JP2010147262A - 洗浄装置、基板処理システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】洗浄装置1は、ウェハWを保持して回転させるスピンチャック20を有している。洗浄装置1には、内部に常温より高い温度の純水を貯留する浸漬容器30が設けられている。浸漬容器30のウェハW側の側面には、ウェハWの周縁部Bを挿入するための側面開口部33が形成されている。浸漬容器30は、高温の純水でウェハWの周縁部Bを浸すことができる。洗浄装置1には、ウェハWの周縁部Bに常温より高い温度の洗浄液を所定の圧力で吹き付ける第1の洗浄液ノズル50と第2の洗浄液ノズル51が設けられている。これらノズル50、51から供給される洗浄液は、洗浄液供給部70で純水と不活性ガスが混合された洗浄液である。
【選択図】図1
Description
20 スピンチャック
30 浸漬容器
31 上面開口部
32 湾曲部
33 側面開口部
40 純水ノズル
50 第1の洗浄液ノズル
51 第2の洗浄液ノズル
70 洗浄液供給部
100 制御部
110 超音波発振部
120 第3の洗浄液ノズル
200 塗布現像処理システム
202 処理ステーション
B 周縁部
W ウェハ
Claims (13)
- 基板のフォトリソグラフィー処理前に基板の周縁部を洗浄する洗浄装置であって、
基板を保持して当該基板を回転させる回転保持部と、
基板の周縁部に常温より高い温度の洗浄液を所定の圧力で吹き付ける洗浄液ノズルと、
側面に基板の周縁部を挿入するための開口部が形成され、内部に常温より高い温度の純水を貯留する浸漬容器と、を有することを特徴とする、洗浄装置。 - 前記洗浄液は、不活性ガスが混合された純水であることを特徴とする、請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記洗浄液ノズルは、複数設けられていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の洗浄装置。
- 前記浸漬容器は、複数設けられていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の洗浄装置。
- 前記浸漬容器の上面は開口し、
前記洗浄装置は、前記浸漬容器の上方から当該浸漬容器内に常温より高い温度の純水を供給する純水ノズルをさらに有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の洗浄装置。 - 前記浸漬容器の前記開口部が形成された側面は、基板の外周に沿って湾曲していることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の洗浄装置。
- 前記浸漬容器には、当該浸漬容器内の純水に超音波を付与する超音波発振部が設けられていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の洗浄装置。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の洗浄装置と、基板にフォトリソグラフィー処理を行う処理部と、を有することを特徴とする、基板処理システム。
- 基板のフォトリソグラフィー処理前に基板の周縁部に付着した付着物を除去する洗浄方法であって、
基板の周縁部を常温より高い温度の純水で浸し、当該純水を前記付着物に浸透させる浸漬工程と、
その後、前記基板の周縁部に常温より高い温度の洗浄液を所定の圧力で吹き付け、前記付着物を除去する吹付工程と、を有することを特徴とする、洗浄方法。 - 前記洗浄液は、不活性ガスが混合された純水であることを特徴とする、請求項9に記載の洗浄方法。
- 前記浸漬工程において、基板の周縁部が浸される純水に超音波を付与することを特徴とする、請求項9又は10に記載の洗浄方法。
- 請求項9〜11の洗浄方法を洗浄装置によって実行させるために、当該洗浄装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項12に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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