JP2009527076A - 導電線パターン形成のための銀オルガノゾルインク - Google Patents

導電線パターン形成のための銀オルガノゾルインク Download PDF

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Abstract

本発明は導電線パターン形成のための溶液型銀オルガノゾルインクに係り、炭素数
0〜16であって1〜3のカルボキシル基を有し、アミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ
基に置換されたり置換されない直鎖有機溶媒で構成される導電線パターン形成のため
の溶液性銀オルガノゾルインクが提供される。
本発明によって多様な還元または金属化温度を有して銀含量が高い溶液型銀オルガ
ノゾルインクが得られる。このような溶液状態のインクは既存のインクジェットプリ
ンティングによってPDP(プラズマディスプレイパネル)のような平板ディスプレ
イの導電線パターン形成に用いられてこれらの生産工程を画期的に減らすことができ
る。特に本発明の金属化された銀オルガノゾルインクは熱硬化性樹脂のような柔軟基
板に比較的低温で導電性パターンを形成するのに用いられることができる。
【選択図】図11

Description

本発明は導電線パターン形成のための溶液型銀オルガノゾルインク、特に銀前駆体を含む銀オルガノゾルインクに関する。
半導体やディスプレイに適用されるパターン形成技術は大別して3種に分けられる。第一に、CVD、PVDとスパッタリング等のような薄膜形成技術に主に適用される減法(subtractive;成膜をした後リソグラフィでパターンを現像した後エッチングして製造)、第二に、スクリーン印刷方式のような厚膜形成技術に主に適用される加法(additive;スクリーンプリンティングのような接触印刷方式によるパターン形成)と最後に、これらを併用する加減法に分けることができる。加法によるパターンの形成は材料と工程を大幅に短縮させることができるので経済的な製造方法ではあるがスクリーン印刷のような厚膜形成技術は精密度が低下してしたがって技術適用分野が違った。
加法によって精密なパターンの形成が可能であるというならば環境や費用節減の観点で有利である。特にインクジェットプリンティングによるパターンの形成が注目されている。例えば、従来の薄膜形成期術によって形成されたパターン(例えば、LCDのカラーフィルター)にインクジェットプリンティングによる加法を適用しようとする試みがある。
ベスト(Vest,R.W.)がMOD物質を用いてインクの製造可能性を試験した(IEEE Transactions on Components, Hybrids and Manufacturing Technology, 12(4),545−549,1987)以来、多くの研究がなされた。キド一行(Kydd,etal)の国際公開WO98−37133号はMOD物質と粒子性金属の複合組成物をインクジェットプリント用に用いることを特徴としている。コビオ社(Kovio,Inc)の米国特許6878184号はMODインクを用いるのでなくてMODと還元剤(例えばアルデヒド)を用いてナノパーティクル状のインクを形成して用いる。このような金属微細粉末、特に銀粉末を含む懸濁液インクをインクジェット方式で導電線パターンを形成するのに用いようとする多い試みがある。しかし金属粉末懸濁液インクはサスペンション状態を維持するために添加剤を用いなければならなくてこのような添加剤は形成されたパターンの物理的性質に悪い影響を与える。また、懸濁液の挙動は一般的なインクとは異なるのでインクジェットノズルをはじめとするインクジェットプリンタシステムに対する開発が必要である。
オルガノゾルインクまたはMOD(metallo−organic decompositon)を含む溶液状のインクは従来のインクジェットプリンティング機構に特別な改善なく用いられることができる利点がある。また前記の溶液性インクは金属化温度を低めることができるのでプラスチックのような柔軟な基板にも適用できる可能性もある。
haeuncomtecの韓国特許公開2004−84570はインクジェットインク用MODインクの組成で酸化銀5−40重量%+(ラクタム、ラクトンまたはカーボネイト)10−20重量%+アミン20−85重量%で開示している。しかし前記の組成では前記実施例の濃い色で見られるところのように銀溶液というより懸濁液に近くてこのような懸濁状態を維持するためには添加剤を多量用いなければならなくてインクジェットノズルの管理が難しい問題点を有している。
現在まで公開された先行技術を整理すれば下記表のようである。
<特許文献>
Figure 2009527076
<非特許文献>
Figure 2009527076
本発明の目的は物理的性質が良好な導電線パターンを形成することができる銀オルガノゾルインクを提供するためである。
本発明の他の目的銀インクジェットプリント装備を含んだ従来の印刷方式に適用できる導電線パターンを形成するための銀オルガノゾルインクを提供するためである。
本発明のまた他の目的は、比較的低い温度で還元または金属化されるオルガノゾルインクを提供するためである。
発明の構成
本発明によって、炭素数0〜16であって1〜3のカルボキシル基を有し、アミノ基、ニトロ基及び/またはヒドロキシ基に置換されたり置換されない直鎖または分枝状の飽和または不飽和脂肪酸銀または下記式1で定義される芳香族カルボン酸銀有効量;と有機溶媒で構成される導電線パターン形成のための溶液性銀オルガノゾルインクが提供される。
Figure 2009527076
前記式でR、R、R、RとRはそれぞれCOO−Ag、水素、アミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基または炭素数1ないし9のアルキル基である。
ここでオルガノゾルと言うのは銀が有機物質と結合して溶液状態であることを意味する。本発明のインクにおいて、カルボキシル化銀は熱処理と還元によって金属銀を形成する前駆体で作用する。前記有機溶媒は好ましくは銀とキレート剤または錯体を形成する反応性有機溶媒と粘度調節用極性または非極性稀釈溶媒で構成される。前記銀とキレート剤または錯体を形成する反応性有機溶媒は例えば、置換されたり置換されない、ケトン基、メルカプト基、カルボキシル基、アニリン基または亜硫酸基を有する有機溶媒である。本発明の全体オルガノゾルインクで前記脂肪酸銀または芳香族カルボン酸銀は一般的に5〜70重量%である。
本発明の一つの好ましい実施例で炭素数0〜16であって1〜3のカルボキシル基を有し、アミノ基、ニトロ基及び/またはヒドロキシ基に置換されたり置換されない直鎖または分枝状の飽和または不飽和脂肪酸銀10〜50重量%;炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基で一つ以上置換されたアミンと炭素数1〜16の直鎖または分枝状の脂肪族チオールで構成される群から選択される反応性有機溶媒10〜60重量%;及び極性または非極性有機溶媒残量で構成される導電線パターン形成のための溶液性銀オルガノゾルインクが提供される。
前記飽和または不飽和脂肪酸銀は好ましくは飽和されたり二重結合を一個または二個を有する脂肪酸銀である。例えば、マレイン酸銀、マロン酸銀、コハク酸銀、酢酸銀、リンゴ酸銀、メタクリル酸銀、プロピオン酸銀、ソルビン酸銀、クエン酸銀、ウンデシレン酸銀、ネオデカン酸銀、オレイン酸銀、シュウ酸銀、ギ酸銀またはグルコン酸銀である。
本発明の一つの好ましい実施例で下記式1aで定義される芳香族カルボン酸銀10〜50重量%;炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基で一つ以上置換されたアミンと炭素数1〜16の直鎖または分枝状の脂肪族チオールで構成される群から選択される反応性有機溶媒10〜60重量%;及び極性または非極性稀釈溶媒残量で構成される導電線パターン形成のための銀オルガノゾルインクが提供される。
Figure 2009527076
前記式でR、R、R、RとRはそれぞれ水素、アミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基または炭素数1ないし9のアルキル基である。前記式1aの化合物で例えば、4−アミノ安息香酸銀または安息香酸銀である。
本発明の他の好ましい実施例で下記式1bで定義される芳香族カルボン酸銀10〜50重量%;炭素数1〜6のヒドロキシアルキルで一つ以上置換されたアミンと炭素数1〜16の直鎖または分枝状の脂肪族チオールで構成される群から選択される反応性有機溶媒10〜60重量%;及び極性または非極性稀釈溶媒残量で構成される導電線パターン形成のための銀オルガノゾルインクが提供される。
Figure 2009527076
前記式でR、R、R、RとRのうち1個はCOO−Agであって残りはそれぞれ水素、アミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基または炭素数1ないし9のアルキル基である。
前記式1bで好ましくは前記RはCOO−Agであって残りのR、R、RとRはそれぞれ水素、ヒドロキシ基または同じであるか相異なる炭素数1ないし9のアルキル基である。例えば式1bの化合物はテレフタル酸銀である。式1bの化合物が2個以上のCOO−Agを有する場合単位mol当たり銀の含量を高めることができる長所がある。
本発明のまた他の好ましい実施例で下記式1cで定義される芳香族カルボン酸銀10〜50重量%;炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基で一つ以上置換されたアミンと炭素数1〜16の直鎖または分枝状の脂肪族チオールで構成される群から選択される反応性有機溶媒10〜60重量%;及び極性または非極性稀釈溶媒残量で構成される導電線パターン形成のための銀オルガノゾルインクが提供される。
Figure 2009527076
前記式でR、R、R、RとRのうち少なくとも2個はCOO−Agであって残りはそれぞれ水素、アミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基または炭素数1ないし9のアルキル基である。
前記式1cで好ましくは前記RとRはCOO−Agであって残りのR、RとRはそれぞれ水素、ヒドロキシ基または炭素数1ないし9のアルキル基である。例えば式1cの化合物はトリメシン酸銀である。銀の含量は式1aと式1bの化合物よりはるかに高い。
このような銀オルガノゾルインクは界面活性剤と粘液調節剤のような少量の添加剤を含むことができる。また、本発明の銀オルガノゾルインクは銀伝導体のマトリックスやフラックス物質で非伝導性の高分子性またはガラス質物質を含むことができる。本発明の銀オルガノゾルインクはPDP等のようなディスプレイ分野だけでなく太陽電池とRfidのように導電線パターンが必要な多様な分野で用いられることができる。
式1で定義される芳香族系列カルボン酸銀は単位mol当たり銀の比重の47%以上に少量の前駆体を用いても相対的に高い濃度の金属銀に還元することができる長所がある。
前記式1で定義される芳香族系列カルボン酸銀の量は好ましくは5〜70重量%である。この5重量%以下であれば銀濃度が低くなって70重量%以上であれば溶液を作ることに問題があり得る。式1で定義される芳香族系列カルボン酸銀の量は好ましくは10〜50重量%であって最も好ましくは20〜40重量%である。前記式1で定義される芳香族系列カルボン酸銀は好ましくは硝酸銀のような銀溶液を式1に対応する芳香族系列カルボン酸アルカリ金属塩と反応させて製造されることができる。前記芳香族系列カルボン酸アルカリ金属塩はアルカリと芳香族系列カルボン酸と反応させて容易に製造される。
前記反応性有機溶媒は広くは銀とN、OとSのヘテロ原子を介して銀とキレート剤または錯体を形成する有機溶媒で例えば、置換されたり置換されない、ケトン基、メルカプト基、カルボキシル基、アニリン基または亜硫酸基を有する有機溶媒である。前記反応性有機溶媒は最も好ましくはモノエタノールアミン、ジエタノールアミンまたはトリエタノールアミンである。
本発明のオルガノゾルインクは完全な溶液性インクで基本的に透明で若干の色を帯びることができる。初期エタノールアミンのようなアミン類溶媒によって溶液化した時は固形分の含量によって約10,000cPs〜100,000cPsの粘度を有するのでスクリーンプリンティング、オフセットプリンティング、インプリンティングのような工程にも用いるのに十分であり、用いようとする目的によって使用者が極性または非極性溶媒を用いて粘度を調節することができる。
エタノールで一つ以上置換されたアミンで溶液化された銀オルガノゾルは基板の性質によって極性または非極性溶媒を用いて稀釈化することができる。前記非極性稀釈溶媒では脂肪族または芳香族炭化水素である。前記極性溶媒は置換されたり置換されない炭素数1〜12である1価〜3価の飽和または不飽和脂肪族アルコールまたは水である。このような稀釈溶媒の例では2−メトキシエタノール、1、2−ヘキサンジオール、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルカルビトール、燈油、エタノール、メタノール2−プロパノール、クロロホルムとエチレン・グリコール等である。
本発明によって多様な還元または金属化温度を有して銀含量が高い溶液型銀オルガノゾルインクが得られる。このような溶液状態のインクは既存のインクジェットプリンティングによってPDP(プラズマディスプレイパネル)のような平板ディスプレイの導電線パターン形成に用いられてこれらの生産工程を画期的に減らすことができる。特に本発明の金属化された銀オルガノゾルインクは熱硬化性樹脂のような柔軟基板に比較的低温で導電性パターンを形成するのに用いられることができる。
以下本発明を実施例によって詳細に説明する。このような実施例は本発明を例示するためのもので本発明の保護範囲を制限するものと解析されてはならない。
常温で50mmolの4−アミノ安息香酸を50mLのメタノールに解離させる。撹はんされているこの溶液に50mmolのNaOHが解離されている50mLの水をゆっくり添加して4−アミノ安息香酸ナトリューム塩を形成させる。ここに再び50mmolの硝酸銀が解離されている50mLの水を徐々に添加すれば、白色沈殿が迅速に形成される。生成された沈殿物を水で十分に洗滌して未反応された硝酸銀と水酸化ナトリウムを除去して、濾過した後再び十分な量のメタノールを利用して未反応4−アミノ安息香酸を除去して反応を終了させる。常温で濾過水を乾燥して4−アミノ安息香酸銀を得る。得られたsilver4−aminobenzoateはTGA(TA instrument,SDT Q600)を利用して特性化銀含量を測定して、FT−IR(Perkin Elmer,Spectrum GX)を利用してC=O結合が観察される1700cm−1のピークがcarboxylgroupによってresonanceされて1500cm−1程度に移動すると−COOHに存在するhydroxylgroupによって3500〜4000cm−1にbroadするように観察されるピークが消えることを確認して反応可否を確認した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は93%だった。
前記4−アミノ安息香酸銀0.1molを0.12molのエタノールアミンで完全に溶解させた次に、インクジェットプリントで使用が可能なようにエタノールで粘度を25℃で10cPsに調節した。続いて30分間十分に撹はんする。製造された銀溶液1gを取ってガラス基板上にバーコーティングして常温で乾燥させた後372℃で10分間熱処理した。熱処理後残存する固形分の重量で最終的な銀含量に定めて、フィルムの厚さを測定して4プローブ装置で体積抵抗を測定してSEM(Hitachi、S−4300)を利用して微細構造を分析した。そのSEMイメージは図8に示された。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
インクジェット方式で(a)ドット(72.2μm)、(b)ドット(56μm)、(c)ライン(60μm)と(d)さらに複雑な回路パターンを形成していろいろ焼成パターンを試験した。実験に用いられた装備はリトレックス社(Litrex corporation)で製造されたものでSX−128ヘッドを装着してヘッドメニスカス圧力は−20mmHgに設定し、実験条件は周波数1.2kHzで印加電圧119.5Vを印加し、ピエゾ作動時間は9.8μsに設定した。プリンティング速度は20mm/secである。パターンが形成されたパネルを常温で乾燥させた後372℃で10分間熱処理した。熱処理されたパターン顕微鏡写真はそれぞれ図11に例示した。
4−アミノ安息香酸の代わりにリンゴ酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は93%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図8に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにマレイン酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は89%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図8に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにコハク酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は46.5%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図8に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりに酢酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は87.7%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図8に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにマロン酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は87.5%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図8に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにメタクリル酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は74.3%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図9に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにプロピオン酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は63%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図9に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにソルビン酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は82%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図9に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにクエン酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は88%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図9に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにウンデシレン酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は93%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図9に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにネオデカン酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は98%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図9に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにオレイン酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は95.3%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図10に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにシュウ酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は96%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図10に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにギ酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は77%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図10に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにグルコン酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は80%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図10に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりに安息香酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は87.7%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図10に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにテレフタル酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は98%だった。
熱処理された銀フィルムのSEMイメージは図10に示した。正確な添加量及び測定値を表3に記載した。
4−アミノ安息香酸の代わりにトリメシン酸を用いることを除いて実施例1と同じ方法で実施した。生成されたカルボキシ酸銀粉末の収率は87.7%だった。
正確な添加量及び測定値を表に記載した。
表 エタノールアミンを反応性有機溶媒で用いるインク
Figure 2009527076
本発明の溶液型銀インクはPDPのような平板型ディスプレイに導電性パターンを形成することにおいて従来の伝統的な印刷方式特にインクジェットプリンティングによってその工程数を画期的に減らすのに用いられることができる。
実施例12を除いた実施例1ないし19で製造された有機銀前駆体のFT−IRスペクトロメーターグラフである。 実施例12を除いた実施例1ないし19で製造された有機銀前駆体のFT−IRスペクトロメーターグラフである。 実施例12を除いた実施例1ないし19で製造された有機銀前駆体のFT−IRスペクトロメーターグラフである。 実施例1ないし実施例19で製造された有機銀前駆体のTGA特性グラフである。 実施例1ないし実施例19で製造された有機銀前駆体のTGA特性グラフである。 実施例1ないし実施例19で製造された有機銀前駆体のTGA特性グラフである。 実施例1ないし実施例19で製造された有機銀前駆体のTGA特性グラフである。 実施例1ないし実施例18で製造されたサンプルのそれぞれの金属化温度で10分間熱処理した後の1000倍SEMイメージである。 実施例1ないし実施例18で製造されたサンプルのそれぞれの金属化温度で10分間熱処理した後の1000倍SEMイメージである。 実施例1ないし実施例18で製造されたサンプルのそれぞれの金属化温度で10分間熱処理した後の1000倍SEMイメージである。 実施例1で製造されたオルガノゾルインクをガラス基板に用いて熱処理したパターンの顕微鏡写真である。

Claims (20)

  1. 炭素数0〜16であって1〜3のカルボキシル基を有し、アミノ基、ニトロ基及び/またはヒドロキシ基に置換されたり置換されない直鎖または分枝状の飽和または不飽和脂肪酸銀または下記式1で定義される芳香族カルボン酸銀有効量と有機溶媒で構成される導電線パターン形成のための溶液性銀オルガノゾルインクであって、
    Figure 2009527076
    前記式でR、R、R、RとRはそれぞれCOO−Ag、水素、アミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基または同じであるか相異なる炭素数1ないし9のアルキル基である溶液性銀オルガノゾルインク。
  2. 前記有機溶媒は銀とキレート剤または錯体を形成する反応性有機溶媒と粘度調節用極性または非極性稀釈溶媒で構成される請求項1に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  3. 前記反応性有機溶媒はケトン基、メルカプト基、カルボキシル基、アニリン基または亜硫酸基を有する有機溶媒である請求項2に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  4. 前記非極性稀釈溶媒では脂肪族または芳香族炭化水素であって前記極性稀釈溶媒は置換されたり置換されない炭素数1〜12である1〜3価の飽和または不飽和脂肪族アルコールまたは水である請求項3に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  5. 前記芳香族カルボキシ酸銀が全体オルガノゾルインクの5〜70重量%である請求項4に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  6. 下記式1aで定義される芳香族カルボン酸銀10〜50重量%;ヒドロキシエチル基で一つ以上置換されたアミンと炭素数1〜16の直鎖または分枝状の脂肪族チオールで構成される群から選択される反応性有機溶媒10〜60重量%;及び極性または非極性有機溶媒残量で構成される導電線パターン形成のための請求項2に記載の溶液性銀オルガノゾルインクであって、
    Figure 2009527076
    前記式でR、R、R、RとRはそれぞれ水素、アミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基または同じであるか相異なる炭素数1ないし9のアルキル基である溶液性銀オルガノゾルインク。
  7. 前記芳香族カルボン酸銀が4−アミノ安息香酸はまたは安息香酸銀である導電線パターン形成のための請求項6に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  8. 下記式1bで定義される芳香族カルボン酸銀10〜50重量%;ヒドロキシエチル基で一つ以上置換されたアミンと炭素数1〜16の直鎖または分枝状の脂肪族チオールで構成される群から選択される反応性有機溶媒10〜60重量%;及び極性または非極性有機溶媒残量で構成される導電線パターン形成のための溶液性銀オルガノゾルインクであって、
    Figure 2009527076
    前記式でR、R、R、RとRのうち1個はCOO−Agであって残りはそれぞれ水素、アミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基または同じであるか相異なる炭素数1ないし9のアルキル基である溶液性銀オルガノゾルインク。
  9. 前記RはCOO−Agであって残りのR、R、RとRはそれぞれ水素、ヒドロキシ基または炭素数1ないし9のアルキル基である請求項8に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  10. 前記式1の化合物がフタル酸銀である請求項9に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  11. 下記式1cで定義される芳香族カルボン酸銀10〜50重量%;ヒドロキシエチル基で一つ以上置換されたアミンと炭素数1〜16の直鎖または分枝状の脂肪族チオールで構成される群から選択される反応性有機溶媒10〜60重量%;及び極性または非極性有機溶媒残量で構成される導電線パターン形成のための溶液性銀オルガノゾルインクであって、
    Figure 2009527076
    前記式でR、R、R、RとRのうち少なくとも2個はCOO−Agであって残りはそれぞれ水素、アミノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基または同じであるか相異なる炭素数1ないし9のアルキル基である溶液性銀オルガノゾルインク。
  12. 前記RとRはCOO−Agであって残りのR、RとRはそれぞれ水素、ヒドロキシ基または同じであるか相異なる炭素数1ないし9のアルキル基である請求項11に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  13. 前記式1cの化合物がトリメシン酸銀である請求項12に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  14. 前記インクはインクジェットプリンティングによって導電線パターン形成に用いられる請求項1乃至13のいずれか1項に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  15. 芳香族系列カルボン酸銀の量は20〜40重量%である請求項14に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  16. 前記反応性有機溶媒はエタノールアミン、ジエタノールアミンまたはトリエタノールアミンである請求項15に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  17. 前記インクはアミノ、ニトロ及び/またはヒドロキシ基に置換されたり置換されない炭素数1ないし8の飽和または不飽和脂肪酸銀有効量を含む請求項1に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  18. 前記脂肪酸銀は1ないし3個のカルボキシル基を有する請求項17に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  19. 前記インクは脂肪酸銀10〜50重量%;炭素数1ないし6のヒドロキシアルキル基で一つ以上置換されたアミンと炭素数1〜16の直鎖または分枝状の脂肪族チオールで構成される群から選択される反応性有機溶媒10〜60重量%;及び極性または非極性有機溶媒残量で構成される導電線パターン形成のための請求項18に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
  20. 前記脂肪酸銀がクエン酸銀、シュウ酸銀またはギ酸銀である請求項19に記載の溶液性銀オルガノゾルインク。
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