JP2008166483A - グリッドマッチング方法、及び露光システム - Google Patents

Abstract

【課題】グリッド誤差データの管理を高効率化する。
【解決手段】マスクのパターンを介して基板を露光する複数の露光装置のうちの特定の露光装置である特定号機（号機Ａ）を基準として、該特定号機以外の露光装置である一般号機（号機Ｂ〜Ｆ）のそれぞれに係るグリッド誤差に関する誤差データを管理し、前記誤差データに基づいて、前記複数の露光装置のうちのグリッドマッチングさせるべき任意の二つの露光装置間の相対誤差を算出して、対応する露光装置に出力する。
【選択図】図４

Description

本発明は、例えば、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド等を製造するためのフォトリソグラフィー工程において用いられるグリッドマッチング方法、該方法をコンピュータに実行させるためのプログラムが格納された情報記録媒体、及び露光システムに関する。

半導体素子、液晶表示素子、撮像素子(CCD:charge Coupled Device)、薄膜磁気ヘッド等の各種デバイスの多くは複数の露光装置を用いて基板上に多数層のパターンを重ねて露光転写することにより製造される。このため、２層目以降のパターンを基板上に露光転写する際には、基板上の既にパターンが形成された各ショット領域とマスクのパターン像との位置合わせ、即ち基板とレチクルとの位置合わせ（アライメント）を正確に行う必要がある。このため、ステージ座標系の１層目のパターンが露光された基板上には、各ショット領域（チップパターン領域）に付設されるかたちでアライメントマークと呼ばれる位置合わせ用のマークがそれぞれ形成されている。アライメントマークが形成された基板が露光装置に搬入されると、該露光装置が備えるマーク計測装置により、ステージ座標系上におけるそのマーク位置（座標値）が計測される。次いで、計測されたマークの位置と該マークの設計上の位置とに基づいて、基板上の１つのショット領域をレチクルパターンに対して位置合わせ（位置決め）するアライメントが行われる。

アライメント方式としては、スループットを向上する観点から、例えば特開昭６１−４４４２９号公報、特開昭６２−８４５１６号公報等に開示されているように、基板上のショット配列の規則性を統計的手法によって精密に特定するエンハンスド・グローバル・アライメント（ＥＧＡ）が主流となっている。ＥＧＡとは、予め選定された複数（例えば、７〜１５個程度）のサンプルショットについて、そのアライメントマークの位置を計測し、これらの計測値と当該アライメントマークの設計上の位置からの誤差が最小となるように、最小二乗法等を用いた統計演算を行って、基板上の全てのショット領域の位置座標（ショット配列）を算出した後、この算出したショット配列に従って基板ステージをステッピングさせていくものである。このＥＧＡにより、ショット配列に生じている主として線形な誤差（基板の残存回転誤差、ステージ座標系（又はショット配列）の直交度誤差、基板の線形伸縮（スケーリング）、基板（中心位置）のオフセット（平行移動）等）が除去される。

また、複数の露光装置（号機）間での重ね合わせ露光を行う場合、露光装置相互間のステージのグリッド誤差（各露光装置におけるウエハの移動位置を規定するステージ座標系相互間の誤差）が存在するため、重ね合わせ誤差が生じてしまう。かかる場合に、重ね合わせ誤差の要因であるウエハ上のショット領域の形状や配列に生じる誤差が線形的な成分である場合には、前述したＥＧＡ方式のウエハアライメントにより除去することが可能であるが、非線形な成分である場合には、これを除去することが困難である。これは、ＥＧＡ方式ではウエハ上のショット領域の配列誤差が線形であるものとして扱っているからである。このようなショット形状やショット配列に非線形な誤差を除去するための技術として、グリッド・コンペンセーション・マッチング（ＧＣＭ）が知られている。

このＧＣＭとしては、露光シーケンス（プロセスウエハに対する露光処理）中に、ＥＧＡの結果を基準にして再度ＥＧＡ計測を行って非線形成分を抽出し、抽出された非線形成分を複数枚のウエハについて平均化した値をマップ補正値として保持し、以後の露光シーケンスでは、このマップ補正値を用いてショット位置の補正を行うもの（特開２００１−３４５２４３号公報参照）、露光シーケンスとは別に予め基準ウエハを用いて非線形成分（各ショット毎のずれ量）を計測して、これをマップ補正ファイルとして格納しておき、露光シーケンスにおいて、マップ補正ファイルを用いて、各ショット位置の補正を行うもの（特開２００２−３５３１２１号公報参照）等が知られている。また、上述したＥＧＡ方式で線形誤差成分が除去された後のショット配列の位置と各々の設計上の位置との差（非線形誤差成分）を、所定の評価関数に基づいて評価し、この評価結果に基づいて当該非線形成分を表現する関数を決定し、これに基づいて、ショット配列を補正するものも知られている（特開２００４−２６５９５７号公報参照）。

これらの従来のグリッドマッチング方法では、グリッド誤差を設計値（理想格子）を基準とした誤差として求めて、マップ補正ファイルを作成し、各露光装置においてそれぞれ記憶・管理しているとともに、各露光装置において、当該誤差を相殺するように、即ち該理想格子に近づくように補正が行われている。しかしながら、元工程（重ね合わせの元となる先行して露光処理した工程）において、該元工程の露光装置のグリッド誤差に基づく誤差が露光転写されたパターンに反映されている場合に、現工程（これから重ね合わせを行おうとしている工程）を実施する露光装置で、当該現工程の露光装置のグリッド誤差を理想格子を基準として補正したとしても、パターンの重ね合わせ誤差を十分に除去することは困難である。従って、元工程の露光装置で生じているグリッド誤差を基準として、現工程の露光装置で生じることなるグリッド誤差を補正することが望ましい。この場合に、元工程のグリッド誤差と現工程のグリッド誤差を相対的に管理する必要が生じ、露光システムを構成する全ての露光装置の任意の二つの組み合わせについて、両露光装置間のグリッド誤差の差を管理することはその数が多く煩雑である。このように従来は、膨大な量のグリッド誤差データを管理する必要があり、データ量が極めて多く、記憶装置の容量を圧迫し、あるいは誤差データの通信量が多いという問題があった。

本発明はこのような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、管理するグリッド誤差データの量を少なくし、グリッド誤差の管理を高効率化することを目的とする。
特開昭６１−４４４２９号公報 特開昭６２−８４５１６号公報 特開２００１−３４５２４３号公報 特開２００２−３５３１２１号公報 特開２００４−２６５９５７号公報

本発明によると、マスクのパターンを介して基板を露光する複数の露光装置のうちの特定の露光装置である特定号機を基準として、該特定号機以外の露光装置である一般号機のそれぞれに係るグリッド誤差に関する誤差データを管理する工程と、前記誤差データに基づいて、前記複数の露光装置のうちのグリッドマッチングさせるべき任意の二つの露光装置間の相対誤差を算出する工程とを備えるグリッドマッチング方法が提供される。本発明では、複数の露光装置のうちの特定号機を基準とした、他の一般号機のそれぞれについての誤差データを管理し、グリッドマッチングさせるべき任意の二つの露光装置間の相対誤差を算出するようにしたので、当該特定号機について誤差データを管理する必要がなくなり、管理すべきデータ量を少なくすることができるとともに、誤差データを他の装置（例えば、露光装置、計測装置）から取得する際、及び他の装置（例えば、露光装置）に誤差データを出力する際のデータ通信量も少なくすることができる。本発明の他の態様及び作用効果は以下の実施形態を通じて明らかになる。

本発明によれば、グリッド誤差データの管理を高効率化できるという効果がある。

［露光システム］
まず、本実施形態に係る露光システム（リソグラフィシステム）の全体構成について、図１を参照して説明する。なお、本実施形態では、露光装置を号機という場合がある。図１には、本発明の実施形態に係る露光システム１００の全体構成が概略的に示されている。この露光システム１００は、ｎ台の露光装置ＥＸ１〜ＥＸｎ、ホスト計算機システム２００、ターミナルサーバ３００、重ね合わせ測定器４００、管理サーバとしてのＧＣＭサーバ(Grid Compensation Matching Server)５００等を備えている。各露光装置ＥＸ１〜ＥＸｎ、ターミナルサーバ３００、重ね合わせ測定器４００、及びＧＣＭサーバ５００は、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）６００に接続されている。ＧＣＭサーバ５００は、ＳＣＳＩ(Small Computer System Interface)等の通信インタフェース５１０を介して接続された記憶装置５２０を備えている。ホスト計算機システム２００は、ターミナルサーバ３００を介してＬＡＮ６００に接続されている。これにより、各露光装置ＥＸ１〜ＥＸｎ、ホスト計算機システム２００、ターミナルサーバ３００、重ね合わせ測定器４００、及びＧＣＭサーバ５００の相互間の通信経路が確保されている。

［露光装置］
露光装置ＥＸ１〜ＥＸｎのそれぞれは、レチクルステージとウエハステージとを静止させた状態で露光を行うステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）、レチクルステージとウエハステージとを同期移動させつつ露光を行うステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（スキャニング・ステッパ）、その他の形式の露光装置の何れであってもく、これらが混在していてもよい。例えば、露光装置ＥＸ１は図２に示すように構成されている。なお、他の露光装置ＥＸ２〜ＥＸｎは露光装置ＥＸ１と同様であるものとして、その説明は省略する。露光装置ＥＸ１は、投影光学系ＰＬに対してレチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとを同期移動させつつ、レチクルＲに形成されたパターンの像をウエハＷ上のショット領域に逐次転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置である。

同図において、照明光学系ＩＬＳは、光源ＬＳ、オプティカルインテグレータＯＰＩ、照明系開口絞りＩＡＳ、並びに固定ブラインドＦＲＢＬ及び可動ブラインドＭＲＢＬを有するレチクルブラインド機構ＲＢＬ等を備えて構成される。なお、同図では、レンズ系等は省略している。光源ＬＳとしては、ここでは、ＡｒＦエキシマレーザ光源（波長１９３ｎｍ）を用いるものとするが、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）を射出する超高圧水銀ランプ、又はＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、Ｆ_２レーザ（波長１５７ｎｍ）、その他の光源を用いることができる。光源ＬＳから射出されたレーザ光は、不図示の可変減光器、照度調整ユニット、ビーム整形光学系等（何れも不図示）を経て、オプティカルインテグレータ（フライアイレンズ、内面反射型インテグレータ、回折光学素子等）ＯＰＩに入射される。オプティカルインテグレータＯＰＩの射出面（射出側焦点面）、即ちレチクルＲのパターン面に対する光学的なフーリエ変換面（照明系の瞳面、投影光学系ＰＬの瞳面と光学的に共役な面）には、転写すべきパターンに応じて照明条件を変更するための照明系開口絞り板ＢＡＬが配置されている。照明系開口絞り板ＢＡＬは、回転軸の周りで回転自在に構成された円板からなり、通常照明用の円形の開口絞り、輪帯照明用の開口絞り、複数（例えば４極）の偏心した小開口よりなる変形照明用の開口絞り）、及び小さいコヒーレンスファクタ（σ値）用の小円形の開口絞り等を含む複数の開口絞りＩＡＳが周方向に沿って配置されている。照明系開口絞り板ＢＡＬの回転軸は不図示の駆動モータにより回転され、オプティカルインテグレータＯＰＩの射出面に配置する開口絞りを切り換えることにより照明条件を変更できるようになっている。

オプティカルインテグレータＯＰＩから射出されて開口絞り板ＢＡＬの開口絞りＩＡＳの何れかを通過した光は、レチクルＲのパターン面（下面）との共役面又はその近傍に配置された固定ブラインド（固定照明視野絞り）ＦＲＢＬ及び可動ブラインド（可動照明視野絞り）ＭＲＢＬから構成されるレチクルブラインド機構ＲＢＬに入射され、その断面形状がスキャン方向（Ｘ方向）に直交する方向（Ｙ方向）に伸びるスリット状に整形される。可動ブラインドＭＲＢＬにより、レチクルＲに照射される照明光ＩＬによる照明領域ＩＡを任意に変更設定することができる。なお、照明光学系ＩＬＳ又は投影光学系ＰＬの瞳面上での照明光ＩＬの光量分布（２次光源の大きさや形状）を変更するために、例えば照明光学系ＩＬＳ内に交換して配置される複数の回折光学素子、照明光学系ＩＬＳの光軸に沿って可動なプリズム（円錐プリズム、多面体プリズムなど）、及びズーム光学系の少なくとも１つを含む光学ユニットを、光源ＬＳとオプティカルインテグレータＯＰＩとの間に配置し、オプティカルインテグレータがフライアイレンズであるときはその入射面上での照明光の強度分布、オプティカルインテグレータが内面反射型インテグレータであるときはその入射面に対する照明光の入射角度範囲などを可変とするようにしてもよい。

可動ブラインドＭＲＢＬを通過した光は、不図示のコンデンサレンズ系等を経て、照明光ＩＬとして射出され、投影光学系ＰＬの物体面に配置されたレチクルＲのパターン面（下面）の照明領域（照明視野領域）ＩＡを照明する。レチクルＲは、レチクルステージＲＳＴ上に吸着保持されており、レチクルステージＲＳＴ上の一端にはレチクル用干渉計システムＩＦＲからの測長用のレーザビームが照射される移動鏡ＭＲｒが固定されている。レチクルＲの位置決めは、レチクルステージＲＳＴを光軸ＡＸと垂直なＸＹ平面内で並進移動させるとともに、ＸＹ平面内で微小回転させるレチクル駆動装置（不図示）によって行われる。このレチクル駆動装置は、レチクルＲのパターンの像をウエハＷ上に転写する際には、レチクルステージＲＳＴを一定速度で所定のスキャン方向（Ｘ方向）に走査する。レチクルステージＲＳＴの上方には、レチクルＲの周辺に複数形成されたレチクルアライメント用のマークを光電検出する一対のアライメント系ＲＡＬがスキャン方向に沿ってそれぞれ設けられている。アライメント系ＲＡＬの検出結果は、レチクルＲを投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対して所定の精度で位置決めするためなどに使用される。干渉計システムＩＦＲは、移動鏡ＭＲｒにレーザビームを投射し、その反射ビームを受光してレチクルＲの位置変化を計測する。

照明光ＩＬのもとで、レチクルＲの照明領域ＩＡ内に形成されたパターンの像が両側テレセントリックな投影光学系ＰＬを介して所定の投影倍率α（αは例えば１／４又は１／５等）で、投影光学系ＰＬの結像面に配置される基板としてのウエハＷ上のスリット状の露光領域（投影光学系ＰＬに関して照明領域ＩＡと共役な領域）に投影される。投影光学系ＰＬはレンズ等の複数の光学素子を有している。これらの光学素子のうちのいくつかは、位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ軸方向の位置）及び姿勢（光軸ＡＸに対する角度）が調整可能となっており、これらの光学素子の位置又は姿勢を調整することで投影光学系ＰＬの倍率、像面湾曲、歪曲収差等の光学特性が調整可能となっている。なお、本願明細書では、これら倍率、像面湾曲、歪曲収差等の投影像の形状（像歪み）に影響を与える収差等の光学特性をディストーションという。この結像特性の調整は、主制御装置ＣＮＴによる制御の下、結像特性制御装置ＩＣＣによって行われる。

ウエハＷを載置してＸＹ平面に沿って２次元移動するウエハステージＷＳＴ上には、ウエハテーブルＷＴＢが設けられ、ウエハテーブルＷＴＢには、ウエハＷを真空吸着するウエハホルダＷＨが設けられている。ウエハテーブルＷＴＢは、不図示のオートフォーカス機構（ＡＦ機構）の計測値に基づいて、ウエハホルダＷＨをＺ方向（光軸ＡＸ方向）に微小移動させるとともに微小傾斜させる。ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内での移動座標位置とヨーイングによる微小回転量とは、ウエハ用干渉計システムＩＦＷによって計測される。この干渉計システムＩＦＷは、レーザ光源（不図示）からの測長用のレーザビームをウエハステージＷＳＴのウエハテーブルＷＴＢに固定された移動鏡ＭＲｗに照射し、その反射光と所定の参照光とを干渉させてウエハステージＷＳＴの座標位置と微小回転量（ヨーイング量）とを計測する。投影光学系ＰＬの側方には、ウエハＷに形成されたウエハマーク（アライメントマーク）の位置情報を計測するための、オフ・アクシス型のアライメント系ＡＬＧが設けられている。アライメント系ＡＬＧについては、後述する。

また、ウエハステージＷＳＴのウエハテーブルＷＴＢ上には、ＡＦ機構が備えるＡＦセンサのキャリブレーションやベースライン量の計測等に用いられる基準板（不図示）が取り付けられている。基準板の表面には、レチクルＲのマークとともにアライメント系ＲＡＬで検出可能な基準マーク（フィジューシャルマーク）やその他のマークが形成されている。ＡＦセンサは投影光学系ＰＬの像面に対するウエハＷの表面のずれ量を計測するセンサである。ベースライン量とは、ウエハＷ上に投影されるレチクルのパターン像の基準位置（例えば、パターン像の中心）とアライメント系ＡＬＧの視野中心との距離を示す量である。主制御装置ＣＮＴは、例えばマイクロコンピュータから構成され、露光装置ＥＸ１の各部を統括的に制御する。また、本実施形態では、この主制御装置ＣＮＴは、露光装置ＥＸ１に併設された不図示のコータ・デベロッパをも制御する。また、図１では、露光装置ＥＸ１がＬＡＮ６００に接続されているものとして説明したが、厳密には、主制御装置ＣＮＴがＬＡＮ６００に接続されている。主制御装置ＣＮＴは、ＬＡＮ６００及びターミナルサーバ３００を介して、ホスト計算機システム２００との間で通信を行い、ホスト計算機システム２００からの指令に応じて各種の制御動作を実行する。

［アライメント系］
アライメント系ＡＬＧは、図３に示すように、計測センサ４１０及び計測制御装置４５０を備えている。計測センサ４１０は、ウエハステージＷＳＴ上に載置されたウエハＷに形成されているマーク（例えば、アライメントマーク）の位置を計測するセンサである。ここでは、一例として、ＦＩＡ(Field Image Alignment)方式に用いられるセンサについて説明するが、ＬＳＡ(Laser Step Alignment)方式、あるいはＬＩＡ(Laser Interferometric Alignment)方式に用いられるセンサであってもよい。なお、ＬＳＡ方式のセンサは、レーザ光を基板に形成されたマークに照射し、回折・散乱された光を利用してそのマークの位置を計測するセンサであり、ＬＩＡ方式のアライメントセンサは、基板表面に形成された回折格子状のマークに、僅かに波長が異なるレーザ光を２方向から照射し、その結果生ずる２つの回折光を干渉させ、この干渉光の位相からマークの位置情報を検出するセンサである。計測センサ４１０は、これらの３つの方式のセンサのうち、２つ以上のセンサを設けて、それぞれの特徴及び状況に応じて使い分けできるようにすることもできる。

図３において、計測センサ４１０には光ファイバ４１１を介して外部のハロゲンランプ等の照明光源から照明光ＩＬ１０が導かれる。照明光ＩＬ１０はコンデンサレンズ４１２を介して視野分割絞り４１３に照射される。視野分割絞り４１３には、図示は省略しているが、その中央に幅広矩形状の開口よりなるマーク照明用絞りと、マーク照明用絞りを挟むように配置された一対の幅狭矩形状の開口よりなる焦点検出用スリットとが形成されている。照明光ＩＬ１０は、視野分割絞り４１３によってウエハＷ上のアライメントマーク領域を照明するマーク照明用の第１光束と、アライメントに先立つ焦点位置検出用の第２光束とに分割される。このように視野分割された照明光ＩＬ２０は、レンズ系４１４を透過し、ハーフミラー４１５及びミラー４１６で反射され、対物レンズ４１７を介してプリズムミラー４１８で反射され、ウエハＷ上に形成されたマークＭを含むマーク領域に照射される。照明光ＩＬ２０を照射したときのウエハＷの表面の反射光は、プリズムミラー４１８で反射され、対物レンズ４１７を通過してミラー４１６で反射された後、ハーフミラー４１５を透過する。その後、レンズ系４１９を介してビームスプリッタ４２０に至り、反射光は２方向に分岐される。ビームスプリッタ４２０を透過した第１の分岐光は、指標板４２１上にマークＭの像を結像する。そして、この像及び指標板４２１上の指標マークからの光が、二次元ＣＣＤによりなる撮像素子４２２に入射し、撮像素子４２２の受光面にマークＭ及び指標マークの像が結像される。

一方、ビームスプリッタ４２０で反射された第２の分岐光は、遮光板４２３に入射する。遮光板４２３は、所定の矩形領域に入射した光は遮光し、該矩形領域以外の領域に入射した光は透過する。よって、遮光板４２３は前述した第１の光束に対応する分岐光を遮光し、第２の光束に対応する分岐光を透過する。遮光板４２３を透過した分岐光は、瞳分割ミラー４２４によりテレセントリック性が崩された状態で、一次元ＣＣＤよりなるラインセンサ４２５に入射し、ラインセンサ４２５の受光面に焦点検出用スリットの像が結像される。ここで、ウエハＷと撮像素子４２２との間はテレセントリック性が確保されているため、ウエハＷが照明光及び反射光の光軸と平行な方向に変位すると、撮像素子４２２の受光面上に結像されたマークＭの像は、撮像素子４２２の受光面上における位置が変化することなくデフォーカスされる。これに対して、ラインセンサ４２５に入射する反射光は、上述のようにそのテレセントリック性が崩されているため、ウエハＷが照明光及び反射光の光軸と平行な方向に変位すると、ラインセンサ４２５の受光面上に結像された焦点検出用スリットの像は分岐光の光軸に対して交差する方向に位置ずれする。このような性質を利用して、ラインセンサ４２５上における像の基準位置に対するずれ量を計測すればウエハＷの光軸方向の位置（焦点位置）が検出される。

なお、計測センサ４１０によるグリッド誤差の計測工程は、グリッド誤差の計測対象の露光装置ＥＸｉで基準ウエハについて行われる。計測センサ４１０は、撮像素子４２２による撮像画像データ（画素毎の階調データ）を計測制御装置４５０に出力する。計測制御装置４５０は、撮像画像データを計測方法（ここでは、Ｘ方向とする）に直交する方向に積算して１次元信号とし、例えば折り返し自己相関処理、所定のテンプレートを用いたテンプレートマッチング処理又はエッジ位置計測処理（マークの輪郭を求める処理、得られた輪郭からマーク要素各々のエッジ位置を検出する処理、検出したエッジ位置からマーク中心を求める処理）等のマーク中心導出処理を行って、マークＭの計測方向における位置情報（ここでは、Ｘ座標値）を求める。Ｙ座標値も同様にして求めて、該マークの座標値（Ｘ，Ｙ座標値）は計測制御装置４５０が備える不図示の記憶装置に当該マークの識別情報とともに記憶保持される。また、計測制御装置４５０は、ＬＡＮ６００を介してＧＣＭサーバ５００に当該計測結果を送信する。

［重ね合わせ計測器］
重ね合わせ計測器４００は、上述したアライメントセンサＡＬＧの計測センサ４１０と同様な計測センサ及び上述したウエハステージＷＳＴと同様な構成のステージ装置を備える計測装置と、上述した計測制御装置４５０と同様な計測制御装置を備えて構成されている。計測装置は、この露光システムについて、少なくとも一台が設けられており、この露光システムを構成する製造ライン中にインラインで設けられている。但し、計測装置は、露光システム内に複数台設けられていてもよい。この場合に、それぞれの計測装置が露光装置ＥＸ１〜ＥＸｎとは別個に設けられていてもよく、各露光装置ＥＸ１〜ＥＸｎにそれぞれ付属されるコータ／デベロッパ内にそれぞれインラインで設けられていてもよい。また計測装置は、製造ライン中にインラインで設けられる必要は必ずしもなく、オフラインで設けられていてもよい。計測センサは、ここでは、一例として、ＦＩＡ(Field Image Alignment)方式に用いられるセンサであるものとするが、ＬＳＡ(Laser Step Alignment)方式、あるいはＬＩＡ(Laser Interferometric Alignment)方式に用いられるセンサであってもよい。なお、計測センサは、これらの３つの方式のセンサのうち、２つ以上のセンサを設けて、それぞれの特徴及び状況に応じて使い分けできるようにすることもできる。

［ＧＣＭサーバ］
ＧＣＭサーバ５００は、演算能力に優れた中規模のコンピュータシステム（例えば、ミニコンやエンジニアリング・ワークステーション）によって構成されたリソグラフィシステムの支援装置である。このＧＣＭサーバ５００は、ＬＡＮ６００を介した露光装置ＥＸ１〜ＥＸｎとの通信の他に、ＬＡＮ６００及びターミナルサーバ３００を介して、ホスト計算機システム２００との間で通信を行う。また、ＧＣＭサーバ５００は、露光装置ＥＸ１〜ＥＸｎ等との通信に際し、必要に応じて記憶装置５２０に対するデータの読み書きを行う。なお、ＧＣＭサーバ５００には、マンマシンインタフェースとしての表示ディスプレイとキーボードやマウス等のポインティングデバイス等とを含む入出力装置（不図示）が設けられている。また、ＧＣＭサーバ５００には、ＣＤ（compact disc），ＤＶＤ（digital versatile disc），ＭＯ（magneto-optical disc）あるいはＦＤ（flexible disc）等の情報記録媒体のドライブ装置（不図示）が、外付けで接続されている。ＧＣＭサーバ用のプログラム及びデータが記憶された情報記録媒体がこのドライブ装置にセットされ、読み込まれることにより、ＧＣＭサーバ５００としての機能が実現される。ＧＣＭサーバ５００は、計測制御装置４５０から送られる各露光装置ＥＸ１〜ＥＸｎのグリッド誤差に関するグリッド誤差データを記憶装置５２０内のデータベースに、所定の形式で表現して、記憶・管理する。

［ターミナルサーバ及びホスト計算機システム］
ターミナルサーバ３００は、ＬＡＮ６００における通信プロトコルとホスト計算機システム２００の通信プロトコルとの相違を吸収するためのゲートウエイプロセッサとして構成される。このターミナルサーバ３００の機能によって、ホスト計算機システム２００と、ＬＡＮ６００に接続された露光装置ＥＸ１〜ＥＸｎ、重ね合わせ測定器４００、及びＧＣＭサーバ５００等との間の通信が可能となる。ホスト計算機システム２００は大型のコンピュータを含んで構成される製造管理システム(MES:Manufacturing Execution System)である。ここで、製造管理システムとは、生産ラインで流れている各製品の工程、設備、条件、作業データをコンピュータで全て管理し、分析し、これにより品質向上、歩留まり向上及び作業ミス低減等のより効率的な生産を支援するシステムである。なお、ホスト計算機システム２００はＭＥＳ以外でもよく、例えば専用のコンピュータを用いてもよい。

［特定号機の選定］
本実施形態では、露光システムを構成する各号機ＥＸ１〜ＥＸｎの中から、この露光システム内で基準となるべき特定の号機を選定する。この基準となるべき特定の号機を、以下、特定号機といい、その余の号機を一般号機という。特定号機は、各号機のうちの何れの号機を選定してもよいが、露光システムに含まれる各号機が、種々のベンダー（製造業者）により提供されたものであったり、仕様や性能が異なるもの等が混在する場合には、ステージのグリッド誤差の調整能力が低いものから選定するとよい。但し、特定号機は、一般号機の基準となる号機であるため、グリッド誤差の経時的変化が少ない高精度な号機から選定することが望ましい。以下の説明では、便宜上、号機ＥＸ１を特定号機とし、ＥＸ２〜ＥＸｎを一般号機として説明する。

［グリッド誤差データの収集］
次に、各露光装置ＥＸｉ（ｉ＝１〜ｎ）のグリッド誤差データを収集するための処理について説明する。グリッド誤差の計測は、所定の基準パターン（基準マーク）が形成された基準ウエハ（テストウエハ、コモンウエハ）を用いて、該基準パターンを計測することにより行われる。ここでは、代表的に、号機ＥＸ１のグリッド誤差を計測する場合を例として説明する。基準ウエハは、概略次の手順で作製される。まず、シリコン基板（ウエハ）のほぼ全面に、二酸化シリコン（又は窒化シリコン、ポリシリコン等）の薄膜を成膜し、次いでこの二酸化シリコン膜の全面にレジスト塗布装置（コータ）により感光剤（レジスト）を塗布する。そして、このレジスト塗布後の基板を、基準となる露光装置（高精度に調整された信頼性の高い露光装置）のウエハホルダ上にロードするとともに、不図示の基準レチクル（基準マークパターンを拡大したパターンが形成された特殊なレチクル）をレチクルステージ上にロードして、その基準ウエハ用レチクルのパターンをシリコン基板上の各ショット領域に、所定のショット配列に従って露光転写する。

シリコン基板上の複数のショット領域（使用が予定される露光装置にロードされる実ウエハと同数のショット領域であることが望ましい）に基準マークパターン（実ウエハのアライメントに用いられるウエハアライメントマーク（サーチアライメントマーク、ファインアライメントマークなど））の像が転写形成される。次に、このシリコン基板をウエハホルダからアンロードし、現像装置（デベロッパ）を用いて現像する。次に、この現像処理が終了したシリコン基板に、エッチング装置を用いて基板表面が露出するまでエッチング処理を施した後、シリコン基板表面に残存するレジストを例えばプラズマアッシング装置等を用いて除去する。これにより、シリコン基板上の二酸化シリコン膜に凹部として実ウエハと同一の配置の複数のショット領域それぞれに対応して基準マーク（ウエハアライメントマーク）が形成された基準ウエハが作製される。なお、基準ウエハとしては、上記のように、二酸化シリコン膜にパターンニングによってマークを形成するものに限らず、シリコン基板に凹部としてマークを形成した基準ウエハを用いてもよい。基準ウエハは、露光システム内の複数の露光装置の精度管理用として使用されるので、複数の露光装置が種々のショットマップデータ（ウエハ上の各ショット領域のサイズ及び配列のデータ）を使用する可能性がある場合には、それらのショットマップデータ毎に作製することが望ましい。

次に、上述のようにして作製された基準ウエハを用いて、グリッド誤差に関するデータベースを作成する際の動作について、露光装置ＥＸ１が備える主制御装置ＣＮＴの処理について説明する。まず、不図示のウエハローダを用いて露光装置ＥＸ１のウエハホルダＷＨ上に基準ウエハをロードする。次に、ウエハホルダＷＨ上にロードされた基準ウエハのサーチアライメントを行う。具体的には、例えば、基準ウエハ中心に関してほぼ対称に周辺部に位置する少なくとも２つのサーチマークをアライメントセンサＡＬＧを用いて検出する。これらのサーチマークの検出は、それぞれのサーチマークがアライメント系ＡＬＧの検出視野内に位置するように、ウエハステージＷＳＴを順次位置決めしつつ、かつアライメント系ＡＬＧの倍率を低倍率に設定して行われる。そして、アライメントセンサＡＬＧの検出結果（アライメントセンサＡＬＧの指標中心と各サーチマークとの相対位置関係）と各サーチマーク検出時のレーザ干渉計ＩＦＷの計測値とに基づいて２つのサーチマークのステージ座標系上の位置座標を求める。その後、２つのサーチマークの位置座標から基準ウエハの残留回転誤差を算出し、この残留回転誤差がほぼ零となるようにウエハホルダＷＨを微小回転させる。これにより、基準ウエハのサーチアライメントが終了する。

次に、基準ウエハ上の全てのショット領域のステージ座標系上における位置座標を計測する。具体的には、前述したサーチアライメント時における各サーチマークの位置座標の計測と同様にして、ウエハＷ上のファインアライメントマーク（基準マーク）のステージ座標系上における位置座標、即ち、ショット領域の位置座標を求める。基準マークの検出は、アライメント系ＡＬＧの倍率を高倍率に設定して行う。次に、計測したショット領域の位置座標と、それぞれの設計上の位置座標とに基づいて特開昭６１−４４４２９号公報等に開示されるような最小自乗法を用いた統計演算（ＥＧＡ演算）を行い、６つのパラメータ（基準ウエハ上の各ショット領域の配列に関するローテーション、Ｘ，Ｙ方向のスケーリング、直交度、Ｘ，Ｙ方向のオフセットの６つのパラメータに対応）を算出するとともに、この算出結果と各ショット領域の設計上の位置座標とに基づいて、全ショット領域の位置座標（配列座標）を算出し、その算出結果、即ち基準ウエハ上の全ショット領域の位置座標を記憶する。次に、基準ウエハ上の全てのショット領域について、位置ずれ量（誤差量）の線形成分と非線形成分とを分離する。具体的には、算出した各ショット領域の位置座標とそれぞれの設計上の位置座標との差を位置ずれ量の線形成分として算出するとともに、実際に計測した全てのショット領域の位置座標とそれぞれの設計上の位置座標との差から前記線形成分を差し引いた残差を位置ずれ量の非線形成分として算出する。

次に、算出した非線形成分をグリッド誤差データとして、ＧＣＭサーバ５００に送る。他の号機ＥＸ２〜ＥＸｎについても同様にグリッド誤差を前記基準ウエハを用いて計測し、同様にＧＣＭサーバ５００に送る。ＧＣＭサーバ５００では、各号機ＥＸ１〜ＥＸｎから送られたグリッド誤差データに基づいて、特定号機ＥＸ１を基準として、各一般号機ＥＸ２〜ＥＸｎについて、グリッド誤差データの差分をそれぞれ算出し、各一般号機ＥＸ２〜ＥＸｎの識別情報とともに、グリッド誤差データ（差分データ）を記憶装置５２０内のデータベースに登録する。

なお、各号機ＥＸ１〜ＥＸｎからＧＣＭサーバに送るグリッド誤差データ、ＧＣＭサーバ５００内で管理するグリッド誤差データ（差分データ）、及びＧＣＭサーバ５００から各一般号機ＥＸ２〜ＥＸｎに送るグリッド誤差データ（差分）は、サンプル点のＸ，Ｙ座標と誤差ベクトルから構成されるデルタマップやその他のマップ形式のデータであってもよいが、情報量や通信量を削減するため、下記に示すような三次元モデル式（式１）にこれらのマップデータの各値を代入して、最小自乗法を用いて当該号機についてのグリッド誤差に関する近似式を求め、該近似式の各項についての係数（ｋパラメータ）で表現したグリッド誤差又はこれに相当する補正値若しくは調整量として管理又は送受信するようにしてもよい。

Δｘ（ｘ、ｙ）＝ｋ_１＋ｋ_３ｘ＋ｋ_５ｙ＋ｋ_７ｘ^２＋ｋ_９ｘｙ＋ｋ_１１ｙ^２
＋ｋ_１３ｘ^３＋ｋ_１５ｘ^２ｙ＋ｋ_１７ｘｙ^２＋ｋ_１９ｙ^３
Δｙ（ｘ、ｙ）＝ｋ_２＋ｋ_４ｙ＋ｋ_６ｘ＋ｋ_８ｙ^２＋ｋ_１０ｙｘ＋ｋ_１２ｘ^２
＋ｋ_１４ｙ^３＋ｋ_１６ｙ^２ｘ＋ｋ_１８ｙｘ^２＋ｋ_２０ｘ^３ …（式１）
本実施形態では、ＧＣＭサーバ５００では、特定号機ＥＸ１を基準とした各一般号機ＥＸ２〜ＥＸｎについてのグリッド誤差を、設計値を基準としたグリッド誤差データ（以下、便宜上、絶対的グリッド誤差データともいう）ではなく、特定号機ＥＸ１に対する相対値（差分）で管理するようにしている。この点、従来は、特定号機、一般号機というような区別をすることなく、露光システムに含まれる各号機の全てのうちの任意の二つの組み合わせについて、一方の絶対的グリッド誤差データから他方の絶対的グリッド誤差データを差し引いた相対的グリッド誤差データを、それぞれＧＣＭサーバで管理していた。即ち、従来技術では、ＧＣＭサーバは、これら各号機の任意の二つの組み合わせについてのグリッド誤差を全て記憶・管理し、重ね合わせの対象となる現工程の号機（これから露光処理を行う号機）と先行する元工程の号機（重ね合わせ元である直前の号機）に対応する相対的なグリッド誤差データ（補正値）を該現工程の号機に送るようにしていた。しかし、従来技術では、全ての号機の任意の二つの組み合わせについてのグリッド誤差データを記憶・管理する必要があり、データ量が多く、効率的ではなかった。本実施形態では、特定号機ＥＸ１に対する一般号機ＥＸ２〜ＥＸｎの相対的なグリッド誤差データをＧＣＭサーバ５００で管理するようにしているので、特定号機ＥＸ１についてのグリッド誤差データを記憶・管理する必要がなく、記憶容量を削減することができる。

図４は、一般号機のグリッド誤差を特定号機を基準として相対管理する概念を模式的に示した図である。同図において、露光システムは、号機Ａ〜号機Ｆの６台で構成され、特定号機として号機Ａが選定され、その余の一般号機Ｂ〜Ｆについて、図中実線矢印で示されているように、特定号機Ａに対する相対的グリッド誤差データを管理する様子が示されている。一般号機間（号機Ｂと号機Ｃ、号機Ｂと号機Ｄ、号機Ｂと号機Ｅ、号機Ｂと号機Ｆ、号機Ｃと号機Ｄ、号機Ｃと号機Ｅ、号機Ｃと号機Ｆ、号機Ｄと号機Ｅ，号機Ｄと号機Ｆ、号機Ｅと号機Ｆ）のグリッド誤差の相対差は、図中点線矢印で示されているように、一般号機のそれぞれについての特定号機に対するグリッド誤差データの一方から他方を差し引くことにより、容易に求めることができる。

なお、特定号機ＥＸ１でウエハＷ上に所定のレチクル（例えば、上述の基準レチクル）のパターンを露光転写現像した後に、一般号機ＥＸ２でそのウエハＷ上に同じレチクルを用いてパターンを重ね合わせて露光転写現像し、このウエハＷを重ね合わせ測定器４００を用いてパターンの重ね合わせ誤差を計測し、この重ね合わせ誤差を上述したグリッド誤差データに加算するようにしてもよい。

また、露光システムを構成する各号機中の特定号機は、上述の説明では、１台選定するものとして説明したが、複数台選定してもよい。この場合には、各特定号機に対して、各一般号機のグリッド誤差の差分をそれぞれ管理することになる。但し、図５に示すように、一の特定号機（号機Ａ）に対する各一般号機（号機Ｄ〜Ｆ）のグリッド誤差の差分を管理することに加えて、該一の特定号機（号機Ａ）に対する他の特定号機（号機Ｂ，Ｃ）のグリッド誤差の差分をも管理して、当該他の特定号機（号機Ｂ，Ｃ）に対する各一般号機（号機Ｄ〜Ｆ）のグリッド誤差の差分は、演算により間接的に求めるようにしてもよい。なお、図５において、号機Ａ〜Ｃが特定号機であり、号機Ｄ〜Ｆが一般号機であり、実線矢印は直接的に管理されるグリッド誤差データを示し、点線矢印は演算により間接的に求められるグリッド誤差データを示している。

［グリッドコンペンセーション］
次に、ウエハＷに露光処理を行う際のグリッド誤差の補正処理について説明する。まず、ホスト計算機システム２００からプロセスプログラムＩＤや露光履歴データを含む所定の露光コマンドがＧＣＭサーバ５００及び露光処理を実施すべき号機に対して送られる。なお、ウエハＷの露光履歴データは、ホスト計算機システム２００の内部記憶装置内に記憶されているものとする。露光履歴データには、元工程を行った号機（ここでは、一例として号機ＥＸ２とする）のＩＤ、元工程を処理したときのプロセスプログラムＩＤ等の情報、及び現工程を行う号機（ここでは、一例として号機ＥＸ３とする）のＩＤ、現工程で用いるプロセスプログラムＩＤ等の情報が含まれる。以下、号機ＥＸ２，ＥＸ３に係るグリッド誤差データをそれぞれデータＤＤ２、ＤＤ３ということがある。ＧＣＭサーバ５００では、露光コマンドを受信すると、元工程の号機ＩＤ及び現工程の号機ＩＤに基づいて、ここでは、元工程及び現工程の号機はともに一般号機であるため、元工程の号機ＥＸ２のデータＤＤ２及び現工程の号機ＥＸ３のデータＤＤ３を取得する。次いで、現工程の号機ＥＸ３に係るデータＤＤ３から元工程の号機ＥＸ２に係るデータＤＤ２を差し引いて、号機ＥＸ２に対する号機ＥＸ３のグリッド誤差データの差分（ＤＤ３−ＤＤ２）を求める。なお、元工程の号機が特定号機（ここでは、号機ＥＸ１）である場合には、このような号機間での差分の算出は不要であり、一般号機についてのグリッド誤差データをそのまま用いればよい。次に、ＧＣＭサーバ５００は、データ（ＤＤ３−ＤＤ２）を対応する号機ＥＸ３に送る。

号機ＥＸ３においては、ホスト計算機システム２００からの露光コマンドを受信すると、まず、ホスト計算機システム２００からの露光コマンドに含まれるプロセスプログラムＩＤに係るプロセスプログラムに従って、不図示のレチクルローダを用いて露光装置ＥＸ３のレチクルステージＲＳＴ上にレチクルＲをロードするとともに、不図示のウエハローダを用いて露光装置ＥＸ３のウエハホルダＷＨ上にウエハＷをロードする。次に、ウエハホルダＷＨ上にロードされたウエハＷのサーチアライメントを行う。具体的には、ウエハＷの中心に関してほぼ対称に周辺部に位置する少なくとも２つのサーチマークをアライメント系ＡＬＧを用いて検出する。これらのサーチマークの検出は、それぞれのサーチマークがアライメント系ＡＬＧの検出視野内に位置するように、ウエハステージＷＳＴを順次位置決めしつつ、かつアライメント系ＡＬＧの倍率を低倍率に設定して行われる。そして、アライメント系ＡＬＧの検出結果（アライメント系ＡＬＧの指標中心と各サーチマークとの相対位置関係）と各サーチマーク検出時のレーザ干渉計ＩＦＷの計測値とに基づいて２つのサーチマークのステージ座標系上の位置座標を求める。次に、サーチマークの位置座標からウエハＷの残留回転誤差を算出し、この残留回転誤差がほぼ零となるようにウエハホルダＷＨを微小回転させる。これにより、ウエハＷのサーチアライメントが終了する。

次に、ウエハＷ上の全てのショット領域のステージ座標系上における位置座標を計測する。具体的には、前述したサーチアライメント時における各サーチマークの位置座標の計測と同様にして、ウエハＷ上のファインアライメントマーク（ウエハマーク）のステージ座標系上における位置座標、即ち、ショット領域の位置座標を求める。ウエハマークの検出は、アライメント系ＡＬＧの倍率を高倍率に設定して行う。次に、計測したショット領域の位置座標と、それぞれの設計上の位置座標とに基づいて特開昭６１−４４４２９号公報等に開示されるような最小自乗法を用いた統計演算（ＥＧＡ演算）を行い、６つのパラメータ（基準ウエハ上の各ショット領域の配列に関するローテーション、Ｘ，Ｙ方向のスケーリング、直交度、Ｘ，Ｙ方向のオフセットの６つのパラメータに対応）を算出するとともに、この算出結果と各ショット領域の設計上の位置座標とに基づいて、全ショット領域の位置座標（配列座標）を算出し、その算出結果、即ちウエハＷ上の全ショット領域の位置座標を記憶する。次に、ＧＣＭサーバ５００から送られたグリッド誤差データに基づいて、算出された全ショット領域の位置座標を補正して、グリッド誤差を補正した位置座標を算出する。次に、このようにして得られた各ショット領域の位置情報及び計測されたベースラインに基づいて、各ショット領域の露光のための加速開始位置（走査開始位置）へのウエハＷ（ウエハステージＷＳＴ）の移動が行われ、最初のショット領域に対してレチクルＲのパターンの像を露光転写する。以後、同様に順次他のショット領域に対してステップ・アンド・スキャン方式で露光転写を繰り返し実施する。これにより、ウエハＷ上の各ショット領域にレチクルのパターンの像が正確に重ね合わされて露光転写される。

［重ね合わせの基準となる露光装置の選定］
ところで、半導体デバイスは数層から十数層のレイヤを重ね合わせることにより製造される。ここで、重ね合わせの基準となる号機、即ち、現工程でグリッド誤差をマッチングさせる対象としての号機は、現工程の直前のレイヤを露光処理した号機とするのが一般的である。しかし、直前のレイヤを露光処理した号機を重ね合わせの基準とする場合、直前のレイヤもその直前のレイヤ（現工程からみると２層前）にグリッド誤差をマッチングさせて露光されているので、累積的に誤差を生じ得る。また、重ね合わせの基準が各層毎に異なるため、各層の露光処理において、直前のレイヤを露光した号機を識別し、そのときのグリッド誤差等をそれぞれ管理して、直前のレイヤを露光した号機とのグリッド誤差の差分を算出する必要があり、情報の管理が煩雑となる。

そこで、本実施形態では、ロット単位（例えば、ウエハ２５枚単位）で、複数のレイヤのうちから任意にある特定のレイヤを選定し、該特定のレイヤを基準としてグリッドマッチングして、他の全てのレイヤを露光処理する。即ち、ある特定のレイヤを露光処理した又は露光処理する号機（以下、特定レイヤ号機ということがある）を基準とて、他の全てのレイヤを露光処理する他の号機（以下、一般レイヤ号機ということがある）のグリッド誤差を当該特定レイヤ号機にマッチングさせる。このため、ＧＣＭサーバ５００は、特定号機に対する各一般号機のグリッド誤差の差分に基づいて、特定号機又は一般号機から選定された特定レイヤ号機を基準とした、該一般レイヤ号機のそれぞれに係るグリッド誤差の差分を算出して、各一般レイヤ号機に対してグリッド誤差補正値を出力する。具体的には、図６に示すように、例えば、該特定レイヤ号機として、第１層目のレイヤ（レイヤ１）を露光する号機を選定し、その余のレイヤ（レイヤ２〜レイヤｎ）を該レイヤ１にマッチングさせる。但し、該特定レイヤ号機は、第１層目以外のレイヤを露光する号機であってもよく、既に露光処理を行ったレイヤに係る号機に限られず、現工程の後に露光処理を行うことになるレイヤに係る号機であってもよい。これにより、上述した累積的な誤差が少なくなるとともに、情報の管理が容易となる。

本実施形態では、特定号機に対する一般号機のグリッド誤差の差分を管理するようにしているので、前記特定レイヤ号機として、前記特定号機を選定することにより、管理している各一般号機についての相対的ディストーションデータをそのまま用いることができ、即ち、差分演算を行うことなくそのまま用いることができ、便宜である。

［その他］
マイクロデバイスとしての半導体素子は、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいて、レチクルを製造するステップ、シリコン材料からウエハを製造するステップ、上述した実施形態の露光システムによりレチクルのパターンをウエハに露光転写するステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
例えば、半導体素子の製造に用いられる露光システムのみならず、液晶表示素子、プラズマディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤなど）、マイクロマシン、及びＤＮＡチップ等の製造にも用いられる露光システム、並びにレチクル又はマスクを製造するための露光システムにも本発明を適用できる。即ち本発明は、露光方式や用途等に関係なく適用可能である。

本発明の実施形態の露光システムの全体構成を示すブロック図である。 本発明の実施形態の露光システムが備える露光装置の概略構成を示す図である。 本発明の実施形態の露光装置が備えるアライメント系の概略構成を示す図である。 本発明の実施形態のグリッド誤差データの管理方法を概念的に示す図である。 本発明の実施形態の特定号機を複数選定した場合のグリッド誤差データの管理方法を概念的に示す図である。 本発明の実施形態の各レイヤのディストーションを特定のレイヤに合わせる場合を概念的に示す図である。

符号の説明

ＥＸ１〜ＥＸｎ…露光装置（号機）、２００…ホスト計算機システム、４００…重ね合わせ測定器、５００…管理サーバ（ＧＣＭサーバ）、Ｗ…ウエハ、Ｒ…レチクル、ＣＮＴ…主制御装置、４１０…計測センサ、４５０…計測制御装置。

Claims (9)

1. マスクのパターンを介して基板を露光する複数の露光装置のうちの特定の露光装置である特定号機を基準として、該特定号機以外の露光装置である一般号機のそれぞれに係るグリッド誤差に関する誤差データを管理する工程と、
   前記誤差データに基づいて、前記複数の露光装置のうちのグリッドマッチングさせるべき任意の二つの露光装置間の相対誤差を算出する工程と
   を備えるグリッドマッチング方法。
2. 前記誤差データは、前記特定号機において該特定号機が備える計測装置で基準基板に形成された基準パターンを計測して得られる誤差データと、前記一般号機において該一般号機が備える計測装置で前記基準基板の前記基準パターンを計測して得られる誤差データとの差分データであることを特徴とする請求項１に記載のグリッドマッチング方法。
3. 基板上に３層以上のパターンを重ね合わせて露光転写する場合に、該重ね合わせ露光に供される複数の露光装置のうちから任意に選択される一の露光装置を基準として、該一の露光装置以外の他の露光装置のそれぞれに係る誤差データを算出し、対応する各露光装置に該誤差データを出力することを特徴とする請求項１又は２に記載のグリッドマッチング方法。
4. 前記特定号機は、前記露光装置の中から複数台選択されることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のグリッドマッチング方法。
5. 前記誤差データは、所定の多項式の係数の形式で表現されるデータであることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載のグリッドマッチング方法。
6. 前記誤差データは、線形誤差成分を除去した非線形誤差成分を含むデータであることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載のグリッドマッチング方法。
7. 請求項１〜６の何れか一項に記載のグリッドマッチング方法をコンピュータに実行させるためのプログラムが格納されたコンピュータ読み取り可能な情報記録媒体。
8. マスクのパターンを介して基板を露光する複数の露光装置と、
   前記複数の露光装置のうちの特定の露光装置である特定号機を基準として、該特定号機以外の露光装置である一般号機のそれぞれに係るグリッド誤差に関する誤差データを管理する管理サーバと
   を備えることを特徴とする露光システム。
9. 前記各露光装置は、基板上に形成されたパターンの誤差を計測する計測装置、及び前記計測装置により計測された誤差データを通信回線を介して前記管理サーバに送る制御装置をそれぞれ有し、
   前記管理サーバは、前記特定号機が備える前記制御装置から送られた前記誤差データと、前記一般号機が備える前記制御装置から送られた前記誤差データとの差分データを管理することを特徴とする請求項８に記載の露光システム。

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