JP2008047696A - ウエーハ搬送方法および研削装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】保持テーブル上に水層を介してウエーハを保持するための給水量を減らして表面張力が強い状態であってもウエーハを水層上から剥離して搬送できるようにする。
【解決手段】水層162を介して保持テーブル163に保持されたウエーハWに対する搬送手段17の吸着パッド171の吸着位置を、パッド中心φ2がウエーハWの中心φ1に一致しないようにずれた位置に設定して、吸着パッド171で吸着した状態で搬送アーム172を鉛直方向に上昇させて搬送させることで、ウエーハ中心位置で吸着する場合に比べて格段に水層162からのウエーハWの吸着剥離が容易となるようにした。
【選択図】 図4

Description

本発明は、ウエーハ搬送方法および研削装置に関するものである。
表面に半導体を形成するのに先立ってSiウエーハの表面を、或いは、IC,LSI等の半導体チップが表面に複数形成された半導体ウエーハの裏面を、研削装置を用いて研削することで、Siウエーハまたは半導体ウエーハは所定の厚さに形成される。研削装置においては、ウエーハをカセットからチャックテーブルに自動で搬送させる際には、ウエーハの位置合わせを行う必要があるが、水の表面張力を利用してウエーハを所定の位置に位置合わせするようにした技術が公知である(例えば、特許文献1,2参照)。すなわち、位置合わせ用の保持テーブルの上面に対する給水を少しずつ継続させて上面のほぼ全体に亘って水層を形成し、形成された水層の表面張力で対象となるウエーハを保持テーブル上面の中心位置に移動させて中心位置合わせした状態で保持するものである。
一方、保持テーブルの水層上に中心位置合わせして保持されたウエーハは、適宜タイミングで、搬送手段の吸着パッドで吸着し、該吸着パッドを支持している搬送アームを鉛直方向に上昇させて水の表面張力から剥離して水平方向に旋回させることで、チャックテーブル上に搬送される。
特公昭60−22500号公報 特開平11−220010号公報
しかしながら、水層を形成してウエーハの中心位置合わせを行うためには、保持テーブル上面に給水する水の流量は少なくてもよいにも関わらず、給水する水の流量が少ないとウエーハに対する表面張力が強くてウエーハを吸着させた吸着パッドを搬送アームで上昇させてもウエーハの剥離が困難となってしまう。そこで、現実には、水層の表面張力に抗して吸着パッドによるウエーハの吸着剥離を容易にするために、中心位置合わせのためには必須ではない流量(例えば、2リットル/分)の水を給水して表面張力を弱めた状態で中心位置合わせを行っているものであり、水の無駄遣いとなっている。特に、研削装置において位置合わせ用の保持テーブル部分は、ウエーハの加工に直接関与する部分ではないので、当該箇所での余分な水の消費は極めて不経済である。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、保持テーブル上に水層を介してウエーハを保持するための給水量を減らして表面張力が強い状態であってもウエーハを水層上から剥離して搬送させることができるウエーハ搬送方法および研削装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係るウエーハ搬送方法は、水層を介して保持テーブルに保持されたウエーハを搬送手段によって搬送するウエーハ搬送方法であって、前記搬送手段は、前記保持テーブルに対して鉛直方向および水平方向に移動可能な搬送アームと、該搬送アームに支持されてウエーハを吸着する吸着パッドとを備え、前記保持テーブルに保持されたウエーハの中心にパッド中心が一致しない位置で前記吸着パッドがウエーハを吸着した状態で、前記搬送アームが前記保持テーブルに対して鉛直方向に上昇してウエーハの搬送を行うことを特徴とする。
また、本発明に係る研削装置は、ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを研削する研削手段と、ウエーハを収容したカセットが載置されるカセット載置部と、該カセット載置部に載置された前記カセットからウエーハを搬出するとともに研削後のウエーハを該カセットに収容する搬出入手段と、該搬出入手段によって搬出されたウエーハの位置合わせを行う位置合わせ手段と、ウエーハを前記位置合わせ手段から前記チャックテーブルに搬送する搬送手段とを備える研削装置であって、前記位置合わせ手段は、ウエーハと略同じ大きさおよび外形の載置面を水層により形成する保持テーブルと、該保持テーブルに水を供給して前記水層を形成させる水供給手段とを含み、前記水層を介してウエーハを保持して水の表面張力でウエーハの中心を前記保持テーブルの中心に一致させる構成を有し、前記搬送手段は、前記保持テーブルに対して鉛直方向および水平方向に移動可能な搬送アームと、該搬送アームに支持されてウエーハを吸着する吸着パッドとを備え、前記保持テーブルに保持されたウエーハの中心にパッド中心が一致しない位置で前記吸着パッドがウエーハを吸着した状態で、前記搬送アームが前記保持テーブルに対して鉛直方向に上昇してウエーハの搬送を行うことを特徴とする。
本発明に係るウエーハ搬送方法および研削装置によれば、水層を介して保持テーブルに保持されたウエーハに対する搬送手段の吸着パッドの吸着位置を、パッド中心がウエーハの中心に一致しないようにずれた位置に設定して、吸着パッドで吸着した状態で搬送アームを鉛直方向に上昇させて搬送させるので、ウエーハ中心位置で吸着する場合に比べて格段に水層からのウエーハの吸着剥離が容易となり、よって、保持テーブル上に水層を介してウエーハを保持するための給水量を減らして表面張力が強い状態であってもウエーハを水層上から剥離して搬送させることができ、ウエーハを保持するための給水量を減らすことができるという効果を奏する。
以下、本発明を実施するための最良の形態であるウエーハ搬送方法および該ウエーハ搬送方法を実施する研削装置について図面を参照して説明する。
図1は、本実施の形態のウエーハ搬送方法を実施する研削装置を示す外観斜視図である。研削装置10は、ウエーハWを吸引保持する3つのチャックテーブル11と、これらのチャックテーブル11をそれぞれ回転自在に支持して回転するターンテーブル12と、ウエーハWを収容するカセット13a,13bが載置されるカセット載置部14a,14bと、カセット載置部14aに載置されたカセット13aからウエーハWを搬出するとともに研削後のウエーハWをカセット載置部14bに載置されたカセット13bに収容する搬出入手段15と、搬出入手段15によって搬出されたウエーハWの中心位置合わせを行う位置合わせ手段16と、ウエーハWを位置合わせ手段16からチャックテーブル11に搬送する搬送手段17と、チャックテーブル11に保持されたウエーハWを研削する研削手段30,40と、チャックテーブル11からウエーハWを搬出する搬出手段50と、研削後のチャックテーブル11を洗浄する洗浄手段18と、ウエーハWを吸引保持して回転するスピンナーテーブル61を備え研削後のウエーハWの研削面を洗浄する洗浄手段60とを備えている。ここで、ターンテーブル12に配設された3個のチャックテーブル11は、ターンテーブル12が適宜回転することにより順次移動し、ウエーハ搬入・搬出領域E1、粗研削加工領域E2、および仕上げ研削加工領域E3に順次位置付けられる。
このような研削装置10においては、カセット13aに収納されたウエーハWが搬出入手段15によって位置合わせ手段16に搬送され、ここで中心位置合わせがされた後、搬送手段17によってウエーハ搬入・搬出領域E1のチャックテーブル11上に搬送され載置される。
また、粗研削加工領域E2に位置付けられたチャックテーブル11に保持されたウエーハWに粗研削加工を施す研削手段30は、壁部31にZ軸方向に配設された一対のガイドレール32にガイドされてモータ33の駆動により上下動する支持部34に支持され、支持部34の上下動に伴ってZ軸方向に上下動するように構成されている。この研削手段30は、回転可能に支持されたスピンドル35aを回転するモータ35と、スピンドル35aの先端にホイールマウント36を介して装着された研削ホイール37と、研削ホイール37の下面に円環状に固着されてウエーハWの裏面(上面)を粗研削する研削砥石38と、を備えている。
そこで、研削手段30がモータ35によるスピンドル35aの回転を伴ってZ軸方向の下方に研削送りされて、回転する研削ホイール37の研削砥石38がウエーハWの裏面に接触することにより、粗研削加工領域E2に位置付けられたチャックテーブル17に保持されているウエーハWの裏面が粗研削される。
また、仕上げ研削加工領域E3に位置付けられたチャックテーブル11に保持されたウエーハWに仕上げ研削加工を施す研削手段40は、壁部31にZ軸方向に配設された一対のガイドレール41にガイドされてモータ42の駆動により上下動する支持部43に支持され、支持部43の上下動に伴ってZ軸方向に上下動するように構成されている。この研削手段40は、回転可能に支持されたスピンドル44aを回転するモータ44と、スピンドル44aの先端にホイールマウント45を介して装着された研削ホイール46と、研削ホイール46の下面に円環状に固着されてウエーハWの裏面を仕上げ研削する研削砥石47と、を備えている。すなわち、研削手段40は、研削手段30とは研削砥石の種類のみが異なる構成とされている。
そこで、研削手段40がモータ44によるスピンドル44aの回転を伴ってZ軸方向の下方に研削送りされて、回転する研削ホイール46の研削砥石47がウエーハWの裏面に接触することにより、仕上げ研削加工領域E3に位置付けられたチャックテーブル17に保持されているウエーハWの裏面が仕上げ研削される。
裏面(上面)が仕上げ研削されたウエーハWを吸引保持しているチャックテーブル17は、ウエーハ搬入・搬出領域E1に戻される。裏面が仕上げ研削されたウエーハWは、この位置で、搬出手段50によって吸引保持されてチャックテーブル17から搬出されて洗浄手段60のスピンナーテーブル61上に搬送され、洗浄手段60による洗浄により研削屑が除去された後に、搬出入手段15によってカセット14に収容される。また、洗浄手段18は、ウエーハ搬入・搬出領域E1に戻されたチャックテーブル11上の仕上げ研削済みのウエーハWの裏面(上面)を洗浄するとともに、仕上げ研削されたウエーハWが搬出手段50によって取り上げられて空き状態となったウエーハ搬入・搬出領域E1のチャックテーブル11の洗浄を行う。
ここで、位置合わせ手段16の構成および作用について説明する。図2は、位置合わせ手段16の構成例を示す概略断面図であり、図3は、位置合わせ手段16の平面図である。本実施の形態の位置合わせ手段16は、水の表面張力を利用してウエーハWの中心位置合わせを行うものであり、対象となるウエーハWと略同じ大きさおよび外形の載置面161を水層162により形成するよう水溜り部163aが凹部形状で形成された保持テーブル163と、この保持テーブル163の水溜り部163aに水を供給して上面に水層162を形成させる水供給手段164とを備える。水供給手段164は、例えば、水を貯蔵した水貯留タンク165と、水貯留タンク165から水を送り出すポンプ166と、水の供給を制御する供給バルブ167と、保持テーブル163の中心に鉛直方向に貫通させて形成されポンプ166から送り出される水を水溜り部163aに供給するための中心孔168とを備え、中心孔168を通して保持テーブル163の水溜り部163aに水をゆっくりと噴出させて保持テーブル163外にオーバーフローする状態で水層162による載置面161を形成する。
これにより、位置合わせ手段16は、水供給手段164による水溜り部163aへの給水により保持テーブル163の上面に水層161が形成され、オーバーフローするように給水を少しずつ継続させることで水層161は一定に維持され、その水面は表面張力によって少し盛り上がった状態となる。この状態で、搬出入手段15によってウエーハWが図2に示すように水面上に載せられると、水の表面張力によって中心方向に引っ張られ、最終的には、後述の図4(a)に示すように、ウエーハWは中心φ1が保持テーブル163の中心位置に一致する中心位置合わせされた状態で保持される。
次に、搬送手段17の構成および搬送手段17によるウエーハ搬送方法について説明する。図4は、ウエーハ搬送方法を示す概略断面図である。まず、本実施の形態の搬送手段17は、吸着パット171と搬送アーム172と図示しない昇降旋回機構と吸引源とを備える。搬送アーム172は、吸着パット171を支持して昇降旋回機構により保持テーブル163に対して鉛直方向に昇降自在で水平方向に旋回自在に設けられ、位置合わせ手段16の保持テーブル163とウエーハ搬入・搬出領域E1のチャックテーブル11との間で吸着パット171を昇降・往復移動させるためのものである。吸着パット171は、吸引源による吸引力によって未研削のウエーハWの上面を吸引保持し搬送アーム172の昇降動作および旋回動作に伴い保持テーブル163からウエーハ搬入・搬出領域E1のチャックテーブル11へウエーハWを搬送する。
ここで、本実施の形態の吸着パッド171は、図4(a)に示すように、保持テーブル163の水層162上に中心位置合わせして保持されたウエーハWの中心φ1にパッド中心φ2が一致しない位置で該ウエーハWを吸着するように吸着位置が中心φ1から若干ずらして設定されている。中心φ1に対する中心φ2のずらし量Δは、例えば300mmウエーハの場合で20mm程度である。
そこで、保持テーブル163からのウエーハWの搬送時には、まず、図4(a)に示すように、水層162を介して保持テーブル163に表面張力によって位置合わせ保持されたウエーハWに対して搬送アーム172を鉛直方向に下降させて吸着パッド171をウエーハWの表面に当接させ、吸引源による吸引力によってウエーハWを吸着した状態とする。この際、吸着パッド171によるウエーハWの吸着位置は、ウエーハWの中心φ1から若干ずれた位置となる。
このような吸着状態で、図4(b)に示すように、搬送アーム172をそのまま真っ直ぐ鉛直方向に上昇させることで、吸着パッド171が吸着しているウエーハWを水層162の表面張力に抗して剥離して上昇させ、搬送アーム172の旋回動作に伴いウエーハ搬入・搬出領域E1のチャックテーブル11へ搬送する。ここで、水層162からのウエーハWの剥離時に、吸着パッド171の吸着位置がウエーハWの中心φ1からずれているので、ウエーハWに対して水層172による表面張力が作用していても、ウエーハWの中心φ1位置で吸着して剥離させる場合に比して、例えば、図4(b)中に丸で囲んで示す部分の剥離が容易となって全体の保持状態の安定性を崩しやすくなり、搬送アーム172の上昇に伴いウエーハWを容易に剥離させることができる。
よって、本実施の形態によれば、保持テーブル163上に水層162を介してウエーハWを保持するための給水量を減らして表面張力が強い状態であってもウエーハWを水層162上から剥離して搬送させることができ、ウエーハを保持するための給水量を減らすことができる。本発明者らの実験によれば、現状で水の表面張力からウエーハの剥離を可能にするために2リットル/分なる流量の水を給水しているのに対して、本実施の形態の搬送方法によれば、保持テーブル163に給水する水を1リットル/分なる流量に半減してウエーハWに対する表面張力が強くなっても、ウエーハWを水層162上から確実に剥離して搬送できることが確認できたものである。これにより、研削装置10においてウエーハWの加工に直接関与しない位置合わせ用の保持テーブル163部分での水の消費量を半減させることができ、経済的となる。このためにも、ウエーハWに対する吸着パッド171の吸着位置を変更すればよく、簡単に実現することができる。
なお、本実施の形態では、研削装置10中の位置合わせ手段16の保持テーブル163からのウエーハ搬送時への適用例で説明したが、例えば、特許文献1に例示される如く、チャックテーブル11が水層による表面張力を利用してウエーハを保持する場合であれば、該チャックテーブル11からのウエーハ搬送時にも同様に適用可能である。また、保持テーブルの構成も単一サイズ対応の構造のものに限らず、例えば、特許文献2に例示される如く、複数サイズ対応の構造の場合にも同様に適用可能である。
本実施の形態のウエーハ搬送方法を実施する研削装置を示す外観斜視図である。 位置合わせ手段の構成例を示す概略断面図である。 位置合わせ手段の平面図である。 ウエーハ搬送方法を示す概略断面図である。
符号の説明
11 チャックテーブル
30,40 研削手段
13a,13b カセット
14a,14b カセット載置部
15 搬出入手段
16 位置合わせ手段
17 搬送手段
161 載置面
162 水層
163 保持テーブル
171 吸着パッド
172 搬送アーム
W ウエーハ
φ1 ウエーハの中心
φ2 パッド中心

Claims (2)

  1. 水層を介して保持テーブルに保持されたウエーハを搬送手段によって搬送するウエーハ搬送方法であって、
    前記搬送手段は、前記保持テーブルに対して鉛直方向および水平方向に移動可能な搬送アームと、該搬送アームに支持されてウエーハを吸着する吸着パッドとを備え、
    前記保持テーブルに保持されたウエーハの中心にパッド中心が一致しない位置で前記吸着パッドがウエーハを吸着した状態で、前記搬送アームが前記保持テーブルに対して鉛直方向に上昇してウエーハの搬送を行うことを特徴とするウエーハ搬送方法。
  2. ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを研削する研削手段と、ウエーハを収容したカセットが載置されるカセット載置部と、該カセット載置部に載置された前記カセットからウエーハを搬出するとともに研削後のウエーハを該カセットに収容する搬出入手段と、該搬出入手段によって搬出されたウエーハの位置合わせを行う位置合わせ手段と、ウエーハを前記位置合わせ手段から前記チャックテーブルに搬送する搬送手段とを備える研削装置であって、
    前記位置合わせ手段は、ウエーハと略同じ大きさおよび外形の載置面を水層により形成する保持テーブルと、該保持テーブルに水を供給して前記水層を形成させる水供給手段とを含み、前記水層を介してウエーハを保持して水の表面張力でウエーハの中心を前記保持テーブルの中心に一致させる構成を有し、
    前記搬送手段は、前記保持テーブルに対して鉛直方向および水平方向に移動可能な搬送アームと、該搬送アームに支持されてウエーハを吸着する吸着パッドとを備え、前記保持テーブルに保持されたウエーハの中心にパッド中心が一致しない位置で前記吸着パッドがウエーハを吸着した状態で、前記搬送アームが前記保持テーブルに対して鉛直方向に上昇してウエーハの搬送を行うことを特徴とする研削装置。
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