及び１−ブタノール１５ｍｌの混合物を８０℃で２２時間攪拌した。反応液を濃縮後、クロロホルム−メタノール（１０：１）で希釈し、シリカゲル（ワコーゲルＣ−２００）を通して濾過した。濾液を濃縮して目的物を含む粗生成物を得た。
（２） （１）の化合物をエタノール１８ｍｌに溶解し、参考例３に準じて目的物３９０ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物７４ｍｇを用い、実施例１１８の（２）に準じて表題化合物である白色固体を１４ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．２７（１Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｍ），２．３４−２．６０（７Ｈ，ｍ），３．４２（１Ｈ，ｍ），３．６４−３．８０（５Ｈ，ｍ），４．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１１Ｈｚ），５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｓ），７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，７．７Ｈｚ），７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，７．７Ｈｚ），１１．８（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４０８（Ｍ＋１）＋．
実施例４０４−４０５
実施例４０４及び実施例４０５の化合物は、実施例４０６に準じて製造した。
実施例４０４
ｍａｓｓ：３８５（Ｍ＋１）＋．
実施例４０５
ｍａｓｓ：３５９（Ｍ＋１）＋．
実施例４０６
（１） インドールを用い、参考例２に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物を用い、実施例１２９に準じて表題化合物を得た。
ｍａｓｓ：３５５（Ｍ＋１）＋．
実施例４０７
実施例４０７の化合物は、実施例４０８に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３６３（Ｍ＋１）＋．
実施例４０８
（１） 実施例４０６の（１）の化合物を用い、参考例３に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物を用い、実施例１に準じて表題化合物を得た。
ｍａｓｓ：３５７（Ｍ＋１）＋．
実施例４０９
（１） ２−クロロ−３−ニトロ安息香酸３ｇ、アミノマロン酸ジエチルエステル塩酸塩３．４７ｇ、ＨＯＢＴの１水和物２．５１ｇ、トリエチルアミン３．１１ｍｌ及びジメチルホルムアミド３６ｍｌの混合物を氷冷し、ＷＳＣ塩酸塩３．３７ｇを加えて室温にて３時間攪拌した。反応液を酢酸エチル２００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥し、濾過、濃縮して固体の粗生成物を得た。酢酸エチルで洗浄して、１次結晶２．４９ｇ、２次結晶０．８９５ｇを得た。
（２） （１）で得られた１次結晶１．５０ｇのジメチルスルホキシド（３０ｍｌ）溶液を氷冷し、水素化ナトリウム２３０ｍｇを加え、９０℃で１０分攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチル１５０ｍｌで希釈した後、有機層を分離した。有機層は、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濃縮して粗生成物１．３６ｇを得た。
（３） （２）で得られた粗生成物１６．４７ｇのエタノール溶液（６００ｍｌ）を１００℃に加熱し、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液５２ｍｌを加えて４０分攪拌した。反応液を氷冷後、濾過した。濾液は濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（１：１〜３：５）にて精製し、エステルを５．７６ｇ得た。
（４） （３）の化合物５．７６ｇをメタノール（９０ｍｌ）に懸濁し、氷冷したところへ水素化ホウ素ナトリウム３．６１ｇを４回に分けて加え、５０分攪拌した。飽和塩化アンモニウム２ｍｌを加えて濾過し、得られた固体をメタノールで洗浄して、白色粉末３．４８ｇ得た。
（５） （４）の化合物１．００ｇ、イミダゾール６５０ｍｇ及びジメチルホルムアミド１６ｍｌの混合物にｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン１．５０ｇを加えて室温で１時間２５分攪拌した。反応液を酢酸エチル２００ｍｌで希釈し、水、飽和食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥し、濾過、濃縮して粗生成物を得た。精製を行わずに次の反応を行った。
（６） （５）の粗生成物全量をエタノール１００ｍｌに溶解し、参考例３と同様の反応を行った。得られた粗結晶をエーテル−ヘキサンで洗浄し、アミン１．１３ｇを得た。
（７） （６）の化合物１．１３ｇと２−ピリジンカルボニルアジド６５０ｍｇを用いて実施例１の方法に準じて、目的化合物１．４８ｇを製造した。
（８） （７）の化合物１．４８ｇのメタノール（３０ｍｌ）溶液に濃塩酸（４ｍｌ）を加えて室温で３０分攪拌した。析出した固体を濾取し、テトラヒドロフランで洗浄して表題化合物を１．１８ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
３．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１１Ｈｚ），３．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１１Ｈｚ），４．７５（１Ｈ，ｍ），７．０９（１Ｈ，ｍ），７．３６（２Ｈ，ｍ），７．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｍ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｍ），８．６０（１Ｈ，ｓ），１０．１８（１Ｈ，ｓ），１０．９２（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：２９９（Ｍ＋１）＋．
実施例４１０−４１３
実施例４１０ないし実施例４１３の化合物は、実施例４１４に準じて製造した。
実施例４１０
ｍａｓｓ：３１３（Ｍ＋１）＋．
実施例４１１
ｍａｓｓ：３２７（Ｍ＋１）＋．
実施例４１２
ｍａｓｓ：３４１（Ｍ＋１）＋．
実施例４１３
ｍａｓｓ：３５５（Ｍ＋１）＋．
実施例４１４
（１） 実施例４０９の（６）の化合物２６ｍｇをジメチルホルムアミド−テトラヒドロフラン（１：１）（１ｍｌ）に溶解し、水素化ナトリウム５ｍｇ、臭化ベンジル１２μｌを加えて室温で３０分攪拌した。反応液をシリカゲルで濾過し、シリカゲルをヘキサン−酢酸エチル（１：１）で洗浄した。濾液及び洗液を合わせて濃縮して次の反応に使用した。
（２） （１）の化合物と２−ピリジンカルボニルアジドを用いて実施例１の方法に準じて、目的化合物を製造した。
（３） （２）の化合物を用いて、実施例４０９の（８）と同様の反応を行い、表題化合物を淡黄色粉末２５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
３．９２−４．００（２Ｈ，ｍ），４．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），４．５８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．３８（５Ｈ，ｍ），７．４３−７．５０（３Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｍ），８．０８（１Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｍ），１０．２（１Ｈ，ｓ），１０．５（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３８９（Ｍ＋１）＋．
実施例４１５−４２３
実施例４１５ないし実施例４２３の化合物は、実施例４１４に準じて製造した。
実施例４１５
ｍａｓｓ：３３８（Ｍ＋１）＋．
実施例４１６
ｍａｓｓ：３５５（Ｍ＋１）＋．
実施例４１７
ｍａｓｓ：３６９（Ｍ＋１）＋．
実施例４１８
ｍａｓｓ：３７５（Ｍ＋１）＋．
実施例４１９
ｍａｓｓ：４０３（Ｍ＋１）＋．
実施例４２０
ｍａｓｓ：４０９（Ｍ＋１）＋．
実施例４２１
ｍａｓｓ：３９５（Ｍ＋１）＋．
実施例４２２
ｍａｓｓ：３７９（Ｍ＋１）＋．
実施例４２３
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例４２４−４２６
実施例４２４ないし実施例４２６の化合物は、実施例４２７に準じて製造した。
実施例４２４
ｍａｓｓ：２９７（Ｍ＋１）＋．
実施例４２５
ｍａｓｓ：３１１（Ｍ＋１）＋．
実施例４２６
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例４２７
（１） 実施例４１４の化合物を１１ｍｇ、トリエチルアミン４０μｌ及び塩化メタンスルホニル１０μｌの混合物を室温で２０分攪拌した。ＤＢＵ２０μｌを加えて室温で２５分、８０℃で１４．５時間攪拌した。反応液を室温に戻してシリカゲルで濾過し、シリカゲルをヘキサン−酢酸エチル（１：１）で洗浄した。濾液及び洗液を合わせて濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（２０：１））で精製し、目的化合物６．４ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物をエタノール−テトラヒドロフランの混合溶媒に溶解し、参考例３と同様の反応を行った。得られた粗生成物をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（２０：１））で精製し、表題化合物３．８ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．４５（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），４．５５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝０．９，５．１，７．２Ｈｚ），７．２４−７．３９（６Ｈ，ｍ），７．４２−７．５１（２Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．１，７．２，８．７Ｈｚ），８．１３−８．１７（２Ｈ，ｍ），９．７２（１Ｈ，ｓ），１０．７３（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３７３（Ｍ＋１）＋．
実施例４２８
実施例４２８の化合物は、実施例４２７に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３６５（Ｍ＋１）＋．
実施例４２９
（１） ２−クロロ−３−ニトロ安息香酸１．４９ｇ、濃硫酸５０μｌ及びメタノール５０ｍｌの混合物を２２時間還流した。反応液をクロロホルムで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥、濾過して濃縮した。粗生成物１．５６ｇを得た。
（２） （１）の化合物５０ｍｇ及びテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム９ｍｇをテトラヒドロフラン１ｍｌに懸濁した。脱気を行った後、トリブチル（１−エトキシビニル）スズ７９μｌを加え、室温で１時間、５０℃で２時間、さらに２．５時間還流した。反応液を室温に戻してシリカゲルで濾過した。シリカゲルは、ヘキサン−酢酸エチル（３：１）で洗浄し、濾液と洗液を合わせて濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、ヘキサン−酢酸エチル（３：１））で精製し、目的物として淡黄色油状物５３ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物１１０ｍｇのエタノール（２ｍｌ）溶液に１Ｎ水酸化ナトリウム４３７μｌを加え、室温で１７時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣を水４ｍｌに溶解してヘキサンで洗浄した。水層を濃縮して目的物９５ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物４５ｍｇとアニリン１８μｌを用いて、実施例４０９の（１）と同様の反応を行い、目的物を４５ｍｇ得た。
（５） （４）の化合物４５ｍｇ、濃塩酸２０μｌ及びエタノール２ｍｌの混合物を室温で５０分攪拌した。反応液を濃縮し、得られた固体をクロロホルム−酢酸エチル（３：１）で洗浄した。洗液をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、ヘキサン−酢酸エチル（３：１））で精製し、目的物を得た。
（６） （５）の化合物及びトリエチルシラン３０μｌのクロロホルム溶液を氷冷し、三フッ化ホウ素エーテル錯体２３μｌを加えて室温で２時間４５分攪拌した。反応液をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、ヘキサン−酢酸エチル（３：１））で精製し、目的物を得た。
（７） （６）の化合物をエタノールに溶解し、参考例３と同様の反応を行った。
（８） （７）の化合物７ｍｇ及び２−ピリジンカルボニルアジド１２ｍｇを用いて実施例１の方法に準じて、反応を行った。粗生成物をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、ヘキサン−酢酸エチル（１：１））で精製し、表題化合物４ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．４３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．６０（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｍ），７．２４−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．４６−７．５７（４Ｈ，ｍ），７．６８−７．８２（２Ｈ，ｍ），８．２８−８．３３（２Ｈ，ｍ），９．９２（１Ｈ，ｓ），１１．３（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３５９（Ｍ＋１）＋．
実施例４３０
実施例４３０の化合物は、実施例４３１に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例４３１
（９） （８）の化合物１２ｍｇ及びプロピオンアルデヒドのジエチルアセタール１００μｌをクロロホルム−テトラヒドロフラン（１：１）２ｍｌに溶解し、三フッ化ホウ素エーテル錯体４０μｌを加えて１２０℃で６時間攪拌した。プロピオンアルデヒドのジエチルアセタール５０μｌを追加し１２０℃で３時間、プロピオンアルデヒドのジエチルアセタール２００μｌを追加し１２０℃で２．５時間攪拌した。反応液をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（１０：１））で精製し、表題化合物２．３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．７５（２Ｈ，ｍ），３．１９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ），５．１８（２Ｈ，ｍ），７．０５（１Ｈ，ｍ），７．３５−７．５８（３Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｍ），８．２９（２Ｈ，ｍ），９．８８（１Ｈ，ｓ），１０．８（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例４３２−４３７
実施例４３２ないし実施例４３７の化合物は、実施例４３１に準じて製造した。
実施例４３２
ｍａｓｓ：３８７（Ｍ＋１）＋．
実施例４３３
ｍａｓｓ：３４１（Ｍ＋１）＋．
実施例４３４
ｍａｓｓ：３１１（Ｍ＋１）＋．
実施例４３５
ｍａｓｓ：４１７（Ｍ＋１）＋．
実施例４３６
ｍａｓｓ：４１７（Ｍ＋１）＋．
実施例４３７
ｍａｓｓ：４１７（Ｍ＋１）＋．
実施例４３８
（１） ３−ニトロフタルイミド２．００ｇ、エタノール８００μｌを用いて実施例５６に準じて、目的化合物２．１１ｇを得た。
（２） （１）の化合物２．１１ｇをメタノール−テトラヒドロフラン（１：４）５０ｍｌに溶解し−１５℃に冷却したところへ、水素化ホウ素ナトリウム３６０ｍｇを加えて１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて室温に戻し、水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮した。得られた固体をヘキサンで洗浄し、目的物１．１３４ｇを得た。
（３） （２）の化合物１２０ｍｇを用いて参考例３と同様の反応を行い、目的物７０ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物７０ｍｇ及び２−ピリジンカルボニルアジド６５ｍｇを用いて実施例１の方法に準じて、表題化合物２６ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．４２（１Ｈ，ｍ），３．７１（１Ｈ，ｍ），６．００（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ），６．６３（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．０，５．０，７．０Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０，７．０Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．１，７．０，７．５Ｈｚ），８．３６−８．３９（２Ｈ，ｍ），９．９８（１Ｈ，ｓ），１１．７（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３１３（Ｍ＋１）＋．
実施例４３９
実施例４３９は、実施例４４０に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３２７（Ｍ＋１）＋．
実施例４４０
実施例４３８の化合物１３ｍｇをエタノール２ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸を触媒量加えて９０℃で１時間攪拌した。反応液を濃縮し、得られた固体をヘキサン酢酸エチルで再結晶して表題化合物７．３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０１（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．８５（１Ｈ，ｍ），２．６０（１Ｈ，ｍ），３．２５（１Ｈ，ｍ），３．６４（１Ｈ，ｍ），６．１５（１Ｈ．ｓ），７．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，６．６Ｈｚ），７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．１，６．６，７．２Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，５．４Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），９．９７（１Ｈ，ｓ），１１．８（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３４１（Ｍ＋１）＋．
実施例４４１−４４８
実施例４４１ないし実施例４４８の化合物は、実施例４４０に準じて製造した。
実施例４４１
ｍａｓｓ：３５５（Ｍ＋１）＋．
実施例４４２
ｍａｓｓ：３６９（Ｍ＋１）＋．
実施例４４３
ｍａｓｓ：３６９（Ｍ＋１）＋．
実施例４４４
ｍａｓｓ：３８３（Ｍ＋１）＋．
実施例４４５
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例４４６
ｍａｓｓ：３９５（Ｍ＋１）＋．
実施例４４７
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例４４８
ｍａｓｓ：４０３（Ｍ＋１）＋．
実施例４４９
（１） （１） ３−ニトロフタルイミド２．０２ｇ、シクロペンタノール１．２０ｍｌを用いて実施例５６に準じて、目的化合物２．２７ｇを得た。
（２） （１）の化合物２．２７ｇを用いて実施例４３８の（２）に準じて反応を行い、目的物１．４２９ｇを得た。
（３） （２）の化合物８２７ｍｇを用いて実施例４４０に準じて反応を行い、反応液を濃縮してそのまま次の反応に使用した。
（４） （３）の化合物を用いて参考例３と同様の反応を行い、目的物７７２ｍｇを得た。
（５） （４）の化合物７７２ｍｇ及び２−ピリジンカルボニルアジド６００ｍｇを用いて実施例１の方法に準じて、表題化合物４４８ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．５２〈８Ｈ，ｍ〉，２．８１〈３Ｈ，ｓ〉，４．２１（１Ｈ，ｍ），６．２４（１Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．０，５．０，７．５Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０，７．０Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｍ），８．２４（１Ｈ，ｍ），８．３４（１Ｈ，ｍ），９．９５（１Ｈ，ｓ），１１．６（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３３５（Ｍ−ＭｅＯＨ）＋．
実施例４５０
実施例４４９の化合物を２５ｍｇをエタノールに溶解し、実施例４４０に準じて反応を行い、表題化合物を１８ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９９〈３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ〉，１．５５−２．００〈８Ｈ，ｍ〉，２．７８（１Ｈ，ｍ），３．１２（１Ｈ，ｍ），４．２２（１Ｈ，ｍ），６．２１（１Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．０，５．０，７．５Ｈｚ），７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｍ），８．２７（１Ｈ，ｍ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），９．９６（１Ｈ，ｓ），１１．８（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例４５１−４６６
実施例４５１ないし実施例４６６の化合物は、実施例４６７に準じて製造した。
実施例４５１
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．５５−１．９９（１４Ｈ，ｍ），４．３０（１Ｈ，ｍ），４．４５（２Ｈ，ｓ），７．０３（１Ｈ，ｍ），７．３２−７．５０（３Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｍ），９．７３（１Ｈ，ｓ），１０．７（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３７９（Ｍ＋１）＋．
実施例４５２
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１０−１．７０（１２Ｈ，ｍ），１．９５（１Ｈ，ｍ），３．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），４．４７（２Ｈ，ｓ），７．０５（２Ｈ，ｍ），７．３３−７．５１（３Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｍ），８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），９．７５（１Ｈ，ｓ），１０．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３７９（Ｍ＋１）＋．
実施例４５３
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１０−１．２５（４Ｈ，ｍ），１．７９−１．９２（４Ｈ，ｍ），２．１０−２．２２（４Ｈ，ｍ），４．１２（１Ｈ，ｍ），４．４５（２Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｍ），７．３３−７．５７（３Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），９．６９（１Ｈ，ｓ），１０．６（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例４５４
ｍａｓｓ：４１９（Ｍ＋１）＋．
実施例４５５
ｍａｓｓ：４１９（Ｍ＋１）＋．
実施例４５６
ｍａｓｓ：２８３（Ｍ＋１）＋．
実施例４５７
ｍａｓｓ：２９７（Ｍ＋１）＋．
実施例４５８
ｍａｓｓ：３１１（Ｍ＋１）＋．
実施例４５９
ｍａｓｓ：３１１（Ｍ＋１）＋．
実施例４６０
ｍａｓｓ：３２３（Ｍ＋１）＋．
実施例４６１
ｍａｓｓ：３３７（Ｍ＋１）＋．
実施例４６２
ｍａｓｓ：３２７（Ｍ＋１）＋．
実施例４６３
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
３．６２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．９１（３Ｈ，ｓ），４．３４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），７．０２（１Ｈ，ｍ），７．３８−７．５１（３Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），９．８０（１Ｈ，ｓ），１１．０（１Ｈ，ｂｒ）．
実施例４６４
ｍａｓｓ：３３１（Ｍ＋１）＋．
実施例４６５
ｍａｓｓ：３３７（Ｍ＋１）＋．
実施例４６６
ｍａｓｓ：３３７（Ｍ＋１）＋．
実施例４６７
（１） 実施例４４９の（２）の化合物２０ｍｇ、２０％水酸化パラジウム−炭素触媒２０ｍｇ、メタノール１ｍｌ及びテトラヒドロフラン１ｍｌの混合物を水素気流下、室温で１５時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（１９：１））で精製し、目的物５ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物５ｍｇを用い、実施例１に準じて表題化合物である淡黄色固体２ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：３３７（Ｍ＋１）＋．
実施例４６８
実施例４６８の化合物は、実施例４６７に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例４６９−４９２
実施例４６９ないし実施例４９２の化合物は、実施例４９３に準じて製造した。
実施例４６９
ｍａｓｓ：３６５（Ｍ＋１）＋．
実施例４７０
ｍａｓｓ：３６９（Ｍ＋１）＋．
実施例４７１
ｍａｓｓ：３８７（Ｍ＋１）＋．
実施例４７２
ｍａｓｓ：４０１（Ｍ＋１）＋．
実施例４７３
ｍａｓｓ：４０７（Ｍ＋１）＋．
実施例４７４
ｍａｓｓ：４０１（Ｍ＋１）＋．
実施例４７５
ｍａｓｓ：３７９（Ｍ＋１）＋．
実施例４７６
ｍａｓｓ：３９１（Ｍ＋１）＋．
実施例４７７
ｍａｓｓ：３２５（Ｍ＋１）＋．
実施例４７８
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例４７９
ｍａｓｓ：３５３（Ｍ＋１）＋．
実施例４８０
ｍａｓｓ：３５３（Ｍ＋１）＋．
実施例４８１
ｍａｓｓ：４０１（Ｍ＋１）＋．
実施例４８２
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例４８３
ｍａｓｓ：４６１（Ｍ＋１）＋．
実施例４８４
ｍａｓｓ：３５３（Ｍ＋１）＋．
実施例４８５
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例４８６
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例４８７
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例４８８
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例４８９
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例４９０
ｍａｓｓ：３８７（Ｍ＋１）＋．
実施例４９１
ｍａｓｓ：４０１（Ｍ＋１）＋．
実施例４９２
ｍａｓｓ：３７９（Ｍ＋１）＋．
実施例４９３
（１） ３−ニトロフタル酸無水物１２５ｇのテトラヒドロフラン（２．５Ｌ）溶液を−７８℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム４８．８ｇを加え、１時間攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加え、室温に戻し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（２：１）にて精製し、目的物８８．４ｇを得た。
（２） （１）の化合物２００ｍｇ、３−アミノ−１−プロパノール９０ｍｇ、モレキュラーシーブス３Ａ５００ｍｇ及びテトラヒドロフラン３ｍｌの混合物を１晩還流した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮後、残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｈ Ａｒｔ５７４４、ヘキサン−酢酸エチル（１：１））で精製し、目的物１８０ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物１８０ｍｇを用い、参考例３に準じて目的物１３９ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物３０ｍｇを用い、実施例１に準じて表題化合物３６ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．５０−４．３０（６Ｈ，ｍ），５．８６（１Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），９．９９（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３２５（Ｍ＋１）＋．
実施例４９４−５０２
実施例４９４ないし実施例５０２の化合物は、実施例４９３に準じて製造した。
実施例４９４
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例４９５
ｍａｓｓ：３４１（Ｍ＋１）＋．
実施例４９６
ｍａｓｓ：３４１（Ｍ＋１）＋．
実施例４９７
ｍａｓｓ：３４０（Ｍ＋１）＋．
実施例４９８
ｍａｓｓ：３２５（Ｍ＋１）＋．
実施例４９９
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例５００
ｍａｓｓ：３８７（Ｍ＋１）＋．
実施例５０１
ｍａｓｓ：３９９（Ｍ＋１）＋．
実施例５０２
ｍａｓｓ：３６９（Ｍ＋１）＋．
実施例５０３−５３０
実施例５０３ないし実施例５３０の化合物は、実施例５３１に準じて製造した。
実施例５０３
ｍａｓｓ：４９８（Ｍ＋１）＋．
実施例５０４
ｍａｓｓ：５４６（Ｍ＋１）＋．
実施例５０５
ｍａｓｓ：５５８（Ｍ＋１）＋．
実施例５０６
ｍａｓｓ：５２８（Ｍ＋１）＋．
実施例５０７
ｍａｓｓ：５２４（Ｍ＋１）＋．
実施例５０８
ｍａｓｓ：５２８（Ｍ＋１）＋．
実施例５０９
ｍａｓｓ：５４６（Ｍ＋１）＋．
実施例５１０
ｍａｓｓ：５６０（Ｍ＋１）＋．
実施例５１１
ｍａｓｓ：５６６（Ｍ＋１）＋．
実施例５１２
ｍａｓｓ：５６０（Ｍ＋１）＋．
実施例５１３
ｍａｓｓ：５３８（Ｍ＋１）＋．
実施例５１４
ｍａｓｓ：５５０（Ｍ＋１）＋．
実施例５１５
ｍａｓｓ：４８４（Ｍ＋１）＋．
実施例５１６
ｍａｓｓ：５６０（Ｍ＋１）＋．
実施例５１７
ｍａｓｓ：４９８（Ｍ＋１）＋．
実施例５１８
ｍａｓｓ：５１２（Ｍ＋１）＋．
実施例５１９
ｍａｓｓ：５１２（Ｍ＋１）＋．
実施例５２０
ｍａｓｓ：５６０（Ｍ＋１）＋．
実施例５２１
ｍａｓｓ：５１２（Ｍ＋１）＋．
実施例５２２
ｍａｓｓ：５２６（Ｍ＋１）＋．
実施例５２３
ｍａｓｓ：５２６（Ｍ＋１）＋．
実施例５２４
ｍａｓｓ：５２６（Ｍ＋１）＋．
実施例５２５
ｍａｓｓ：５２６（Ｍ＋１）＋．
実施例５２６
ｍａｓｓ：５２６（Ｍ＋１）＋．
実施例５２７
ｍａｓｓ：５４６（Ｍ＋１）＋．
実施例５２８
ｍａｓｓ：５６０（Ｍ＋１）＋．
実施例５２９
ｍａｓｓ：５３８（Ｍ＋１）＋．
実施例５３０
ｍａｓｓ：５９９（Ｍ＋１）＋．
実施例５３１
（１） ピコリン酸１５０ｇ、ジメチルホルムアミド２０ｍｌ及び塩化チオニル５００ｍｌの混合物を１００℃で１時間攪拌した。反応液を０℃に冷却し、メタノール２００ｍｌを加えた後、酢酸エチルで希釈し、飽和重曹水を加えた。有機層を分離し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−１００、ヘキサン−酢酸エチル（２：１〜１：１））にて精製し、目的物１４８ｇを得た。
（２） （１）の化合物１８ｇ及びトリブチルビニルスズ３５ｇを用いて実施例４２９の（２）に準じて反応を行い、目的物１６ｇを得た。
（３） （２）の化合物１６ｇを用い、実施例３００に準じて目的物１９．７ｇを得た。
（４） （３）の化合物１９．７ｇを用い、参考例５の（１）、（２）に準じて１４．１ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．８５（１Ｈ，ｍ），２．３０−２．９０（５Ｈ，ｍ），３．４８（１Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｓ），８．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）．
（５） （４）の化合物５０ｍｇ及び実施例４９３の（３）の化合物３０ｍｇを用い、実施例１に準じて表題化合物４１ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．６０−４．６０（１５Ｈ，ｍ），５．６９（１Ｈ，ｓ），６．８３（１Ｈ，ｓ），６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），７．２０−７．６０（６Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），８．７７（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４８４（Ｍ＋１）＋．
実施例５３２
実施例５３２の化合物は、実施例５３１に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４９８（Ｍ＋１）＋．
実施例５３３
（１） ３−ニトロフタルイミド２．００ｇ及び４−ヒドロキシ−２−ブタノン１．３７ｇを用い、実施例４３８の（１）、（２）に準じて目的物１．７８ｇを得た。
（２） （１）の化合物１．７８ｇ、モレキュラーシーブス３Ａを５ｇ、トリフルオロ酢酸１ｍｌ及びテトラヒドロフラン２５ｍｌの混合物を１００℃で１晩攪拌した。反応液を室温に戻して濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル（１：１））にて精製し、目的物９６３ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物９６３ｍｇを参考例３に準じて目的物６８０ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物３０ｍｇを用い、実施例１に準じて表題化合物２８ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．７０−４．３０（５Ｈ，ｍ），５．９５（１Ｈ，ｓ），６．９０−８．７０（７Ｈ，ｍ），１０．０（１Ｈ，ｓ），１１．６（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例５３４
ｍａｓｓ：３５３（Ｍ＋１）＋．
実施例５３５
ｍａｓｓ：３３９（Ｍ＋１）＋．
実施例５３６
ｍａｓｓ：３５３（Ｍ＋１）＋．
実施例５３７
ｍａｓｓ：３５３（Ｍ＋１）＋．
実施例５３８
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例５３９
（１） 実施例４９３の（３）の化合物１．７０ｇ、（Ｂｏｃ）２Ｏ５．５０ｇ、４−ジメチルアミノピリジン３．００ｇ及びテトラヒドロフラン４０ｍｌの混合物を室温で１晩攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル（１０：１〜５：１））にて精製し、目的物２．５６ｇを得た。
（２） （１）の化合物５００ｍｇのテトラヒドロフラン（２５ｍｌ）溶液を−７８℃に冷却し、ヨウ化ブチル４００μｌ及びリチウムヘキサメチルジシラジドのテトラヒドロフラン溶液（１．０Ｍ）３．６ｍｌを加え、徐々に室温まで温度を上げた。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル（１０：１））にて精製し、目的物４８４ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物４８４ｍｇ、トリフルオロ酢酸４ｍｌ及び水０．４ｍｌの混合物を室温で１０分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、ヘキサン−酢酸エチル（１０：１））にて精製し、目的物２４９ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物５０ｍｇを用い、実施例１に準じて表題化合物４８ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．６１（１Ｈ，ｍ），０．６３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．００−３．８０（８Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），４．１８（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），４．３９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝２．０，１１Ｈｚ），７．００−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），１０．０（１Ｈ，ｓ），１１．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例５４０
実施例５４０の化合物は、実施例５４１に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４９８（Ｍ＋１）＋．
実施例５４１
実施例５３３の（３）化合物３０ｍｇ及び実施例５３１の（４）の化合物５０ｍｇを用い、実施例１に準じて表題化合物４８ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．１７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２０−２．９０（１０Ｈ，ｍ），３．６６（２Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｍ），５．９４（１Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｓ），７．２０−７．４０（６Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），９．９６（１Ｈ，ｓ），１１．７（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４９８（Ｍ＋１）＋．
実施例５４２−５４５
実施例５４２ないし実施例５４５の化合物は、実施例５４１に準じて製造した。
実施例５４２
ｍａｓｓ：５１２（Ｍ＋１）＋．
実施例５４３
ｍａｓｓ：５１２（Ｍ＋１）＋．
実施例５４４
ｍａｓｓ：５１２（Ｍ＋１）＋．
実施例５４５
ｍａｓｓ：５２６（Ｍ＋１）＋．
実施例５４６
（１） ２−クロロ−３−ニトロ安息香酸１０．１ｇ及びヒドラジン１水和物４．８５ｍｌを用い、実施例１２１の（１）に準じて目的物９．００ｇを得た。
（２） （１）の化合物９．００ｇのエタノール（１Ｌ）溶液を封管中、１５０℃で１５時間攪拌した。反応液を室温に戻し、析出した結晶を濾取して乾燥し、目的物５．００ｇを得た。
（３） （２）の化合物４０ｍｇ、１，４−ジヨードブタン２９μｌ及びジメチルホルムアミド１ｍｌの混合物を１５時間還流した。反応液を室温に戻して酢酸エチルで希釈し、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｈ Ａｒｔ５７４４、ヘキサン−酢酸エチル（１：２））で精製し、目的物４４ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物４９ｍｇを用い、参考例３に準じて目的物２５ｍｇを得た。
（５） （４）の化合物２５ｍｇを用い、実施例１に準じて表題化合物である白色固体を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．６５−１．７８（２Ｈ，ｍ），１．８８−２．１１（２Ｈ，ｍ），３．３９−３．５０（２Ｈ，ｍ），３．８０−３．９６（２Ｈ，ｍ），７．００−７．１３（１Ｈ，ｍ），７．２０−７．３９（２Ｈ，ｍ），７．４０−７．４９（１Ｈ，ｍ），７．７５−７．８５（１Ｈ，ｍ），８．１５−８．２２（１Ｈ，ｍ），８．３２（１Ｈ，ｓ），９．９３（１Ｈ，ｓ），１１．１（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３２４（Ｍ＋１）＋．
実施例５４７
実施例５４６の（２）の化合物及び１，３−ジヨードプロパンを用い、実施例５４６の（３）から（５）に準じて表題化合物である白色固体を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
２．４９（２Ｈ，ｍ），３．５５−３．７１（２Ｈ，ｍ），３．７１−３．８１（２Ｈ，ｍ），７．０１−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１８−７．２２（１Ｈ，ｍ），７．２８−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．７６−７．８２（１Ｈ，ｍ），８．０８−８．３５（２Ｈ，ｍ），９．９７（１Ｈ，ｓ），１１．１（１Ｈ，ｓ）．
実施例５４８
（１） グリコール酸エチルエステル９．６４ｇ、塩化４−メトキシベンジル１３．２ｍｌ、水素化ナトリウム３．８９ｇ及びジメチルホルムアミド２００ｍｌの混合物を０℃で1晩攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（２０：１））で精製し、目的物１６．０ｇを得た。
（２） アセトニトリル４．１１ｍｌのテトラヒドロフラン（４００ｍｌ）溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ）（４６．３ｍｌ）を加えたところへ、（１）の化合物１６．０ｇのテトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）溶液を加え、−７８℃から室温まで温度を上げて、原料が消失するまで攪拌した。反応液に水を加え、１Ｎ塩酸で酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。有機層にエタノール２００ｍｌを加えたところへ、ヒドラジン１水和物２０ｍｌを加えて、１晩還流した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（９８：２））で精製し、目的物１３．９ｇを得た。
（３） （２）の化合物１３．９ｇ、（Ｂｏｃ）２Ｏ１５．１ｍｌ、水素化ナトリウム２．６２ｇ及びジメチルホルムアミド３００ｍｌの混合物を原料が消失するまで室温で攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（１０：１〜１：１））で精製し、目的物７．３２ｇを得た。
（４） （３）の化合物７．３２ｇを用い、実施例１１８の（２）に準じて目的物４．１６ｇを得た。
（５） （４）の化合物４．１６ｇ、１０％Ｐｄ−炭素触媒３ｇ、メタノール−テトラヒドロフラン（１：１）１４０ｍｌの混合物を水素気流下で５０℃、３時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、クロロホルム−メタノール（９８：２〜８０：２０））で精製し、Ｂｏｃ保護体（Ａ）６０２ｍｇ及び表題化合物５９３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９８−１．１８（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．４１（２Ｈ，ｍ），２．６０−２．７８（１Ｈ，ｍ），３．０３−３．６０（２Ｈ，ｍ），４．４４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），４．６１−４．７９（１Ｈ，ｍ），５．２９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），６．００（１Ｈ，ｓ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．７，７．９Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．４１（１Ｈ，ｓ），１２．３（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３２８（Ｍ＋１）＋．
実施例５４９
（１） 実施例５４８の化合物５１０ｍｇを用い実施例８４の（１）に準じて目的物２９５ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物１２１ｍｇ、１−メチルピペラジン４１４μｌ、モレキュラーシーブス３Ａ１００ｍｇ、及びクロロホルム−メタノール（１：１）４ｍｌの混合物を室温で１２時間攪拌した。ここへ水素化ホウ素ナトリウム４１ｍｇを加え、原料が消失するまで攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、クロロホルム−メタノール（２０：１〜４：１））で精製し、表題化合物のラセミ体１３９ｍｇを得た。
（３） このものをＨＰＬＣ（ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（ダイセル化学工業（株）））で光学分割し、Ｒｔ＝８．３ｍｉｎ（ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（ダイセル化学工業（株）、０．４６φｘ２５ｃｍ）、エタノール、０．５ｍｌ／ｍｉｎ）（Ａ）の化合物を表題化合物として６ｍｇ、及びＲｔ＝１１．１ｍｉｎ（Ｂ）の化合物を実施例５５０の化合物として１９ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９８−１．１３（１Ｈ，ｍ），２．１３（３Ｈ，ｓ），２．２２−２．４７（１０Ｈ，ｍ），２．５１−２．７２（１Ｈ，ｍ），３．４２（２Ｈ，ｓ），３．２３−３．６０（２Ｈ，ｍ），４．６２−４．７８（１Ｈ，ｍ），５．９６（１Ｈ，ｓ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，７．９Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．４４（１Ｈ，ｓ），１２．３（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４１０（Ｍ＋１）＋．
実施例５５０
実施例５５０の化合物を、実施例５４９の光学異性体として得た。
ｍａｓｓ：４１０（Ｍ＋１）＋．
実施例５５１−５９１
実施例５５１ないし実施例５９１の化合物は実施例５４９の（２）に準じて製造した。
実施例５５１
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．８２（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），０．９８−１．１４（１Ｈ，ｍ），１．３６（４Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝７．２，７．５Ｈｚ），２．２１−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．４８−２．６５（２Ｈ，ｍ），３．２３−３．６０（２Ｈ，ｍ），３．６７（２Ｈ，ｓ），４．６３−４．７４（１Ｈ，ｍ），６．０２（１Ｈ，ｓ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．７，８．０Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），９．４１（１Ｈ，ｓ），１２．２（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３９７（Ｍ＋１）＋．
実施例５５２
ｍａｓｓ：３８３（Ｍ＋１）＋．
実施例５５３
ｍａｓｓ：３９７（Ｍ＋１）＋．
実施例５５４
ｍａｓｓ：３９７（Ｍ＋１）＋．
実施例５５５
ｍａｓｓ：４１７（Ｍ＋１）＋．
実施例５５６
ｍａｓｓ：４１７（Ｍ＋１）＋．
実施例５５７
ｍａｓｓ：４１７（Ｍ＋１）＋．
実施例５５８
ｍａｓｓ：４４５（Ｍ＋１）＋．
実施例５５９
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９８−１．１４（１Ｈ，ｍ），１．１４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．２４−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．５９−２．７０（１Ｈ，ｍ），２．７４（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝６．９，６．９Ｈｚ），３．２２−３．６０（２Ｈ，ｍ），４．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．６４−４．７３（１Ｈ，ｍ），５．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．０８（１Ｈ，ｓ），６．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．５１（１Ｈ，ｓ），６．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．０，７．１Ｈｚ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．０，８．２Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），９．４０（１Ｈ，ｓ），１２．３（１Ｈ，ｓ）．
実施例５６０
ｍａｓｓ：４４５（Ｍ＋１）＋．
実施例５６１
ｍａｓｓ：４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例５６２
ｍａｓｓ：４３１（Ｍ＋１）＋．
実施例５６３
ｍａｓｓ：４３９（Ｍ＋１）＋．
実施例５６４
ｍａｓｓ：４３９（Ｍ＋１）＋．
実施例５６５
ｍａｓｓ：４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例５６６
ｍａｓｓ：４６１（Ｍ＋１）＋．
実施例５６７
ｍａｓｓ：３９９（Ｍ＋１）＋．
実施例５６８
ｍａｓｓ：３９９（Ｍ＋１）＋．
実施例５６９
ｍａｓｓ：４９１（Ｍ＋１）＋．
実施例５７０
ｍａｓｓ：４３８（Ｍ＋１）＋．
実施例５７１
ｍａｓｓ：４９３（Ｍ＋１）＋．
実施例５７２
ｍａｓｓ：４２５（Ｍ＋１）＋．
実施例５７３
ｍａｓｓ：４２７（Ｍ＋１）＋．
実施例５７４
ｍａｓｓ：５００（Ｍ＋１）＋．
実施例５７５
ｍａｓｓ：４３６（Ｍ＋１）＋．
実施例５７６
ｍａｓｓ：４１３（Ｍ＋１）＋．
実施例５７７
ｍａｓｓ：５０６（Ｍ＋１）＋．
実施例５７８
ｍａｓｓ：５０３（Ｍ＋１）＋．
実施例５７９
ｍａｓｓ：４７７（Ｍ＋１）＋．
実施例５８０
ｍａｓｓ：４７３（Ｍ＋１）＋．
実施例５８１
ｍａｓｓ：４７３（Ｍ＋１）＋．
実施例５８２
ｍａｓｓ：４８９（Ｍ＋１）＋．
実施例５８３
ｍａｓｓ：４８９（Ｍ＋１）＋．
実施例５８４
ｍａｓｓ：４４３（Ｍ＋１）＋．
実施例５８５
ｍａｓｓ：４６１（Ｍ＋１）＋．
実施例５８６
ｍａｓｓ：５２２，５２４（Ｍ＋１）＋．
実施例５８７
ｍａｓｓ：４７７（Ｍ＋１）＋．
実施例５８８
ｍａｓｓ：５１２（Ｍ＋１）＋．
実施例５８９
ｍａｓｓ：４５７（Ｍ＋１）＋．
実施例５９０
ｍａｓｓ：４９３（Ｍ＋１）＋．
実施例５９１
ｍａｓｓ：４９３（Ｍ＋１）＋．
実施例５９２−５９５
実施例５９２ないし実施例５９５の化合物は、実施例５４９の（２）及び（３）に準じて製造した。
実施例５９２
ｍａｓｓ：４７７（Ｍ＋１）＋．
実施例５９３
ｍａｓｓ：４７７（Ｍ＋１）＋．
実施例５９４
ｍａｓｓ：４７７（Ｍ＋１）＋．
実施例５９５
ｍａｓｓ：４７７（Ｍ＋１）＋．
実施例５９６
実施例６６２の化合物を６２ｍｇ用い、実施例２９０に準じて表題化合物１５ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：３９７（Ｍ＋１）＋．
実施例５９７
実施例５９７の化合物は、実施例５９６に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４９１（Ｍ＋１）＋．
実施例５９８
実施例５９８の化合物は、実施例６４９の（２）の化合物を用い、実施例５９６に準じて製造した。
ｍａｓｓ：５０１（Ｍ＋１）＋．
実施例５９９
（１） Ｌ−Ｎ−ベンジルプロリンエチルエステルを用い、実施例５４８の（２）（３）に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物６２３ｍｇを用い、実施例１１８の（２）に準じて目的物４０８ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物２８８ｍｇ及び塩酸−メタノール５ｍｌの混合物を室温で１５分攪拌した。反応液を濃縮し、クロロホルムで希釈して飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥し、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（９９：１））で精製し、表題化合物の混合物１１９ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物をＨＰＬＣで分割し、Ｒｔ＝１４．６分（ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ（ダイセル化学工業（株）、０．４６φｘ２５ｃｍ）、ヘキサン−エタノール（８０：２０）、０．６ｍｌ／ｍｉｎ）の分画（Ａ）として表題化合物を３８ｍｇ及びＲｔ＝１８．３分の分画（Ｂ）として実施例６００の化合物を３９ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：４５７（Ｍ＋１）＋．
実施例６００
実施例６００の化合物は、実施例５９９の化合物のジアステレオマーとして得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９８−１．０４（１Ｈ，ｍ），１．６４−１．８０（３Ｈ，ｍ），２．０４−２．４０（４Ｈ，ｍ），２．５９−２．９０（２Ｈ，ｍ），３．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ），３．４２−３．６０（３Ｈ，ｍ），３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ），４．６２−４．６８（１Ｈ，ｍ），６．０９（１Ｈ，ｂｒｓ），７．２０−７．３６（６Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，８．０Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．４３（１Ｈ，ｓ），１２．４（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４５７（Ｍ＋１）＋．
実施例６０１
Ｄ−Ｎ−ベンジルプロリンエチルエステルを用い、実施例５９９及び実施例６００に準じて、Ｒｔ＝１４．０分（ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ（ダイセル化学工業（株）、０．４６φｘ２５ｃｍ）、ヘキサン−エタノール（８０：２０）、０．６ｍｌ／ｍｉｎ）の分画（Ａ）として表題化合物を６８ｍｇ、及びＲｔ＝１６．８分の分画（Ｂ）として実施例６０２の化合物６４ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：４５７（Ｍ＋１）＋．
実施例６０２
実施例６０２の化合物は、実施例６０１の化合物のジアステレオマーとして得た。
ｍａｓｓ：４５７（Ｍ＋１）＋．
実施例６０３−６０７
実施例６０３ないし実施例６０７の化合物は、実施例５９９の（１）から（３）に準じて製造した。
実施例６０３
ｍａｓｓ：３８８（Ｍ＋１）＋．
実施例６０４
ｍａｓｓ：４２４（Ｍ＋１）＋．
実施例６０５
ｍａｓｓ：３８９（Ｍ＋１）＋．
実施例６０６
ｍａｓｓ：４２４（Ｍ＋１）＋．
実施例６０７
ｍａｓｓ：３８８（Ｍ＋１）＋．
実施例６０８
実施例５９９の化合物を６１０ｍｇ、１０％Ｐｄ−炭素触媒３００ｍｇ、ギ酸アンモニウム８００ｍｇ及びエタノール１５ｍｌの混合物を４時間還流した。反応液を室温に戻してセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０Ｎ（ｓｐｈｅｒｉａｌ ｎｅｕｔｒａｌ）（関東化学（株））、クロロホルム−メタノール（９８：２〜５：１））で精製し、表題化合物２９０ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例６０９
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例６１０
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例６１１
ｍａｓｓ：３６７（Ｍ＋１）＋．
実施例６１２
実施例６１２の化合物は、実施例５９９の（１）から（３）に準じて製造した。
ｍａｓｓ：３７５（Ｍ＋１）＋．
実施例６１３
（１） ２−クロロ−３−シアノピリジン１．８７ｇを用い、実施例１１８の（１）に準じて目的物１．３５ｇを得た。
（２） （１）の化合物８１８ｍｇを用い、実施例５４８の（３）に準じて、Ｎ−保護体６１８ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物２９４ｍｇを用い実施例１１８の（２）に準じて表題化合物４５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
１．０４−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．３０−２．４１（２Ｈ，ｍ），２．６２−２．７１（１Ｈ，ｍ），３．２８−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．４８−３．５９（１Ｈ，ｍ），４．７４−４．８２（１Ｈ，ｍ），７．１２−７．２０（１Ｈ，ｍ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６，７．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．５１−８．５４（２Ｈ，ｍ），９．８０（１Ｈ，ｓ），１０．２（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３４９（Ｍ＋１）＋．
実施例６１４−６１５
実施例６１４及び実施例６１５は、実施例５９９の（１）から（３）に準じて製造した。
実施例６１４
ｍａｓｓ：４６８（Ｍ＋１）＋．
実施例６１５
ｍａｓｓ：３８０（Ｍ＋１）＋．
実施例６１６−６１９
実施例６１６ないし実施例６１９の化合物は、実施例３０６の（３）の化合物及び実施例３０６の（２）−Ｂから実施例３０６の（３）に準じて合成した化合物を用い、実施例５９９の（１）から（３）に準じて製造した。
実施例６１６
ｍａｓｓ：３６６（Ｍ＋１）＋．
実施例６１７
ｍａｓｓ：３６６（Ｍ＋１）＋．
実施例６１８
ｍａｓｓ：４７３（Ｍ＋１）＋．
実施例６１９
ｍａｓｓ：４７３（Ｍ＋１）＋．
実施例６２０−６２１
実施例６２０及び実施例６２１の化合物は、実施例６１８の化合物及び実施例６１９の化合物を用い、実施例５４８の（５）に準じて製造した。
実施例６２０
ｍａｓｓ：３８３（Ｍ＋１）＋．
実施例６２１
ｍａｓｓ：３８３（Ｍ＋１）＋．
実施例６２２−６２５
実施例６２２ないし実施例６２５の化合物は、実施例３０６の（３）の化合物及び実施例３０６の（２）−Ｂから３０６実施例３０６の（３）に準じて合成した化合物を用い、実施例５９９の（１）から（３）に準じて得られたジアステレオマーの混合物をＨＰＬＣ（ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（ダイセル化学工業（株）、２φｘ２５ｃｍ））で分割を行った。
実施例６２２
ｍａｓｓ：４７１（Ｍ＋１）＋．
実施例６２３
ｍａｓｓ：４７１（Ｍ＋１）＋．
実施例６２４
ｍａｓｓ：４７１（Ｍ＋１）＋．
実施例６２５
ｍａｓｓ：４７１（Ｍ＋１）＋．
実施例６２６
実施例６２６の化合物は、実施例５９９の（１）から（３）に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４７１（Ｍ＋１）＋．
実施例６２７
実施例６１６の化合物は、実施例６２２に準じて製造した。
ｍａｓｓ：４２４（Ｍ＋１）＋．
実施例６２８−６２９
実施例６２８の化合物及び実施例６２９の化合物は、実施例６２２に準じて製造した。
実施例６２８
ｍａｓｓ：４２４（Ｍ＋１）＋．
実施例６２９
ｍａｓｓ：４２４（Ｍ＋１）＋．
実施例６３０
（１） 実施例５９９の（３）の化合物を用い、実施例６１０に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物８５ｍｇ、Ｎ−（ジエチルカルバモイル）−Ｎ−メトキシホルムアミド８１μｌ及びクロロホルム２ｍｌの混合物を６０℃で２時間攪拌した。反応液を室温に戻してクロロホルムで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｈ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（１０：１））で精製し、ジアステレオマーの混合物を得た。このものを実施例５４９の（３）と同様にして分割し、表題化合物を４ｍｇ及び実施例６３１の化合物を３ｍｇ得た。
ｍａｓｓ：３９５（Ｍ＋１）＋．
実施例６３１
ｍａｓｓ：３９５（Ｍ＋１）＋．
実施例６３２
（１） 実施例６３０の（１）の化合物１７１ｍｇを用い、実施例２９５に準じてジアステレオマーの混合物７０ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物について実施例５４９の（３）と同様にして分割し、実施例６３２を１３ｍｇ及び実施例６３３を２６ｍｇ得た。
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例６３３
実施例６３３の化合物は、実施例６３２のジアステレオマーとして得た。
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例６３４
実施例６３６を４２ｍｇ及び１−ブチルアミン１２０μｌを用い、実施例５４９の（２）に準じて反応を行った後、１０％塩酸−メタノールで処理して乾燥し、表題化合物の塩酸塩を２２ｍｇ得た。
ｍａｓｓ：３９７（Ｍ＋１）＋．
実施例６３５
実施例６３５の化合物は、実施例６３４に準じて製造した。
実施例６３６
実施例６３９の（２）の化合物１．２０ｇを用い、実施例８４の（１）に準じて反応を行った後、実施例５９９の（３）に準じて表題化合物５９１ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：３４０（Ｍ＋１）＋．
実施例６３７
実施例６３９の（１）の化合物を用い、実施例５９９の（３）に準じて表題化合物７０８ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：４３２（Ｍ＋１）＋．
実施例６３８
実施例６３８の化合物は、実施例６３４に準じて製造した。
実施例６３９
（１） ２−ベンジルオキシプロピオン酸エチルエステルを用い、実施例５９９の（１）（２）に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物４．３０ｇを用い、実施例５４８の（５）に準じて反応を行った。反応液に１０％塩酸−メタノールを加えてＢｏｃ基の除去を行った後、酢酸エチルを加えて析出した結晶を濾取、乾燥して表題化合物２．２１ｇを得た。
ｍａｓｓ：３４２（Ｍ＋１）＋．
実施例６４０−６４６
実施例６４０ないし実施例６４６の化合物は、実施例６３４に準じて製造した。
実施例６４０
ｍａｓｓ：３６９（Ｍ＋１）＋．
実施例６４１
ｍａｓｓ：３８３（Ｍ＋１）＋．
実施例６４２
ｍａｓｓ：４４５（Ｍ＋１）＋．
実施例６４３
ｍａｓｓ：４０９（Ｍ＋１）＋．
実施例６４４
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例６４５
ｍａｓｓ：３８３（Ｍ＋１）＋．
実施例６４６
ｍａｓｓ：４０９（Ｍ＋１）＋．
実施例６４７
（１） Ｌ−Ｎ−ベンジルプロリンエチルエステルを用い、実施例５４８の（２）に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物１．３４ｇ、水素化ナトリウム２４３ｍｇ、ヨウ化メチル０．３８ｍｌ及びジメチルホルムアミド２０ｍｌの混合物を原料が消失するまで室温で攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−３００、クロロホルム−メタノール（９８：２））で精製し、表題化合物３５０ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物３４０ｍｇを用い、実施例１１８の（２）に準じて反応を行い、目的物２５２ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物２５２ｍｇを用い、実施例６１０に準じてジアステレオマーの混合物８６ｍｇを得た。このものについて実施例５４９と同様の方法により分割を行い、表題化合物を２０ｍｇ及びジアステレオマーである実施例６４８の化合物を１７ｍｇ得た。
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例６４８
実施例６４８の化合物は、実施例６４７の化合物とともに得られた。
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例６４９
（１） グリコール酸エチルエステル及び臭化ベンジルを用い、実施例５４８の（１）及び（２）に準じて目的物を合成した。
（２） （１）の化合物１．３１ｍｇ、水素化ナトリウム２７１ｍｇ、ヨウ化メチル４２１μｌ及びジメチルホルムアミド３０ｍｌの混合物を０℃で６０分攪拌した。反応後通常の後処理を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（９９：１〜９８：２））で精製し、目的物５９３ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物５９３ｍｇを用い、実施例１１８の（２）に準じて目的物５３５ｍｇを得た。
（４） （３）の化合物を用い、実施例５４８の（５）、続いて実施例８４の（１）に準じて目的物１７６ｍｇを得た。
（５） （４）の化合物３０ｍｇ及び２−アミノインダン１００ｍｇを用い、実施例５４９の（２）に準じて表題化合物を３１ｍｇ、実施例６５０の化合物を１１ｍｇ及び実施例６５１の化合物を１２ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９３−１．１０（１Ｈ，ｍ），２．２４−２．３８（２Ｈ，ｍ），２．５２−２．６３（１Ｈ，ｍ），２．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．２８−３．５８（３Ｈ，ｍ），３．７２（３Ｈ，ｓ），３．７４（２Ｈ，ｓ），４．７１−４．８０（１Ｈ，ｍ），６．０８（１Ｈ，ｓ），７．０６−７．１８（４Ｈ，ｍ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．４，７．９Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．４３（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：４５７（Ｍ＋１）＋．
実施例６５０
実施例６５０の化合物は、実施例６４９の化合物の副生成物として得られた。ｍａｓｓ：３８６（Ｍ＋１）＋．
実施例６５１
実施例６５１の化合物は、実施例６４９の化合物の副生成物として得られた。
ｍａｓｓ：３４２（Ｍ＋１）＋．
実施例６５２−６５６
実施例６５２ないし実施例６５６の化合物は、実施例６４９に準じて製造した。
実施例６５２
ｍａｓｓ：４８７（Ｍ＋１）＋．
実施例６５３
ｍａｓｓ：４７５（Ｍ＋１）＋．
実施例６５４
ｍａｓｓ：５３５，５３７（Ｍ＋１）＋．
実施例６５５
ｍａｓｓ：４９１（Ｍ＋１）＋．
実施例６５６
ｍａｓｓ：４９１（Ｍ＋１）＋．
実施例６５７−６８７
実施例６５７ないし実施例６８７の化合物は、実施例５４９の（２）に準じて製造した。
実施例６５７
ｍａｓｓ：３８３（Ｍ＋１）＋．
実施例６５８
ｍａｓｓ：４０９（Ｍ＋１）＋．
実施例６５９
ｍａｓｓ：４１７（Ｍ＋１）＋．
実施例６６０
ｍａｓｓ：３６９（Ｍ＋１）＋．
実施例６６１
ｍａｓｓ：３６９（Ｍ＋１）＋．
実施例６６２
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９５−１．１２（１Ｈ，ｍ），１．３６（９Ｈ，ｓ），２．２２−２．３８（２Ｈ，ｍ），２．６２−２．７５（１Ｈ，ｍ），３．２３−３．３７（１Ｈ，ｍ），３．４２−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．１０（２Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，１０Ｈｚ），６．４７（１Ｈ，ｓ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），９．０９（３Ｈ，ｂｒ），９．９１（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３８３（Ｍ＋１）＋．
実施例６６３
ｍａｓｓ：３５５（Ｍ＋１）＋．
実施例６６４
ｍａｓｓ：３９５（Ｍ＋１）＋．
実施例６６５
ｍａｓｓ：３８１（Ｍ＋１）＋．
実施例６６６
ｍａｓｓ：３４１（Ｍ＋１）＋．
実施例６６７
ｍａｓｓ：３２４（Ｍ＋１）＋．
実施例６６８
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９０−１．２０（１Ｈ，ｍ），１．２０−２．００（８Ｈ，ｍ），２．２０−２．７０（４Ｈ，ｍ），３．００−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．４０−３．６０（１Ｈ，ｍ），３．７４（２Ｈ，ｍ），４．６９（１Ｈ，ｍ），７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．４４（１Ｈ，ｂｒ），１２．２（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３９５（Ｍ＋１）＋．
実施例６６９
ｍａｓｓ：３８３（Ｍ＋１）＋．
実施例６７０
ｍａｓｓ：３９７（Ｍ＋１）＋．
実施例６７１
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．７０−０．９５（６Ｈ，ｍ），０．９５−１．１５（１Ｈ，ｍ），１．１５−１．５０（８Ｈ，ｍ），２．１０−２．７０（４Ｈ，ｍ），３．１０−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．４０−３．６０（１Ｈ，ｍ），３．６６（２Ｈ，ｓ），４．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０，１１Ｈｚ），６．０１（１Ｈ，ｂｒ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．４０（１Ｈ，ｓ），１２．１（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：４２５（Ｍ＋１）＋．
実施例６７２
ｍａｓｓ：４２５（Ｍ＋１）＋．
実施例６７３
ｍａｓｓ：４３９（Ｍ＋１）＋．
実施例６７４
ｍａｓｓ：４１１（Ｍ＋１）＋．
実施例６７５
ｍａｓｓ：３９７（Ｍ＋１）＋．
実施例６７６
ｍａｓｓ：４１１（Ｍ＋１）＋．
実施例６７７
ｍａｓｓ：４４５（Ｍ＋１）＋．
実施例６７８
ｍａｓｓ：４４５（Ｍ＋１）＋．
実施例６７９
ｍａｓｓ：４４５（Ｍ＋１）＋．
実施例６８０
ｍａｓｓ：４８１（Ｍ＋１）＋．
実施例６８１
ｍａｓｓ：４８１（Ｍ＋１）＋．
実施例６８２
ｍａｓｓ：４３７（Ｍ＋１）＋．
実施例６８３
ｍａｓｓ：４６８（Ｍ＋１）＋．
実施例６８４
ｍａｓｓ：４８９（Ｍ＋１）＋．
実施例６８５
ｍａｓｓ：４８４（Ｍ＋１）＋．
実施例６８６
ｍａｓｓ：４５９（Ｍ＋１）＋．
実施例６８７
ｍａｓｓ：３９９（Ｍ＋１）＋．
実施例６８８
（１） ２−アミノインダンの塩酸塩１．９３ｇ、臭素５．０ｍｌ及び酢酸３０ｍｌを加えて５０℃で３日間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をクロロホルム５０ｍｌに溶解した。ここへ（Ｂｏｃ）２Ｏ４ｍｌ及びトリエチルアミン１５ｍｌを加え、原料が消失するまで攪拌した。反応液を１Ｎ塩酸で洗浄し、有機層を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００）で精製し、目的物１．３８ｇを得た。
（２） （１）の化合物１．３８ｇを用い、実施例５９９の（３）に準じて目的物５５３ｍｇを得た。
（３） （２）の化合物１４ｇ、ブロモ酢酸エチル５．８５ｍｌ、トリエチルアミン１４．７ｍｌ及びトルエン１００ｍｌの混合物を室温で１晩攪拌した。反応液をエーテル−酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をクロロホルム１５０ｍｌに溶解し、（Ｂｏｃ）２Ｏ１２．６ｍｌ加えて原料が消失するまで室温で攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、目的物１１．６８ｇを得た。
（４） （３）の化合物１０．１３ｇを用い、実施例５４８の（２）に準じて目的物１．９５ｇを得た。
（５） ３−ヒドロキシ−２−ブタノンを用いて実施例５３３の（１）から（３）に準じて合成したアミン及び（４）の化合物を用い、実施例１１８の（２）に準じてウレア体を得た。
（６） （５）の化合物を４Ｎ塩酸−ジオキサンで処理してＢｏｃ保護基を除去し、表題化合物を得た。
ｍａｓｓ：５５１，５５３（Ｍ＋１）＋．
実施例６８９−６９０
実施例６８９及び実施例６９０の化合物は、実施例６８８に準じて製造した。
実施例６８９
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．７８−１．２０（７Ｈ，ｍ），２．２４−２．７８（４Ｈ，ｍ），２．８９−３．１０（２Ｈ，ｍ），３．４０−３．５９（１Ｈ，ｍ），３．７２（２Ｈ，ｓ），４．１０−４．２２（１Ｈ，ｍ），４．７８（１Ｈ，ｓ），６．１０（１Ｈ，ｂｒｓ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，ｓ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７，８．５Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），９．５５（１Ｈ，ｓ），１２．１（１Ｈ，ｂｒｓ）．
ｍａｓｓ：５６５，５６７（Ｍ＋１）＋．
実施例６９０
ｍａｓｓ：５５１，５５３（Ｍ＋１）＋．
実施例６９１−６９２
実施例６９１及び実施例６９２の化合物は、実施例６９３に準じて製造した。
実施例６９１
ｍａｓｓ：５４８（Ｍ＋１）＋．
実施例６９２
ｍａｓｓ：４７４（Ｍ＋１）＋．
実施例６９３
（１） 実施例１２０の化合物５４ｍｇ、トランス−１，４−ジアミノシクロヘキサンのモノＢｏｃ保護体（トランス−１，４−ジアミノシクロヘキサン、（Ｂｏｃ）２Ｏ及びクロロホルムを用い、通常の方法に従い合成した）５６ｍｇを用い、実施例４０９の（１）に準じて目的物６１ｍｇを得た。
（２） （１）の化合物６１ｍｇを用い、実施例５４８の（２）に準じて目的物３７ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９８−１．２０（１Ｈ，ｍ），１．４８−１．５３（４Ｈ，ｍ），１．８８−２．０９（４Ｈ，ｍ），２．２６−２．４３（２Ｈ，ｍ），２．６３−２．７１（１Ｈ，ｍ），２．９０−３．０８（１Ｈ，ｍ），３．２３−３．８３（３Ｈ，ｍ），４．７４−４．８５（１Ｈ，ｍ），６．７１（１Ｈ，ｓ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．４，７．９Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７，８．３Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．０２−８．１３（２Ｈ，ｂｒ），８．２３（１Ｈ，ｓ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），９．２０−９．４０（１Ｈ，ｂｒ），９．８４（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：５１４（Ｍ＋１）＋．
実施例６９４−７００
実施例６９４ないし実施例７００の化合物は、実施例６９３に準じて製造した。
実施例６９４
ｍａｓｓ：４９０（Ｍ＋１）＋．
実施例６９５
ｍａｓｓ：５１４（Ｍ＋１）＋．
実施例６９６
ｍａｓｓ：５１４（Ｍ＋１）＋．
実施例６９７
ｍａｓｓ：５６０（Ｍ＋１）＋．
実施例６９８
ｍａｓｓ：５２７（Ｍ＋１）＋．
実施例６９９
ｍａｓｓ：５３６（Ｍ＋１）＋．
実施例７００
ｍａｓｓ：５２８（Ｍ＋１）＋．
実施例７０１
実施例７０３の化合物を１００ｍｇ用い、実施例１１８の（４）に準じて表題化合物６９ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：２９８（Ｍ＋１）＋．
実施例７０２
（１） ３−アミノ−４−エトキシカルボニルピラゾールを用い、実施例７０３に準じて目的物を得た。
（２） （１）の化合物３００ｍｇを用い、実施例１１８の（４）に準じて表題化合物を得た。
ｍａｓｓ：３７０（Ｍ＋１）＋．
実施例７０３
（１） ３−アミノピラゾール３．００ｇ、臭化ベンジル５．６０ｇ、水素化ナトリウム１．７２ｇ及びジメチルホルムアミド３０ｍｌの混合物を室温で３時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（３：１〜１：１）にて精製し、目的物を２．８７ｇ得た。
（２） （１）の化合物２．８９ｇを用い、実施例１１８の（２）に準じて表題化合物９８９ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：３８８（Ｍ＋１）＋．
実施例７０４
（１） 実施例７０２の（１）の化合物３００ｍｇのテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液を０℃に冷却し、水素化リチウムアルミニウム３０ｍｇを加え３０分攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ヘキサン−酢酸エチル（１：１〜１：２）にて精製し、表題化合物２４８ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：４１８（Ｍ＋１）＋．
実施例７０５
３−アミノ−１−メチルピラゾール１００ｍｇを用い、実施例１１８の（２）に準じて表題化合物１９６ｍｇを得た。
ｍａｓｓ：３１２（Ｍ＋１）＋．
実施例７０６
（１） 参考例３の化合物２８０ｍｇのクロロホルム（５ｍｌ）溶液に塩素ガスを吹き込み、生成した濾取した。このものを水酸化ナトリウム水溶液及びクロロホルムの混合物に溶解し、有機層を分離して濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（１０：１））で精製し、モノクロロ体（Ａ）を８４ｍｇ及びジクロロ体（Ｂ）を６６ｍｇ得た。
（２） （１）−Ａの化合物４２ｍｇを用い実施例１に準じて表題化合物である白色結晶を得た。
ｍａｓｓ：３４３（Ｍ＋１）＋．
実施例７０７
（１） 参考例３の化合物２．０２ｇのクロロホルム溶液を−２０℃に冷却し、臭素１．１６ｍｌを加え、１０分攪拌した。反応液を室温に戻し、析出した固体を濾取した。このものを水酸化ナトリウム水溶液及びクロロホルムの混合物に溶解し、有機層を分離して濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２００、クロロホルム−メタノール（９９：１）にて精製し、モノブロモ体（Ａ）を１．３０ｇ及びジブロモ体（Ｂ）を１．１４ｇ得た。
（２） （１）−Ａの化合物１．０３ｇを用い、実施例１に準じて表題化合物１．２４ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
０．９８−１．１４（１Ｈ，ｍ），２．２２−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．４３−２．６０（１Ｈ，ｍ），３．２７−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．４９−３．６０（１Ｈ，ｍ），４．７３−４．８０（１Ｈ，ｍ），７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１２Ｈｚ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．１，８．７，１２Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，７．２Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０（１Ｈ，ｓ），１１．３（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３８７，３８９（Ｍ＋１）＋．
実施例７０８
実施例７０７の（１）−Ｂの化合物を用い、実施例１に準じて表題化合物を得た。
ｍａｓｓ：４６７，４６９（Ｍ＋１）＋．
実施例７０９
実施例７０６の（１）−Ｂの化合物３７ｍｇを用い実施例１に準じて表題化合物を得た。
ｍａｓｓ：３７８（Ｍ＋１）＋．
実施例７１０
（１） ４−ニトロ−１，２−ベンゾイソチアゾール−３−オン １，１，−ジオキシド１００ｍｇ及び２−プロパノール６７μｌを用い、実施例５６に準じて２種の化合物の混合物として淡黄色固体１２１ｍｇを得た。
（２） （１）の混合物３０ｍｇを用い、参考例３に準じて反応を行った。粗生成物をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（８０：１））で精製し、Ｎ−アルキル体（Ａ）を６ｍｇ及びＯ−アルキル体（Ｂ）を２０ｍｇ得た。
（３） （２）−Ａの化合物６ｍｇを用い、実施例１に準じて表題化合物である白色固体２ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．６５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），４．５５（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝７．８，７．８Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｂｒ），７．６６−７．７８（１Ｈ，ｍ），８．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），９．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１３．１（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３６１（Ｍ＋１）＋．
実施例７１１
実施例７１０の（２）−Ｂの化合物７５ｍｇを用い、実施例１に準じて表題化合物である淡黄色固体９３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．４５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．４９（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝６，６Ｈｚ），６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０３−７．０７（１Ｈ，ｍ），７．５９−７．７５（３Ｈ，ｍ），８．２７−８．３０（１Ｈ，ｍ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ），１１．８（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３６１（Ｍ＋１）＋．
実施例７１２−７１３
実施例７１２ないし実施例７１３の化合物は、実施例７１０及び実施例７１１に準じて製造した。
実施例７１２
ｍａｓｓ：３８７（Ｍ＋１）＋．
実施例７１３
ｍａｓｓ：３８７（Ｍ＋１）＋．
実施例７１４
実施例７１１の化合物を５５ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム１７ｍｇを加えて室温で３０分攪拌した。反応液に飽和重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をＴＬＣ（Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ５７４４、クロロホルム−メタノール（８０：１））で精製し、表題化合物である白色固体５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）
４．４１（２Ｈ，ｂｒ），７．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．７５−７．８７（２Ｈ，ｍ），８．２５−８．３３（２Ｈ，ｍ），９．８４（１Ｈ，ｓ），１０．９（１Ｈ，ｂｒ）．
ｍａｓｓ：３０５（Ｍ＋１）＋．
実施例７１５
実施例７１４の化合物を５ｍｇ及び２−プロパノール７μｌを用い、実施例５６に準じて、表題化合物である白色固体３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
１．４６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．４７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．９４（２Ｈ，ｓ），６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．７３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｓ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），８．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１２．５（１Ｈ，ｓ）．
ｍａｓｓ：３７７（Ｍ＋１）＋．
参考例１
９−フルオレノン−４−カルボン酸１０．０ｇ（４４．６ｍｍｏｌ）、塩化チオニル５０ｍｌおよびジメチルホルムアミド１ｍｌの混合物を１時間還流した。反応液を濃縮し目的とする酸塩化物を黄色固体として得た。このものは精製せずに次の反応を行った。
アジ化ナトリウム４．０６ｇ（６２．５ｍｍｏｌ）を水５０ｍｌに溶解し氷冷したところへ、上記酸塩化物をテトラヒドロフラン２００ｍｌに懸濁させたものを一気に加え、同温度で反応液を１時間攪拌した。反応液をテトラヒドロフラン−酢酸エチル（１０：１）で抽出し、有機層を分離し、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥した。濾液を濃縮し、析出した結晶を濾過して目的化合物を１０．３ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：７．２９−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１．３Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１．３Ｈｚ），８．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１．２Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）．
ｍａｓｓ：２５０（Ｍ＋１）＋．
参考例２
（１） ２−クロロ−３−ニトロ安息香酸２ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）と塩化チオニル（３０ｍｌ）を室温にて混合し、４−ジメチルアミノピリジン１２２ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１２時間還流した。反応液を濃縮し酸クロライドの粗生成物を得た。ピロール３．５ｍｌ（５０．０ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン７．０ｍｌ（５０．０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（８０ｍｌ）溶液に上記酸クロライドを室温にて加え、反応液を同温度にて６時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濃縮し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン-酢酸エチル、１：０〜７：３）にて精製し、黄色油状物２．４３ｇを得た。
（２）（１）で得られた黄色油状物２．４０ｇ（９．６０ｍｍｏｌ）のジメチルアセトアミド（１８０ｍｌ）溶液に酢酸カリウム１．８０ｇ（１９．２ｍｍｏｌ）を加えて系内を窒素で置換した。ここへテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム１．１０ｇ（０．９６０ｍｍｏｌ）を室温で加え１３０℃で反応液を１晩攪拌した。反応液を酢酸エチル−エーテル（１：２）で希釈し水、飽和食塩水で順次洗浄、硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濃縮し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−クロロホルム、１：０〜１：１）で精製し褐色固体の化合物２．２４ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：６．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，０．８５Ｈｚ），７．２１（１Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１．０Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１．０Ｈｚ）．
参考例３
参考例２の化合物２．２４ｇのメタノール−テトラヒドロフラン（１：１）８０ｍｌ溶液に１０％パラジウム炭素触媒０．２００ｇを室温で加え、反応液を水素気流下、室温にて１２時間攪拌した。不溶物をセライト濾過し、濾液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１：０〜９８：２〜９５：５）にて精製し、褐色固体の化合物（参考例３の化合物）１．０３ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：０．８０−０．９３（１Ｈ，ｍ），２．１０−２．３０（２Ｈ，ｍ），２．４３−２．５１（１Ｈ，ｍ），３．１８−３．２４（１Ｈ，ｍ），３．３８−３．４７（１Ｈ，ｍ），４．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，５．５Ｈｚ），５．３４（２Ｈ，ｓ），６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），６．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）．
参考例４
（１）窒素気流下、エタノール（９０ｍｌ）を氷冷したところへナトリウム５００ｍｇ（２２ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温で５０分攪拌した。反応液を氷冷し、４−［２−［［（１、１−ジメチルエチル）ジフェニルシリル］オキシ］エチル］−２−ピリジンカルボニトリル４５ｇ（１２０ｍｍｏｌ）のエタノール（１５０ｍｌ）溶液を１５分かけて加え、反応液を室温に戻して４時間攪拌した。反応液に氷冷下１Ｎ塩酸１２０ｍｌ（１２０ｍｍｏｌ）を加えて酸性にした後、さらに同温度で反応液に水５０ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、１Ｎ水酸化ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濃縮し褐色オイルを得た。シルカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、２：１〜１：１）にて精製し、黄色オイル４２ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．００（９Ｈ，ｓ），１．４５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．８９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．４９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），７．３２−７．４５（６Ｈ，ｍ），７．５５（４Ｈ，ｄｄ），７．９９（１Ｈ，ｓ），８．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）．
参考例５
（１）参考例４の化合物１３ｇ（３２ｍｍｏｌ）のメタノール（２００ｍｌ）溶液にヒドラジン１水和物７．８ｍｌ（１６０ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で１９時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮し黄色オイル１４ｇを得た。このものは精製せずに次の反応に用いた。
（２）（１）で得られた化合物のクロロホルム（１００ｍｌ）溶液を氷冷し、１Ｎ塩酸９７ｍｌ（９７ｍｍｏｌ）および亜硫酸ナトリウム４．５ｇ（６５ｍｍｏｌ）を加え、同温度で反応液を４０分攪拌した。反応液にクロロホルムを加え有機層を分離、硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮し黄色オイル１４ｇを得た。このものは精製せずに次の反応に用いた。
（３）（２）で得られた化合物１４ｇ（３２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２００ｍｌ）溶液に参考例３の化合物２．００ｇ（１０．６ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を９５℃で２．５時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、１：１〜１：２）にて精製し、淡黄色結晶８．０ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０１（９Ｈ，ｓ），１．２２−１．３７（１Ｈ，ｍ），２．３３−２．４７（２Ｈ，ｍ），２．５８−２．６５（１Ｈ，ｍ），２．８１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ），３．７８（１Ｈ，ｄｔ），３．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ），６．５３（１Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），７．３０−７．４７（８Ｈ，ｍ），７．５３−７．５８（５Ｈ，ｍ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１２．０（１Ｈ，ｓ）．
参考例６
参考例５の化合物８．０ｇ（１４ｍｍｏｌ）をクロロホルム５０ｍｌに溶解したところへパラホルムアルデヒド７１．４４ｇ（２．３８ｍｏｌ）とｔｅｒｔ−ブチルアミン２５０ｍｌ（２．３８ｍｏｌ）を室温で攪拌して調製したイミン５０ｍｌおよび濃硫酸１滴を加え、反応液を９５℃で３日間攪拌した。反応液を濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、３：１〜１：１〜１：２）にて精製し、無色粉末７．０ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．９８（９Ｈ，ｓ），０．９８−１．０２（１Ｈ，ｍ），１．２８（９Ｈ，ｓ），２．２０−２．３５（３Ｈ，ｍ），２．８０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），３．３３−３．４２（１Ｈ，ｍ），３．６４−３．７３（１Ｈ，ｍ），３．８６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），４．７３−４．８０（１Ｈ，ｍ），４．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），５．０５−５．１５（１Ｈ，ｂｒ），５．４３−５．５２（１Ｈ，ｂｒ），６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．３０−７．４１（６Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ），７．５４−７．６０（５Ｈ，ｍ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）．
参考例７
参考例６の化合物２．００ｇをテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解し、フッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液（１．０Ｍ）３．５０ｍｌ（３．５０ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥濾過した。濾液を濃縮し析出した結晶を濾取した。濾液を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、１：２〜０：１〜クロロホルム−メタノール、５０：１）にて精製した。先に濾取した結晶と合わせて目的化合物を７００ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２−１．３５（１Ｈ，ｍ），１．３０（９Ｈ，ｓ），２．２０−２．４０（３Ｈ，ｍ），２．８３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．３３−３．４５（１Ｈ，ｍ），３．６１−３．７４（１Ｈ，ｍ），３．７８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．６４−４．８９（３Ｈ，ｍ），５．０７−５．２０（１Ｈ，ｍ），５．４２−５．５５（１Ｈ，ｍ），６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．４５−７．５９（２Ｈ，ｍ），７．７４−７．８１（２Ｈ，ｍ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）．
参考例８
（１）参考例７の化合物１９０ｍｇをクロロホルム２ｍｌに溶解しトリフェニルホスフィン１４６ｍｇ（０．５６ｍｍｏｌ）、ジフェニルリン酸アジド０．１２ｍｌ（０．５６ｍｍｏｌ）およびジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液（４０％）０．２４ｍｌ（０．５５ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で１５時間攪拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１９：１）で精製し、淡黄色不定形物１３０ｍｇを得た。
（２）（１）で得られた化合物１３０ｍｇをメタノール−テトラヒドロフラン（１：１）２ｍｌに溶解し、室温で１０％パラジウム炭素触媒１３０ｍｇを加え水素気流下、反応液を同温度で２時間攪拌した。不溶物をセライトで濾過し濾液を濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、１９：１）で精製し表題化合物を淡黄色油状物として３２ｍｇおよび実施例１０９の化合物８０ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ− ｄ６）δ：１．２３−１．３５（１Ｈ，ｍ），１．２９（９Ｈ，ｓ），２．２１−２．４１（３Ｈ，ｍ），２．８９（２Ｈ，ｂｒｔ），３．００（２Ｈ，ｂｒｔ），３．３４−３．４１（１Ｈ，ｍ），３．６２−３．７１（１Ｈ，ｍ），４．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），４．７３−４．８０（１Ｈ，ｍ），４．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），５．００−５．２０（１Ｈ，ｂｒ），５．４０−５．５０（１Ｈ，ｂｒ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｔ），７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）．
参考例９
実施例８１の化合物８００ｍｇをピリジン２５ｍｌに溶解し、室温にて塩化メタンスルホン酸０．２６３ｍｌ（３．４０ｍｍｏｌ）を加え、反応液を同温度で１時間攪拌した。不溶物を濾過し濾液を濃縮した。残渣をジメチルホルムアミドに溶解し、室温にてアジ化ナトリウム２９５ｍｇ（４．５４ｍｍｏｌ）を加え、反応液を８０℃で３０分攪拌した。反応液を室温に戻して水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、１：２〜０：１）にて精製し目的物２６５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２３−１．３７（１Ｈ，ｍ），２．３３−２．５１（２Ｈ，ｍ），２．５７−２．６７（１Ｈ，ｍ），２．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），３．４６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ，３．２Ｈｚ），３．６１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），３．７７（１Ｈ，ｑ），４．７７−４．８４（１Ｈ，ｍ），６．８１（１Ｈ，ｓ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．７６（１Ｈ，ｓ）．
参考例１０
（１）ｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロリド５．００ｇ（２２．６ｍｍｏｌ）のクロロホルム（５０ｍｌ）溶液を氷冷したところへ、トリエチルアミン４．７２ｍｌ（３３．８ｍｍｏｌ）および２，４−ジメトキシベンジルアミン５．０５ｇ（３０．１ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温で１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて１Ｎ塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過し、濾液を濃縮した。このものは精製を行わずに次の反応を行った。
（２）（１）で得られた化合物１．１２ｇと参考例７の化合物１．００ｇをクロロホルム１０ｍｌに溶解し、トリフェニルホスフィン７５８ｍｇ（２．８９ｍｍｏｌ）とジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液（４０％）１．２６ｍｌ（２．８９ｍｍｏｌ）を室温にて加え、反応液を同温度で１５時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル、１：２〜１：４）で精製し黄色不定型物１．５４ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２０−１．４０（１Ｈ，ｍ），１．３０（９Ｈ，ｓ），２．２０−２．４３（３Ｈ，ｍ），２．７４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３３−３．４５（３Ｈ，ｍ），３．６１（３Ｈ，ｓ），３．６７−３．７３（１Ｈ，ｍ），３．７３（３Ｈ，ｓ），４．３６（２Ｈ，ｓ），４．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），４．７１−４．８０（１Ｈ，ｍ），４．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），６．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，４．０），６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．４３−７．５７（３Ｈ，ｍ），７．６７（２Ｈ，ｔ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．１９−８．２２（３Ｈ，ｍ）．
参考例１１
参考例１０の化合物７５０ｍｇをジメチルホルムアミド７．５ｍｌに溶解し、室温にて炭酸ナトリウム２９０ｍｇ（２．７４ｍｍｏｌ）とチオフェノール０．１２０ｍｌ（１．１７ｍｍｏｌ）を反応液に加え、さらに反応液を室温で４日間攪拌した。不溶物を濾過し濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、５０：１〜９：１〜４：１）にて精製し淡黄色不定型物を３５０ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３０（１０Ｈ，ｓ），２．１０−２．３７（３Ｈ，ｍ），２．７５−２．９０（４Ｈ，ｍ），３．３４−３．４３（１Ｈ，ｍ），３．７３−３．７７（９Ｈ，ｍ），４．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），４．７７（１Ｈ，ｄｄ），４．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．０５−５．１５（１Ｈ，ｂｒ），５．４０−５．５０（１Ｈ，ｂｒ），６．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），７．０９（１Ｈ，ｄｄ），７．４７−７．５７（２Ｈ，ｍ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）．
本発明によれば、本発明化合物は、腫瘍細胞に対して、顕著な増殖阻止作用を示すことから、悪性腫瘍の治療を目的とする新規Ｃｄｋ４阻害剤等を提供することができる。

Claims (6)

  1. 一般式（Ｉ）
    Figure 2011148811
     ［式中、Ａｒは、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、
    （１）低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｒｐは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜１ないし３個、さらには
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｑ、ＳＯ２ＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２ＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｑ）、ＣＯＮＲｑ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＮＲｒ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｑ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｑ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｑ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｑ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑ及びＲｒは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ１及びＹ２は、同一又は異なって、単結合又は該２環性若しくは３環性の縮合環を１個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、
    （２）低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基及び低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基（以下、環上置換基と略す。）が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される５員ないし７員環を形成する含窒素複素芳香環基又は
    （３）式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｙ１、Ｗ１、Ｙ２及びＲｐは前記の意味を有する）で表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される５員ないし７員環を形成する含窒素複素芳香環基、Ｘ及びＺは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、Ｒ１又はＲ２及び／若しくはＲ３と一緒になって、ＣＨ又は窒素原子、Ｙは、ＣＯ、ＳＯ又はＳＯ２、Ｒ１は、水素原子若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ２は、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲｔ、ＳＯ２ＮＲｔ、Ｎ（Ｒｔ）ＳＯ２ＮＲｕ、Ｎ（Ｒｔ）ＳＯ２、ＣＨ（ＯＲｔ）、ＣＯＮＲｔ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＮＲｕ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＳＯ、Ｎ（Ｒｔ）ＣＯＳ、Ｃ（Ｒｖ）＝ＣＲｒ、Ｃ≡Ｃ、ＣＯ、ＣＳ、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｔ、ＯＣ（Ｓ）ＮＲｔ、ＳＣ（Ｏ）、ＳＣ（Ｏ）ＮＲｔ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｔ及びＲｕは、水素原子若しくは低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ３及びＹ４は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基、又は低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Ｘと共に窒素原子を形成し、Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は、前記の意味を有する）で示される置換基であるか、Ｒ２及びＲ３の何れか一方が、Ｒ１及びＸと共に一緒になって形成する、
    Figure 2011148811
     並びに
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される飽和の５員ないし８員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに５員ないし７員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するＺと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するＺ、Ｒ１及びＸと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ１−Ｗ１−Ｙ２−Ｒｐ（式中、Ｒｐ、Ｗ１、Ｙ１及びＹ２は、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、
    Figure 2011148811
     並びに
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される飽和若しくは不飽和の５員ないし８員環基を形成し、Ｒ４及びＲ５は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は前記の意味を有する）で示される置換基又は低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３−Ｗ２−Ｙ４−Ｒｓ（式中、Ｒｓ、Ｗ２、Ｙ３及びＹ４は前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、式
    Figure 2011148811
     は、単結合又は二重結合を示す］で表される化合物又はその塩。
  2. 一般式（Ｉ−ａ）
    Figure 2011148811
     ［式中、Ａｒａは、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、ピラゾリル基及びイミダゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、
    （１’）低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ホルミル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基及び低級アルキルスルホニルアミノ基からなる群より選択される置換基並びに式：Ｙ１a−Ｗ１a−Ｙ２a−Ｒｐa（式中、Ｒｐaは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜１ないし３個、さらには
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、インドリル基、エチレンジオキシフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノリル基、ベンゾイミダゾリル基、チアゾリル基、チエニル基及びトリアゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ１aは、酸素原子、硫黄原子、ＮＲｑa、ＳＯ２ＮＲｑa、Ｎ（Ｒｑa）ＳＯ２、ＣＯＮＲｑa、Ｎ（Ｒｑa）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑa）ＣＯＯ、Ｃ（Ｒｑa）＝ＣＲｒa、ＯＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｑa又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑa及びＲｒaは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ホルミル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基及び低級アルキルスルホニルアミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ１a及びＹ２aは、同一又は異なって、単結合又は該２環性若しくは３環性の縮合環を１個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、
    （２’）低級アルキル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群より選択される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される５員ないし６員環を形成する含窒素複素芳香環基又は
    （３’）式：Ｙ１a−Ｗ１a−Ｙ２a−Ｒｐa（式中、Ｙ１a、Ｗ１a、Ｙ２a及びＲｐaは前記の意味を有する）で表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される５員ないし６員環を形成する含窒素複素芳香環基、Ｘa及びＺaは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、Ｒ１a又はＲ２a及び／若しくはＲ３aと一緒になって、ＣＨ又は窒素原子、Ｙaは、ＣＯ、ＳＯ又はＳＯ２、Ｒ１aは、水素原子若しくは式：Ｙ３a−Ｗ２a−Ｙ４a−Ｒｓa（式中、Ｒｓaは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基及びインドリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはテトラヒドロピリジル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基及びモルホリノ基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ２aは、単結合、ＮＲｔa、ＣＨ（ＯＲｔa）、ＣＯＮＲｔa、Ｎ（Ｒｔa）ＣＯ、Ｎ（Ｒｔa）ＣＯＯ、ＯＣ（Ｏ）ＮＲｔa又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｔaは、水素原子、該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す）、Ｙ３a及びＹ４aは、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基又は低級アルキル基、水酸基、カルバモイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３a−Ｗ２a−Ｙ４a−Ｒｓa（式中、Ｒｓa、Ｗ２a、Ｙ３a及びＹ４aは、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Ｘと共に窒素原子を形成し、Ｒ２a及びＲ３aは、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式：Ｙ３a−Ｗ２a−Ｙ４a−Ｒｓa（式中、Ｒｓa、Ｗ２a、Ｙ３a及びＹ４aは、前記の意味を有する）で示される置換基であるか、Ｒ２a及びＲ３aの何れか一方が、Ｒ１a及びＸaと共に一緒になって形成する、
    Figure 2011148811
     並びに
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される飽和の５員ないし８員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに５員ないし７員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するＺと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するＺa、Ｒ１a及びＸaと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ１a−Ｗ１a−Ｙ２a−Ｒｐa（式中、Ｒｐa、Ｗ１a、Ｙ１a及びＹ２aは、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、ピリジル基及びピラゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにピペリジニル基及びピロリジニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、
    Figure 2011148811
     並びに
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される飽和若しくは不飽和の５員ないし８員環基を形成し、Ｒ４a及びＲ５aは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式：Ｙ３a−Ｗ２a−Ｙ４a−Ｒｓa（式中、Ｒｓa、Ｗ２a、Ｙ３a及びＹ４aは前記の意味を有する）で示される置換基又は低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３a−Ｗ２a−Ｙ４a−Ｒｓa（式中、Ｒｓa、Ｗ２a、Ｙ３a及びＹ４aは前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、式
    Figure 2011148811
     は、単結合又は二重結合を示す］で表される請求項１に記載の化合物又はその塩。
  3. 一般式（Ｉ−ｂ）
    Figure 2011148811
     ［式中、Ａｒｂは、ピリジル基及びピラゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、
    （１’’）水酸基、ハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基並びに式：Ｙ１ｂ−Ｗ１ｂ−Ｙ２ｂ−Ｒｐｂ（式中、Ｒｐｂは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜１ないし３個、さらには
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される部分構造を含む２環性若しくは３環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、ピリジル基及びピラゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、テトラヒドロピリジル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、Ｗ１ｂは、ＮＲｑｂ、Ｎ（Ｒｑｂ）ＳＯ２、ＣＯＮＲｑｂ、Ｎ（Ｒｑｂ）ＣＯ、Ｎ（Ｒｑｂ）ＣＯＯ、ＯＣ（Ｏ）又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｑｂ及びＲｒｂは、水素原子若しくは水酸基、ハロゲン原子、シクロ低級アルキル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す）、Ｙ１ｂ及びＹ２ｂは、同一又は異なって、単結合又は該２環性若しくは３環性の縮合環を１個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、
    （２’’）低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される５員ないし６員環を形成する含窒素複素芳香環基又は
    （３’’）式：Ｙ１ｂ−Ｗ１ｂ−Ｙ２ｂ−Ｒｐｂ（式中、Ｙ１ｂ、Ｗ１ｂ、Ｙ２ｂ及びＲｐｂは前記の意味を有する）で表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに一緒になって、
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される５員ないし６員環を形成する含窒素複素芳香環基、Ｘｂ及びＺｂは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、Ｒ１ｂ又はＲ２ｂ及び／若しくはＲ３ｂと一緒になって、ＣＨ又は窒素原子、Ｙｂは、ＣＯ、ＳＯ又はＳＯ２、Ｒ１ｂは、水素原子若しくは式：Ｙ３ｂ−Ｗ２ｂ−Ｙ４ｂ−Ｒｓｂ（式中、Ｒｓｂは、水素原子又は該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、シクロ低級アルキル基及びアリール基、Ｗ２ｂは、単結合、Ｎ（Ｒｔｂ）ＣＯＯ又はＣ（Ｏ）Ｏ（ここにおいて、Ｒｔｂは、水素原子、該置換基を適宜１ないし３個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す）、Ｙ３ｂ及びＹ４ｂは、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す）で示される置換基、又はヒドロキシ低級アルキル基及び式：Ｙ３ｂ−Ｗ２ｂ−Ｙ４ｂ−Ｒｓｂ（式中、Ｒｓｂ、Ｗ２ｂ、Ｙ３ｂ及びＹ４ｂは、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Ｘと共に窒素原子を形成し、Ｒ２ｂ及びＲ３ｂは、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式：Ｙ３ｂ−Ｗ２ｂ−Ｙ４ｂ−Ｒｓｂ（式中、Ｒｓｂ、Ｗ２ｂ、Ｙ３ｂ及びＹ４ｂは、前記の意味を有する）で示される置換基であるか、Ｒ２ｂ及びＲ３ｂの何れか一方が、Ｒ１ｂ及びＸｂと共に一緒になって形成する、
    Figure 2011148811
     並びに
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される飽和の５員ないし7員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び／又は窒素原子とともに５員ないし７員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するＺと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するＺｂ、Ｒ１ｂ及びＸｂと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ１ｂ−Ｗ１ｂ−Ｙ２ｂ−Ｒｐｂ（式中、Ｒｐｂ、Ｗ１ｂ、Ｙ１ｂ及びＹ２ｂは、前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜１ないし３個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基並びにピペリジニル基及びピロリジニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、
    Figure 2011148811
     並びに
    Figure 2011148811
     からなる群より選択される飽和若しくは不飽和の５員ないし７員環基を形成し、Ｒ４ｂ及びＲ５ｂは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子若しくは式：Ｙ３ｂ−Ｗ２ｂ−Ｙ４ｂ−Ｒｓｂ（式中、Ｒｓｂ、Ｗ２ｂ、Ｙ３ｂ及びＹ４ｂは前記の意味を有する）で示される置換基又は低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式：Ｙ３ｂ−Ｗ２ｂ−Ｙ４ｂ−Ｒｓｂ（式中、Ｒｓｂ、Ｗ２ｂ、Ｙ３ｂ及びＹ４ｂは前記の意味を有する）で示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜１ないし３個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、式
    Figure 2011148811
     は、単結合又は二重結合を示す］で表される請求項１又は２に記載の化合物又はその塩。
  4. 一般式（Ｉ−ｐ）
    Figure 2011148811
     ［式中、Ａｒｐは、適宜置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、Ｘｐは、炭素原子（ＣＨ）又は窒素原子、Ｒ１ｐは、水素原子又は適宜置換基を有してもよい低級アルキル基、 Ｒ２ｐは、水素原子又はオキソ基（結合する炭素原子と共にカルボニル基を形成する）を示すか、又は結合する炭素原子、Ｒ１ｐ及びＸｐと共に窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１種もしくはそれ以上包含してもよく適宜置換基を有していてもよい、飽和もしくは不飽和の５員もしくは６員環基を形成し、Ｒ４ｐ及びＲ５ｐは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基又は適宜置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す］で表される請求項１ないし３に記載の化合物又はその塩。
  5. Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−オクチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−メチル−４，４−ジメチルペンチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（５−メトキシインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−メチルインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（５−クロロインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（６−メチルピリジン−２−イル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（ピロリジン−２−イル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（ｔ−ブチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（ピラゾロ［５，４−ｂ］ピリジン−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（１−ヒドロキシメチルシクロペンチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］−４−オキソイソインドリン−８−イル）−Ｎ−（５−（Ｎ−ｔーブチルーＮーメチルーアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−４−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−４−ピペリジル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−３−ピペリジル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］−４−オキソイソインドリン−８−イル）−Ｎ−（４−（１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−アセチル−３−ピペリジル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（ピペリジノ［３，４−ｃ］ピリジン−６−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（ピロリジノ［３，４−ｃ］ピリジン−５−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（シクロヘキシルアミノエチル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−シクロヘキシルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（Ｎ−シクロペンチル−３−メチルイソインドリン−１−オン−４−イル）−Ｎ−（ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（３−ｔ−ブチルイソインドリノ［３，２−ｂ］オキサゾリジン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（２−メチルイソインドリノ［３，２−ｂ］ペルヒドロ−１，３−オキサジン−５−オン−９−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア及びＮ’−（イソインドリノ［２，３−ｂ］ペルヒドロ−１，４−メタノ−６，１１ａ−ベンゾキサジン−１１−オン−７−イル）Ｎ−（ピリジン−２−イル）ウレアである請求項１記載の化合物。
  6. Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−オクチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−メチル−４，４−ジメチルペンチルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（５−メトキシインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（２−メチルインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（５−（５−クロロインダン−２−イルアミノメチル）ピラゾール−３−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン−４−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジル−４−ピペリジル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（ピペリジノ［３，４−ｃ］ピリジン−６−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−シクロヘキシルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（ピロリジノ［２，１−ｂ］イソインドリン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（３−ｔ−ブチルイソインドリノ［３，２−ｂ］オキサゾリジン−４−オン−８−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア、Ｎ’−（２−メチルイソインドリノ［３，２−ｂ］ペルヒドロ−１，３−オキサジン−５−オン−９−イル）−Ｎ−（４−（Ｎ−ベンジルピロリジン−３−イル）ピリジン−２−イル）ウレア及びＮ’−（イソインドリノ［２，３−ｂ］ペルヒドロ−１，４−メタノ−６，１１ａ−ベンゾキサジン−１１−オン−７−イル）Ｎ−（ピリジン−２−イル）ウレアである請求項１記載の化合物。
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