JP2011003616A - インプリント装置及び物品の製造方法 - Google Patents
インプリント装置及び物品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011003616A JP2011003616A JP2009143670A JP2009143670A JP2011003616A JP 2011003616 A JP2011003616 A JP 2011003616A JP 2009143670 A JP2009143670 A JP 2009143670A JP 2009143670 A JP2009143670 A JP 2009143670A JP 2011003616 A JP2011003616 A JP 2011003616A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- imprint apparatus
- control unit
- image
- molding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 インプリント装置は、モールド10によって成形された樹脂を撮像する撮像部40と、前記撮像部により撮像された画像の少なくとも一部の領域を、前記撮像部による撮像に先立って予め設定された基準状態の画像と比較して、前記モールドによる成形の良否を判定する判定部である制御部100と、を備える。
【選択図】図1
Description
図1は、実施例1に係るインプリント装置の構成図で、図2は、各実施例に係るインプリント装置の制御ブロック図である。基板であるウエハ1は、基板チャック(ウエハチャック)2に保持されている。微動ステージ3は、ウエハ1のθ(z軸回りの回転)方向位置の補正機能、ウエハ1のz位置の調整機能、及びウエハ1の傾きを補正するためのチルト機能を有し、ウエハ1を所定の位置に位置決めするためのXYステージ4上に配置される。以下、微動ステージ3とXYステージ4を合せて、基板ステージ(ウエハステージ)と総称する。XYステージ4はベース定盤5に載置されている。微動ステージ3の位置を計測するために、レーザ干渉計7からの光を反射する参照ミラー6が、微動ステージ3上にx及びy方向(y方向は不図示)に取り付けられている。8及び8'はベース定盤5上に屹立し、天板9を支える支柱である。モールド10は、ウエハ1に転写される凹凸のパターンがその表面に形成され、図示しない機械的保持機構によってモールドチャック11に保持される。モールドチャック11は、図示しない機械的保持機構によって、モールドチャックステージ12に載置される。モールドチャックステージ12は、モールド10及びモールドチャック11のθ(z軸回りの回転)方向位置の補正機能及びモールド10の傾きを補正するためのチルト機能を有する。モールドチャック11は、そのx及びy方向の位置を計測するために、レーザ干渉計7'からの光を反射する反射面を有する(y方向は不図示)。モールドチャック11及びモールドチャックステージ12は、UV光源16からコリメータレンズ17を通して照射されるUV光をモールド10へと通過させる、図示しない開口をそれぞれ有する。ガイドバープレート13は、その一端がモールドチャックステージ12に固定され、天板9を貫通するガイドバー14及び14'の他端を固定する。
次に、図7を参照して、実施例2におけるインプリント装置の動作及び作用等について説明する。図1と同じ機能を有するものは同じ番号を付し、その説明を省略する。図7において、41はUV光源16からの光路中に置かれ、モールド10を介してウエハ1側からの反射光を折り曲げてCCDカメラ40に導くビームスプリッタである。ここで、簡略化のために、図7ではTTMアライメントスコープの一方である30'は、その表示を省略している。複数枚のウエハに同じモールドを使用して、あるレイヤのパターンの転写を行う場合のフローチャートは図3と同じである。図8は、実施例2のインプリント装置を用いて1枚のウエハにパターンを転写するフローチャートで、図3のS7に相当する。図4と同じ動作をするものは同じ番号を付し、その説明を省略する。
物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを転写(形成)する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンを転写された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子などの他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンを転写された基板を加工する他の処理を含みうる。
Claims (8)
- 基板に塗布された樹脂のモールドによる成形を含むインプリント動作を行ってパターンを基板上に形成するインプリント装置であって、
前記モールドによって成形された前記樹脂を撮像する撮像部と、
前記インプリント動作を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記撮像部により撮像された画像の少なくとも一部の領域を、予め取得された基準状態の画像と比較して、前記モールドによる成形の良否を判定する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御部は、前記少なくとも一部の領域の画像のヒストグラムを前記基準状態の画像のヒストグラムと比較して、前記モールドによる成形の良否を判定することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記少なくとも一部の領域の画像と前記基準状態の画像との差分が基準値を超える画素の数に基づいて、前記モールドによる成形の良否を判定することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、同一のモールドによる成形を連続して行う場合に、前記画像の少なくとも一部の領域と前記基準状態の画像との差が許容範囲外である成形が予め定められた回数だけ連続したならば、当該成形を不良と判定することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記成形が不良であると判定した場合に、当該不良と判定された基板の回収又はモールドの交換を指令する信号を出力することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記樹脂を硬化させる波長域の第1の光と当該波長域とは異なる波長域の第2の光とを切り替えて射出しうる光源をさらに備え、
前記撮像部は、前記第2の光が照射された状態で前記樹脂を撮像することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記撮像部は、硬化される前の形成された樹脂を撮像することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009143670A JP5173944B2 (ja) | 2009-06-16 | 2009-06-16 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
TW099117212A TWI444287B (zh) | 2009-06-16 | 2010-05-28 | 壓印裝置及物品的製造方法 |
KR1020100055176A KR101390246B1 (ko) | 2009-06-16 | 2010-06-11 | 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법 |
US12/816,881 US8734701B2 (en) | 2009-06-16 | 2010-06-16 | Imprint apparatus and method of manufacturing article |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009143670A JP5173944B2 (ja) | 2009-06-16 | 2009-06-16 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011003616A true JP2011003616A (ja) | 2011-01-06 |
JP5173944B2 JP5173944B2 (ja) | 2013-04-03 |
Family
ID=43305747
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009143670A Active JP5173944B2 (ja) | 2009-06-16 | 2009-06-16 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8734701B2 (ja) |
JP (1) | JP5173944B2 (ja) |
KR (1) | KR101390246B1 (ja) |
TW (1) | TWI444287B (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012186390A (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-27 | Canon Inc | インプリント装置および物品の製造方法 |
WO2013094068A1 (ja) * | 2011-12-22 | 2013-06-27 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及びデバイス製造方法 |
JP2014033050A (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-20 | Toshiba Corp | インプリントシステム及びインプリント方法 |
JP2015070226A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 大日本印刷株式会社 | インプリント装置及びインプリント方法 |
JP2016042501A (ja) * | 2014-08-14 | 2016-03-31 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP2016062972A (ja) * | 2014-09-16 | 2016-04-25 | 大日本印刷株式会社 | 物品の品質判別方法、物品の品質判別システムおよび物品の製造方法 |
JP2016111335A (ja) * | 2014-12-09 | 2016-06-20 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
JP2016201522A (ja) * | 2015-04-14 | 2016-12-01 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
JP2017050482A (ja) * | 2015-09-04 | 2017-03-09 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP2019145620A (ja) * | 2018-02-19 | 2019-08-29 | キヤノン株式会社 | 平坦化装置 |
US10747106B2 (en) | 2014-12-09 | 2020-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus |
CN112420567A (zh) * | 2019-08-23 | 2021-02-26 | 三星电子株式会社 | 激光转印装置及使用该装置的转印方法 |
JP7431694B2 (ja) | 2020-07-28 | 2024-02-15 | キヤノン株式会社 | 情報処理装置、膜形成装置、物品の製造方法、およびプログラム |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009153926A1 (ja) * | 2008-06-18 | 2009-12-23 | 株式会社ニコン | テンプレートの製造方法、テンプレートの検査方法及び検査装置、ナノインプリント装置、ナノインプリントシステム、並びにデバイス製造方法 |
US20120261849A1 (en) | 2011-04-14 | 2012-10-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, and article manufacturing method using same |
TW201422401A (zh) * | 2012-12-03 | 2014-06-16 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 成品取出的檢測系統及檢測方法 |
JP6114629B2 (ja) * | 2013-05-27 | 2017-04-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 回転可能状態検出装置及び回転可能状態検出方法、並びにこれを用いた基板処理装置及び基板処理方法 |
JP5960198B2 (ja) * | 2013-07-02 | 2016-08-02 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法 |
JP6497938B2 (ja) * | 2015-01-05 | 2019-04-10 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法。 |
JP6537277B2 (ja) * | 2015-01-23 | 2019-07-03 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、物品製造方法 |
JP6114861B2 (ja) * | 2015-06-22 | 2017-04-12 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
WO2016208160A1 (en) * | 2015-06-22 | 2016-12-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article |
JP6799397B2 (ja) | 2015-08-10 | 2020-12-16 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
JP6655988B2 (ja) * | 2015-12-25 | 2020-03-04 | キヤノン株式会社 | インプリント装置の調整方法、インプリント方法および物品製造方法 |
JP6748461B2 (ja) * | 2016-03-22 | 2020-09-02 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント装置の動作方法および物品製造方法 |
US10549494B2 (en) | 2016-04-20 | 2020-02-04 | Himax Technologies Limited | Imprinting apparatus and imprinting method |
JP6706983B2 (ja) * | 2016-07-12 | 2020-06-10 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP7091138B2 (ja) * | 2018-05-15 | 2022-06-27 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品製造方法 |
JP7086711B2 (ja) * | 2018-05-18 | 2022-06-20 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品製造方法 |
JP2020043130A (ja) | 2018-09-06 | 2020-03-19 | キオクシア株式会社 | 基板の製造方法、及びインプリント装置 |
CN110158430B (zh) * | 2019-05-08 | 2021-03-02 | 中铁北京工程局集团有限公司 | 一种桥梁混凝土面自动拉毛覆膜机 |
JP2022034165A (ja) * | 2020-08-18 | 2022-03-03 | Towa株式会社 | 検査装置、樹脂成形装置及び樹脂成形品の製造方法 |
KR102454787B1 (ko) * | 2022-05-06 | 2022-10-14 | 주식회사피에스디이 | 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그 방법 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0951028A (ja) * | 1995-08-08 | 1997-02-18 | Hitachi Ltd | フォトマスク管理システム |
JP2006514428A (ja) * | 2002-12-12 | 2006-04-27 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | 液体の形状を使用して基板の特性を求める方法及びシステム |
JP2007523492A (ja) * | 2004-02-19 | 2007-08-16 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | 基板の上に配置された膜の特性を測定する方法およびシステム |
JP2008116272A (ja) * | 2006-11-02 | 2008-05-22 | Canon Inc | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
JP2008164593A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-07-17 | Nano Geometry Kenkyusho:Kk | パターン検査装置および方法 |
JP2010239009A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法およびテンプレート、並びにパターン検査データの作成方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5798830A (en) * | 1993-06-17 | 1998-08-25 | Ultrapointe Corporation | Method of establishing thresholds for image comparison |
JPH10336506A (ja) | 1997-05-29 | 1998-12-18 | Canon Inc | 画像処理システム、追尾システム,追尾方法,記憶媒体 |
JP2000187008A (ja) | 1998-12-24 | 2000-07-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 検査装置 |
US6908861B2 (en) * | 2002-07-11 | 2005-06-21 | Molecular Imprints, Inc. | Method for imprint lithography using an electric field |
US6900881B2 (en) | 2002-07-11 | 2005-05-31 | Molecular Imprints, Inc. | Step and repeat imprint lithography systems |
MY164487A (en) | 2002-07-11 | 2017-12-29 | Molecular Imprints Inc | Step and repeat imprint lithography processes |
JP3811728B2 (ja) | 2003-03-18 | 2006-08-23 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 膜厚取得方法 |
JP2006245072A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Canon Inc | パターン転写用モールドおよび転写装置 |
US7708924B2 (en) * | 2005-07-21 | 2010-05-04 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
JP4533358B2 (ja) | 2005-10-18 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置およびチップの製造方法 |
ATE549294T1 (de) * | 2005-12-09 | 2012-03-15 | Obducat Ab | Vorrichtung und verfahren zum transfer von mustern mit zwischenstempel |
JP2008276920A (ja) | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Pioneer Electronic Corp | インプリント装置およびインプリント方法 |
-
2009
- 2009-06-16 JP JP2009143670A patent/JP5173944B2/ja active Active
-
2010
- 2010-05-28 TW TW099117212A patent/TWI444287B/zh active
- 2010-06-11 KR KR1020100055176A patent/KR101390246B1/ko active IP Right Grant
- 2010-06-16 US US12/816,881 patent/US8734701B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0951028A (ja) * | 1995-08-08 | 1997-02-18 | Hitachi Ltd | フォトマスク管理システム |
JP2006514428A (ja) * | 2002-12-12 | 2006-04-27 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | 液体の形状を使用して基板の特性を求める方法及びシステム |
JP2007523492A (ja) * | 2004-02-19 | 2007-08-16 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | 基板の上に配置された膜の特性を測定する方法およびシステム |
JP2008116272A (ja) * | 2006-11-02 | 2008-05-22 | Canon Inc | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
JP2008164593A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-07-17 | Nano Geometry Kenkyusho:Kk | パターン検査装置および方法 |
JP2010239009A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法およびテンプレート、並びにパターン検査データの作成方法 |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012186390A (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-27 | Canon Inc | インプリント装置および物品の製造方法 |
US9718234B2 (en) | 2011-12-22 | 2017-08-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint lithography apparatus and device manufacturing method therefor |
WO2013094068A1 (ja) * | 2011-12-22 | 2013-06-27 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及びデバイス製造方法 |
JP2014033050A (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-20 | Toshiba Corp | インプリントシステム及びインプリント方法 |
JP2015070226A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 大日本印刷株式会社 | インプリント装置及びインプリント方法 |
US10514599B2 (en) | 2014-08-14 | 2019-12-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus and method of manufacturing article |
CN106200260A (zh) * | 2014-08-14 | 2016-12-07 | 佳能株式会社 | 压印装置及物品的制造方法 |
JP2016042501A (ja) * | 2014-08-14 | 2016-03-31 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP2016062972A (ja) * | 2014-09-16 | 2016-04-25 | 大日本印刷株式会社 | 物品の品質判別方法、物品の品質判別システムおよび物品の製造方法 |
JP2016111335A (ja) * | 2014-12-09 | 2016-06-20 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
US10747106B2 (en) | 2014-12-09 | 2020-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus |
US10751930B2 (en) | 2015-04-14 | 2020-08-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article |
JP2016201522A (ja) * | 2015-04-14 | 2016-12-01 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
KR20170133501A (ko) * | 2015-04-14 | 2017-12-05 | 캐논 가부시끼가이샤 | 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품의 제조 방법 |
TWI655076B (zh) * | 2015-04-14 | 2019-04-01 | 佳能股份有限公司 | 壓印裝置,壓印方法,及物品的製造方法 |
KR101974771B1 (ko) * | 2015-04-14 | 2019-05-02 | 캐논 가부시끼가이샤 | 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품의 제조 방법 |
JP2017050482A (ja) * | 2015-09-04 | 2017-03-09 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP2019145620A (ja) * | 2018-02-19 | 2019-08-29 | キヤノン株式会社 | 平坦化装置 |
JP7089375B2 (ja) | 2018-02-19 | 2022-06-22 | キヤノン株式会社 | 平坦化装置 |
CN112420567A (zh) * | 2019-08-23 | 2021-02-26 | 三星电子株式会社 | 激光转印装置及使用该装置的转印方法 |
CN112420567B (zh) * | 2019-08-23 | 2024-03-01 | 三星电子株式会社 | 激光转印装置及使用该装置的转印方法 |
JP7431694B2 (ja) | 2020-07-28 | 2024-02-15 | キヤノン株式会社 | 情報処理装置、膜形成装置、物品の製造方法、およびプログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100314798A1 (en) | 2010-12-16 |
KR101390246B1 (ko) | 2014-04-30 |
KR20100135182A (ko) | 2010-12-24 |
TW201100239A (en) | 2011-01-01 |
US8734701B2 (en) | 2014-05-27 |
TWI444287B (zh) | 2014-07-11 |
JP5173944B2 (ja) | 2013-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5173944B2 (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
TWI411521B (zh) | 壓印裝置及製造物件的方法 | |
TWI447536B (zh) | 微影設備及商品之製造方法 | |
US8404169B2 (en) | Imprint apparatus and method of manufacturing article | |
US8691124B2 (en) | Alignment and imprint lithography | |
JP4926881B2 (ja) | インプリント装置およびアライメント方法 | |
US20220026800A1 (en) | Imprint apparatus, imprinting method, and method of manufacturing product | |
US9387607B2 (en) | Imprint apparatus, imprint method, and method for producing device | |
JP2010080714A (ja) | 押印装置および物品の製造方法 | |
JP4963718B2 (ja) | インプリント方法及びインプリント装置、それを用いた物品の製造方法 | |
JP6896036B2 (ja) | 情報処理装置、判定方法、インプリント装置、リソグラフィシステム、物品の製造方法及びプログラム | |
US10331027B2 (en) | Imprint apparatus, imprint system, and method of manufacturing article | |
JP2011171410A (ja) | インプリント装置、及び物品の製造方法 | |
TW201838790A (zh) | 壓印裝置及製造物品的方法 | |
US8770964B2 (en) | Imprint apparatus and article manufacturing method | |
US10315344B2 (en) | Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article | |
JP7038666B2 (ja) | 測定システム、較正方法、リソグラフィ装置及びポジショナ | |
JP6921600B2 (ja) | インプリント装置、制御データの生成方法、及び物品の製造方法 | |
JP6590598B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 | |
JP2011061165A (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
JP6755168B2 (ja) | インプリントシステム、レプリカ製造装置、管理装置、インプリント装置、および物品製造方法 | |
JP7494037B2 (ja) | 情報処理装置、判定方法、検査装置、成形装置、および物品の製造方法 | |
JP2007250767A (ja) | 加工装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 | |
US20210379800A1 (en) | Imprint device, article manufacturing method, and measuring method for imprint device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101202 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110407 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110418 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110615 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120820 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121018 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121207 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121227 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5173944 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160111 Year of fee payment: 3 |