JP6049825B2 - 有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 - Google Patents
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Description
また、この発明において、上記乾燥工程は、上記基板の回転数が2000rpmである方が好ましい(請求項3)。
40 スピンチャック(基板保持部)
42 回転駆動機構
50 現像処理装置
52,52A,52B 現像ノズル(現像液供給ノズル)
56A 現像ノズル移動機構(現像液供給ノズル移動機構)
56B リンスノズル移動機構(リンス液供給ノズル移動機構)
58 リンスノズル(リンス液供給ノズル)
60 コントローラ(制御部)
Claims (5)
- 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板に有機溶剤を含有する現像液を供給して現像を行う現像処理方法において、
上記基板に有機溶剤を含有する現像液を供給し、第1の回転数で上記基板を回転させ、上記基板上に液膜を形成して現像を行う現像工程と、
その後、リンス処理を行わずに、上記第1の回転数よりも高い回転数で上記基板を回転させ、上記基板表面の現像液を振り切って、上記基板の表面を乾燥させる乾燥工程と、を備え、
上記現像工程は、上記第1の回転数よりも低く上記現像液の液膜の乾燥を促進しない第2の回転数で上記基板を回転させることを含む、
ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法。 - 請求項1記載の有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法において、
上記第1の回転数は、100rpm〜1500rpmである、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法。 - 請求項1記載の有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法において、
上記乾燥工程は、上記基板の回転数が2000rpmである、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法。 - 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板に有機溶剤を含有する現像液を供給して現像を行う現像処理装置において、
上記基板を水平に保持する基板保持部と、
上記基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
上記基板保持部に保持された基板の表面に対して上記現像液を供給する現像液供給ノズルと、
上記現像液供給ノズルから上記基板への上記現像液の供給及び上記回転駆動機構を制御する制御部と、を具備し、
上記制御部からの制御信号に基づいて、上記基板に有機溶剤を含有する現像液を供給し、第1の回転数で上記基板を回転させ、上記基板上に液膜を形成して現像を行う現像処理と、 その後、リンス処理を行わずに、上記第1の回転数よりも高い回転数で上記基板を回転させ、上記基板表面の現像液を振り切って、上記基板の表面を乾燥させる乾燥処理と、を行い、上記現像処理は、上記第1の回転数よりも低く上記現像液の液膜の乾燥を促進しない第2の回転数で上記基板を回転させることを含む、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置。 - 請求項4記載の有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置において、
上記第1の回転数は、100rpm〜1500rpmである、ことを特徴とする有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理装置。
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