JP4332891B2 - 位置検出装置、位置検出方法、及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 195
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 84
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 24
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 311
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 61
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 35
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 29
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 24
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 6
- 238000007476 Maximum Likelihood Methods 0.000 claims description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 223
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 36
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 30
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 29
- 230000006870 function Effects 0.000 description 24
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 23
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 21
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 238000013481 data capture Methods 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000010436 fluorite Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
次に、上述した露光装置100をリソグラフィ工程で使用したデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
Claims (21)
- 物体の位置情報を検出する位置検出装置であって、
蓄積型撮像デバイスと;
前記物体に対し、前記蓄積型撮像デバイスの撮像視野を所定方向に相対走査させながら、前記物体上に形成された前記物体の向きを規定する基準線を含む領域を、前記蓄積型撮像デバイスを用いて少なくとも1回連続的に撮像することにより、前記所定方向に圧縮された前記基準線を含む領域の撮像結果を取得する撮像機構と;
前記基準線を含む領域の撮像結果に基づいて、前記基準線に関する情報を検出する検出装置と;
前記検出された前記基準線に関する情報と、前記相対走査の速度とに基づいて、前記物体の向きに関する情報を算出する算出装置と;を備える位置検出装置。 - 前記撮像機構は、
前記相対走査の開始時又は終了時に、前記蓄積型撮像デバイスを用いて、前記物体上に形成された設計上の位置情報が既知であるマークを含む領域をさらに撮像し、
前記検出装置は、
前記マークを含む領域の撮像結果に基づいて、前記マークの位置情報をさらに検出し、
前記算出装置は、
前記検出された前記マークの位置情報及び前記物体の向きに関する情報並びに前記検出されたマークの設計上の位置情報に基づいて、前記物体の位置情報をさらに算出することを特徴とする請求項1に記載の位置検出装置。 - 物体の位置情報を検出する位置検出装置であって、
蓄積型撮像デバイスと;
前記物体に対し、前記蓄積型撮像デバイスの撮像視野を所定方向に相対走査させながら、前記物体上に形成された前記物体の向きを規定する基準線を含む領域を、前記蓄積型撮像デバイスを用いて少なくとも1回連続的に撮像することにより、前記所定方向に圧縮された前記基準線を含む領域の撮像結果を取得し、前記相対走査の開始時又は終了時に、前記蓄積型撮像デバイスを用いて、前記物体上に形成された設計上の位置情報が既知であるマークを含む領域をさらに撮像する撮像機構と;
前記基準線を含む領域の撮像結果に基づいて、前記基準線に関する情報を検出し、前記マークを含む領域の撮像結果に基づいて、前記マークの位置情報をさらに検出する検出装置と;
前記検出された前記基準線に関する情報に基づいて、前記物体の向きに関する情報を算出し、前記検出されたマークの位置情報及び前記物体の向きに関する情報、並びに前記検出されたマークの設計上の位置情報に基づいて、前記物体の位置情報をさらに算出する算出装置と;を備える位置検出装置。 - 前記撮像機構は、
前記物体の移動を規定する2次元座標系の各座標軸の方向を、それぞれ前記所定方向として、前記物体に対し、前記蓄積型撮像デバイスの撮像視野を相対走査させながら、互いに直交する2つの前記基準線のうちの前記各座標軸方向に略平行に延びる前記基準線を含む領域を、前記蓄積型撮像デバイスを用いて少なくとも1回連続的に撮像し、
前記検出装置は、
前記各基準線を含む撮像結果に基づいて、その基準線に関する情報をそれぞれ検出し、
前記算出装置は、
前記検出された前記各基準線に関する情報に基づいて、前記2次元座標系の各座標軸の直交度をさらに算出し、前記直交度を考慮しつつ、前記物体の位置ずれに関する情報を算出することを特徴とする請求項2又は3に記載の位置検出装置。 - 前記蓄積型撮像デバイスは、
複数の光電変換素子が撮像面に2次元に配置された撮像デバイスであり、
前記検出装置は、
前記撮像結果として得られる2次元画像における複数の領域内で、それぞれ前記所定方向に対応する方向の画素列毎の輝度データの累積値を求め、前記対応する方向の直交方向に関する前記累積値のデータ列を前記領域毎に作成し、作成された前記各領域の累積値のデータ列について前記基準線に関する情報を検出することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の位置検出装置。 - 前記蓄積型撮像デバイスは、
複数の光電変換素子が撮像面に2次元に配置された撮像デバイスであり、
前記検出装置は、
前記撮像結果として得られる2次元画像から、前記所定方向に対応する方向の直交方向の画素列を複数抽出し、抽出された各画素列の輝度データのデータ列に基づいて前記基準線に関する情報を検出することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の位置検出装置。 - 前記撮像機構は、
前記所定方向の相対走査時に、複数回の連続的な撮像を行うことにより、前記所定方向に圧縮された前記基準線を含む領域の撮像結果を複数取得することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の位置検出装置。 - 前記蓄積型撮像デバイスは、
複数の光電変換素子が、撮像面に前記所定方向の直交方向に対応する方向に、1列に配置された撮像デバイスであることを特徴とする請求項7に記載の位置検出装置。 - 前記蓄積型撮像デバイスは、
複数の光電変換素子が、撮像面に2次元に配置された撮像デバイスであり、
前記検出装置は、
前記撮像結果として得られる2次元画像における所定の領域内で、前記所定方向に対応する方向の画素列毎の輝度データの累積値を求め、前記対応する方向の直交方向に関する前記累積値のデータ列を作成し、作成されたデータ列に基づいて前記基準線に関する情報を検出することを特徴とする請求項7に記載の位置検出装置。 - 前記蓄積型撮像デバイスは、
複数の光電変換素子が撮像面に2次元に配置された撮像デバイスであり、
前記検出装置は、
前記撮像結果として得られる2次元画像から、前記所定方向に対応する方向に直交する方向の画素列を抽出し、抽出された画素列の輝度データのデータ列に基づいて前記基準線に関する情報を検出することを特徴とする請求項7に記載の位置検出装置。 - 前記基準線は、前記物体上にマトリクス状に配置された複数の区画領域の間の境界線であり、
前記撮像機構は、各回の撮像結果に対応する前記区画領域の配置状態がほぼ同一となるような間隔で各回の撮像を行うことを特徴とする請求項7〜10のいずれか一項に記載の位置検出装置。 - 前記撮像機構が、前記所定方向の相対走査時の撮像を3回以上行う場合には、
前記検出装置は、
前記各撮像結果に基づいて、最尤推定により、前記基準線に関する情報を検出することを特徴とする請求項7〜11のいずれか一項に記載の位置検出装置。 - 前記検出装置は、
データ列の折り返し相関性に基づいて、前記基準線に関する情報を検出することを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の位置検出装置。 - 前記検出装置は、
異なるデータ列同士の相関性に基づいて、前記基準線に関する情報を検出することを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の位置検出装置。 - 物体の位置情報を検出する位置検出装置であって、
蓄積型撮像デバイスと;
前記物体に対し、前記蓄積型撮像デバイスの撮像視野を所定方向に相対走査させながら、前記物体上に形成された前記物体の向きを規定する基準線を含む領域を、前記蓄積型撮像デバイスを用いて少なくとも1回連続的に撮像することにより、前記所定方向に圧縮された前記基準線を含む領域の撮像結果を取得する撮像機構と;
前記基準線を含む領域の撮像結果に基づいて、前記基準線に関する情報を検出する検出装置と;
前記検出された前記基準線に関する情報と、前記基準線に関する情報の設計値とに基づいて、前記物体の向きに関する情報を算出する算出装置と;を備える位置検出装置。 - 前記撮像機構は、
前記相対走査の開始時又は終了時に、前記蓄積型撮像デバイスを用いて、前記物体上に形成された設計上の位置情報が既知であるマークを含む領域をさらに撮像し、
前記検出装置は、
前記マークを含む領域の撮像結果に基づいて、前記マークの位置情報をさらに検出し、
前記算出装置は、
前記検出された前記マークの位置情報及び前記物体の向きに関する情報並びに前記検出されたマークの設計上の位置情報に基づいて、前記物体の位置情報をさらに算出することを特徴とする請求項15に記載の位置検出装置。 - 前記撮像機構は、
前記物体の移動を規定する2次元座標系の各座標軸の方向を、それぞれ前記所定方向として、前記物体に対し、前記蓄積型撮像デバイスの撮像視野を相対走査させながら、互いに直交する2つの前記基準線のうちの前記各座標軸方向に略平行に延びる前記基準線を含む領域を、前記蓄積型撮像デバイスを用いて少なくとも1回連続的に撮像し、
前記検出装置は、
前記各基準線を含む撮像結果に基づいて、その基準線に関する情報をそれぞれ検出し、
前記算出装置は、
前記検出された前記各基準線に関する情報に基づいて、前記2次元座標系の各座標軸の直交度をさらに算出し、前記直交度を考慮しつつ、前記物体の位置ずれに関する情報を算出することを特徴とする請求項16に記載の位置検出装置。 - 物体の位置情報を検出する位置検出装置であって、
蓄積型撮像デバイスと;
前記物体に対し、前記蓄積型撮像デバイスの撮像視野を所定方向に相対走査させながら、前記物体上に形成された前記物体の向きを規定する基準線を含む領域を、前記蓄積型撮像デバイスを用いて少なくとも1回連続的に撮像して、前記所定方向に圧縮された前記基準線を含む領域の撮像結果を取得し、前記相対走査の開始時又は終了時に、前記蓄積型撮像デバイスを用いて、前記物体上に形成された設計上の位置情報が既知であるマークを含む領域をさらに撮像し、前記マークを含む領域の撮像結果を取得する撮像機構と;
前記基準線を含む領域の撮像結果に基づいて、前記基準線の向きに関する情報を検出し、前記マークを含む領域の撮像結果に基づいて、前記マークの位置情報をさらに検出する検出装置と;
前記検出された前記基準線の向きに関する情報及び前記マークの位置情報並びに前記検出されたマークの設計上の位置情報に基づいて、前記物体の位置情報を算出する算出装置と;を備える位置検出装置。 - 物体の位置情報を検出する位置検出方法であって、
請求項1〜18のいずれか一項に記載の位置検出装置を用いて、物体の位置情報を検出する工程を含む位置検出方法。 - パターンを、移動体に保持された物体に転写する露光方法であって、
請求項19に記載の位置検出方法を用いて、前記移動体上の物体の位置情報を検出する工程と;
前記検出された前記物体の位置情報に基づいて、前記移動体に保持された物体の位置制御を行いつつ、前記パターンを前記物体に転写する工程と;を含む露光方法。 - リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法において、
前記リソグラフィ工程では、請求項20に記載の露光方法を用いて露光を行うことを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003292123A JP4332891B2 (ja) | 2003-08-12 | 2003-08-12 | 位置検出装置、位置検出方法、及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003292123A JP4332891B2 (ja) | 2003-08-12 | 2003-08-12 | 位置検出装置、位置検出方法、及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005064223A JP2005064223A (ja) | 2005-03-10 |
JP4332891B2 true JP4332891B2 (ja) | 2009-09-16 |
Family
ID=34369578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003292123A Expired - Fee Related JP4332891B2 (ja) | 2003-08-12 | 2003-08-12 | 位置検出装置、位置検出方法、及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4332891B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011066185A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Ushio Inc | ワークアライメントマークの検出方法および露光装置 |
JP2015509666A (ja) | 2012-03-08 | 2015-03-30 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | アライメントセンサーとビーム測定センサーを備えている荷電粒子リソグラフィシステム |
CN113093487B (zh) * | 2021-04-20 | 2024-01-30 | 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) | 掩模对准***、掩模对准方法和光刻设备 |
-
2003
- 2003-08-12 JP JP2003292123A patent/JP4332891B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005064223A (ja) | 2005-03-10 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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