JP2010140688A - 電子線装置及び電子線装置の動作方法 - Google Patents
電子線装置及び電子線装置の動作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010140688A JP2010140688A JP2008313904A JP2008313904A JP2010140688A JP 2010140688 A JP2010140688 A JP 2010140688A JP 2008313904 A JP2008313904 A JP 2008313904A JP 2008313904 A JP2008313904 A JP 2008313904A JP 2010140688 A JP2010140688 A JP 2010140688A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- electron
- detector
- sample
- objective lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2443—Scintillation detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/24475—Scattered electron detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2448—Secondary particle detectors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】電子線装置は、所定の加速電圧により加速された電子線21を放出する電子線源1と、電子線源1から放出された電子線21を集束して試料20に照射するための対物レンズ6と、集束された電子線21を試料20上で走査するための走査コイル5と、対物レンズ5の上方に設置され、電子線21が通過するための孔が形成された電子検出器7とを具備し、電子線21の照射に応じて試料20から発生した被検出電子22を引き寄せるための電界を発生させる電極9が電子検出器7に設けられているとともに、該電界に起因して生じる電子線21の偏向を補正するための補正用コイル4が電子検出器7の下方に設置されている。
【選択図】図1
Description
Claims (9)
- 所定の加速電圧により加速された電子線を放出する電子線源と、電子線源から放出された電子線を集束して試料に照射するための対物レンズと、集束された電子線を試料上で走査するための走査コイルと、対物レンズの上方に設置され、該電子線が通過するための孔が形成された電子検出器とを具備した電子線装置であって、該電子線の照射に応じて試料から発生した被検出電子を引き寄せるための電界を発生させる電極が電子検出器に設けられているとともに、該電界に起因して生じる該電子線の偏向を補正するための補正用コイルが電子検出器の下方に設置されていることを特徴とする電子線装置。
- 該電極に印加される電圧は、電子線の加速電圧に連動して変化することを特徴とする請求項1記載の電子線装置。
- 補正用コイルに供給される電流は、該電極への印加電圧に連動して変化することを特徴とする請求項2記載の電子線装置。
- 電子検出器は、走査コイルの上方に設置されており、補正用コイルは、電子検出器と走査コイルとの間に設置されていることを特徴とする請求項1乃至3何れか記載の電子線装置。
- 電子検出器は、走査コイルの下方に設置されており、補正用コイルは、電子検出器と対物レンズとの間に設置されていることを特徴とする請求項1乃至3何れか記載の電子線装置。
- 所定の加速電圧により加速された電子線を放出する電子線源と、電子線源から放出された電子線を集束して試料に照射するための対物レンズと、集束された電子線を試料上で走査するための走査コイルと、対物レンズの上方に設置され、該電子線が通過するための孔が形成された電子検出器と、制御手段とを具備し、該電子線の照射に応じて試料から発生した被検出電子を引き寄せるための電界を発生させる電極が電子検出器に設けられているとともに、該電界に起因して生じる該電子線の偏向を補正するための補正用コイルが電子検出器の下方に設置されている電子線装置の動作方法であって、該制御手段は、該電極に印加される電圧を電子線の加速電圧に連動して変化させることを特徴とする電子線装置の動作方法。
- 該制御手段は、補正用コイルに供給される電流を該電極への印加電圧に連動して変化させることを特徴とする請求項6記載の電子線装置の動作方法。
- 電子線装置における電子検出器は、走査コイルの上方に設置されており、補正用コイルは、電子検出器と走査コイルとの間に設置されていることを特徴とする請求項6又は7記載の電子線装置の動作方法。
- 電子線装置における電子検出器は、走査コイルの下方に設置されており、補正用コイルは、電子検出器と対物レンズとの間に設置されていることを特徴とする請求項6又は7記載の電子線装置の動作方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008313904A JP5280174B2 (ja) | 2008-12-10 | 2008-12-10 | 電子線装置及び電子線装置の動作方法 |
US12/623,510 US8076642B2 (en) | 2008-12-10 | 2009-11-23 | Electron beam apparatus and method of operating the same |
EP09252728.2A EP2197016B1 (en) | 2008-12-10 | 2009-12-04 | Electron beam apparatus and method of operating the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008313904A JP5280174B2 (ja) | 2008-12-10 | 2008-12-10 | 電子線装置及び電子線装置の動作方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010140688A true JP2010140688A (ja) | 2010-06-24 |
JP5280174B2 JP5280174B2 (ja) | 2013-09-04 |
Family
ID=41785880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008313904A Active JP5280174B2 (ja) | 2008-12-10 | 2008-12-10 | 電子線装置及び電子線装置の動作方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8076642B2 (ja) |
EP (1) | EP2197016B1 (ja) |
JP (1) | JP5280174B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018195546A (ja) * | 2017-05-22 | 2018-12-06 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8314387B2 (en) * | 2009-12-09 | 2012-11-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Scanning electron microscope |
JP5584159B2 (ja) * | 2011-03-24 | 2014-09-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及びパターン測定方法 |
US10236155B2 (en) * | 2015-09-03 | 2019-03-19 | El-Mul Technologies Ltd. | Detection assembly, system and method |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62186451A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2006332038A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-12-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビームを用いた検査方法及び検査装置 |
JP2007265931A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4217495A (en) * | 1978-04-18 | 1980-08-12 | Robinson Vivian N E | Electron microscope backscattered electron detectors |
DE3888712D1 (de) * | 1987-02-02 | 1994-05-05 | Integrated Circuit Testing | Detektorobjectiv für Rastermikroskope. |
US4958079A (en) * | 1989-02-21 | 1990-09-18 | Galileo Electro-Optics Corps. | Detector for scanning electron microscopy apparatus |
US5057689A (en) * | 1989-09-20 | 1991-10-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Scanning electron microscope and a method of displaying cross sectional profiles using the same |
JP3081393B2 (ja) * | 1992-10-15 | 2000-08-28 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
JPH07240168A (ja) | 1994-03-01 | 1995-09-12 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
DE69638126D1 (de) * | 1995-10-19 | 2010-04-01 | Hitachi Ltd | Rasterelektronenmikroskop |
JP3774953B2 (ja) | 1995-10-19 | 2006-05-17 | 株式会社日立製作所 | 走査形電子顕微鏡 |
JPH1027563A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
CZ284288B6 (cs) * | 1997-03-13 | 1998-10-14 | Preciosa, A. S. | Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu |
JP3434165B2 (ja) * | 1997-04-18 | 2003-08-04 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
JP3564958B2 (ja) * | 1997-08-07 | 2004-09-15 | 株式会社日立製作所 | 電子ビームを用いた検査方法及び検査装置 |
WO2002052610A1 (en) * | 2000-12-22 | 2002-07-04 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Sem provided with a secondary electron detector having a central electrode |
US7531812B2 (en) * | 2003-10-27 | 2009-05-12 | Politechnika Wroclawska | Method and system for the directional detection of electrons in a scanning electron microscope |
-
2008
- 2008-12-10 JP JP2008313904A patent/JP5280174B2/ja active Active
-
2009
- 2009-11-23 US US12/623,510 patent/US8076642B2/en active Active
- 2009-12-04 EP EP09252728.2A patent/EP2197016B1/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62186451A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2006332038A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-12-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビームを用いた検査方法及び検査装置 |
JP2007265931A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018195546A (ja) * | 2017-05-22 | 2018-12-06 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100140471A1 (en) | 2010-06-10 |
EP2197016A2 (en) | 2010-06-16 |
US8076642B2 (en) | 2011-12-13 |
EP2197016B1 (en) | 2014-02-12 |
JP5280174B2 (ja) | 2013-09-04 |
EP2197016A3 (en) | 2012-03-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4732917B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡及び欠陥検出装置 | |
KR100384727B1 (ko) | 주사형전자현미경및그것을이용한시료상관찰방법 | |
WO1999046798A1 (fr) | Microscope electronique a balayage | |
JP2010055756A (ja) | 荷電粒子線の照射方法及び荷電粒子線装置 | |
US10566170B2 (en) | X-ray imaging device and driving method thereof | |
JP5280174B2 (ja) | 電子線装置及び電子線装置の動作方法 | |
US20080277584A1 (en) | Method for Changing Energy of Electron Beam in Electron Column | |
US8124940B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
US6657193B2 (en) | Scanning electron microscope | |
JP2008251300A (ja) | X線検査装置 | |
US11251018B2 (en) | Scanning electron microscope | |
JP2008140723A (ja) | 分析装置 | |
JP5478683B2 (ja) | 荷電粒子線の照射方法及び荷電粒子線装置 | |
JP2008204642A (ja) | 走査透過荷電粒子線装置 | |
JP4896626B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP2010182596A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP2004342628A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP4790393B2 (ja) | 電子検出器及びそれを備えたビーム装置 | |
US10176964B2 (en) | Focused ion beam apparatus | |
JP2014056743A (ja) | X線発生装置 | |
JP2003109530A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6344078B2 (ja) | 電子ビーム装置並びに電子ビーム装置の制御装置及び制御方法 | |
JP2001110350A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2006019205A (ja) | X線発生装置 | |
JP2004111404A (ja) | 荷電粒子線照射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110808 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130122 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130315 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130514 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130522 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5280174 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |