JP2008532315A - バッフル・ウェーハおよびそのために使用されるランダム配向した多結晶シリコン - Google Patents
バッフル・ウェーハおよびそのために使用されるランダム配向した多結晶シリコン Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008532315A JP2008532315A JP2007558048A JP2007558048A JP2008532315A JP 2008532315 A JP2008532315 A JP 2008532315A JP 2007558048 A JP2007558048 A JP 2007558048A JP 2007558048 A JP2007558048 A JP 2007558048A JP 2008532315 A JP2008532315 A JP 2008532315A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- silicon
- polysilicon
- baffle
- tower
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 96
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 68
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 68
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 68
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims abstract description 63
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 42
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 18
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 196
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 17
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 14
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 2
- 239000012686 silicon precursor Substances 0.000 claims 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 3
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 2
- 241000269858 Anarhichas lupus Species 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282461 Canis lupus Species 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000002595 Solanum tuberosum Nutrition 0.000 description 1
- 244000061456 Solanum tuberosum Species 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
- C30B33/02—Heat treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
【選択図】 図5
Description
本出願は2005年3月3日に出願された仮出願第60/658,075号および、2005年6月27日に出願された仮出願第60/694,334号の利益を主張する。
典型的な使用においては、本発明のバッフル・ウェーハは搭上に単結晶シリコン生産ウェーハと一緒に置かれ、炉または他の熱処理装置で同時に処理される。
多結晶インゴットからのバッファおよびダミー・ウェーハの製造は、単結晶インゴットから単結晶の生産ウェーハを製作するために使用されるプロセスに部分的に従う。そのインゴットの直径はウェーハより少し大きい必要がある。先進の商用生産は200mmから300mmに徐々に移行しつつある。ただし、標準のウェーハのサイズは75mm、100mm、125mm、および150mmで継続する。次世代のウェーハは直径が450mmになると期待されている。
ポリシリコンのバッフル・ウェーハはシリコン塔と組み合わせて有利に使用されるが、それらは石英および炭化珪素などの他の材料の塔およびボートにおいて使用するのに有利である。
Claims (28)
- マルチウェーハ支持具の非生産スロットを埋めるのに使用するためのバッフル・ウェーハであって、ポリシリコンを含み、直径がシリコン生産ウェーハの直径にほぼ等しいウェーハを含むことを特徴とするバッフル・ウェーハ。
- 前記ポリシリコンがほぼランダムに配向した結晶性を有することを特徴とする、請求項1に記載のバッフル・ウェーハ。
- 前記直径が200mmおよび300mmから選定されることを特徴とする、請求項2に記載のバッフル・ウェーハ。
- 前記ポリシリコンがチョクラルスキー(CZ)ポリシリコンであることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載のバッフル・ウェーハ。
- 前記ポリシリコンがCVDソースのCZポリシリコンであることを特徴とする、請求項4に記載のバッフル・ウェーハ。
- ほぼランダムに配向したポリシリコンから本質的に構成される基板。
- 円形であることを特徴とする、請求項6に記載の基板。
- 直径が200mmおよび300mmから選定されることを特徴とする、請求項7に記載の基板。
- 前記ポリシリコンがチョクラルスキー(CZ)ポリシリコンであることを特徴とする、請求項6乃至8のいずれかに記載の基板。
- 前記ポリシリコンがCVDソースのCZポリシリコンであることを特徴とする、請求項9に記載の基板。
- ポリシリコンを成長させる方法であって、ほぼランダムに配向した多結晶シリコン種をシリコン融液に適用し、そのため前記シリコン融液の部分が前記種上で凝縮される工程と、前記種および付着して凝縮されたシリコン融液を前記融液から引き上げて取り去る工程とを含むことを特徴とする方法。
- 前記種がバージン・ポリシリコンを含むことを特徴とする、請求項11に記載の方法。
- 化学蒸着によって前記種を成長させる工程をさらに含むことを特徴とする、請求項11に記載の方法。
- 前記ランダム配向した多結晶シリコン種がCVDソースの多結晶シリコン種を含むことを特徴とする、請求項11に記載の方法。
- 前記種が後継種であって、ほぼランダムに配向した多結晶シリコン先行種をシリコン融液に適用し、前記シリコン融液の部分を前記先行種上で凝縮させる工程と、前記先行種および付着して凝縮したシリコン融液を前記融液から引き上げて取り去り、インゴットを形成する工程と、前記後継種を前記インゴットから切断する工程とをさらに含むことを特徴とする、請求項11に記載の方法。
- サイズ分布が主として1mm以下であるランダム配向した多結晶シリコンを含む構造部材として使用できるポリシリコン材料。
- 前記ランダム配向した多結晶シリコンが、サイズ分布が主として10mm以下であるCVDソース種で成長させたCZポリシリコンに適合する結晶サイズおよび形状のチョクラルスキー(CZ)ポリシリコンを含むことを特徴とする、請求項16に記載の材料。
- シリコン・ウェーハを熱処理する方法であって、最初のサイクルにおいて実行される、支持塔の第1のスロット内に、実質的に単結晶シリコンを含む少なくとも1つの生産ウェーハを配置する工程と、前記支持塔の第2のスロット内に、多結晶シリコンを含む少なくとも1つのバッフル・ウェーハを配置する工程と、前記支持具および支持された生産ウェーハおよびバッフル・ウェーハを加熱して前記少なくとも1つの生産ウェーハを熱処理する工程とを含むことを特徴とする方法。
- 前記少なくとも1つのバッフル・ウェーハが実質的にアンドープポリシリコンを含み、前記第2のスロットによって前記支持塔の端部に向かって前記第1のスロットから離れたスロット内に熱的バッファ用ウェーハを配置する工程をさらに含み、前記熱的バッファ用ウェーハはアンドープポリシリコン以外の材料を含むことを特徴とする、請求項18に記載の方法。
- 前記熱的バッファ用ウェーハの材料が石英またはSiCを含むことを特徴とする、請求項19に記載の方法。
- 前記熱的バッファ用ウェーハの材料がドープポリシリコンを含むことを特徴とする、請求項18に記載の方法。
- 前記支持塔がシリコン塔であり、前記シリコン塔および炉内でその上に支持されている生産ウェーハおよびバッフル・ウェーハを、前記支持塔の側面を囲んでいるシリコン・ライナを含む炉内に配置する工程と、前記塔上に支持されている前記生産ウェーハおよびバッフル・ウェーハを高温に加熱する工程と、前記塔と前記ライナとの間に配置された出口を有する少なくとも1つのシリコン・インジェクタを通して処理ガスを流し、前記ライナ内で前記炉のホットゾーン内の生産ウェーハと反応させる工程とをさらに含むことを特徴とする、請求項18に記載の方法。
- 前記塔、ライナ、前記少なくとも1つのインジェクタ、および前記ホットゾーン内のバッフル・ウェーハが実質的にシリコン以外の材料を含まないことを特徴とする、請求項22に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのバッフル・ウェーハがランダム配向した多結晶シリコンを含むことを特徴とする、請求項22に記載の方法。
- 後続の第2のサイクルにおいて実行される工程であって、前記支持塔の第1のスロット内に少なくとも1つの他の生産ウェーハおよび前記少なくとも1つのバッフル・ウェーハを配置し、前記少なくとも1つの他の生産ウェーハが実質的に単結晶シリコンを含む工程と、前記支持塔およびその上に支持されているウェーハを前記第2のサイクルにおいて加熱し、前記少なくとも1つの他の生産ウェーハを熱処理する工程とをさらに含むことを特徴とする、請求項22に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのバッフル・ウェーハがチョクラルスキー(CZ)ポリシリコンを含むことを特徴とする、請求項18乃至25のいずれかに記載の方法。
- 前記少なくとも1つのバッフル・ウェーハがCVDソースのCZポリシリコンを含むことを特徴とする、請求項26に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのバッフル・ウェーハがランダム配向した多結晶シリコンを含むことを特徴とする、請求項18乃至25のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US65807505P | 2005-03-03 | 2005-03-03 | |
US69433405P | 2005-06-27 | 2005-06-27 | |
US11/328,438 US7972703B2 (en) | 2005-03-03 | 2006-01-09 | Baffle wafers and randomly oriented polycrystalline silicon used therefor |
PCT/US2006/005715 WO2006107425A2 (en) | 2005-03-03 | 2006-02-17 | Baffle wafers and randomly oriented polycrystallin silicon used therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008532315A true JP2008532315A (ja) | 2008-08-14 |
Family
ID=37010926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007558048A Pending JP2008532315A (ja) | 2005-03-03 | 2006-02-17 | バッフル・ウェーハおよびそのために使用されるランダム配向した多結晶シリコン |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US7972703B2 (ja) |
JP (1) | JP2008532315A (ja) |
KR (1) | KR20070107752A (ja) |
CN (1) | CN101167163B (ja) |
TW (1) | TWI391540B (ja) |
WO (1) | WO2006107425A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9328429B2 (en) | 2012-04-04 | 2016-05-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for evaluating degree of crystal orientation in polycrystalline silicon, selection method for polycrystalline silicon rods, and production method for single crystal silicon |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6797558B2 (en) * | 2001-04-24 | 2004-09-28 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming a capacitor with substantially selective deposite of polysilicon on a substantially crystalline capacitor dielectric layer |
US7972703B2 (en) * | 2005-03-03 | 2011-07-05 | Ferrotec (Usa) Corporation | Baffle wafers and randomly oriented polycrystalline silicon used therefor |
US7789331B2 (en) * | 2006-09-06 | 2010-09-07 | Integrated Photovoltaics, Inc. | Jet mill producing fine silicon powder |
US20080220558A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-11 | Integrated Photovoltaics, Inc. | Plasma spraying for semiconductor grade silicon |
US20080318343A1 (en) * | 2007-06-25 | 2008-12-25 | Krishna Vepa | Wafer reclaim method based on wafer type |
US7727782B2 (en) * | 2007-06-25 | 2010-06-01 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for improving incoming and outgoing wafer inspection productivity in a wafer reclaim factory |
JP2009038220A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ダミーウェハ |
US7775856B2 (en) * | 2007-09-27 | 2010-08-17 | Applied Materials, Inc. | Method for removal of surface films from reclaim substrates |
SG188933A1 (en) * | 2008-12-30 | 2013-04-30 | Memc Singapore Pte Ltd | Methods and pulling assemblies for pulling a multicrystalline silicon ingot from a silicon melt |
US8253058B2 (en) * | 2009-03-19 | 2012-08-28 | Integrated Photovoltaics, Incorporated | Hybrid nozzle for plasma spraying silicon |
US20110232568A1 (en) * | 2009-09-25 | 2011-09-29 | Ferrotec (Usa) Corporation | Hybrid gas injector |
US20120260845A1 (en) * | 2011-04-14 | 2012-10-18 | Rec Silicon Inc | Polysilicon system |
WO2012164803A1 (ja) * | 2011-06-02 | 2012-12-06 | 信越化学工業株式会社 | 多結晶シリコン棒の選択方法および単結晶シリコンの製造方法 |
JP5955246B2 (ja) | 2013-02-26 | 2016-07-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US9209046B2 (en) * | 2013-10-02 | 2015-12-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
TWI791486B (zh) * | 2017-02-20 | 2023-02-11 | 日商德山股份有限公司 | 多晶矽的製造方法 |
JP7199888B2 (ja) | 2018-09-20 | 2023-01-06 | 株式会社Screenホールディングス | 熱処理方法および熱処理装置 |
JP7380872B2 (ja) * | 2020-06-04 | 2023-11-15 | 株式会社Sumco | 横型熱処理炉を用いたシリコンウェーハの熱処理方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06163438A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-10 | Meidensha Corp | 半導体素子の製造方法 |
JPH10144580A (ja) * | 1996-11-11 | 1998-05-29 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 半導体熱処理用ダミーウエハ及びその再生方法 |
JP2002217433A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-08-02 | Sharp Corp | 半導体装置 |
JP2002542621A (ja) * | 1999-04-15 | 2002-12-10 | インテグレイティッド マテリアルズ インク | ウェーハ処理用シリコン固定具およびその製造方法 |
JP2003286024A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-07 | Mitsubishi Materials Corp | 一方向凝固シリコンインゴット及びこの製造方法並びにシリコン板及び太陽電池用基板及びスパッタリング用ターゲット素材 |
WO2004094548A2 (en) * | 2003-04-23 | 2004-11-04 | Integrated Materials, Inc. | Adhesive of a silicon and silica composite particularly useful for joining silicon parts |
US20040266158A1 (en) * | 2003-06-24 | 2004-12-30 | Boyle James E. | Plasma spraying for joining silicon parts |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3494745A (en) | 1967-04-06 | 1970-02-10 | Corning Glass Works | Method of growing single crystal in a horizontally disposed rod |
US4040849A (en) * | 1976-01-06 | 1977-08-09 | General Electric Company | Polycrystalline silicon articles by sintering |
US4416913A (en) * | 1982-09-28 | 1983-11-22 | Motorola, Inc. | Ascending differential silicon harvesting means and method |
CN1004592B (zh) * | 1987-06-23 | 1989-06-21 | 长沙半导体材料厂 | 一种半导体硅元件的芯片支承体 |
US6084175A (en) * | 1993-05-20 | 2000-07-04 | Amoco/Enron Solar | Front contact trenches for polycrystalline photovoltaic devices and semi-conductor devices with buried contacts |
US5865896A (en) | 1993-08-27 | 1999-02-02 | Applied Materials, Inc. | High density plasma CVD reactor with combined inductive and capacitive coupling |
US5786027A (en) | 1996-02-14 | 1998-07-28 | Micron Technology, Inc. | Method for depositing polysilicon with discontinuous grain boundaries |
US5931666A (en) * | 1998-02-27 | 1999-08-03 | Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. | Slip free vertical rack design having rounded horizontal arms |
JP4232307B2 (ja) * | 1999-03-23 | 2009-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | バッチ式熱処理装置の運用方法 |
US6693331B2 (en) * | 1999-11-18 | 2004-02-17 | Intel Corporation | Method of fabricating dual threshold voltage n-channel and p-channel MOSFETS with a single extra masked implant operation |
US6455395B1 (en) | 2000-06-30 | 2002-09-24 | Integrated Materials, Inc. | Method of fabricating silicon structures including fixtures for supporting wafers |
KR20020026670A (ko) * | 2000-10-02 | 2002-04-12 | 윤종용 | 일괄 식각 장치에서 더미 웨이퍼를 사용한 금속배선 형성방법 |
US7108746B2 (en) | 2001-05-18 | 2006-09-19 | Integrated Materials, Inc. | Silicon fixture with roughened surface supporting wafers in chemical vapor deposition |
US20030045098A1 (en) | 2001-08-31 | 2003-03-06 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for processing a wafer |
AU2003211024A1 (en) | 2002-02-14 | 2003-09-04 | Advanced Silicon Materials Llc | Energy efficient method for growing polycrystalline silicon |
US6780787B2 (en) | 2002-03-21 | 2004-08-24 | Lam Research Corporation | Low contamination components for semiconductor processing apparatus and methods for making components |
JP2003347229A (ja) | 2002-05-31 | 2003-12-05 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
US20060185589A1 (en) | 2005-02-23 | 2006-08-24 | Raanan Zehavi | Silicon gas injector and method of making |
US7972703B2 (en) * | 2005-03-03 | 2011-07-05 | Ferrotec (Usa) Corporation | Baffle wafers and randomly oriented polycrystalline silicon used therefor |
-
2006
- 2006-01-09 US US11/328,438 patent/US7972703B2/en active Active
- 2006-02-17 KR KR1020077020369A patent/KR20070107752A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-02-17 WO PCT/US2006/005715 patent/WO2006107425A2/en active Application Filing
- 2006-02-17 CN CN2006800070008A patent/CN101167163B/zh active Active
- 2006-02-17 JP JP2007558048A patent/JP2008532315A/ja active Pending
- 2006-02-20 TW TW095105670A patent/TWI391540B/zh active
-
2007
- 2007-12-18 US US11/959,354 patent/US7611989B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-09-18 US US12/562,929 patent/US8486835B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06163438A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-10 | Meidensha Corp | 半導体素子の製造方法 |
JPH10144580A (ja) * | 1996-11-11 | 1998-05-29 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 半導体熱処理用ダミーウエハ及びその再生方法 |
JP2002542621A (ja) * | 1999-04-15 | 2002-12-10 | インテグレイティッド マテリアルズ インク | ウェーハ処理用シリコン固定具およびその製造方法 |
JP2002217433A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-08-02 | Sharp Corp | 半導体装置 |
JP2003286024A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-07 | Mitsubishi Materials Corp | 一方向凝固シリコンインゴット及びこの製造方法並びにシリコン板及び太陽電池用基板及びスパッタリング用ターゲット素材 |
WO2004094548A2 (en) * | 2003-04-23 | 2004-11-04 | Integrated Materials, Inc. | Adhesive of a silicon and silica composite particularly useful for joining silicon parts |
US20040266158A1 (en) * | 2003-06-24 | 2004-12-30 | Boyle James E. | Plasma spraying for joining silicon parts |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9328429B2 (en) | 2012-04-04 | 2016-05-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for evaluating degree of crystal orientation in polycrystalline silicon, selection method for polycrystalline silicon rods, and production method for single crystal silicon |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7972703B2 (en) | 2011-07-05 |
US20060211218A1 (en) | 2006-09-21 |
WO2006107425A3 (en) | 2008-01-03 |
TWI391540B (zh) | 2013-04-01 |
CN101167163A (zh) | 2008-04-23 |
US7611989B2 (en) | 2009-11-03 |
TW200632151A (en) | 2006-09-16 |
US20100009123A1 (en) | 2010-01-14 |
WO2006107425A2 (en) | 2006-10-12 |
US20080152805A1 (en) | 2008-06-26 |
CN101167163B (zh) | 2013-07-10 |
KR20070107752A (ko) | 2007-11-07 |
US8486835B2 (en) | 2013-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7972703B2 (en) | Baffle wafers and randomly oriented polycrystalline silicon used therefor | |
US7851330B2 (en) | Methods for fabricating compound material wafers | |
US7713355B2 (en) | Silicon shelf towers | |
JP4853237B2 (ja) | エピタキシャルウェーハの製造方法 | |
US6727191B2 (en) | High temperature hydrogen anneal of silicon wafers supported on a silicon fixture | |
KR100637915B1 (ko) | 실리콘 전극판 | |
JPH03295235A (ja) | エピタキシャルウェーハの製造方法 | |
CN207362367U (zh) | 外延涂覆的硅晶片 | |
JP5590644B2 (ja) | シリコンウェーハの熱処理方法 | |
JPWO2009060914A1 (ja) | エピタキシャルウェーハ | |
JP2007073594A (ja) | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 | |
JP7255473B2 (ja) | 炭化ケイ素多結晶基板の製造方法 | |
JP2017208571A (ja) | シリコン部材及びシリコン部材の製造方法 | |
WO2008079221A1 (en) | Polysilicon dummy wafers and process used therewith | |
JPH09266212A (ja) | シリコンウエーハおよびその製造方法 | |
JPH05326467A (ja) | 半導体基板及びその製造方法 | |
JP2002231634A (ja) | シリコンエピタキシャルウェーハ及びシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 | |
JP2009182009A (ja) | 気相成長装置および気相成長方法 | |
JP3205488B2 (ja) | 熱処理用治具 | |
JP2004221435A (ja) | 半導体ウエーハの製造方法及び半導体ウエーハ | |
Stallhofer | Silicon Wafers as a Foundation for Growth | |
KR20100024112A (ko) | 웨이퍼 제조 방법 및 그를 이용하여 제조된 웨이퍼 | |
JP2009167052A (ja) | 単結晶シリコン粒子の製造方法 | |
JP2004363182A (ja) | 貼り合わせ誘電体分離ウェーハおよびその製造方法 | |
JP2020050551A (ja) | 炭化珪素多結晶基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090210 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20120608 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120611 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120719 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120731 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121204 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130723 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140401 |