JP2011114250A - 基板処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】シャットダウンが正常に終了しなかった場合、再起動後の誤動作を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置の起動後、シャットダウンが正常に終了しなかった場合には、基板処理装置の再起動後、シャットダウンが正常に終了しなかった旨を操作者に通知する通知手段と、基板処理装置の再起動後、操作者によって適切な処置がなされるまで、基板処理装置の各部を一時停止する停止手段とを有する基板処理装置。
【選択図】図5

Description

本発明は、半導体基板やガラス基板等の基板を処理する基板処理装置に関する。
特許文献1には、半導体製造装置において異常が発生した場合、異常の原因及び適切な修復方法をオペレータ等に通知する半導体製造装置の故障診断装置が記載されている。しかしながら、異常を通知されたオペレータ等が、適切な修復方法による修復作業を実際に行うか否かは不明である。例えば、シャットダウンが正常に終了しなかったという異常が通知されているにもかかわらず、オペレータ等がこの異常を解消するための修復作業を行わなかった場合には、正常にシャットダウンしていれば保持されるはずの情報(例えば、シャットダウン前にオペレータ等が作業した内容)が保持されず、再起動後に誤動作が起こるおそれがある。
特開平10−21079号公報
本発明の目的は、上述した背景からなされたものであり、シャットダウンが正常に終了しなかった場合、再起動後の誤動作を防止することのできる基板処理装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明に係る基板処理装置は、基板処理装置の起動後、シャットダウンが正常に終了しなかった場合には、基板処理装置の再起動後、シャットダウンが正常に終了しなかった旨を通知する通知手段と、基板処理装置を一時停止する停止手段とを有する。
本発明に係る基板処理装置によれば、シャットダウンが正常に終了しなかった場合、再起動後の誤動作を防止することができる。
本発明の実施形態に係る基板処理装置の斜視図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の断面図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置のハードウェア構成である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置上で実行される制御プログラムの起動後の処理フローである。 本発明の実施形態に係る基板処理装置上で実行される制御プログラムの再起動後の処理フローである。
以下、本発明を実施するための形態を図面に基づいて説明する。
[基板処理装置10の詳細構成]
図1には、基板処理装置10が斜視図を用いて示されている。また、図2には、基板処理装置10が側面透視図を用いて示されている。
基板処理装置10は、基板として用いられるシリコン等からなるウエハ100を処理する。
図1及び図2に示されているように、基板処理装置10は、基板処理装置本体11を備える。また、基板処理装置10では、ウエハ100を収納したウエハキャリアとして用いられるフープ(基板収容器。以下、ポッド)101が使用されている。
基板処理装置本体11の正面壁11aの正面前方部にはメンテナンス可能なように設けられた開口部として用いられる正面メンテナンス口102が設置され、正面メンテナンス口102を開閉する正面メンテナンス扉103が建て付けられている。なお、上側の正面メンテナンス扉103近傍には、操作部(不図示)が設置されている。
基板処理装置本体11の正面壁11aには、ポッド搬入搬出口104が基板処理装置本体11の内外を連通するように開設されており、ポッド搬入搬出部104はフロントシャッタ105によって開閉されるようになっている。
ポッド搬入搬出部104の正面前方側にはロードポート106が設置されており、ロードポート106はポッド101を載置されて位置合わせするように構成されている。ポッド101はロードポート106上に工程内搬送装置(不図示)によって搬入され、ロードポート106上から搬出されるようになっている。
基板処理装置本体11内の前後方向の略中央部における上部には、回転式ポッド棚107が設置されており、回転式ポッド棚107は複数個のポッド101を保管するように構成されている。すなわち、回転式ポッド棚107は垂直に設置されて水平面内で間欠回転される支柱108と、支柱108に上中下段の各位置において放射状に支持された複数枚の棚板109とを備えており、複数枚の棚板109はポッド101を複数個宛にそれぞれ載置した状態で保持するように構成されている。
基板処理装置本体11内におけるロードポート106と回転式ポッド棚107との間には、ポッド搬送装置110が設置されており、ポッド搬送装置110は、ポッド101を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ110aと搬送機構としてのポッド搬送機構110bとで構成されており、ポッド搬送装置110はポッドエレベータ110aとポッド搬送機構110bとの連続動作により、ロードポート106、回転式ポッド棚107、ポッドオープナ111との間で、ポッド101を搬送するように構成されている。
基板処理装置本体11内の前後方向の略中央部における下部には、サブ筐体112が後端にわたって設置されている。サブ筐体112の正面壁112aにはウエハ100をサブ筐体112内に対して搬入搬出するためのウエハ搬入搬出口113が一対、垂直方向に上下二段に並べられて設置されており、上下段のウエハ搬入搬出口113には、一対のポッドオープナ111がそれぞれ設置されている。ポッドオープナ111はポッド101を載置する載置台114と、ポッドのキャップを着脱するキャップ着脱機構115を備えている。ポッドオープナ111は載置台114に載置されたポッド101のキャップをキャップ着脱機構115によって着脱することにより、ポッド101のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。
サブ筐体112はポッド搬送装置110や回転式ポッド棚107の設置空間から流体的に隔絶された移載室116を構成している。移載室116の前側領域にはウエハ移載機構117が設置されており、ウエハ移載機構117は、ウエハ100を水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置117a及びウエハ移載装置117aを昇降させるためのウエハ移載装置エレベータ117bとで構成されている。図1に模式的に示されているようにウエハ移載装置エレベータ117bは基板処理装置本体11右側端部とサブ筐体112の移載室116前方領域右端部との間に設置されている。これら、ウエハ移載装置エレベータ117b及びウエハ移載装置117aの連続動作により、ウエハ移載装置117aのツイーザ117cをウエハ100の載置部として、ボート118に対してウエハ100を装填(チャージング)及び脱装(ディスチャージング)するように構成されている。
移載室116の後側領域には、ボート118を収容して待機させる待機部119が構成されている。待機部119の上方には、処理炉120が設けられている。処理炉120の下端部は、炉口シャッタ121により開閉されるように構成されている。
図1に模式的に示されているように、基板処理装置本体11右側端部とサブ筐体112の待機部119右端部との間にはボート118を昇降させるためのボートエレベータ122が設置されている。ボートエレベータ122の昇降台に連結された連結具としてのアーム123には蓋体としてのシールキャップ124が水平に据え付けられており、シールキャップ124はボート118を垂直に支持し、処理炉120の下端部を閉塞可能なように構成されている。
ボート118は複数本の保持部材を備えており、複数枚(例えば、50〜125枚程度)のウエハ100をその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持するように構成されている。
また、図1に模式的に示されているように移載室116のウエハ移載装置エレベータ117b側及びボートエレベータ122側と反対側である左側端部には、清浄化した雰囲気もしくは不活性ガスであるクリーンエア125を供給するよう供給ファン及び防塵フィルタで構成されたクリーンユニット126が設置されており、ウエハ移載装置117aとクリーンユニット126との間には、ウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合わせ装置(不図示)が設置されている。
クリーンユニット126から吹き出されたクリーンエア125は、ノッチ合わせ装置及びウエハ移載装置117a、待機部119にあるボート118に流通された後に、ダクト(不図示)により吸い込まれて、基板処理装置本体11の外部に排気がなされるか、もしくはクリーンユニット126の吸い込み側である一次側(供給側)にまで循環され、再びクリーンユニット126によって、移載室117内に吹き出されるように構成されている。
[基板処理装置10の動作]
次に、本発明の基板処理装置10の動作について説明する。
図1及び図2に示されているように、ポッド101がロードポート106に供給されると、ポッド搬入搬出口104がフロントシャッタ105によって開放され、ロードポート106の上のポッド101はポッド搬送装置110によって基板処理装置本体11の内部へポッド搬入搬出口104から搬入される。
搬入されたポッド101は回転式ポッド棚107の指定された棚板109へポッド搬送装置110によって自動的に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、棚板109から一方のポッドオープナ111に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、棚板109から一方のポッドオープナ111に搬送されて載置台114に移載されるか、もしくは直接ポッドオープナ111に搬送されて載置台114に移載される。この際、ポッドオープナ111のウエハ搬入搬出口113はキャップ着脱機構115によって閉じられており、移載室116にはクリーンエア125が流通され、充満されている。例えば、移載室116にはクリーンエア125として窒素ガスが充満することにより、酸素濃度が20ppm以下と、基板処理装置本体11の内部(大気雰囲気)の酸素濃度よりも遥かに低く設定されている。
載置台114に載置されたポッド101はその開口側端面がサブ筐体112の正面壁112aにおけるウエハ搬入搬出口113の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキャップがキャップ着脱機構123によって取り外され、ウエハ出し入れ口を開放される。
ポッド101がポッドオープナ111によって開放されると、ウエハ100はポッド101からウエハ移載装置117aのツイーザ117cによってウエハ出し入れ口を通じてピックアップされ、ノッチ合わせ装置(不図示)にてウエハを整合した後、移載室116の後方にある待機部119へ搬入され、ボート118に装填(チャージング)される。ボート118にウエハ100を受け渡したウエハ移載装置117aはポッド101に戻り、次のウエハをボート118に装填する。
この一方(上段または下段)のポッドオープナ111におけるウエハ移載機構117によるウエハのボート118への装填作業中に、他方(下段または上段)のポッドオープナ111には回転式ポッド棚107から別のポッド101がポッド搬送装置110によって搬送されて移載され、ポッドオープナ111によるポッド101の開放作業が同時進行される。
予め指定された枚数のウエハ100がボート118に装填されると、炉口シャッタ121によって閉じられていた処理炉120の下端部が、炉口シャッタ121によって、開放される。続いて、ウエハ100群を保持したボート118はシールキャップ124がボートエレベータ122によって上昇されることにより、処理炉120内へ搬入(ローディング)されて行く。
ローディング後は、処理炉120にてウエハ100に任意の処理が実施される。
処理後は、ノッチ合わせ装置(不図示)でのウエハの整合工程を除き、概上述の逆の手順で、ウエハ100及びポッド101は筐体の外部へ払出される。
[基板処理装置10のハードウェア構成]
以下、本発明の実施形態に係る基板処理装置10のハードウェア構成を説明する。
図3は、基板処理装置10のハードウェア構成を示す図である。
基板処理装置10には、入出力装置14が基板処理装置10と一体に、又はネットワークを介して接続して設けられている。操作者は、基板処理装置10の操作画面を介して、所定の指示を入力したり、基板処理装置10の状況等をモニタしたりする。ここで、所定の指示とは、例えば、主制御部16を起動させる指示、主制御部16を再起動させる指示、主制御部16をシャットダウンさせる指示、及び、基板処理装置10にレシピを実行させる指示である。なお、レシピとは、基板処理のための詳細な手順を記述したファイルである。
入出力装置14は、操作画面を介して、操作者による指示入力などの操作を受け付ける操作部140、送受信処理部164からのデータを表示する表示部142、及び、送受信処理部164からのデータを表示部142に出力したり、操作部140によって受け付けられた操作の内容(入力された指示など)を送受信処理部164に出力したりする表示制御部144を有する。
また、基板処理装置10内には、メインコントローラとしての主制御部16が設けられる。
主制御部16は、CPU160、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)及びHDD(Hard Disk Drive)などの記憶部162、送受信処理部164、I/O制御部166及び副制御部18を有する。さらに、副制御部18は、圧力制御部168、ガス制御部170、温度制御部172及び搬送制御部174を有し、主制御部16のサブコントローラとして機能する。記憶部162は、レシピ、制御プログラム(詳細は後述)、シャットダウン情報ファイル及びバックアップファイルなどを格納する。
記憶部162に格納されているレシピは、送受信処理部164などを介して、操作画面に表示され、操作者により実行が指示されるようになっている。CPU160は、操作者により実行指示されたレシピに基づいて基板を処理するための制御データ(制御指示)を、I/O制御部166を介して、圧力制御部168、ガス制御部170及び温度制御部172などのプロセスコントローラと、搬送制御部174とに出力する。
圧力制御部168は、CPU160からの制御指示及び処理室の排気配管180に設けられた圧力センサ176の出力値に基づいて、バルブ178を開閉することにより処理室内の圧力を制御する。ガス制御部170は、CPU160からの制御指示及び処理室のガス配管184に設けられたMFC(マスフローコントローラ)182からの出力値に基づいて、処理室内に供給する反応ガスの供給量等を制御する。温度制御部172は、CPU160からの制御指示に基づいて、上述した処理室の外周部に設けられたヒータ186により該処理室内の温度を制御する。搬送制御部174は、CPU160からの制御指示と、ポッド搬送装置110、ウエハ移載装置117及びボートエレベータ122などに設けられたモータ188の出力値とに基づいて、ボートの位置などを制御する。
このように、副制御部18は、CPU160からの制御指示と、基板処理装置10の各部(バルブ178、MFC182、ヒータ186及びモータ188など)の状態を示す出力値とに基づいて、基板処理装置10の各部を制御する。なお、基板処理装置10の各部の状態を示す出力値は、I/O制御部166及び送受信処理部164などを介して、操作画面からモニタすることができる。
記憶部162に格納された制御プログラムは、送受信処理部164などを介して、操作者により、制御部16を起動させる指示及び再起動させる指示が入力されたことをトリガにして、処理を開始する。なお、処理を構成する各ステップは、CPUによって実行される。
制御部16を起動させる指示が入力された場合には、シャットダウン情報ファイルを新規作成し、シャットダウンがされていないことを示す旨を書き込んだ後、レシピを実行させる指示を受け付ける。レシピ実行中又はレシピ実行後、シャットダウンを実行させる指示を受け付け、シャットダウンが正常に終了したときには、基板処理装置10の電源が切れる前に、シャットダウン情報ファイルにシャットダウンがされたことを示す旨を上書きした後、シャットダウン前の基板処理装置10の情報(例えば、実行されていたレシピの種類、及び、基板処理装置10の各部の状態を示す出力値)をバックアップファイルとして保存する。一方、シャットダウンが正常に終了しなかったときには、そのまま基板処理装置10の電源を切る。
また、制御部16を再起動させる指示が入力された場合には、シャットダウン情報ファイルを読み込み、シャットダウンが正常に終了したか否かを判断する。具体的には、シャットダウンがされていないことを示す旨が書き込まれている場合には、シャットダウンが正常に終了しなかったと判断し、シャットダウンがされたことを示す旨が書き込まれている場合には、シャットダウンが正常に終了したと判断する。シャットダウンが正常に終了しなかったと判断した場合には、操作者に対してその旨をアラーム通知する(例えば、操作者に対してその旨を記載したメールを送信する、及び、操作者に対してアラーム音を発する)とともに、基板処理装置10の各部が一時停止するよう、副制御部18を制御する。
なお、操作者が適切な処置を行う(例えば、操作者が、シャットダウンが正常に終了した場合のバックアップファイルを読み込ませる)まで、アラーム通知するとともに、基板処理装置10の各部を一時停止させる。
図4は、基板処理装置10上で実行される制御プログラムの起動後の処理フローである。図4に示すように、制御部16を起動させる指示が入力されたことをトリガにして、処理フローが開始される。
ステップ100(S100)において、記憶部162にシャットダウン情報ファイルが新規作成され、シャットダウンがされていないことを示す旨が書き込まれる。
ステップ102(S102)において、送受信処理部164などを介して、操作者から、基板処理装置10にレシピを実行させる指示が受け付けられる。
ステップ104(S104)において、シャットダウンが正常に終了したか否かが判断され、正常に終了した場合には、ステップ106の処理に進み、そうでない場合には、そのまま電源が切られる。
ステップ106(S106)において、ステップ100で作成されたシャットダウン情報ファイルにシャットダウンがされたことを示す旨が上書きされた後、シャットダウン前の情報がバックアップファイルとして記憶部162に保存され、電源が切られる。
図5は、基板処理装置10上で実行される制御プログラムの再起動後の処理フローである。図5に示すように、制御部16を再起動させる指示が入力されたことをトリガにして、処理フローが開始される。
ステップ200(S200)において、記憶部162に格納されているシャットダウン情報ファイルが読み込まれる。
ステップ202(S202)において、ステップ200で読み込まれたシャットダウン情報ファイルに、シャットダウンがされていないことを示す旨が書き込まれている場合には、シャットダウンが正常に終了しなかったと判断し、シャットダウンがされたことを示す旨が書き込まれている場合には、シャットダウンが正常に終了したと判断する。シャットダウンが正常に終了した場合にはステップ204の処理に進み、そうでない場合には、ステップ206の処理に進む。
ステップ204(S204)において、記憶部162から、図4のステップ106で保存されたバックアップファイルが読み込まれ、前回のシャットダウン前の基板処理装置10の状態が再現される。
ステップ206(S206)において、送受信処理部164などを介して、例えば、シャットダウンが正常に終了しなかった旨がアラーム通知されるとともに、基板処理装置10の各部が一時停止するよう、副制御部18が制御される。
ステップ208(S208)において、操作者によって適切な処置がなされたか否かが判断され、適切な処理がなされない限り、ステップ206の処理が行われる。
1 基板処理システム
10 基板処理装置
11 基板処理装置本体
100 ウエハ
101 ポッド
102 正面メンテナンス口
103 正面メンテナンス扉
104 ポッド搬入搬出口
105 フロントシャッタ
106 ロードポート
107 回転式ポッド棚
108 支柱
109 基板収容器載置台
110 ポッド搬送装置
111 ポッドオープナ
112 サブ筐体
113 ウエハ搬入搬出口
114 載置台
115 キャップ着脱機構
116 移載室
117 ウエハ移載機構
118 ボート
119 待機部
120 処理炉
121 炉口シャッタ
122 ボートエレベータ
123 アーム
124 シールキャップ
125 クリーンエア
126 クリーンユニット

Claims (1)

  1. 基板処理装置の起動後、シャットダウンが正常に終了しなかった場合には、
    基板処理装置の再起動後、シャットダウンが正常に終了しなかった旨を通知する通知手段と、
    基板処理装置の再起動後、基板処理装置を一時停止する停止手段と
    を有する基板処理装置。
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