JP2010109273A - 情報処理装置、露光装置、デバイスの製造方法、情報処理方法およびプログラム - Google Patents
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Abstract
【課題】 属性情報を持たない情報の参照または利用を簡便に行えるようにすること。
【解決手段】 基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理装置(200)であって、基板に対応して露光装置が実施した第1の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第1の情報と、記憶部から第2の情報を抽出する上記時刻に関する条件の情報とが入力される入力部(240)と、入力部から入力された第1の情報と条件の情報とに基づいて、第2の情報を記憶部から抽出する抽出部(230)と、抽出部により抽出された第2の情報を第1の情報と対応させて出力する出力部(250)と、を有する情報処理装置とする。
【選択図】 図2
【解決手段】 基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理装置(200)であって、基板に対応して露光装置が実施した第1の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第1の情報と、記憶部から第2の情報を抽出する上記時刻に関する条件の情報とが入力される入力部(240)と、入力部から入力された第1の情報と条件の情報とに基づいて、第2の情報を記憶部から抽出する抽出部(230)と、抽出部により抽出された第2の情報を第1の情報と対応させて出力する出力部(250)と、を有する情報処理装置とする。
【選択図】 図2
Description
本発明は、露光装置で生成された情報を処理する情報処理に関する。
半導体デバイスなどの微細デバイスを製造するために、露光装置は高い解像力や重ね合わせ精度が要求される。そのため、露光装置は、ユニットのキャリブレーションや、レチクルとウエハ上のショットとの高精度なアライメントが必要である。キャリブレーションは、露光処理を行なう前等に、露光装置の状態変化に対応すべく実施される。
近年、情報処理技術が進み、露光処理過程で生成される情報が収集しやすくなったことで、その情報により、装置の異常検知や状態診断、異常の原因分析などを行うことが求められている。このような情報分析を行なう際は、関連する様々な情報を照らし合わせて分析を行なう。関連する情報を抽出しやすくする為、属性情報を付けて記録することが行なわれている。露光装置は、一枚のウエハに複数のショットを設定し、パターンの転写をショット単位で行なう。このプロセスを1または複数のウエハで構成されるロットを単位として実施する。そのため、プロセス・ロット・ウエハ・ショット・品名などを特定する情報を属性情報として記録することが一般的に行なわれている。
露光装置の時系列情報の分析においては、属性情報を参照したり、属性情報から関連する情報を参照したりすることが行なわれている。また、露光装置に限らず、時系列情報の分析において、関連する情報を検索する技術が知られている(特許文献1)。さらに、表示されたグラフ中の各要素に関連する情報を効率的に表示する技術が知られている(特許文献2)。
特開2000−181759号公報
特開2005−258548号公報
しかし、露光装置において、全ての情報が上述の属性情報を持つとは限らない。このため、属性情報を持たない情報の参照または利用を簡便に行えなかった。例えば、露光装置を構成するユニット同士の位置関係の、設計上の位置関係からのズレを示すオフセット値がそうである。当該オフセット値は、露光処理に影響を与えるが、特定のプロセス・ロット・ウエハ・ショットに対応して設定するものではないため、それらを属性情報として付されていない。そのため、当該オフセット値は、属性情報と対応させて参照できなかった。
上記の課題を考慮してなされた本発明の第1の側面は、基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理装置であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した第1の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第1の情報と、前記記憶部から第2の情報を抽出する前記時刻に関する条件の情報とが入力される入力部と、
前記入力部から入力された前記第1の情報と前記条件の情報とに基づいて、前記第2の情報を前記記憶部から抽出する抽出部と、
前記抽出部により抽出された前記第2の情報を前記第1の情報と対応させて出力する出力部と、
を有することを特徴とする情報処理装置である。
前記基板に対応して前記露光装置が実施した第1の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第1の情報と、前記記憶部から第2の情報を抽出する前記時刻に関する条件の情報とが入力される入力部と、
前記入力部から入力された前記第1の情報と前記条件の情報とに基づいて、前記第2の情報を前記記憶部から抽出する抽出部と、
前記抽出部により抽出された前記第2の情報を前記第1の情報と対応させて出力する出力部と、
を有することを特徴とする情報処理装置である。
また、本発明の第2の側面は、基板を露光する露光装置であって、
上記の情報処理装置
を有することを特徴とする露光装置である。
上記の情報処理装置
を有することを特徴とする露光装置である。
また、本発明の第3の側面は、上記の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法である。
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法である。
また、本発明の第4の側面は、基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理方法であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した第1の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第1の情報と、前記記憶部から第2の情報を抽出する前記時刻に関する条件の情報とが入力される入力工程と、
前記入力工程で入力された前記第1の情報と前記条件の情報とに基づいて、前記第2の情報を前記記憶部から抽出する抽出工程と、
前記抽出工程で抽出された前記第2の情報を前記第1の情報と対応させて出力する出力工程と、
を有することを特徴とする情報処理方法である。
前記基板に対応して前記露光装置が実施した第1の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第1の情報と、前記記憶部から第2の情報を抽出する前記時刻に関する条件の情報とが入力される入力工程と、
前記入力工程で入力された前記第1の情報と前記条件の情報とに基づいて、前記第2の情報を前記記憶部から抽出する抽出工程と、
前記抽出工程で抽出された前記第2の情報を前記第1の情報と対応させて出力する出力工程と、
を有することを特徴とする情報処理方法である。
さらに、本発明の第5の側面は、基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する上記の情報処理方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラムである。
本発明の他の側面は、『特許請求の範囲』や、『発明を実施するための最良の形態』、添付した図面等に記載したとおりである。
本発明によれば、例えば、属性情報を持たない情報の参照または利用を簡便に行うことができる。
[第1の実施形態]
露光装置により生成される情報の分析において、指定した情報に関連する情報を抽出する機能を有するシステム(情報処理装置)の第1の実施形態を説明する。
露光装置により生成される情報の分析において、指定した情報に関連する情報を抽出する機能を有するシステム(情報処理装置)の第1の実施形態を説明する。
図1は、本発明の好適な実施形態の露光装置の構成を示す図である。この実施形態の露光装置100は、走査露光装置とし構成されている。露光装置100において、光源1から提供される光束は、照明光学系2で形状・光量分布が調整され、レチクルステージ6に保持されたレチクル(原版)3を照明する。レチクル3のパターンは、感光剤(レジスト)が塗布されてウエハステージ7上のウエハチャック8に保持されたウエハ(基板)5に、投影光学系4を介して投影され、転写される。これにより、感光剤に潜像パターンが形成される。潜像パターンは、現像工程において現像されて、マスクパターン(レジストパターン)となる。
照明光学系2には、例えば、コヒーレンスファクタ(σ値)を設定するための開口面積が異なる複数の円形開口絞りが備えられうる。照明光学系2には、更に、輪帯照明用のリング形状絞りや、4重極絞り、照明光量を調整するための機構(例えば、複数のNDフィルタ及びそれを切り替える機構)が備えられうる。照明光学系2には、更に、光量を計測する光量検出器や、光束の形状を決めるスリット、照明範囲を制限するためにレチクル3と共役な位置に載置されたブラインド及びそれを駆動する駆動機構が備えられうる。光源1と照明光学系と2は、光源制御系21の指示によって動作が制御される。
投影光学系4には、開口数を設定するための開口数設定機構や、収差を調整するためのレンズ(光学素子)駆動機構が備えられうる。投影光学系4は、投影光学系制御系24によって動作が制御される。
レチクルステージ6の位置は、レチクルステージ計測系10によって、投影光学系の光軸(Z軸)に直交する面内における直交する2つの軸(即ちX軸・Y軸)方向の位置、並びに、各軸周りの回転角が計測され、レチクルステージ制御系11によって制御される。
また、照明光学系2とレチクルステージ6との間には、レチクル3上のマーク、または、レチクルステージ6上の基準マークと、ウエハステージ7上の基準マークとを、投影光学系4を介して同時に撮像及び計測することができる計測系9が構成されている。当該計測系は、TTR(Through The Reticle)方式であり、TTR計測計9と呼ぶことにする。これにより、X軸・Y軸・Z軸方向それぞれの位置、並びに、各軸周りの回転角に関して、レチクルステージ6上のレチクル3とウエハステージ7上のウエハ5との間の位置決めが可能となる。
ウエハ5上のショットの位置は、ウエハステージ計測系12及びフォーカス計測系30よって計測されうる。ウエハステージ計測系12は、例えば、レーザ干渉計を含み、ウエハステージ7のX軸・Y軸・Z軸方向それぞれの位置、並びに、各軸周りの回転角を計測する。フォーカス計測系30は、投影光学系4の光軸方向(Z軸方向)におけるウエハ5の表面の位置を計測できる。ウエハステージ制御系13は、ウエハステージ計測系12及びフォーカス計測系30から提供される情報に基づいてウエハステージ7の位置を制御する。また、ウエハ5上のアライメントマークを非露光光で撮像し、その位置を計測することが可能なオフアクシス計測系11が構成される。オフアクシス計測系11は、ウエハ5上の複数のマークの位置を計測し、レチクル3のパターンをウエハ5上のショットに重ねて転写できるよう、ウエハ5上のショットの位置と形状とを計測する。また、オフアクシス計測系11は、自身のベースライン値の計測のため、ウエハステージ7上の基準マークの位置を計測する。
スリット状の照明光束でレチクル3上のパターン全体をウエハ5に転写するため、レチクルステージ6は、図1に示された『走査方向』に駆動される。それと同時に、ウエハステージ7も、図1に示された『走査方向』に駆動される。ここで、レチクルステージ6とウエハステージ7とは、投影光学系4の投影倍率に応じた速度比で駆動される。レチクル3とウエハ5との相対位置がずれると、ウエハ5に変形したパターンが転写される。そこで、主制御系16は、レチクル3とウエハ5との相対位置ずれを計算し、その相対位置ずれがゼロになるようにレチクルステージ制御系11及びウエハステージ制御系13を制御する。
また、露光装置100は、レチクルライブラリ14や、レチクル搬送ロボット13、レチクル3上のマークの位置をレチクルステージ6上のマークの位置に合わせるレチクルアライメントユニット29などから構成されるレチクル搬送ユニットを備える。レチクル搬送ユニットは、レチクル搬送制御系19の指示により動作する。また、また、露光装置100は、ウエハカセットエレベータ16やウエハ搬送ロボット15などから構成されるウエハ搬送ユニットを備える。ウエハ搬送ユニットは、ウエハ搬送制御系26の指示により動作する。
コンディショナ31は、主に雰囲気の温度調整と、塵や化学物質の除去(雰囲気の清浄化)とを行ない、装置100のチャンバ内の環境を一定に保つ。コンディショナ31は、チャンバ制御系18の指示により動作する。
主制御系16は、露光装置100の構成要素、例えば、チャンバ制御系18や、レチクル搬送制御系19、ウエハ搬送制御系26、レチクルステージ制御系22、ウエハステージ制御系25、照明光学系21、投影光学制御系24等を制御する。主制御系16は、通信インターフェイス17を介して、露光装置100の動作を設定すするパラメータ、又は動作の指示を取得し、それに基づいて露光装置100の各構成要素を制御することができる。主制御系16は、通信インターフェイス17を介して、当該設定パラメータ、当該動作指示内容、動作状態、動作結果、計測結果、エラーイベントなどの情報と、それらの発生時刻などの情報とを含むログ情報を後述の外部記憶装置に送信する機能を有する。
ここで、本発明の第1の実施形態として、入力された情報に含まれる時刻の情報に基づき、関連情報を抽出する例を説明する。
まず、本発明が適用される露光システムの構成例を説明する。図2は、露光システムの構成例を示す図である。露光システムは、露光装置100と、外部記憶装置300と、情報処理装置200とを備え、それらは通信インターフェースを介して接続される。なお、外部記憶装置300と情報処理装置200とを合わせて情報処理装置として構成してもよい。また、露光装置100・外部記憶装置300・情報処理装置200を合わせて露光装置として構成してもよい。
外部記憶装置300は、通信インターフェース311を介して、露光装置100の動作を設定するパラメータ、動作指示内容、動作状態、動作結果、計測結果、エラーイベントの情報を発生時刻の情報と共に露光装置100から収集する。そして、それらをデータベース311に格納する。
情報処理装置200は、露光装置100から提供される上記情報を処理するように構成されうる。情報処理装置200は、例えば、汎用のコンピュータにコンピュータプログラムをインストールすることによって構成されうる。情報処理装置200は、該コンピュータプログラムがインストールされることによって、通信インターフェース210、管理部220、フィルタリング部230、入力部240、および出力部250を備える装置として動作する。外部記憶装置300を含む場合には、外部記憶装置300(記憶部)をも備える装置として動作する。または、情報処理装置200は、該コンピュータプログラムがインストールされることによって、通信ステップ、管理ステップ、フィルタリングステップ、入力ステップ、出力ステップを実行する装置として動作する。外部記憶装置300を含む場合には、記憶ステップをも実行する装置として動作する。
フィルタリング部230(抽出部ともいう)は、入力部240により、関連情報条件の情報と、抽出方向条件の情報と、主情報と、主情報に対応づけされた時刻の情報とが提供される。主情報に対応づけされた時刻の情報より、その時刻での関連情報を外部記憶装置300に格納されている情報から抽出し、出力部250に出力しうるようにする。
ここで、露光装置100を構成するユニットのキャリブレーションと、レチクル3のパターンをウエハ5に転写する露光処理とについて説明する。
まず、ユニットのキャリブレーションは、露光装置100を電源遮断状態から動作可能状態にする時(露光装置リセット時)や、通信インターフェイス17からキャリブレーション実施指示(キャリブレーションコマンド)が入力された時に行われる。また、露光処理時にも行われる。
露光装置リセット時は、各ユニットの初期位置への駆動が行なわれ、ユニット間の相対位置関係を反映したキャリブレーションが行なわれる。例えば、ウエハステージ7は、定盤等を介してウエハステージ7を支持する気体ばねを含む支持装置により初期位置へ駆動した後、ウエハステージ7上の基準マークをTTR計測系9で計測される。これにより、レチクルまたはレチクルステージ上の(基準)マークの投影光学系4による像とウエハステージ7上の基準マークとをX軸・Y軸・Z軸それぞれの方向の位置および各軸周りの回転角に関して位置合せする。この状態を基準にして、フォーカス計測系30やオフアクシス計測系11のキャリブレーションが行われる。その結果、フォーカス計測系30やオフアクシス計測系11によってウエハ上のショットに対する計測を行えば、レチクル上のパターンの投影像に対してショットを正確に位置合わせすることができる。キャリブレーションコマンドが入力された時は、上述の初期位置への駆動以外は同様の処理が行われ、露光装置内の環境変動に起因した位置合わせ誤差を低減させるためのキャリブレーション値(オフセット値)が設定される。
露光処理時は、露光装置100の動作を設定するパラメータ(ジョブ(JOB)パラメータ)に従い、ユニットのキャリブレーションが行なわれる。また、レチクルのパターンとウエハのショットとのアライメントも、JOBパラメータに従って行なわれる。ここで、JOBパラメータは、例えば、工程名(ジョブ名)、ロット名(ロットID)、ウエハステージ走査速度、ウエハステージ走査方向、等を含みうる。さらに、キャリブレーション項目、キャリブレーションの実施タイミング、キャリブレーションのための計測回数、アライメント方式、アライメント計測におけるサンプルショット数及び計測回数、等を含みうる。なお、JOBパラメータにしたがったキャリブレーションにおいては、上述の初期位置へのユニット駆動は行われない。
主制御系16は、1枚もしくは複数枚のウエハを含む1ロット単位で、上記のJOBパラメータに基づいて露光装置100の各構成要素を制御し露光処理を行なう。まず、ロット処理開始にあたり、露光処理に使用されるレチクル及びウエハの露光装置内への供給が開始される。レチクル及びウエハの供給が完了すると、露光装置を構成するユニットのうちJOBパラメータで指定されたユニットのキャリブレーションと、レチクルとウエハのショットとをアライメントするための計測処理を行なう。このキャリブレーションは、温度・気圧などの環境状態や、照明条件、投影光学系の絞りなどの露光条件により変動するユニットの位置関係を反映するためのものである。そして、事前に装置リセット時やキャリブレーションコマンド実施時に行なわれたキャリブレーションの結果を基準として実施される。
主制御系16は、キャリブレーションおよびアライメント計測の結果に基づいて、各ユニットの動作を制御し、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハを露光する。
外部記憶装置300は、露光装置リセット時やキャリブレーションコマンド実施時のキャリブレーション結果(計測値または補正値)・時刻を、通信インターフェース312を介して露光装置から受信し、データベース(DB)311に記憶しておく。また、露光処理時の(すなわち、JOBパラメータにしたがった)キャリブレーションの結果を時刻とロット名・ウエハ番号と伴にデータベース(DB)311に記憶しておく。
以下、データベース(DB)311に記憶された上記情報から関連する情報を抽出するための情報処理方法(手順)を説明する。例として、任意の期間において露光処理時にJOBパラメータにしたがって行なわれたフォーカス計測系30のキャリブレーション(フォーカスキャリブレーション)に関する情報を分析する場合を説明する。図3は、データベース(DB)311より抽出できるフォーカスキャリブレーションの情報であり、計測値・計測時刻、及び、属性情報である計測が実施されたロット名・ウエハ番号を含む。ここで、属性情報は、ウエハ(基板)を特定する情報である。この情報から、ウエハ毎等に実施されたフォーカスキャリブレーション時の計測値がわかる。
ここで、フォーカスキャリブレーション時の計測値について説明する。まず、フォーカス計測は、ウエハ5上のショット内の計測点に対するフォーカス計測系30の計測値(F)と、当該計測時のウエハステージ7のZ軸方向位置(Z)とに基づいてなされる。そして、フォーカス制御は、ウエハステージ7上の基準マークが投影光学系4の像面にあるときのウエハステージ7のZ軸方向位置(Z0)とフォーカス計測系30の計測値(F0)との双方を基準値としてなされる。すなわち、フォーカス制御は、Z0・Z・F0・Fの4つの値(例えば、Z−Z0およびF−F0)に基づいてなされる。ところが、前述のように、装置リセット時は、ステージを支持する定盤の位置が変動しうるため、それに伴ってフォーカス計測系30の基準値Z0も変動しうることになる。したがって、JOBパラメータにしたがってなされたフォーカスキャリブレーションの計測値としての基準値Z0の情報を分析する場合、装置リセット時になされたフォーカスキャリブレーションの計測値としての基準値Z0が有効な情報(関連情報)となりうる。
図3を参照すると、ロット名AAの最終ウエハにおける計測値(Z0)と、ロット名BBBの第1ウエハの計測値(Z0)との間に大きな差があることがわかる。この大きな差は、装置リセットに起因したものであれば、たとえば、装置に異常はないとすることができる。そこで、この大きな差が装置リセットに起因したものであるか否かを確認するため、装置リセットの時刻やそのときの計測値(Z0)を関連情報として抽出する例を説明する。
図4は、露光システム(情報処理装置200)で実行される情報処理の一例を示すフローチャートである。
ステップS401で、入力部240は、ユーザーの操作により主情報・時刻情報(第1の情報)を入力される。本例では、JOBパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーション(第1の処理)の計測値・計測時刻、及び、計測が実施されたロット名・ウエハ番号の情報(図3)が入力される。ここで、主情報は、第1の処理の内容(種類)を特定する情報である。また、不図示だが、主情報の種類としての「フォーカスキャリブレーション」と抽出する期間とがフィルタリング条件として指示されることによって主情報・時刻情報が入力されてもよい。すなわち、当該フィルタリング条件に基づきデータベース(DB)311からフィルタリング部により抽出された結果が主情報・時刻情報として入力されてもよい。
ステップS402で、入力部240は、前記主情報に関連する関連情報(第2の情報)の種別の情報がユーザーの操作により入力される。本例では、装置リセットの時刻とそのときのフォーカスキャリブレーションの計測値が関連情報の種別として入力される。
ステップS403で、入力部240は、関連情報を抽出する条件(抽出条件)の情報がユーザーの操作により入力される。ここでは、関連情報を抽出する方向に関する条件(抽出方向条件)の情報が入力される。この抽出方向は、時間的な方向であり、過去方向および未来方向の一方または両方を選択することができる。ここで、当該条件は、外部記憶装置300(記憶部)から第2の情報を抽出する条件(第1の情報に含まれる時刻に関する条件)となる。
本例では、主情報項目である、JOBパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーションの計測値は、事前に行なわれた装置リセット時のフォーカスキャリブレーション(第2の処理)の計測値と対比したい。そのため、関連情報の抽出方向として過去方向が選択される。
ステップS404で、フィルタリング部は、主情報に対応づけされた時刻に、入力された抽出方向において最も時間的に近い時刻を有する関連情報を抽出する。本例では、図5に示すように、装置リセット時のフォーカスキャリブレーションの時刻および計測値の情報がデータベース(DB)311に記録されている。フィルタリング部は、JOBパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーションの各計測時刻に過去方向で最も時間的に近い装置リセット時のフォーカスキャリブレーションの情報を関連情報として抽出する。
ステップS405で、出力部は、主情報と、抽出された関連情報とを対応させて出力する。その後、処理を終了する。
本実施形態では、図6に示すように、JOBパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーションの各計測値に関連した装置リセット時のフォーカスキャリブレーションの計測値を提示する。提示された情報は、JOBパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーションの計測値が変化した原因を分析するのに役立てることができる。例えば、原因が装置リセットによるものか否かを判断することができる。
以上、第1の処理の内容をJOBパラメータにしたがったフォーカスキャリブレーションとし、第2の情報の内容を装置リセット時のフォーカスキャリブレーションの時刻・計測値とし、抽出条件(抽出方向条件)の内容を過去方向とした例を説明した。しかし、これは単なる一例に過ぎず、第1の処理・第2の情報・抽出条件の各内容の組合せは、他にも種々考えられる。例えば、第1の処理の内容は、露光装置の他の処理であってもよく、第2の情報の内容は、露光装置の処理に関するユーザーによる設定値であってもよい。
例えば、第1の処理がXY平面内におけるウエハ5上のショットの配置(形状を含んでもよい)の計測処理(アライメント計測処理)の場合、第2の情報は、ユーザーが設定したアライメント計測値に対するオフセット値とし、抽出方向条件は過去方向としてもよい。これにより、アライメント計測値の変化がオフセット値の変更を原因とするものであるか否かを容易に分析することができる。
また、第2の情報の内容は、露光装置の動作状態や動作結果を対象としてもよい。例えば、第1の処理は、ウエハ露光処理であるとする。この場合、第2の情報は、露光処理に含まれる各サブ処理シーケンスの開始・終了の少なくとも一方を示す情報や、ウエハ露光処理および各サブ処理の少なくとも1つが正常終了したか異常終了したかを示す情報とし、抽出方向条件は、過去方向としてもよい。このようにすると、例えば、ウエハ露光処理にエラーイベントが発生した場合、正常終了したサブ処理や、実施中のサブ処理、異常終了したサブ処理を知ることができ、ウエハ露光処理のエラー分析に役立てることができる。
また、第1の処理は、レチクルステージとウエハステージとの同期走査中における両者の相対位置の誤差(同期誤差)を計測する処理であるとする。この場合、第2の情報は、両者の少なくとも一方の制御系のパラメータ(例えば、ゲイン)の設定時刻・設定値を示す情報とし、抽出方向条件は、過去方向としてもよい。これにより、同期誤差の変化が制御系の設定値の変更を原因とするものであるか否かを容易に分析することができる。
[第2の実施形態]
以下、本発明の第2の実施形態として、指定した時刻に関する第2の情報(関連情報)を抽出する例を説明する。図7は、第2の実施形態の情報処理装置200の構成例を示す。第1の実施形態における構成要素と同一の構成要素は、第1の実施形態におけるものと同一の符号を付し、説明を省略する。グラフ表示部260(出力部ともいう)は、時間軸を有するグラフ(時系列グラフ)を表示し、入力部は、表示されたグラフ上から時刻情報が入力される。情報処理装置200のフィルタリング部230は、時刻情報・関連情報条件・抽出方向条件を入力部から受け取り、データベース(DB)311から関連情報を抽出する。
以下、本発明の第2の実施形態として、指定した時刻に関する第2の情報(関連情報)を抽出する例を説明する。図7は、第2の実施形態の情報処理装置200の構成例を示す。第1の実施形態における構成要素と同一の構成要素は、第1の実施形態におけるものと同一の符号を付し、説明を省略する。グラフ表示部260(出力部ともいう)は、時間軸を有するグラフ(時系列グラフ)を表示し、入力部は、表示されたグラフ上から時刻情報が入力される。情報処理装置200のフィルタリング部230は、時刻情報・関連情報条件・抽出方向条件を入力部から受け取り、データベース(DB)311から関連情報を抽出する。
図8は、露光装置100の露光処理におけるウエハのアライメント計測(ウエハ計測)処理(第1の処理)シーケンス・露光(ウエハ露光)処理シーケンスのタイミングチャート(時間軸を有するグラフの一例)である。当該タイミングチャートがグラフ表示部260により表示される。第2の実施形態として、タイミングチャート上で指示した任意の時刻における関連情報を表示する例を説明する。例えば、タイミングチャートでは、処理シーケンスの開始・終了のタイミングがグラフィカルに把握できる。しかし、それらの正確な時刻やウエハ番号・ロット名の情報は、チャートからは確認できない。チャートから確認できない情報を、チャート上の位置を指定することで抽出し表示するする情報処理方法(手順)を説明する。
図9は、露光システム(情報処理装置200)で実行される情報処理の一例を示すフローチャートである。
ステップS901で、入力部240は、データベース(DB)311から抽出したい関連情報(第2の情報)の種別の情報がユーザーの操作により入力される。本例では、ウエハ計測の開始時刻・終了時刻、及び、ウエハ計測の開始時刻情報の属性情報である計測対象のウエハ番号・ロット名が当該種別として入力される。ここで、属性情報は、ウエハ(基板)を特定する情報である。ウエハ計測の開始時刻・終了時刻の双方が第2の情報に含まれるようにしたが、そのいずれか一方のみでもよく、すなわち、その少なくとも一方が含まれればよい。
ステップS902で、入力部240は、関連情報を抽出する方向の条件(抽出方向条件)の情報が入力される。本例では、ウエハ計測の開始時刻は、過去方向が入力される。ウエハ計測の終了時刻は、未来方向が入力される。
ステップS903で、入力部240は、グラフ表示部260からユーザーの操作により指示されたグラフ上の位置が入力される。それにより、入力部240は、グラフ上でその位置に対応する時刻の情報(第1の情報)が、関連情報を抽出するための時刻の情報として、入力される。本例では、タイミングチャート上に表示された線カーソルで任意の位置をポイントすることにより、時刻の情報が入力されうる。
ステップS904で、フィルタリング部は、入力された時刻情報に、入力された抽出方向で最も時間的に近い関連情報をデータベース(DB)311から抽出する。本例では、ウエハ計測の開始時刻・終了時刻が抽出され、また、ウエハ計測の開始時刻の属性情報であるウエハ番号・ロット名の情報も抽出される。
ステップS905で、グラフ表示部260は、ステップS904で抽出された第2の情報(関連情報)を第1の情報に対応させてグラフ画面に表示する。その後、処理を終了する。
本実施形態では、図10のように、タイミングチャートに並べ、線カーソルに対応させて、ウエハ計測の開始時刻・終了時刻、及び、計測対象のウエハ番号・ロット名が表示される。このように関連する情報を迅速に提示できることで、効率的な分析作業を支援することができる。
[デバイス製造方法の実施形態]
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)は、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板(ウエハ、ガラスプレート等)を露光する工程と、その工程で露光された基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。他の周知の工程は、例えば、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等を例示することができる。
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)は、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板(ウエハ、ガラスプレート等)を露光する工程と、その工程で露光された基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。他の周知の工程は、例えば、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等を例示することができる。
200 情報処理装置
230 フィルタリング部(抽出部)
240 入力部
250 出力部
230 フィルタリング部(抽出部)
240 入力部
250 出力部
Claims (12)
- 基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理装置であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した第1の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第1の情報と、前記記憶部から第2の情報を抽出する前記時刻に関する条件の情報とが入力される入力部と、
前記入力部から入力された前記第1の情報と前記条件の情報とに基づいて、前記第2の情報を前記記憶部から抽出する抽出部と、
前記抽出部により抽出された前記第2の情報を前記第1の情報と対応させて出力する出力部と、
を有することを特徴とする情報処理装置。 - 前記第1の情報は、前記基板に対応して前記露光装置が実施した第1の処理の内容を特定する情報と前記第1の処理が実施された時刻の情報とを含み、
前記第2の情報は、前記基板に対応せずに前記露光装置が実施した第2の処理に関する情報を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の情報処理装置。 - 前記第1の処理は、前記基板に対応して前記露光装置が実施した、前記露光装置に含まれるユニットのキャリブレーションを含み、
前記第2の処理は、前記露光装置がリセットされて又は前記露光装置がキャリブレーションコマンドに応じて実施したキャリブレーションを含む、
ことを特徴とする請求項2に記載の情報処理装置。 - 前記第2の情報は、前記露光装置がリセットされて又は前記露光装置がキャリブレーションコマンドに応じて実施したキャリブレーションの結果の情報を含む、
ことを特徴とする請求項3に記載の情報処理装置。 - 前記第2の情報は、前記第1の処理の属性情報を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の情報処理装置。 - 前記第1の処理は、前記基板に対して前記露光装置が実施した計測処理を含み、
前記第2の情報は、前記基板を特定する情報と、前記計測処理の開始時刻および終了時刻の少なくとも一方の情報とを含む、
ことを特徴とする請求項1又は5に記載の情報処理装置。 - 前記抽出する条件は、前記時刻に最も近い過去の時刻および前記時刻に最も近い未来の時刻の少なくとも一方に前記第2の情報に対応する時刻を制限するものである、ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の情報処理装置。
- 前記出力部は、前記第1の処理に関する、時間軸を有するグラフを表示し、
前記入力部は、前記出力部に表示された前記グラフ上の位置の指定により前記時刻の情報が入力される、
ことを特徴とする請求項1および5乃至7のいずれかに記載の情報処理装置。 - 基板を露光する露光装置であって、
請求項1乃至8のいずれかに記載の情報処理装置
を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項8に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。 - 基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理方法であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した第1の処理の期間に含まれる時刻の情報を含む第1の情報と、前記記憶部から第2の情報を抽出する前記時刻に関する条件の情報とが入力される入力工程と、
前記入力工程で入力された前記第1の情報と前記条件の情報とに基づいて、前記第2の情報を前記記憶部から抽出する抽出工程と、
前記抽出工程で抽出された前記第2の情報を前記第1の情報と対応させて出力する出力工程と、
を有することを特徴とする情報処理方法。 - 基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する請求項11に記載の情報処理方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008281859A JP2010109273A (ja) | 2008-10-31 | 2008-10-31 | 情報処理装置、露光装置、デバイスの製造方法、情報処理方法およびプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2008281859A JP2010109273A (ja) | 2008-10-31 | 2008-10-31 | 情報処理装置、露光装置、デバイスの製造方法、情報処理方法およびプログラム |
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JP2010109273A true JP2010109273A (ja) | 2010-05-13 |
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ID=42298392
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JP2008281859A Pending JP2010109273A (ja) | 2008-10-31 | 2008-10-31 | 情報処理装置、露光装置、デバイスの製造方法、情報処理方法およびプログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2010109273A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7173730B2 (ja) | 2017-11-24 | 2022-11-16 | キヤノン株式会社 | 処理装置を管理する管理方法、管理装置、プログラム、および、物品製造方法 |
-
2008
- 2008-10-31 JP JP2008281859A patent/JP2010109273A/ja active Pending
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