JP2009088508A - 液浸リソグラフィに関する方法および液浸リソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液浸リソグラフィ装置の流体閉じ込めシステムを動作する方法が開示される。液体閉じ込めシステムの性能はいくつかの異なる方法で測定される。性能の測定の結果に基づいて、例えば救済措置をとる必要があることを示す信号が生成される。
【選択図】図7
Description
- 機械時間削減:〜2hから0.5hまで
- 物品のコスト:26基板から2基板まで
- 追加のツールが基板の表面検査に必要とされない。
Claims (28)
- 液浸リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムを動作する方法であって、前記方法は、
前記流体ハンドリングシステムの単層抽出器の出口側における圧力変動を検出することと、
前記検出することが前記流体ハンドリングシステムと基板および/または基板テーブルとの間の流体の収容レベルが特定の閾値より下に落ちたことを示した場合に、信号を生成することと
を含む、方法。 - 前記検出することが、前記流体ハンドリングシステムの流体収容性能の間接測定である、請求項1に記載の方法。
- 前記検出することが、前記単相抽出器の多孔性部材の第1の側から一定のレートで流体を抽出することであって、前記多孔性部材の反対側が液体に覆われている、該抽出することと、前記多孔性部材の前記第1の側における圧力をモニタリングすることとを含む、請求項1に記載の方法。
- 突然の圧力変化が生じる圧力が特定の圧力値と比較され、前記突然の圧力変化が生じる圧力が前記特定の圧力値より小さい場合、前記流体ハンドリングシステムと前記基板との間の前記流体の収容レベルは前記特定の閾値より下に落ちている、請求項1に記載の方法。
- 前記検出することは、前記単相抽出器の多孔性部材の第1の側から流体を抽出すること、および前記第1の側におけるフィルタを介して一定のレートで流体を取り上げること、および一定のレートで除去される前記流体における圧力変動を測定することを含む、請求項4に記載の方法。
- 前記信号に応じて、前記流体ハンドリングシステムの少なくとも一部をクリーニングすることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記信号に応じて、前記流体ハンドリングシステムの少なくとも一部を置き換えることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記信号に応じて、前記液浸リソグラフィ装置の動作パラメータを変更することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記信号に応じて、前記流体ハンドリングシステムの前記収容性能が前記特定の閾値より下に落ちたことを前記液浸リソグラフィ装置のコントローラまたはユーザに注目させる、請求項1に記載の方法。
- 液浸リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムを動作する方法であって、前記方法は、
前記流体ハンドリングシステムの出口および/または入口を通る流体の圧力変動および/または流量変動を検出することと、
前記検出することが前記流体ハンドリングシステムと基板および/または基板テーブルとの間の流体の収容レベルが特定の閾値より下に落ちたことを示す場合に、信号を生成することと
を含む、方法。 - 前記信号に応じて、前記流体ハンドリングシステムの少なくとも一部をクリーニングすることをさらに含む、請求項10に記載の方法。
- 前記信号に応じて、前記流体ハンドリングシステムの少なくとも一部を置き換えることをさらに含む、請求項10に記載の方法。
- 前記信号に応じて、前記液浸リソグラフィ装置の動作パラメータを変更することをさらに含む、請求項10に記載の方法。
- 前記信号に応じて、前記流体ハンドリングシステムの前記収容性能が前記特定の閾値より下に落ちたことを前記液浸リソグラフィ装置のコントローラまたはユーザに注目させる、請求項10に記載の方法。
- 液浸リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムを動作する方法であって、前記方法は、
前記流体ハンドリングシステムと基板および/または基板テーブルとの間の流体の収容レベルを示す前記流体ハンドリングシステムの性能パラメータを測定することと、
前記測定することが特定の閾値より下の性能損失を示す場合に信号を生成することであって、前記信号が、前記流体ハンドリングシステムの収容性能が前記特定の閾値より下に落ちたことを注目させる、該生成することと
を含む、方法。 - 前記測定することが、前記流体ハンドリングシステムの前記流体収容性能の間接測定である、請求項15に記載の方法。
- 前記測定することが、(i)前記流体ハンドリングシステムの熱損失の変動を検出すること、(ii)前記流体ハンドリングシステムの単相抽出器の出口側の圧力変動を検出すること、(iii)前記流体ハンドリングシステムに関連した流量におけるコンタミ粒子を数えること、(iv)前記流体ハンドリングシステムの出口および/または入口を通る流体における圧力変動および/または流量変動を検出すること、(v)前記流体ハンドリングシステムの閉じ込めコンポーネントを越える液体の漏れを検出すること、(vi)所望の位置を維持するために前記流体ハンドリングシステムに加えられた力における変化を検出すること、または(vii)(i)〜(vi)から選択される任意の組み合わせを含む、請求項15に記載の方法。
- 液浸リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムのコンタミを検出する方法であって、前記方法は、(i)前記流体ハンドリングシステムの動作中におけるコンポーネントからの熱損失の変化を検出すること、(ii)前記流体ハンドリングシステムの単相抽出器の出口側の圧力変動を検出すること、(iii)前記流体ハンドリングシステムに関連した流体の流れにおけるコンタミ粒子を数えること、(iv)前記流体ハンドリングシステムの出口および/または入口を通る流体における圧力変動および/または流量変動を検出すること、(v)前記流体ハンドリングシステムの閉じ込めコンポーネントを越える液体の漏れを検出すること、(vi)所望の位置を維持するために前記流体ハンドリングシステムに加えられた力における変化を検出すること、または(vii)(i)〜(vi)から選択される任意の組み合わせを含む、方法。
- リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムのコンタミを検出する方法であって、前記方法は、
第1の側で前記流体ハンドリングシステムの多孔性部材を流体と接触させることと、
前記第1の側と反対である、前記多孔性部材の第2の側から一定のレートで流体を除去することと、
前記一定のレートで除去された流体の圧力をモニタリングすることによってコンタミを検出することと
を含む、方法。 - 液浸リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムのコンタミを検出する方法であって、前記方法は、
投影システムと基板および/または基板テーブルとの間の空間から流体を抽出することと、
前記抽出された流体に存在するコンタミ粒子の数を数えることと、
前記コンタミ粒子の数がいつ特定の閾値を超えるかを決定することと
を含む、方法。 - 流体ハンドリングシステムおよびコントローラを含み、前記コントローラは、前記流体ハンドリングシステムの性能パラメータを測定し、かつ前記測定が特定の閾値より下の性能損失を示した場合に前記流体ハンドリングシステムの性能が特定の閾値より下に落ちたことが注目されるように構成されている、液浸リソグラフィ装置。
- 液浸リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムを動作する方法であって、前記方法は、
前記流体ハンドリングシステムに関連した流量におけるコンタミ粒子を数えることと、
粒子の数が特定の閾値を超えた場合に信号を生成することであって、前記特定の閾値は前記流体ハンドリングシステムと基板および/または基板テーブルとの間の流体の収容レベルにおける減少を示す、該生成することと
を含む、方法。 - 液浸リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムを動作する方法であって、前記方法は、
前記流体ハンドリングシステムの熱損失の変動を検出することと、
前記検出することが前記流体ハンドリングシステムと基板および/または基板テーブルとの間の流体の収容レベルが特定の閾値より下に落ちたことを示した場合に、信号を生成することと
を含む、方法。 - 液浸リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムを動作する方法であって、前記方法は、
前記流体ハンドリングシステムの閉じ込めコンポーネントを越える液体の漏れを検出することと、
前記検出することが前記流体ハンドリングシステムと基板および/または基板テーブルとの間の流体の収容レベルが特定の閾値より下に落ちたことを示した場合に、信号を生成することと
を含む、方法。 - 液浸リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムを動作する方法であって、前記方法は、
所望の位置を維持するために前記流体ハンドリングシステムに加えられた力における変化を検出することと、
前記検出することが前記流体ハンドリングシステムと基板および/または基板テーブルとの間の流体の収容レベルが特定の閾値より下に落ちたことを示した場合に、信号を生成することと
を含む、方法。 - リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムからの残留液を検出する方法であって、前記方法は、
前記流体ハンドリングシステムを使用して表面に液体を与えることと、
前記流体ハンドリングシステムに対して前記表面を動かすことであって、動かした後に残留液が前記表面上に残る、該動かすことと、
前記表面に放射ビームを誘導することであって、前記ビームの少なくとも一部が前記残留液によって散乱する、該誘導することと、
前記散乱した放射を測定すること、または前記散乱による放射の損失を検出することによって前記残留液の存在を決定することと
を含む、方法。 - 流体ハンドリングシステムと、
表面に放射ビームを誘導する光センサであって、前記表面上の前記流体ハンドリングシステムからの残留液によって少なくとも一部のビームが散乱する、光センサと、
前記散乱した放射を測定すること、または前記散乱による放射の損失を検出することによって前記残留液の存在を決定するコントローラと
を含む、液浸リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置の流体ハンドリングシステムからの残留液を検出する方法であって、前記方法は、
表面の第1の高さプロファイルを決定することと、
前記流体ハンドリングシステムを使用して前記表面に液体を与えることと、
前記流体ハンドリングシステムに対して前記表面を動かすことであって、前記動かした後に残留液が前記表面上に残る、該動かすことと、
前記表面の第2の高さプロファイルおよび前記表面上に残る前記残留液を決定することと、
前記第1のおよび第2の高さプロファイルを比較することによって前記残留液の存在を決定することと
を含む、方法。
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