JP5105135B2 - 推定方法、露光方法、デバイス製造方法、検査方法、デバイス製造装置、及びプログラム - Google Patents
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Description
(x、y)=(X−X0、Y−Y0)…(1)
この変形例では、上記ステップ312の処理中に算出した全てのショット領域の位置座標(実測値)とそれぞれの基準座標との差である位置ずれ量と、所定の評価関数とに基づいて、ウエハWの非線形歪みを評価し、この評価結果に基づいて補間関数を決定する。以下、補間関数の決定方法について、図8及び図9を参照して説明する。
次に上記実施形態の露光装置をリソグラフィ工程で使用するデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
Claims (14)
- 物体上に形成された複数の区画領域それぞれの形状を推定する推定方法であって、
前記複数の区画領域の位置情報を検出する工程と;
前記検出結果に基づいて、前記複数の区画領域の第1軸方向の位置ずれ量を示す第1の関数を決定する工程と;
前記複数の区画領域のうち前記第1軸方向に配列される区画領域の前記第1軸方向の位置ずれ量を示す前記第1の関数に基づいて、前記第1軸方向に関する前記複数の区画領域の倍率を表す第2の関数を求める工程と;
前記複数の区画領域のうち前記第1軸方向に直交する第2軸方向に配列される区画領域の前記第1軸方向の位置ずれ量を示す前記第1の関数に基づいて、前記第2軸方向に関する前記複数の区画領域の傾きを表す第3の関数を求める工程と;
前記第2及び第3の関数に基づいて、前記区画領域それぞれの形状情報を求める工程と;を含む推定方法。 - 前記第1の関数の微分情報から前記第2及び第3の関数を求める請求項1に記載の推定方法。
- 前記複数の区画領域のうちの少なくとも所定の2つに対応する前記第1の関数上の2点の情報に基づいて、前記第2及び第3の関数を求める請求項1に記載の推定方法。
- 前記決定する工程では、予め定められたモデル式と、前記区画領域の位置情報を検出する工程の検出結果とに基づいて、前記第1の関数を決定することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の推定方法。
- 前記モデル式は、所定の多項式であることを特徴とする請求項4に記載の推定方法。
- 前記モデル式は、フーリエ級数であることを特徴とする請求項4に記載の推定方法。
- 物体上の複数の区画領域をそれぞれ露光して、各区画領域に所定のパターンを形成する露光方法であって、
前記複数の区画領域の位置情報を検出する工程と;
前記検出結果に基づいて、前記複数の区画領域の第1軸方向の位置ずれ量を示す第1の関数を決定する工程と;
前記複数の区画領域のうち前記第1軸方向に配列される区画領域の前記第1軸方向の位置ずれ量を示す前記第1の関数に基づいて、前記第1軸方向に関する前記複数の区画領域の倍率を表す第2の関数を求める工程と;
前記複数の区画領域のうち前記第1軸方向に直交する第2軸方向に配列される区画領域の前記第1軸方向の位置ずれ量を示す前記第1の関数に基づいて、前記第2軸方向に関する前記複数の区画領域の傾きを表す第3の関数を求める工程と;
前記第2及び第3の関数に基づいて、前記区画領域それぞれの形状情報を求める工程と;
前記位置ずれ量及び前記形状情報に応じて、前記複数の区画領域それぞれを露光して、各区画領域に所定のパターンを形成する露光工程と;を含む露光方法。 - 前記露光工程では、露光対象の区画領域の形状情報に応じて、前記所定のパターンと前記物体との相対移動動作を制御しつつ、前記露光対象の区画領域の露光を行って前記所定のパターンを形成することを特徴とする請求項7に記載の露光方法。
- 請求項7又は8に記載の露光方法を用いて物体上の複数の区画領域にパターンをそれぞれ形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
- 物体上の複数の区画領域に形成されたパターンに関する情報を検査する検査方法であって、
前記複数の区画領域の位置情報を検出する工程と;
前記検出結果に基づいて、前記複数の区画領域の第1軸方向の位置ずれ量を示す第1の関数を決定する工程と;
前記複数の区画領域のうち前記第1軸方向に配列される区画領域の前記第1軸方向の位置ずれ量を示す前記第1の関数に基づいて、前記第1軸方向に関する前記複数の区画領域の倍率を表す第2の関数を求める工程と;
前記複数の区画領域のうち前記第1軸方向に直交する第2軸方向に配列される区画領域の前記第1軸方向の位置ずれ量を示す前記第1の関数に基づいて、前記第2軸方向に関する前記複数の区画領域の傾きを表す第3の関数を求める工程と;
前記第2及び第3の関数に基づいて、前記区画領域それぞれの形状を評価する工程と;を含む検査方法。 - 物体上に形成された複数の区画領域に所定の処理を施してデバイスを製造するデバイス製造装置であって、
前記複数の区画領域の位置情報を検出する検出装置と;
前記検出結果に基づいて、前記複数の区画領域の第1軸方向の位置ずれ量を示す第1の関数を決定する第1の関数決定装置と;
前記複数の区画領域のうち前記第1軸方向に配列される区画領域の前記第1軸方向の位置ずれ量を示す前記第1の関数に基づいて、前記第1軸方向に関する前記複数の区画領域の倍率を表す第2の関数を求める第2の関数決定装置と;
前記複数の区画領域のうち前記第1軸方向に直交する第2軸方向に配列される区画領域の前記第1軸方向の位置ずれ量を示す前記第1の関数に基づいて、前記第2軸方向に関する前記複数の区画領域の傾きを表す第3の関数を求める第3の関数決定装置と;
前記第2及び第3の関数に基づいて、各区画領域の形状情報を求める演算装置と;
前記位置ずれ量及び前記形状情報に応じて、前記複数の区画領域それぞれに対して前記所定の処理を施す処理装置と;を備えるデバイス製造装置。 - 前記処理装置は、前記形状情報に応じて、前記複数の区画領域それぞれを露光して、各区画領域に所定のパターンを形成することを特徴とする請求項11に記載のデバイス製造装置。
- 前記処理装置は、検査対象の区画領域の前記形状情報に応じて、その検査対象の区画領域に形成されたパターンに関する情報を検査することを特徴とする請求項11に記載のデバイス製造装置。
- コンピュータに所定の処理を実行させるプログラムであって、
物体上に形成された複数の区画領域の実測位置情報に基づいて、前記複数の区画領域の第1軸方向の位置ずれ量を示す第1の関数を決定する手順と;
前記複数の区画領域のうち前記第1軸方向に配列される区画領域の前記第1軸方向の位置ずれ量を示す前記第1の関数に基づいて、前記第1軸方向に関する前記複数の区画領域の倍率を表す第2の関数を求める手順と;
前記複数の区画領域のうち前記第1軸方向に直交する第2軸方向に配列される区画領域の前記第1軸方向の位置ずれ量を示す前記第1の関数に基づいて、前記第2軸方向に関する前記複数の区画領域の傾きを表す第3の関数を求める手順と;
前記第2及び第3の関数に基づいて、前記区画領域各々の形状情報を求める手順と;を前記コンピュータに実行させるプログラム。
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