JP2009032889A - 基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理装置 - Google Patents
基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】洗浄処理ユニットSD1は、基板Wを水平に保持するとともに、基板Wの中心を通る鉛直軸の周りで基板Wを回転させるためのスピンチャック521を備える。スピンチャック521の外方には、ベベル洗浄部530が配置されている。ベベル洗浄部530は洗浄ブラシ531を備える。洗浄ブラシ531は鉛直軸に関して回転対称な形状を有し、上ベベル洗浄面531a、端面洗浄面531bおよび下ベベル洗浄面531cを有する。端面洗浄面531bは鉛直方向を軸心とする円筒面である。上ベベル洗浄面531aは端面洗浄面531bの上端から外側上方に傾斜して延び、下ベベル洗浄面531cは端面洗浄面531bの下端から外側下方に傾斜して延びる。
【選択図】図5
Description
図1は、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。なお、図1ならびに後述する図2〜図4には、位置関係を明確にするために互いに直交するX方向、Y方向およびZ方向を示す矢印を付している。X方向およびY方向は水平面内で互いに直交し、Z方向は鉛直方向に相当する。なお、各方向において矢印が向かう方向を+方向、その反対の方向を−方向とする。また、Z方向を中心とする回転方向をθ方向としている。
次に、本実施の形態に係る基板処理装置500の動作について図1〜図4を参照しながら説明する。
まず、インデクサブロック9〜レジストカバー膜除去ブロック14の動作について簡単に説明する。
次に、インターフェースブロック15の動作について詳細に説明する。
次に、洗浄処理ユニットSD1の詳細について説明する。図5は、洗浄処理ユニットSD1の構成を説明するための図である。図5に示すように、洗浄処理ユニットSD1は、基板Wを水平に保持するとともに、基板Wの中心を通る鉛直軸の周りで基板Wを回転させるためのスピンチャック521を備える。
図9は、洗浄ブラシ531の他の設置例を示す図である。図9の洗浄処理ユニットSD1においては、洗浄ブラシ531が鉛直軸に対して傾斜するように設けられている。洗浄ブラシ531の傾斜角は、下ベベル洗浄面531cが水平面に平行になるように設定される。
図11は、ベベル洗浄部530の他の例を示す図である。図11のベベル洗浄部530が図6に示したベベル洗浄部530と異なる点は、洗浄ブラシ531の代わりに洗浄ブラシ540を備える点である。
図12は、ベベル洗浄部530のさらに他の例を示す図である。図12のベベル洗浄部530においては、保持部材533の下面に、裏面洗浄ブラシ545が取り付けられている。
ベベル洗浄部530の代わりに、図13に示すベベル洗浄部560,570を用いてもよい。図13は、ベベル洗浄部560,570を備えた洗浄処理ユニットSD1を示す図である。
(4−1)基板のベベル部の洗浄による効果
上記実施の形態では、露光装置16において基板Wの露光処理が行われる前に、洗浄処理ユニットSD1において露光処理前の基板Wのベベル部Rが洗浄される。それにより、基板Wのベベル部Rの汚染に起因する露光装置内の汚染を防止することができ、露光パターンの寸法不良および形状不良の発生を防止することができる。
露光装置16において基板Wの露光処理が行われる前に、洗浄処理ユニットSD1において露光処理前の基板Wの表面が洗浄される。この洗浄処理時に、基板W上のレジストカバー膜の成分の一部が洗浄液中に溶出し、洗い流される。そのため、露光装置16において基板Wが液体と接触しても、基板W上のレジストカバー膜の成分は液体中にほとんど溶出しない。また、露光処理前の基板Wに付着した塵埃等を取り除くことができる。これらの結果、露光装置16内の汚染が防止される。
インターフェースブロック15の乾燥処理ユニットSD2において、露光処理後の基板Wの乾燥処理が行われる。それにより、露光処理時に基板Wに付着した液体が、基板処理装置500内に落下することが防止される。
露光装置16において基板Wに露光処理が行われる前に、レジストカバー膜用処理ブロック13において、レジスト膜上にレジストカバー膜が形成される。この場合、露光装置16において基板Wが液体と接触しても、レジストカバー膜によってレジスト膜が液体と接触することが防止されるので、レジストの成分が液体中に溶出することが防止される。
現像処理ブロック12において基板Wに現像処理が行われる前に、レジストカバー膜除去ブロック14において、レジストカバー膜の除去処理が行われる。この場合、現像処理前にレジストカバー膜が確実に除去されるので、現像処理を確実に行うことができる。
インターフェースブロック15においては、載置兼冷却ユニットP−CPから露光装置16に基板Wを搬送する際、乾燥処理ユニットSD2から基板載置部PASS13へ基板Wを搬送する際には、インターフェース用搬送機構IFRのハンドH1が用いられ、露光装置16から乾燥処理ユニットSD2へ基板を搬送する際には、インターフェース用搬送機構IFRのハンドH2が用いられる。
インターフェースブロック15において、露光装置16による露光処理前の基板Wを載置する機能と、基板Wの温度を露光装置16内の温度に合わせるための冷却機能とを兼ね備えた載置兼冷却ユニットP−CPを設けることにより、搬送工程を削減することができる。基板の厳密な温度管理が要求される液浸法による露光処理を行う上では、搬送工程を削減することは重要となる。
上記実施の形態では、洗浄処理ユニットSD1において、洗浄液として純水を用いるが、純水の代わりに界面活性剤、溶剤またはIPA(イソプロピルアルコール)等のアルコール薬液を用いてもよい。この場合、化学的洗浄によってより高い洗浄効果を得ることができる。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
10 反射防止膜用処理ブロック
11 レジスト膜用処理ブロック
12 現像処理ブロック
13 レジストカバー膜用処理ブロック
14 レジストカバー膜除去ブロック
15 インターフェースブロック
500 基板処理装置
521 スピンチャック
522 チャック回転駆動機構
530,560,570 ベベル洗浄部
531,540,561 洗浄ブラシ
531a,561a 上ベベル洗浄面
531b,561b,571b 端面洗浄面
531c,571c 下ベベル洗浄面
541a 下面洗浄面
534 ブラシ回転駆動機構
545 裏面洗浄ブラシ
SD1 洗浄処理ユニット
SD2 乾燥処理ユニット
W 基板
Claims (14)
- 露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、
基板に処理を行うための処理部と、
前記処理部の一端部に隣接するように設けられ、前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、
前記処理部および前記受け渡し部の少なくとも一方は、露光処理前の基板を洗浄する基板洗浄装置を備え、
前記基板洗浄装置は、
基板を保持しつつ回転させる基板回転保持手段と、
前記基板回転保持手段に保持された基板の端部に接触可能に設けられた端部洗浄ブラシと、
前記基板回転保持手段に保持された基板の表面に略垂直な方向の回転軸の周りで前記端部洗浄ブラシを回転させるブラシ回転手段とを含み、
前記端部洗浄ブラシは、
前記基板回転保持手段により保持される基板の一面側のベベル領域に接触可能なテーパ状の第1の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の端面領域に接触可能な円柱状の第2の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の他面側のベベル領域に接触可能なテーパ状の第3の洗浄面とを有し、
前記第1、第2および第3の洗浄面は前記回転軸を中心として一体的に設けられることを特徴とする基板処理装置。 - 前記端部洗浄ブラシは、前記基板回転保持手段により保持される基板の前記他面の周縁部に接触可能な円環平面状の第4の洗浄面をさらに有し、
前記第4の洗浄面は、前記回転軸を中心として前記第1、第2および第3の洗浄面に一体的に設けられることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記処理部および前記受け渡し部の少なくとも一方は、基板の前記一面と前記他面とを反転させる反転装置を含み、
前記基板洗浄装置は、
前記端部洗浄ブラシと一体的に設けられ、前記反転装置による反転後に前記基板回転保持手段に保持された基板の前記他面に接触可能な面洗浄ブラシをさらに含むことを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。 - 露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、
基板に処理を行うための処理部と、
前記処理部の一端部に隣接するように設けられ、前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、
前記処理部および前記受け渡し部の少なくとも一方は、露光処理前の基板を洗浄する基板洗浄装置を備え、
前記基板洗浄装置は、
基板を保持しつつ回転させる基板回転保持手段と、
前記基板回転保持手段に保持された基板の端部に接触可能に設けられた端部洗浄ブラシと、
前記基板回転保持手段に保持された基板の表面に対して傾斜する方向の回転軸の周りで前記端部洗浄ブラシを回転させるブラシ回転手段とを含み、
前記端部洗浄ブラシは、
前記基板回転保持手段により保持される基板の端面領域に接触可能なテーパ状の第1の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の一面側のベベル領域に接触可能な円柱状の第2の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の一面の周縁部に接触可能なテーパ状の第3の洗浄面とを有し、
前記第1、第2および第3の洗浄面は前記回転軸を中心として一体的に設けられることを特徴とする基板処理装置。 - 露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、
基板に処理を行うための処理部と、
前記処理部の一端部に隣接するように設けられ、前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、
前記処理部および前記受け渡し部の少なくとも一方は、露光処理前の基板を洗浄する基板洗浄装置を備え、
前記基板洗浄装置は、
基板を保持しつつ回転させる基板回転保持手段と、
前記基板回転保持手段に保持された基板の端部に接触可能に設けられた第1および第2の洗浄ブラシと、
前記基板回転保持手段に保持された基板の表面に略垂直な方向の回転軸の周りで前記第1および第2の洗浄ブラシをそれぞれ回転させる第1および第2のブラシ回転手段とを含み、
前記第1の洗浄ブラシは、前記基板回転保持手段により保持される基板の一面側のベベル領域に接触可能なテーパ状の第1の洗浄面を有し、
前記第2の洗浄ブラシは、前記基板回転保持手段により保持される基板の他面側のベベル領域に接触可能なテーパ状の第2の洗浄面を有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記第1および第2の洗浄ブラシの少なくとも一方は、前記基板回転保持手段により保持される基板の端面領域に接触可能な円柱状の第3の洗浄面をさらに有し、
前記第3の洗浄面は、前記回転軸を中心として前記第1または第2の洗浄面に一体的に設けられることを特徴とする請求項5記載の基板処理装置。 - 前記基板洗浄装置は、
前記基板回転保持手段により保持される基板の一面に洗浄液を供給する第1の洗浄液供給手段をさらに含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記基板洗浄装置は、
前記基板回転保持手段により保持される基板の他面に洗浄液を供給する第2の洗浄液供給手段をさらに含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の基板処理装置。 - 基板を保持しつつ回転させる基板回転保持手段と、
前記基板回転保持手段に保持された基板の端部に接触可能に設けられた洗浄ブラシと、
前記基板回転保持手段に保持された基板の表面に略垂直な方向の回転軸の周りで前記洗浄ブラシを回転させるブラシ回転手段とを含み、
前記洗浄ブラシは、
前記基板回転保持手段により保持される基板の一面側のベベル領域に接触可能なテーパ状の第1の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の端面領域に接触可能な円柱状の第2の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の他面側のベベル領域に接触可能なテーパ状の第3の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の前記他面の周縁部に接触可能な円環平面状の第4の洗浄面とを有し、
前記第1、第2、第3および第4の洗浄面は前記回転軸を中心として一体的に設けられることを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板を保持しつつ回転させる基板回転保持手段と、
前記基板回転保持手段に保持された基板の端部に接触可能に設けられた端部洗浄ブラシと、
前記端部洗浄ブラシと一体的に設けられ、前記基板回転保持手段に保持された基板の一面に接触可能な面洗浄ブラシとを含み、
前記基板回転保持手段に保持された基板の表面に略垂直な方向の回転軸の周りで前記端部洗浄ブラシを回転させるブラシ回転手段とを含み、
前記端部洗浄ブラシは、
前記基板回転保持手段により保持される基板の一面側のベベル領域に接触可能なテーパ状の第1の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の端面領域に接触可能な円柱状の第2の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の他面側のベベル領域に接触可能なテーパ状の第3の洗浄面とを有し、
前記第1、第2および第3の洗浄面は前記回転軸を中心として一体的に設けられることを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板を保持しつつ回転させる基板回転保持手段と、
前記基板回転保持手段に保持された基板の端部に接触可能に設けられた端部洗浄ブラシと、
前記基板回転保持手段に保持された基板の表面に対して傾斜する方向の回転軸の周りで前記端部洗浄ブラシを回転させるブラシ回転手段とを含み、
前記端部洗浄ブラシは、
前記基板回転保持手段により保持される基板の端面領域に接触可能なテーパ状の第1の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の一面側のベベル領域に接触可能な円柱状の第2の洗浄面と、
前記基板回転保持手段により保持される基板の一面の周縁部に接触可能なテーパ状の第3の洗浄面とを有し、
前記第1、第2および第3の洗浄面は前記回転軸を中心として一体的に設けられることを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板を保持しつつ回転させる基板回転保持手段と、
前記基板回転保持手段に保持された基板の端部に接触可能に設けられた第1および第2の洗浄ブラシと、
前記基板回転保持手段に保持された基板の表面に略垂直な方向の回転軸の周りで前記第1および第2の洗浄ブラシをそれぞれ回転させる第1および第2のブラシ回転手段とを含み、
前記第1の洗浄ブラシは、前記基板回転保持手段により保持される基板の一面側のベベル領域に接触可能なテーパ状の第1の洗浄面を有し、
前記第2の洗浄ブラシは、前記基板回転保持手段により保持される基板の他面側のベベル領域に接触可能なテーパ状の第2の洗浄面を有し、
前記第1および第2の洗浄ブラシの少なくとも一方は、前記基板回転保持手段により保持される基板の端面領域に接触可能な円柱状の第3の洗浄面をさらに有し、
前記第3の洗浄面は、前記回転軸を中心として前記第1または第2の洗浄面に一体的に設けられることを特徴とすることを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記基板回転保持手段により保持される基板の一面に洗浄液を供給する第1の洗浄液供給手段をさらに備えることを特徴とする請求項9〜12のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 前記基板回転保持手段により保持される基板の他面に洗浄液を供給する第2の洗浄液供給手段をさらに含むことを特徴とする請求項9〜13のいずれかに記載の基板洗浄装置。
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