JP2008187178A - 半導体素子及びその製造方法 - Google Patents
半導体素子及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008187178A JP2008187178A JP2008015499A JP2008015499A JP2008187178A JP 2008187178 A JP2008187178 A JP 2008187178A JP 2008015499 A JP2008015499 A JP 2008015499A JP 2008015499 A JP2008015499 A JP 2008015499A JP 2008187178 A JP2008187178 A JP 2008187178A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- active regions
- semiconductor device
- insulating layer
- insulating layers
- bit line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 86
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 75
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 203
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 23
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 15
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B12/00—Dynamic random access memory [DRAM] devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B12/00—Dynamic random access memory [DRAM] devices
- H10B12/30—DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells
- H10B12/31—DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells having a storage electrode stacked over the transistor
- H10B12/315—DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells having a storage electrode stacked over the transistor with the capacitor higher than a bit line
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/28—Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/268
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B12/00—Dynamic random access memory [DRAM] devices
- H10B12/01—Manufacture or treatment
- H10B12/02—Manufacture or treatment for one transistor one-capacitor [1T-1C] memory cells
- H10B12/05—Making the transistor
- H10B12/053—Making the transistor the transistor being at least partially in a trench in the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B12/00—Dynamic random access memory [DRAM] devices
- H10B12/30—DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells
- H10B12/34—DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells the transistor being at least partially in a trench in the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B12/00—Dynamic random access memory [DRAM] devices
- H10B12/30—DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells
- H10B12/48—Data lines or contacts therefor
- H10B12/482—Bit lines
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】素子分離膜によって限定され、第1方向に沿って配列された半導体基板の複数の第1活性領域と、複数の第1活性領域と連結され、第2方向に伸びた複数のビットライン電極と、複数の第1活性領域の第1方向に沿って隣接した二つの間を横切るように第3方向に伸びる複数の第1障壁絶縁層と、を備える半導体素子である。
【選択図】図6
Description
110 素子分離膜
115a 第1活性領域
115b 第2活性領域
118 ゲート絶縁膜
120 ゲート電極
125 キャッピング絶縁層
130 プラグ
135 ビットライン電極
140 キャッピング絶縁層
145 スペーサ絶縁層
150 層間絶縁層
155a 第1障壁絶縁層
155b 第2障壁絶縁層
160 マスクパターン
165a 第1コンタクトホール
165b 第2コンタクトホール
170a 第1コンタクトプラグ
170b 第2コンタクトプラグ
175a 第1ストレージノード
175b 第2ストレージノード
Claims (25)
- 素子分離膜によって限定され、第1方向に沿って配列された半導体基板の複数の第1活性領域と、
前記複数の第1活性領域と連結され、第2方向に伸びた複数のビットライン電極と、
前記複数の第1活性領域の前記第1方向に沿って隣接した二つの間を横切るように第3方向に伸びる複数の第1障壁絶縁層と、を備えることを特徴とする半導体素子。 - 前記第1方向、前記第2方向及び前記第3方向は、異なることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 前記複数の第1活性領域に連結され、前記複数の第1障壁絶縁層及び前記複数のビットライン電極を挟んで相互離隔された複数の第1ストレージノード層をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 前記複数の第1活性領域に連結され、前記複数の第1障壁絶縁層及び前記複数のビットライン電極を挟んで相互離隔された複数の第1コンタクトプラグをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 前記複数の第1コンタクトプラグの一側壁は、前記複数の第1障壁絶縁層と接触されたことを特徴とする請求項4に記載の半導体素子。
- 前記複数のビットライン電極の側壁に配された複数のスペーサ絶縁層をさらに備え、
前記複数の第1コンタクトプラグの側壁は、前記複数のスペーサ絶縁層及び前記複数の第1障壁絶縁層と接触されたことを特徴とする請求項4に記載の半導体素子。 - 前記複数の第1コンタクトプラグと連結された複数の第1ストレージノード層をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の半導体素子。
- 前記複数の第1コンタクトプラグ、前記複数のビットライン電極及び前記複数の第1障壁絶縁層を取り囲むように前記半導体基板上に配された層間絶縁層をさらに備え、
前記複数の第1障壁絶縁層は、前記層間絶縁層に対してエッチング選択比を有し、
前記層間絶縁層は、酸化膜を備え、前記複数の第1障壁絶縁層は、窒化膜を備えることを特徴とする請求項4に記載の半導体素子。 - 前記複数の第1活性領域と異なる行に、前記複数の第1活性領域と入れ違うように前記第1方向に沿って配された複数の第2活性領域と、
前記複数の第2活性領域の前記第1方向に沿って隣接した二つの間を横切るように前記第3方向に伸びる複数の第2障壁絶縁層と、をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の半導体素子。 - 前記複数のビットライン電極は、前記複数の第2活性領域とそれぞれさらに連結されたことを特徴とする請求項9に記載の半導体素子。
- 前記複数の第1障壁絶縁層は、前記複数の第2活性領域の上を横切って伸び、
前記複数の第2障壁絶縁層は、前記複数の第1活性領域の上を横切って伸びたことを特徴とする請求項9に記載の半導体素子。 - 前記複数の第2活性領域に連結され、前記複数の第2障壁絶縁層及び前記複数のビットライン電極を挟んで相互離隔された複数の第2コンタクトプラグをさらに備えることを特徴とする請求項9に記載の半導体素子。
- 前記複数の第2コンタクトプラグと連結された複数の第2ストレージノード層をさらに備えることを特徴とする請求項12に記載の半導体素子。
- 前記複数の第2活性領域に連結され、前記複数の第2障壁絶縁層及び前記複数のビットライン電極を挟んで相互離隔された複数の第2ストレージノード層をさらに備えることを特徴とする請求項9に記載の半導体素子。
- 第1方向に沿って配列された複数の第1活性領域を限定するように、半導体基板に素子分離膜を形成する工程と、
前記複数の第1活性領域と連結され、第2方向に伸びた複数のビットライン電極を前記半導体基板上に形成する工程と、
前記ビットライン電極の一部分を取り囲む層間絶縁層を前記半導体基板上に形成する工程と、
前記複数の第1活性領域の前記第1方向に沿って隣接した二つの間を横切るように、第3方向に伸びる複数の第1障壁絶縁層を前記層間絶縁層内に形成する工程と、を含むことを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 前記層間絶縁層を貫通して前記複数の第1活性領域に連結され、前記複数の第1障壁絶縁層及び前記複数のビットライン電極を挟んで相互離隔された複数の第1コンタクトプラグを形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記複数の第1コンタクトプラグを形成する工程は、
前記複数の第1活性領域の両端部を露出する複数の第1コンタクトホールを前記層間絶縁層に形成する工程と、
前記複数の第1コンタクトホールを埋め込む導電層を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項16に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記複数の第1コンタクトホールを形成する工程は、前記複数の第1活性領域の隣接した二つの端部上の前記層間絶縁膜部分を露出するように前記第1方向に伸びた開口部を有するマスクパターンをエッチング保護膜として利用することを特徴とする請求項17に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記複数の第1コンタクトホールを形成する工程は、前記複数の第1活性領域上の前記層間絶縁膜部分を露出する開口部を有するマスクパターンをエッチング保護膜として利用することを特徴とする請求項17に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記複数の第1コンタクトプラグと連結された複数の第1ストレージノード層を前記層間絶縁層上に形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の半導体素子。
- 前記複数の第1活性領域に連結され、前記複数の第1障壁絶縁層及び前記複数のビットライン電極を挟んで相互離隔された複数の第1ストレージノード層を前記層間絶縁層内に形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記素子分離膜を形成する工程で、前記複数の第1活性領域と異なる行に、前記複数の第1活性領域と入れ違うように前記第1方向に沿って配された複数の第2活性領域をさらに限定することを特徴とする請求項15に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記複数の第2活性領域の前記第1方向に沿って隣接した二つの間を横切るように、前記第3方向に伸びる複数の第2障壁絶縁層を前記半導体基板上に形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記層間絶縁層を貫通して前記複数の第1活性領域に連結され、前記複数の第1障壁絶縁層及び前記複数のビットライン電極を挟んで相互離隔された複数の第1コンタクトプラグを形成する工程と、
前記層間絶縁層を貫通して前記複数の第2活性領域に連結され、前記複数の第2障壁絶縁層及び前記複数のビットライン電極を挟んで相互離隔された複数の第2コンタクトプラグを形成する工程をさらに含み、前記複数の第1及び第2コンタクトプラグを形成する工程は、
前記複数の第1及び第2活性領域の端部を露出する複数の第1及び第2コンタクトホールを前記層間絶縁層に形成する工程と、
前記複数の第1及び第2コンタクトホールを埋め込む導電層を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項23に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記第1及び第2コンタクトホールを形成する工程は、
前記複数の第1活性領域の一端部及び前記複数の第2活性領域の一端部上の前記層間絶縁膜の一部分を露出するように、前記第3方向に伸びた開口部を有するマスクパターンをエッチング保護膜として利用して、前記層間絶縁層をエッチングする工程を含むことを特徴とする請求項24に記載の半導体素子の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070008611A KR100891329B1 (ko) | 2007-01-26 | 2007-01-26 | 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008187178A true JP2008187178A (ja) | 2008-08-14 |
Family
ID=39666967
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008015499A Ceased JP2008187178A (ja) | 2007-01-26 | 2008-01-25 | 半導体素子及びその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080179647A1 (ja) |
JP (1) | JP2008187178A (ja) |
KR (1) | KR100891329B1 (ja) |
CN (1) | CN101232022B (ja) |
DE (1) | DE102008006041A1 (ja) |
TW (1) | TW200839947A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012175111A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Sk Hynix Inc | 半導体素子及びその形成方法 |
WO2014123176A1 (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-14 | ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル | 半導体装置及びその製造方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010033744A2 (en) * | 2008-09-19 | 2010-03-25 | Applied Materials, Inc. | Methods of making an emitter having a desired dopant profile |
TWI473211B (zh) * | 2012-10-19 | 2015-02-11 | Inotera Memories Inc | 記憶體裝置及其節點製造方法 |
US9491282B1 (en) * | 2015-05-13 | 2016-11-08 | Cisco Technology, Inc. | End-to-end call tracing |
CN110310953A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-10-08 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 一种半导体器件结构及其制作方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08125141A (ja) * | 1994-10-25 | 1996-05-17 | Oki Electric Ind Co Ltd | Dramセルコンタクトの構造及びその形成方法 |
JPH09260602A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-10-03 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置及びその製造方法 |
JP2001185701A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置およびその製造方法 |
JP2001203337A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置およびその製造方法 |
JP2005079576A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体装置及びこれの製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100239690B1 (ko) * | 1996-04-30 | 2000-01-15 | 김영환 | 반도체 메모리 셀의 필드산화막 형성방법 |
US5648291A (en) * | 1996-06-03 | 1997-07-15 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Method for fabricating a bit line over a capacitor array of memory cells |
JP3161354B2 (ja) * | 1997-02-07 | 2001-04-25 | 日本電気株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP3808763B2 (ja) * | 2001-12-14 | 2006-08-16 | 株式会社東芝 | 半導体メモリ装置およびその製造方法 |
KR200273678Y1 (ko) * | 2002-01-21 | 2002-04-26 | 유태우 | 수지침 시술용 진단구 |
KR100442090B1 (ko) | 2002-03-28 | 2004-07-27 | 삼성전자주식회사 | 분할된 게이트 구조를 갖는 비휘발성 메모리 셀들 및 그제조방법 |
JP2004071903A (ja) * | 2002-08-07 | 2004-03-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
US6936511B2 (en) * | 2003-01-03 | 2005-08-30 | International Business Machines Corporation | Inverted buried strap structure and method for vertical transistor DRAM |
US7406606B2 (en) | 2004-04-08 | 2008-07-29 | International Business Machines Corporation | Method and system for distinguishing relevant network security threats using comparison of refined intrusion detection audits and intelligent security analysis |
KR100642758B1 (ko) * | 2004-07-08 | 2006-11-10 | 삼성전자주식회사 | 공정 변화에 독립적이고 균일한 저항값을 가지는저항소자, 이를 포함하는 반도체 집적 회로 장치 및이들의 제조방법 |
KR20060118784A (ko) * | 2005-05-17 | 2006-11-24 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체소자의 금속배선 형성방법 |
DE102005035641B4 (de) * | 2005-07-29 | 2010-11-25 | Qimonda Ag | Herstellungsverfahren für eine Speicherzellenanordnung mit gefalteter Bitleitungs-Anordnung und entsprechende Speicherzellenanordnung mit gefalteter Bitleitungs-Anordnung |
-
2007
- 2007-01-26 KR KR1020070008611A patent/KR100891329B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-12-26 US US11/964,146 patent/US20080179647A1/en not_active Abandoned
-
2008
- 2008-01-17 TW TW097101847A patent/TW200839947A/zh unknown
- 2008-01-25 JP JP2008015499A patent/JP2008187178A/ja not_active Ceased
- 2008-01-25 CN CN2008100045806A patent/CN101232022B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-25 DE DE102008006041A patent/DE102008006041A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08125141A (ja) * | 1994-10-25 | 1996-05-17 | Oki Electric Ind Co Ltd | Dramセルコンタクトの構造及びその形成方法 |
JPH09260602A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-10-03 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置及びその製造方法 |
JP2001185701A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置およびその製造方法 |
JP2001203337A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置およびその製造方法 |
JP2005079576A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体装置及びこれの製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012175111A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Sk Hynix Inc | 半導体素子及びその形成方法 |
US9196618B2 (en) | 2011-02-22 | 2015-11-24 | Hynix Semiconductor Inc. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
WO2014123176A1 (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-14 | ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル | 半導体装置及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200839947A (en) | 2008-10-01 |
CN101232022A (zh) | 2008-07-30 |
DE102008006041A1 (de) | 2008-09-04 |
KR20080070462A (ko) | 2008-07-30 |
KR100891329B1 (ko) | 2009-03-31 |
CN101232022B (zh) | 2011-06-08 |
US20080179647A1 (en) | 2008-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102321868B1 (ko) | 반도체 메모리 장치 | |
US8274112B2 (en) | Semiconductor memory device having pillar structures | |
JP5073157B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR20110028971A (ko) | 사이즈가 구별되는 2종의 콘택 홀을 1회 포토 공정으로 형성하는 반도체 소자의 제조방법 | |
JP2010272714A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
US7312121B2 (en) | Method of manufacturing a semiconductor memory device | |
KR100475075B1 (ko) | 반도체 메모리 소자 및 그 제조방법 | |
WO2014123170A1 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
US20150371895A1 (en) | Method for manufacturing smeiconductor device | |
US7767521B2 (en) | Cell region layout of semiconductor device and method of forming contact pad using the same | |
KR100891329B1 (ko) | 반도체 소자 및 그 제조 방법 | |
US20080308954A1 (en) | Semiconductor device and method of forming the same | |
JP2004193608A (ja) | ストレージ電極との接触面積をさらに確保するためにビットライン方向に拡張されたコンタクト体を含む半導体素子の製造方法 | |
US6953959B2 (en) | Integrated circuit devices including self-aligned contacts with increased alignment margin | |
KR100827509B1 (ko) | 반도체 소자의 형성 방법 | |
US8557701B2 (en) | Method for fabricating a semiconductor device with formation of conductive lines | |
KR100532424B1 (ko) | 반도체 메모리 장치 및 그 제조방법 | |
US20050012128A1 (en) | Memory cell having bar-shaped storage node contact plugs and methods of fabricating same | |
KR20090059654A (ko) | 커패시터, 커패시터를 포함하는 반도체 장치, 커패시터의형성 방법 및 커패시터를 포함하는 반도체 장치의 제조방법 | |
WO2014092003A2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
CN115513207A (zh) | 半导体存储器件 | |
KR20060007727A (ko) | 스토리지 노드 전극들 사이에 배치된 절연성 지지바를구비하는 반도체소자 제조방법 및 그에 의해 제조된반도체소자 | |
KR20140028906A (ko) | 반도체 소자 및 그 제조방법 | |
JP2013102022A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
KR100549011B1 (ko) | 스토리지 노드 전극을 갖는 반도체소자 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130131 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130430 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130521 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20130924 |