JP2008003390A - 反射防止膜及び光学フィルター - Google Patents
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Abstract
【解決手段】最表面の低屈折率透明膜と、該低屈折率透明膜の下層に設けられた高屈折率透明膜とを有する反射防止膜において、該高屈折率透明膜が、ガスフロースパッタリング法により成膜された酸化チタン膜である反射防止膜。ガスフロースパッタリング法で成膜された酸化チタン膜は、基板無加熱のアズデポジション状態で高い光触媒活性を示すものであるが、このような酸化チタン膜上に低屈折率透明膜を形成し、この酸化チタン膜を低屈折率透明膜で被覆した場合でも、低屈折率透明膜の下層の酸化チタン膜による親水性を得ることができ、しかも酸化チタン膜と低屈折率透明膜との積層で優れた反射防止性能を有し、更には、酸化チタン膜上の低屈折率透明膜をガスフロースパッタリング法による高速成膜により成膜した低密度膜とすることにより、下層の酸化チタン膜による親水性をより一層向上させることができる。
【選択図】図2
Description
低屈折率透明膜をガスフロースパッタリング法により成膜する場合、ターゲットとしては、Si、及び/又はAlを用い、チャンバの大きさやターゲットサイズより異なるが、以下のような条件で成膜することができる。
スパッタ圧力:10〜100Pa
スパッタ電力密度:1〜35W/cm2
アルゴン流量:0.5〜30SLM
反応性ガス流量:0〜120sccm
基板温度:室温
ターゲット材間距離:5〜15cm
ガスフロースパッタリングによる酸化チタン高屈折率透明膜の成膜は、金属Tiをターゲットとし、酸素ガスを導入しながら行う反応性スパッタリングであっても良く、また、導電性のTiOy(ただし、y=1.6〜1.95)を用い、酸素ガスを導入しながら行う反応性スパッタリングであっても良い。
スパッタ電力密度:1〜25W/cm2
アルゴンガス流量:0.5〜30SLM
酸素ガス流量:0〜120sccm
ターゲット基材間距離:5〜15cm
といった条件を採用することができる。
酸化チタン膜以外の高屈折率透明膜をガスフロースパッタリング法により成膜する場合、ターゲットとしては、Ti、Nb、Ta、In、Sn、ITO(SnドープIn2O3)、InSn合金、Zn、AZO(AlドープZnO)、GZO(GaドープZnO)、ZnAl合金、ZnGa合金、及びZrよりなる群から選ばれる1種又は2種以上を用い、チャンバの大きさやターゲットサイズより異なるが、以下のような条件で成膜することができる。
スパッタ圧力:10〜100Pa
スパッタ電力密度:1〜25W/cm2
アルゴン流量:0.5〜30SLM
反応性ガス流量:0〜120sccm
基板温度:室温
ターゲット基材間距離:5〜15cm
図1に示すガスフロースパッタ装置を用い、チャンバー内に、基板としてPETフィルムをセットし、荒引きポンプ(ロータリーポンプ+メカニカルブースターポンプ)で1×10−1Paまで排気した後、高屈折率透明膜(TiO2膜)、低屈折率透明膜(SiO2膜)、高屈折率透明膜(TiO2膜)、低屈折率透明膜(SiO2膜)の順に積層成膜して4層の多層膜よりなる反射防止膜を形成して、図3に示す光学フィルターを製造した。
・ターゲット寸法:80mm×160mm×5mmt
・カソード形状:平行平板対向型(上記ターゲットを2枚使用、距離30mm)
・基板位置:カソード上端部と基板との距離50mm
実施例1において、第4層の低屈折率透明膜成膜時にターゲットへの投入電力を増加させるとともに、成膜圧力を増加させ、下記表2に示す条件で高速成膜を行ったこと以外は実施例1と同様にして光学フィルターを製造した。
通常のマグネトロンスパッタ装置を用いて、実施例1と同様の膜構成の光学フィルターを製造した。
・ターゲット寸法:125mm×500mm×5mmt
・カソード形状:プレーナ型マグネトロン、基板と平行に対面して設置
・基板位置:ターゲット基板との距離80mm
比較例1において、高屈折率透明膜の成膜に際してはプラズマ発光強度制御法を採用し、波長500nmの光をモニターし、発光強度4Vとなるように酸素ガス流量を制御し、成膜速度70nm/minの高速成膜を行ったこと以外は同様にして、実施例1と同様の膜構成の光学フィルターを製造した。
実施例1,2及び比較例1,2で製造された光学フィルターについて、最表面の低屈折率透明膜(SiO2膜)に対して、紫外線(UV)照射による水滴接触角を計測し、結果を表5に示した。
2 ハードコート層
3,3A,3B 高屈折率透明膜
4,4A,4B 低屈折率透明膜
5,5A 反射防止膜
10,10A 光学フィルター
12 DC電源
13 アノード
14 バッキングプレート
15 ターゲット
16 基板
20 チャンバー
Claims (7)
- 最表面の低屈折率透明膜と、該低屈折率透明膜の下層に設けられた高屈折率透明膜とを有する反射防止膜において、該高屈折率透明膜が、ガスフロースパッタリング法により成膜された酸化チタン膜であることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1において、前記低屈折率透明膜が、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム、窒化ケイ素、及び酸化アルミニウムよりなる群から選ばれる1種又は2種以上を主成分とすることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1又は2において、前記低屈折率透明膜が、ガスフロースパッタリング法により150〜300nm・m/minの動的成膜速度で形成された低密度膜であることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1ないし3のいずれか1項において、前記低屈折率透明膜の膜厚が5〜300nmであることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1ないし4のいずれか1項において、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との交互積層膜であることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の反射防止膜が透明基材上に形成されてなることを特徴とする光学フィルター。
- 請求項6において、前記透明基材と反射防止膜との間にハードコート層を有することを特徴とする光学フィルター。
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