JP2010118588A - 保護テープの剥離方法 - Google Patents

保護テープの剥離方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010118588A
JP2010118588A JP2008291915A JP2008291915A JP2010118588A JP 2010118588 A JP2010118588 A JP 2010118588A JP 2008291915 A JP2008291915 A JP 2008291915A JP 2008291915 A JP2008291915 A JP 2008291915A JP 2010118588 A JP2010118588 A JP 2010118588A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
peeling
protective tape
wafer
outer periphery
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008291915A
Other languages
English (en)
Inventor
Keiichi Suzuki
佳一 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2008291915A priority Critical patent/JP2010118588A/ja
Publication of JP2010118588A publication Critical patent/JP2010118588A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】 剥離中に半導体ウエーハを破損させることなく、保護テープを半導体ウエーハから剥離可能な保護テープの剥離方法を提供することである。
【解決手段】 複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを表面に備え、該デバイス領域に対応する裏面に円形凹部が形成され、該円形凹部の外周に環状補強部が形成されている半導体ウエーハの表面に貼着された保護テープを剥離する保護テープの剥離方法であって、半導体ウエーハ外周の少なくとも2点を剥離起点として、該保護テープを半導体ウエーハの中心に向かって剥離することを特徴とする保護テープの剥離方法が提供される。
【選択図】図6

Description

本発明は、半導体ウエーハの表面に貼着された保護テープを剥離する保護テープの剥離方法に関する。
IC、LSI等の数多くのデバイスが表面に形成され、且つ個々のデバイスが分割予定ライン(ストリート)によって区画された半導体ウエーハは、研削装置によって裏面が研削されて所定の厚みに加工された後、切削装置(ダイシング装置)によって分割予定ラインを切削して個々のデバイスに分割され、分割されたデバイスは携帯電話、パソコン等の電気機器に利用される。
半導体ウエーハの裏面を研削する研削装置は、ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを研削する研削砥石を有する研削ホイールが回転可能に装着された研削手段とを備えていて、半導体ウエーハを高精度に所望の厚みに研削できる。
半導体ウエーハの裏面を研削するには、多数のデバイスが形成されたウエーハの表面側をチャックテーブルで吸引保持しなければならないため、デバイスを保護するためにポリエチレン塩化ビニル、ポリオリフィン等の一面にアクリル系の粘着層を配設して構成される保護テープが半導体ウエーハの表面に貼着される。
表面に保護テープが貼着され裏面が研削された半導体ウエーハは、テープ剥離装置のチャックテーブルへ裏面側が吸引保持された後、切削工程前にその表面から保護テープが剥離される。
保護テープの剥離には、例えば特開平11−204624号公報で開示されているように、剥離用テープを保護テープに貼着して、剥離用テープを一方向に引っ張ることで剥離用テープに貼着された保護テープを半導体ウエーハから引き剥がす方法が用いられている。
上記公開公報に開示された保護テープの剥離方法では、保護テープの一面に形成された粘着材層として紫外線硬化型粘着材層が用いられており、保護テープを剥離する前に保護テープに紫外線を照射してその粘着力を弱めて剥離用テープで保護テープを剥離している。
一方、近年、電子機器の高機能化、小型化に伴ってデバイスの小型化が要求されており、半導体ウエーハの厚さをより薄く、例えば50μm程度にすることが要求されている。このように薄く形成されたウエーハは取り扱いが困難になり、搬送等において破損する恐れがある。
そこで、半導体ウエーハのデバイス領域に対応する裏面のみを研削し、デバイス領域を囲繞する外周余剰領域に対応するウエーハの裏面に環状補強部を形成する研削方法が特開2007−19461号公報で提案されている。
特開平11−204624号公報 WO97/08745再公表特許公報 特開2007−19461号公報
このように薄化された半導体ウエーハでは、半導体ウエーハの表面に貼着された保護テープはウエーハの裏面研削時に研削砥石により押圧されるためウエーハの表面側に強く貼着され、半導体ウエーハから保護テープを剥離する際、半導体ウエーハが保護テープの剥離中に破損し易いという問題がある。
この問題は、保護テープとして紫外線硬化型テープを使用した場合にも、完全に解消することはできない。特に、デバイス領域に対応する裏面のみを研削して円形凹部を形成し、デバイス領域を囲繞する外周余剰領域に対応するウエーハの裏面に環状補強部を形成したウエーハでは、表面に貼着した保護テープ剥離時にウエーハが円形凹部と環状補強部との境界部分で破損され易いという問題がある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、剥離中に半導体ウエーハを破損させることなく、保護テープを半導体ウエーハから剥離可能な保護テープの剥離方法を提供することである。
請求項1記載の発明によると、半導体ウエーハの表面に貼着された保護テープを剥離する保護テープの剥離方法であって、半導体ウエーハ外周の少なくとも2点を剥離起点として、該保護テープを半導体ウエーハの中心に向かって剥離することを特徴とする保護テープの剥離方法が提供される。
請求項2記載の発明によると、複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを表面に備え、該デバイス領域に対応する裏面に円形凹部が形成され、該円形凹部の外周に環状補強部が形成されている半導体ウエーハの表面に貼着された保護テープを剥離する保護テープの剥離方法であって、半導体ウエーハ外周の少なくとも2点を剥離起点として、該保護テープを半導体ウエーハの中心に向かって剥離することを特徴とする保護テープの剥離方法が提供される。
好ましくは、剥離起点は半導体ウエーハ外周の対向する2点であり、保護テープは対向する2点を剥離起点として半導体ウエーハの中心に向かって剥離される。
本発明によると、半導体ウエーハ外周の少なくとも2点を剥離起点として保護テープが半導体ウエーハから剥離されるため、保護テープ剥離時の負荷が低減され、剥離中の半導体ウエーハの破損を防止することができる。
以下、本発明実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は所定の厚さに加工される前の半導体ウエーハの斜視図である。図1に示す半導体ウエーハ11は、例えば厚さが700μmのシリコンウエーハから成っており、表面11aに複数のストリート13が格子状に形成されているとともに、該複数のストリート13によって区画された複数の領域にIC、LSI等のデバイス15が形成されている。
このように構成された半導体ウエーハ11は、デバイス15が形成されているデバイス領域17と、デバイス領域17を囲繞する外周余剰領域19を備えている。また、半導体ウエーハ11の外周には、シリコンウエーハの結晶方位を示すマークとしてのノッチ21が形成されている。
半導体ウエーハ11の表面11aには、保護テープ貼着工程により保護テープ23が貼着される。従って、半導体ウエーハ11の表面11aは保護テープ23によって保護され、図2に示すように裏面11bが露出する形態となる。保護テープ23としては、ポリエチレン塩化ビニル、ポリオリフィン等の一面にアクリル系粘着層を配設したものが用いられる。
このような半導体ウエーハ11のデバイス領域17に対応する裏面に円形凹部を形成し、該円形凹部の外周側に外周余剰領域19を含む環状補強部を形成する研削方法について図3乃至図5を参照して説明する。まず、図3を参照すると、研削装置2の要部斜視図が示されている。
研削装置2は、ウエーハを保持して回転可能なチャックテーブル4と、ウエーハに対して研削加工を施す研削ユニット6を備えている。研削ユニット6は、回転可能且つ昇降可能なスピンドル8と、スピンドル8の先端に装着された研削ホイール10と、研削ホイール10の下面に固着された研削砥石12から構成される。
ウエーハ11は保護テープ23側がチャックテーブ4により吸引保持され、ウエーハ11の裏面11bが研削砥石12に対向してセットされる。ここで、チャックテーブル4に保持されたウエーハ11と研削ホイール10に装着された研削砥石12との関係について図4を参照して説明する。
チャックテーブル4の回転中心P1と研削砥石12の回転中心P2は偏心しており、研削砥石12の外径はウエーハ11のデバイス領域17と外周余剰領域19との境界線28の直径より小さく境界線28の半径より大きい寸法に設定され、環状の研削砥石12がチャックテーブル4の回転中心P1を通過するようになっている。
チャックテーブル4を矢印30で示す方向に例えば300rpmで回転しつつ、研削砥石12を矢印32で示す方向に例えば6000rpmで回転させるとともに、図示しない研削送り機構を作動して研削ホイール10の研削砥石12をウエーハ11の裏面に接触させる。そして、切削ホイール10を所定の研削送り速度で下方に所定量研削送りする。
その結果、半導体ウエーハ11の裏面には、図5に示すように、デバイス領域17に対応する領域が研削除去されて所定厚さ(例えば50μm)の凹部24が形成されるとともに、外周余剰領域19に対応する領域は残存されて外周余剰領域19を含む環状補強部26が形成される。
次に、図6を参照して、本発明実施形態の保護テープ剥離方法について説明する。この実施形態は、図5の断面図に示したように裏面に円形凹部24及び環状補強部26を有する半導体ウエーハ11の表面に貼着された保護テープ23の剥離方法である。
まず、図6(A)に示すように、半導体ウエーハ11の表面に貼着された保護テープ23の外周の1点23aを把持して保護テープの剥離を開始する。そして、図6(B)に示すように、保護テープ23を外周の1点23a側から半導体ウエーハ11の中心に向かって半分程度剥離する。
次いで、1点23aに対向するウエーハ外周の他の点23bを把持して剥離を開始し、図6(C)に示すように、他の点23b側から半導体ウエーハ11の中心に向かって保護テープ23を剥離する。これにより、薄く研削された円形凹部24と環状補強部26との界面等に亀裂を発生させることなく、保護テープ23を半導体ウエーハ11から剥離することができる。
本発明の保護テープの剥離方法は、図5に示したように研削された半導体ウエーハだけでなく、裏面全体が一様に研削された半導体ウエーハにも同様に適用可能である。この場合には、図7(A)に示すように、半導体ウエーハ11´の表面に貼着された保護テープ23の外周の1点23aを把持して該1点23a側から矢印Aに示すように半導体ウエーハ11´の中心に向かって保護テープ23をウエーハ11´の半分程度まで剥離する。
次いで、半導体ウエーハ11´を180度回転し、図7(B)に示すように、1点23aに対向するウエーハ外周の他の点23bを把持して矢印Aに示すように半導体ウエーハ11´の中心に向かって保護テープ23の残りを剥離する。
このような剥離方法を採用することにより、薄く研削された半導体ウエーハ11´に損傷を与えることなく、保護テープ23をその表面から剥離することができる。
次に、図8を参照して、自動剥離装置を使用した保護テープ23の剥離方法について説明する。この場合には、図8(A)に示すように、半導体ウエーハ11´をダイシングテープ36に貼着し、ダイシングテープ36の外周部を環状フレーム34に貼着して、ダイシングテープ36を介して環状フレーム34で半導体ウエーハ11´を支持する。
テープ剥離装置の保持テーブル上に半導体ウエーハ11´を搭載し、環状フレーム34をクランプする。次いで、テープ剥離装置で保護テープ23の外周の1点23a側から矢印A方向に半導体ウエーハ11´の中心に向かってウエーハの半分程度まで保護テープ23を剥離する。
次いで、保持テーブルを180度回転し、図8(B)に示すように、ウエーハ外周の1点23aに対向する他の点23b側から矢印A方向に半導体ウエーハ11´の中心に向かって保護テープ23の残りの部分を剥離する。
本発明の保護テープの剥離方法は半導体ウエーハ外周の対向する2点について順次行う必要はなく、図9に示すように同時に複数点から保護テープ23を剥離してもよい。例えば、半導体ウエーハ外周の対向する2点23a,23bから同時に矢印A,Bに示すように半導体ウエーハ11´の中心に向かって保護テープ23を剥離してもよい。
ウエーハの表面側斜視図である。 保護テープを表面に貼着した状態のウエーハの裏面側斜視図である。 研削装置の要部を示す斜視図である。 研削装置によって実施される円形凹部研削工程の説明図である。 円形凹部研削工程が実施された半導体ウエーハの断面図である。 円形凹部及び環状補強部を有するウエーハの表面から保護テープを剥離する工程を示す断面図である。 薄く一様に研削された半導体ウエーハの表面から保護テープを剥離する様子を説明する説明図である。 自動剥離装置を使用して薄く一様に研削された半導体ウエーハの表面から保護テープを剥離する様子を説明する説明図である。 複数点からの同時剥離方法を説明する説明図である。
符号の説明
2 研削装置
4 チャックテーブル
6 研削ユニット
10 研削ホイール
11 半導体ウエーハ
12 研削砥石
23 保護テープ
24 円形凹部
26 環状補強部
34 環状フレーム
36 ダイシングテープ

Claims (3)

  1. 半導体ウエーハの表面に貼着された保護テープを剥離する保護テープの剥離方法であって、
    半導体ウエーハ外周の少なくとも2点を剥離起点として、該保護テープを半導体ウエーハの中心に向かって剥離することを特徴とする保護テープの剥離方法。
  2. 複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを表面に備え、該デバイス領域に対応する裏面に円形凹部が形成され、該円形凹部の外周に環状補強部が形成されている半導体ウエーハの表面に貼着された保護テープを剥離する保護テープの剥離方法であって、
    半導体ウエーハ外周の少なくとも2点を剥離起点として、該保護テープを半導体ウエーハの中心に向かって剥離することを特徴とする保護テープの剥離方法。
  3. 前記剥離起点は半導体ウエーハ外周の対向する2点であり、
    前記保護テープは該対向する2点を剥離起点として半導体ウエーハの中心に向かって剥離される請求項1又は2記載の保護テープの剥離方法。
JP2008291915A 2008-11-14 2008-11-14 保護テープの剥離方法 Pending JP2010118588A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008291915A JP2010118588A (ja) 2008-11-14 2008-11-14 保護テープの剥離方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008291915A JP2010118588A (ja) 2008-11-14 2008-11-14 保護テープの剥離方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010118588A true JP2010118588A (ja) 2010-05-27

Family

ID=42306051

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008291915A Pending JP2010118588A (ja) 2008-11-14 2008-11-14 保護テープの剥離方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010118588A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014063882A (ja) * 2012-09-21 2014-04-10 Disco Abrasive Syst Ltd 樹脂剥がし方法及び樹脂剥がし装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1145934A (ja) * 1997-07-28 1999-02-16 Nec Corp 半導体ウェハダイシングのテープ剥離装置
JP2000315697A (ja) * 1999-03-03 2000-11-14 Hitachi Ltd 半導体素子の分離方法およびその装置並びに半導体素子の搭載方法
JP2002270676A (ja) * 2001-03-12 2002-09-20 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法
JP2004071687A (ja) * 2002-08-02 2004-03-04 Nec Kansai Ltd 半導体基板の表面保護用の粘着テープの剥離方法及び剥離テープ
JP2004241568A (ja) * 2003-02-05 2004-08-26 Tokyo Electron Ltd 基板脱着装置、基板脱着方法及び基板処理システム
JP2006287190A (ja) * 2005-03-10 2006-10-19 Sharp Corp フィルム配線基板の再生装置
JP2007019461A (ja) * 2005-04-27 2007-01-25 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの加工方法及びウェーハ
JP2007088136A (ja) * 2005-09-21 2007-04-05 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1145934A (ja) * 1997-07-28 1999-02-16 Nec Corp 半導体ウェハダイシングのテープ剥離装置
JP2000315697A (ja) * 1999-03-03 2000-11-14 Hitachi Ltd 半導体素子の分離方法およびその装置並びに半導体素子の搭載方法
JP2002270676A (ja) * 2001-03-12 2002-09-20 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法
JP2004071687A (ja) * 2002-08-02 2004-03-04 Nec Kansai Ltd 半導体基板の表面保護用の粘着テープの剥離方法及び剥離テープ
JP2004241568A (ja) * 2003-02-05 2004-08-26 Tokyo Electron Ltd 基板脱着装置、基板脱着方法及び基板処理システム
JP2006287190A (ja) * 2005-03-10 2006-10-19 Sharp Corp フィルム配線基板の再生装置
JP2007019461A (ja) * 2005-04-27 2007-01-25 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの加工方法及びウェーハ
JP2007088136A (ja) * 2005-09-21 2007-04-05 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014063882A (ja) * 2012-09-21 2014-04-10 Disco Abrasive Syst Ltd 樹脂剥がし方法及び樹脂剥がし装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015217461A (ja) ウェーハの加工方法
KR102432506B1 (ko) 웨이퍼 가공 방법 및 중간 부재
US20120003816A1 (en) Wafer dividing method
JP6713212B2 (ja) 半導体デバイスチップの製造方法
JP2007134390A (ja) ウエーハの加工方法
JP2010186971A (ja) ウエーハの加工方法
JP2007096115A (ja) 半導体装置の製造方法
TW201820436A (zh) 晶圓的加工方法
JP2009176793A (ja) ウエーハの分割方法
JP2013247135A (ja) ウエーハの加工方法
JP2005109433A (ja) 半導体ウエーハの切削方法および研削用のバンプ保護部材
JP2010182753A (ja) ウエーハの分割方法
JP5936312B2 (ja) 半導体ウエーハの加工方法
JP2005019435A (ja) ウェハ研磨方法
JP6016569B2 (ja) 表面保護テープの剥離方法
JP2004207459A (ja) 半導体ウェーハの研削方法
JP2010118588A (ja) 保護テープの剥離方法
JP5318537B2 (ja) ウエーハの加工方法
US9412637B2 (en) Device wafer processing method
JP2010093005A (ja) ウエーハの加工方法
JP5441579B2 (ja) 被加工物の支持シート
KR20200101282A (ko) 웨이퍼의 가공 방법
JP2013243286A (ja) 粘着テープ
US10933503B2 (en) Workpiece grinding method
JP4964799B2 (ja) 半導体ウエーハのスピンエッチング方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111020

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121005

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121016

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121129

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20131015