JP2010182596A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010182596A JP2010182596A JP2009026833A JP2009026833A JP2010182596A JP 2010182596 A JP2010182596 A JP 2010182596A JP 2009026833 A JP2009026833 A JP 2009026833A JP 2009026833 A JP2009026833 A JP 2009026833A JP 2010182596 A JP2010182596 A JP 2010182596A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- particle beam
- sample
- tube
- acceleration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】 電子銃からの一次電子ビーム1を加速する加速管電極30、一次電子ビームを試料3上に集束させる磁界レンズ2、一次電子ビームを減速する減速電極6、一次電子ビームで試料3上を走査させる走査コイル4、試料3から発生する二次電子を検出する検出系、及び、検出された二次電子に基づいて試料3の二次電子像を表示する表示装置13を備え、電子銃と加速管電極30との間に、負電圧が印加されるドーナツ形状の反射電極34を,加速管電極30の管内に試料3からの二次電子を反射電極34の手前の管内光軸上に集束させるアインツェルレンズ32をそれぞれ配置し、検出系を、電子銃からの一次電子ビームを通過させる開口を有し、試料3からの二次電子を検出する第1検出器と、電子銃からの一次電子ビームを通過させる開口を有し、反射電極34によって試料方向に追い返された二電子を検出する第2検出器とから成る。
【選択図】 図3
Description
図2は試料3の表面に対して一次電子ビーム1を垂直に入射させた場合の各放出角度θ(一次電子ビーム上を0度とし、時計方向に角度を増した時の試料表面上を+90度とし、逆に反時計方向に角度を増した時の試料表面上を−90度とする)に対する二次電子の放出量を示したもので、放出角度θの絶対値が小さい程二次電子放出量は大きく、放出角度の絶対値が大きくなるに従って二次電子放出量は小さくなる。
2 磁界レンズ
3 試料
4 走査コイル
5、30 加速管電極
6 減速電極
7 ステージ
8 制御装置
9 走査制御装置
10 磁界レンズ制御装置
11a,11b 二次電子検出器
12a,12b 二次電子
13 表示装置
14、15 可変電源
31 電極
32 アインツェルレンズ
33 可変電源
34 反射電極
35 二次電子検出ユニット
36a,36b,36a′,36b′ ライトガイド
37,37a,37b 反射板
38a,38b シンチレータ
39,39a,39b 貫通管
40a,40b 光電子増倍管
60a,60b 二次電子
200a,200b 電子検出増幅器
201 貫通管
Claims (6)
- 荷電粒子ビーム発生源、該荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームを加速するための管状の加速レンズ系、該荷電粒子ビーム源から荷電粒子ビームを試料上に集束する集束レンズ系、該加速及び集束された荷電粒子ビームを減速する減速レンズ系、該荷電粒子ビームで前記試料上を走査させるための走査レンズ系、該走査により試料から発生する二次荷電粒子を検出する検出系、及び、該検出された二次荷電粒子に基づいて前記試料の二次荷電粒子像を表示する表示手段を備えた荷電粒子ビーム装置において、前記荷電粒子ビーム源と加速レンズ系との間に、前記試料からの二次荷電粒子を該試料方向に追い返すための電圧が印加されるドーナツ形状の反射電極を,前記加速レンズ系の管内に前記試料からの二次荷電粒子を前記反射電極の手前の該管内光軸上に集束させる第2の集束レンズ系をそれぞれ配置し、前記検出系を、前記荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームを通過させる開口を有し、前記試料からの二次荷電粒子を検出する第1検出器と、前記荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームを通過させる開口を有し、前記反射電極によって前記試料方向に追い返された二次荷電粒子を検出する第2検出器とから成した荷電粒子ビーム装置。
- 前記第1検出器を、先端が斜めにカットされ、先端部下面にドーナッ状のシンチレーターが取り付けられた第1ライトガイドと該ライトガイドからの光信号を電気信号に変換する光電子増倍管から成し、前記第2検出器を、先端が斜めにカットされ、先端部上面にドーナッ状のシンチレーターが取り付けられた第2ライトガイドと該ライトガイドからの光信号を電気信号に変換する光電子増倍管から成し、前記各ライトガイドの先端面をドーナツ形状の光反射板を介して突き合わせた請求項1記載の荷電粒子ビーム装置。
- 前記第1検出器は、先端が斜めにカットされ、先端部下面にドーナッ状のシンチレーターが取り付けられ、前記カット面にドーナツ形状の光反射板が取り付けられた第1ライトガイドと該ライトガイドからの光信号を電気信号に変換する光電子増倍管から成し、前記第2検出器は、先端が斜めにカットされ、先端部上面にドーナッ状のシンチレーターが取り付けられ、前記カット面にドーナツ形状の光反射板が取り付けられた第2ライトガイドと該ライトガイドからの光信号を電気信号に変換する光電子増倍管から成し、前記第2集束レンズ系を挟んで、前者は前記試料側の前記加速系の管内に、後者は前記反射電極側の前記加速系の管内にそれぞれ配置した請求項1記載の荷電粒子ビーム装置。
- 前記第1検出器と第2検出器を共に電子増幅器から成し、前者の電子増幅器を前記試料側の前記加速系の管内に、後者の電子増幅器を前記反射電極側の前記加速系の管内にそれぞれ配置したことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム装置
- 前記第2集束レンズ系はアインツェルレンズから成る請求項1記載の荷電粒子ビーム装置。
- 前記電子増幅器はマイクロチャンネルプレートである請求項4記載の荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009026833A JP5280238B2 (ja) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | 荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009026833A JP5280238B2 (ja) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010182596A true JP2010182596A (ja) | 2010-08-19 |
JP5280238B2 JP5280238B2 (ja) | 2013-09-04 |
Family
ID=42764013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009026833A Active JP5280238B2 (ja) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5280238B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012199052A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Jeol Ltd | 電子検出機構及びそれを備えた荷電粒子線装置 |
JP2013058314A (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-28 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡 |
WO2013129125A1 (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-06 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
WO2017080146A1 (zh) * | 2015-11-10 | 2017-05-18 | 华中科技大学 | 一种实现电子和离子速度影像同时测量的方法及装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0955181A (ja) * | 1995-08-11 | 1997-02-25 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2005129345A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Toshiba Corp | 荷電ビーム装置および荷電粒子検出方法 |
JP2008198471A (ja) * | 2007-02-13 | 2008-08-28 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
-
2009
- 2009-02-09 JP JP2009026833A patent/JP5280238B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0955181A (ja) * | 1995-08-11 | 1997-02-25 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2005129345A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Toshiba Corp | 荷電ビーム装置および荷電粒子検出方法 |
JP2008198471A (ja) * | 2007-02-13 | 2008-08-28 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012199052A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Jeol Ltd | 電子検出機構及びそれを備えた荷電粒子線装置 |
EP2503586A3 (en) * | 2011-03-22 | 2014-12-31 | JEOL Ltd. | Electron detecting mechanism and charged particle beam system equipped therewith |
JP2013058314A (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-28 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡 |
CN103733299A (zh) * | 2011-09-07 | 2014-04-16 | 株式会社日立高新技术 | 扫描电子显微镜 |
WO2013129125A1 (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-06 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
JP2013178879A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡 |
US9305745B2 (en) | 2012-02-28 | 2016-04-05 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning electron microscope |
WO2017080146A1 (zh) * | 2015-11-10 | 2017-05-18 | 华中科技大学 | 一种实现电子和离子速度影像同时测量的方法及装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5280238B2 (ja) | 2013-09-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4037533B2 (ja) | 粒子線装置 | |
EP0872873B1 (en) | Scanning electron microscope | |
US7425701B2 (en) | Electron-beam device and detector system | |
CN111837214A (zh) | 一种扫描电子显微镜物镜***及样品探测方法 | |
JP4977509B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
US6501077B1 (en) | Scanning electron microscope | |
JP2010055756A (ja) | 荷電粒子線の照射方法及び荷電粒子線装置 | |
EP1288996B1 (en) | Particle beam apparatus | |
US3717761A (en) | Scanning electron microscope | |
JP5280238B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP2008198471A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
WO2019064496A1 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
US7645988B2 (en) | Substrate inspection method, method of manufacturing semiconductor device, and substrate inspection apparatus | |
JP2003068241A (ja) | 走査型電子線装置 | |
JPH10302705A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
US6710340B2 (en) | Scanning electron microscope and method of detecting electrons therein | |
JP5478683B2 (ja) | 荷電粒子線の照射方法及び荷電粒子線装置 | |
JP2008004329A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP3432091B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP2002025492A (ja) | 静電ミラーを含む荷電粒子ビーム画像化装置用低プロフィル電子検出器を使用して試料を画像化するための方法および装置 | |
JP2007250223A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP4792074B2 (ja) | 基板検査方法および基板検査装置 | |
CN116646228B (zh) | 快速聚焦扫描偏转装置、扫描电子显微镜 | |
JPH03295141A (ja) | 検出器 | |
JP2001057172A (ja) | 走査電子顕微鏡 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130326 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130328 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130514 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130522 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5280238 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |