JP2007535412A - ナノワイヤの成長および製造のためのシステムならびに方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、ナノワイヤを製造するための組成物、システムおよび方法に関する。実施形態において、緩衝層は、ナノワイヤ成長基板上に配置され、そして触媒のナノ粒子は、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板を形成するために添加される。この触媒被覆されたナノワイヤ成長基板を構築し、そして使用する方法が、開示される。本発明のさらなる局面において、実施形態では、ナノワイヤを製造する箔ローラーを使用する、ナノワイヤ成長システムが、提供される。
Description
(発明の分野)
本発明は、ナノワイヤに関し、そしてより具体的には、ナノワイヤの製造に関する。
本発明は、ナノワイヤに関し、そしてより具体的には、ナノワイヤの製造に関する。
(発明の背景)
ナノワイヤは、電子デバイスの完全に新規の生産を容易にする可能性を有する。ナノワイヤに基づく電子デバイスの新規生産の出現に対する主要な障害は、一貫した特性を有するナノワイヤを大量生産する能力である。ナノワイヤを生産するための現行のアプローチは、多くの場合、手動で行われ、そして一貫したナノワイヤの性能特性をもたらさない。
ナノワイヤは、電子デバイスの完全に新規の生産を容易にする可能性を有する。ナノワイヤに基づく電子デバイスの新規生産の出現に対する主要な障害は、一貫した特性を有するナノワイヤを大量生産する能力である。ナノワイヤを生産するための現行のアプローチは、多くの場合、手動で行われ、そして一貫したナノワイヤの性能特性をもたらさない。
良好な費用効率でナノワイヤを製造するための組成物、システム、および方法が、必要とされる。
(発明の要旨)
ナノワイヤを製造するための組成物、システム、および方法が、提供される。本発明の1つの局面において、緩衝層は、ナノワイヤ成長基板上に配置される。次いでこの緩衝層は、例えば、水中で煮沸されることによって処理され得る。次いで触媒のナノ粒子は、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板を形成するために、この処理された緩衝層上に配置される。実施形態において、次いでナノワイヤは、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板上で成長され得る。実施形態において、種々の組成物は、ナノワイヤ成長基板、緩衝層および触媒のナノ粒子に関する広範な物質を使用するこれらの基板、緩衝層、および触媒のナノ粒子を含有して提供される。他の実施形態において、組成物は、ナノワイヤ成長基板、緩衝層、およびナノワイヤまたはナノリボンを含んで提供され、この組成物は、そのナノワイヤまたはナノリボンの一端に触媒の粒子を有する。これらの組成物を生産し、そして使用するため方法が、提供される。
ナノワイヤを製造するための組成物、システム、および方法が、提供される。本発明の1つの局面において、緩衝層は、ナノワイヤ成長基板上に配置される。次いでこの緩衝層は、例えば、水中で煮沸されることによって処理され得る。次いで触媒のナノ粒子は、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板を形成するために、この処理された緩衝層上に配置される。実施形態において、次いでナノワイヤは、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板上で成長され得る。実施形態において、種々の組成物は、ナノワイヤ成長基板、緩衝層および触媒のナノ粒子に関する広範な物質を使用するこれらの基板、緩衝層、および触媒のナノ粒子を含有して提供される。他の実施形態において、組成物は、ナノワイヤ成長基板、緩衝層、およびナノワイヤまたはナノリボンを含んで提供され、この組成物は、そのナノワイヤまたはナノリボンの一端に触媒の粒子を有する。これらの組成物を生産し、そして使用するため方法が、提供される。
さらなる実施形態において、ナノワイヤ成長システムが、提供される。このナノワイヤ成長システムは、ナノワイヤの連続的な生産および半連続的な生産を提供するローラーを備える。実施形態において、このローラーは、触媒噴霧ディスペンサー、プラズマクリーナー、ナノワイヤ成長チャンバーおよびナノワイヤ収集超音波処理器を通って進む。1つの例において、このローラーは、Al2O3箔である。
本発明のさらなる実施形態、特徴、および利点、ならびに本発明の種々の実施形態の構成および操作は、添付の図面を参照して、以下に詳細に記載される。
本発明は、添付の図面を参照して記載される。図面において、同様の参照番号は、同一の要素または機能的に類似する要素を示す。要素が最初に示される図面は、対応する参照番号の左端の数字によって示される。
(発明の詳細な説明)
本明細書中に示され、そして記載される特定の実施は、本発明の例であり、そしてその他に決して本発明の範囲を制限することを意図しないことが理解されるべきである。実際に、簡潔さを目的として、システム(および、システムの個々の作動する構成要素に含まれる構成部品)の一般的な電子部品、製造方法、半導体デバイス、ならびに、ナノワイヤ(NW)、ナノロッド、ナノチューブ、および、ナノリボンの技術、ならびに、その他の機能的側面は、本明細書中で詳細に説明され得ない。さらに、簡潔さを目的として、本発明は、本明細書中で、ナノワイヤに関係するものとして頻繁に記載される。
本明細書中に示され、そして記載される特定の実施は、本発明の例であり、そしてその他に決して本発明の範囲を制限することを意図しないことが理解されるべきである。実際に、簡潔さを目的として、システム(および、システムの個々の作動する構成要素に含まれる構成部品)の一般的な電子部品、製造方法、半導体デバイス、ならびに、ナノワイヤ(NW)、ナノロッド、ナノチューブ、および、ナノリボンの技術、ならびに、その他の機能的側面は、本明細書中で詳細に説明され得ない。さらに、簡潔さを目的として、本発明は、本明細書中で、ナノワイヤに関係するものとして頻繁に記載される。
ナノワイヤが頻繁に言及されるが、本明細書中に記載される技術はまた、他のナノ構造物(例えば、ナノロッド、ナノチューブ、ナノテトラポッド、ナノリボンおよび/またはそれらの組み合わせ)に応用できることが理解されるべきである。さらに、本明細書中に記載される製造技術は、任意の型の半導体デバイスおよび他の型の電子部品を製作するために使用され得ることが理解されるべきである。さらに、この技術は、電気的システム、光学システム、家庭用電化製品、産業用電子機器、無線システム、航空宇宙分野、または任意の他の用途に応用するのに適する。
本明細書中で使用される場合、「アスペクト比」は、ナノ構造の第1の軸の長さをナノ構造の第2の軸および第3の軸の長さの平均によって除算した値であり、この第2の軸および第3の軸は、それらの長さが互いにほとんど等しい2つの軸である。例えば、完全なロッドについてのアスペクト比は、ロッドの長軸の長さを長軸に対して垂直(法線)の断面の直径で除算した値である。
ナノ構造に関して使用される場合、用語「ヘテロ構造」とは、少なくとも2つの異なるか、および/または区別可能な物質の型によって特徴付けられるナノ構造をいう。代表的に、このナノ構造の1つの領域は、第1の物質の型を含む一方で、このナノ構造の第2の領域は、第2の物質の型を含む。特定の実施形態において、このナノ構造は、第1の物質のコア(core)および第2(または第3など)の物質の少なくとも1つのシェル(shell)を含み、例えば、これらの異なる物質の型は、ナノワイヤの長軸(分枝状ナノ結晶のアームの長軸)、またはナノ結晶の中心に対して半径方向に分散される。シェルは、シェルと見なされる隣接する物質を完全に覆う必要がないか、またはヘテロ構造と見なされるナノ構造を必要としない。例えば、第2の物質の小さい島(small island)によって覆われる1つの物質のコアによって特徴付けられるナノ結晶は、ヘテロ構造である。他の実施形態において、これらの異なる物質の型は、ナノ構造内の異なる位置に分散される。例えば、物質の型は、ナノワイヤの主(長)軸に沿ってか、または分枝状ナノ結晶のアームの長軸に沿って分散され得る。ヘテロ構造内の異なる領域は、完全に異なる物質を含み得るか、またはこれらの異なる領域は、ベース物質を含み得る。
本明細書中で使用される場合、「ナノ構造」は、約500nm未満(例えば、約200nm未満、約100nm未満、約50nm未満、またはさらに約20nm未満)の寸法を伴う少なくとも1つの領域または特徴的な寸法を有する構造である。代表的に、この領域または特徴的な寸法は、この構造の最も小さい軸に沿う。このような構造の例としては、ナノワイヤ、ナノロッド、ナノチューブ、分枝状ナノ結晶、ナノテトラポッド(nanotetrapod)、トライポッド(tripod)、ジポッド(bipod)、ナノ結晶、ナノドット、量子ドット、ナノ粒子、分枝状テトラポッド(例えば、無機デンドリマー)などが挙げられる。ナノ構造は、物質の性質において実質的に同質であり得るか、または特定の実施形態において、異質であり得る(例えば、ヘテロ構造)。ナノ構造は、例えば、実質的に結晶質(実質的に単結晶)であり得るか、多結晶であり得るか、非晶質であり得るか、それらの組み合わせであり得る。1つの局面において、このナノ構造の3つの寸法の各々は、約500nm未満(例えば、約200nm未満、約100nm未満、約50nm未満、またはさらに約20nm未満)の寸法を有する。
本明細書中で使用される場合、用語「ナノワイヤ」とは、一般的に、約500nm未満であり、そして好ましくは100nm未満である少なくとも1つの断面の寸法を含み、そして10より大きいアスペクト比(長さ:幅)、好ましくは50より大きいアスペクト比、およびより好ましくは100より大きいアスペクト比を有する、任意の細長い導電性物質または半導体物質(または本明細書中に記載される他の物質)をいう。
本発明のナノワイヤは、物質の性質において実質的に同質であり得るか、または特定の実施形態では、異質であり得る(例えば、ナノワイヤのヘテロ構造)。このナノワイヤは、本質的に都合の良い任意の物質から作製され得、そして、例えば、実質的に結晶質(実質的に単結晶)であり得るか、多結晶であり得るか、または非晶質であり得る。ナノワイヤは、種々の直径を有し得るか、または実質的に均一な直径を有し得、すなわち、最も大きく変動する領域、および少なくとも5nm(例えば、少なくとも10nm、少なくとも20nm、または少なくとも50nm)の長さ寸法に対して、約20%未満(例えば、約10%未満、約5%未満、または約1%未満)の分散を示す直径である。代表的に、この直径は、このナノワイヤの末端から離れて(例えば、このナノワイヤの中心の20%、40%、50%、または80%に対して)評価される。ナノワイヤは、直線状であってもよく、例えば、ナノワイヤの長軸の全長またはその一部にわたって曲線状であっても湾曲していてもよい。特定の実施形態において、ナノワイヤまたはその一部は、二次元または三次元の量子閉じ込めを示し得る。本発明に従うナノワイヤは、カーボンナノチューブを明白に除外し得、そして、特定の実施形態では、「ウィスカー」または「ナノウィスカー」(特に、100nmより大きい直径、または約200nmより大きい直径を有するウィスカー)を除外する。
このようなナノワイヤの例としては、国際公開第02/17362号、同第02/48701号、および同第01/03208号に記載されるような半導体ナノワイヤ、カーボンナノチューブ、および同様の寸法の他の細長い導電性構造または半導体構造が挙げられ、これらは、本明細書中に参考として援用される。
本明細書中で使用される場合、用語「ナノロッド」とは、一般的に、ナノワイヤに類似するが、ナノワイヤのアスペクト比より小さいアスペクト比(長さ:幅)を有する、任意の細長い導電性物質または半導体物質(または本明細書中に記載される他の物質)をいう。2つ以上のナノロッドが、それらの長手軸に沿って1つに連結されて、この連結されたナノロッドは、電極の間の全体にわたり得ることに注目する。あるいは、2つ以上のナノロッドは、それらの長手軸に沿って実質的に整列され得るが、1つに連結されず、それによって小さい隙間が、これら2つ以上のナノロッドの末端の間に存在する。この場合において、電子は、一方のナノロッドから他方のナノロッドに飛び移って、この小さい隙間を横切ることによって一方のナノロッドから他方のナノロッドに流れ得る。これら2つ以上のナノロッドは、実質的に配列され得、それによって、これらのロッドは、電子が電極の間を移動する通路を形成する。
ナノワイヤ、ナノロッド、ナノチューブおよびナノリボンのために広範な型の物質が使用され得、これらの物質としては、例えば、Si、Ge、Sn、Se、Te、B、C(ダイヤモンドを含む)、P、B−C、B−P(BP6)、B−Si、Si−C、Si−Ge、Si−SnおよびGe−Sn、SiC、BN/BP/BAs、AlN/AlP/AlAs/AlSb、GaN/Gap/GaAs/GaSb、InN/InP/InAs/InSb、BN/BP/BAs、AlN/AlP/AlAs/AlSb、GaN/GaP/GaAs/GaSb、InN/InP/InAs/InSb、ZnO/ZnS/ZnSe/ZnTe、CdS/CdSe/CdTe、HgS/HgSe/HgTe、BeS/BeSe/BeTe/MgS/MgSe、GeS、GeSe、GeTe、SnS、SnSe、SnTe、PbO、PbS、PbSe、PbTe、CuF、CuCl、CuBr、CuI、AgF、AgCl、AgBr、AgI、BeSiN2、CaCN2、ZnGeP2、CdSnAs2、ZnSnSb2、CuGeP3、CuSi2P3、(Cu,Ag)(Al,Ga,In,Tl,Fe)(S,Se,Te)2、Si3N4、Ge3N4、Al2O3、(Al,Ga,In)2(S,Se,Te)3、Al2CO、ならびに2つ以上のこのような半導体の適切な組み合わせから選択された半導体物質が挙げられる。
ナノワイヤはまた、金属(例えば、金、ニッケル、パラジウム、イリジウム(iradium)、コバルト、クロム、アルミニウム、チタン、スズなど)、金属合金、ポリマー、導電性ポリマー、セラミック、および/またはそれらの組み合わせのような他の物質から形成され得る。現在公知であるか、もしくは後に開発された他の導電性材料または半導体材料が、利用され得る。
特定の局面において、半導体は、以下からなる群からのドーパントを備え得る:周期表のIII族からのp型ドーパント;周期表のV族からのn型ドーパント、B、Al、および、Inからなる群より選択されるp型ドーパント;P、As、および、Sbからなる群より選択されるn型ドーパント;周期表のII族からのp型ドーパント、Mg、Zn、Cd、およびHgからなる群より選択されるp型ドーパント;周期表のIV族からのp型ドーパント;CおよびSiからなる群より選択されるp型ドーパント;または、Si、Ge、Sn、S、Se、およびTeからなる群より選択されるn型ドーパント。現在公知であるか、または後に開発された他のドーパント物質が、利用され得る。
さらに、ナノワイヤまたはナノリボンは、カーボンナノチューブ、または導電性かまたは半導電性の有機ポリマー物質(例えば、ペンタセンおよび遷移金属酸化物)から形成されるナノチューブを含み得る。
したがって、用語「ナノワイヤ」は、例示を目的として、本明細書中の記載全体を通して言及され、これは、本明細書中の記載がまた、ナノチューブ(例えば、それの軸方向に形成された中空管を有するナノワイヤ様構造体)の使用を包含することを意図する。ナノチューブは、本明細書中に記載される性質および利点を提供するために、本明細書中でナノワイヤについて記載されるように、ナノチューブの組み合わせ/薄膜として、ナノチューブ単独か、またはナノワイヤと組み合わせて形成され得る。
本明細書中でなされる空間的な記述(例えば、「上側(above)」、「下側(below)」、「上に(up)」、「下に(down)」、「上部(top)」、「下部(bottom)」など)は、例示を目的とするだけのものであり、そして本発明のデバイスは任意の向きまたは様式で空間的に配置され得ることが理解されるべきである。
(ナノワイヤの型およびそれらの合成)
図1Aは、単結晶半導体ナノワイヤのコア(本明細書中で以下「ナノワイヤ」)100を示す。図1Aは、均一にドーピングされた単結晶ナノワイヤであるナノワイヤ100を示す。このような単結晶ナノワイヤは、完全に制御された方法でp型半導体またはn型半導体へとドーピングされ得る。ドーピングナノワイヤ(例えば、ナノワイヤ100)は、改良された電気的性質を示す。例えば、このようなナノワイヤは、バルク単結晶物質に匹敵するキャリア移動度を有するようにドーピングされ得る。
図1Aは、単結晶半導体ナノワイヤのコア(本明細書中で以下「ナノワイヤ」)100を示す。図1Aは、均一にドーピングされた単結晶ナノワイヤであるナノワイヤ100を示す。このような単結晶ナノワイヤは、完全に制御された方法でp型半導体またはn型半導体へとドーピングされ得る。ドーピングナノワイヤ(例えば、ナノワイヤ100)は、改良された電気的性質を示す。例えば、このようなナノワイヤは、バルク単結晶物質に匹敵するキャリア移動度を有するようにドーピングされ得る。
図1Bは、コア−シェル構造に従ってドーピングされたナノワイヤ110を示す。図1Bに示されるように、ナノワイヤ110は、厚さのレベルが変化し得るドーピングされた表層112を有し、ナノワイヤ110の表面上に分子の単一層のみを備える。
絶縁シェルの価電子帯は、p型ドーピングワイヤに対するコアの価電子帯より低いものであり得るか、またはこのシェルの伝導帯は、n型ドーピングワイヤに対するコアより高いものであり得る。一般的に、このコアのナノ構造は、任意の金属性物質または半導体物質で形成され得、そしてこのシェルは、同一の物質または異なる物質で形成され得る。例えば、第1のコア物質は、II族〜VI族の半導体、III族〜V族の半導体、IV族の半導体、およびそれらの合金からなる群より選択される第1の半導体を含み得る。同様に、このシェルの第2の物質は、例えば、II族〜VI族の半導体、III族〜V族の半導体、IV族の半導体、およびそれらの合金からなる群より選択されるこの第1の半導体と同一であるか、または異なる第2の半導体を含み得る。半導体の例としては、CdSe、CdTe、InP、InAs、CdS、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgTe、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InSb、Si、Ge、AlAs、AlSb、PbSe、PbS、およびPbTeが挙げられるが、これらに限定されない。上述のように、金属性物質(例えば、金、クロム、スズ、ニッケル、アルミニウムなどおよびそれらの合金)は、コア物質として使用され得、そしてこの金属性のコアは、適切なシェル物質(例えば、二酸化ケイ素または他の絶縁物質)によって上から被覆され得る。
ナノ構造が作製され得、そしてそれらのサイズは、異なる物質に適用され得る多くの都合の良い方法のいずれかによって制御され得る。例えば、種々の組成のナノ結晶の合成は、以下に記載される:例えば、Pengら、(2000)、「Shape Control of CdSe Nanocrystals」、Nature 404、59−61;Puntesら、(2001)、「Colloidal nanocrystal shape and size control:The case of cobalt」、Science 291、2115−2117;発明の名称「Process for forming shaped group III−V semiconductor nanocrystals,and product formed using process」であるAlivisatosらの米国特許第6,306,736号(2001年10月23日);発明の名称「Process for forming shaped group II−VI semiconductor nanocrystals、and product formed using process」であるAlivisatosらの米国特許第6,225,198号(2001年5月1日);発明の名称「Preparation of III−V semiconductor nanocrystals」であるAlivisatosらの米国特許第5,505,928号(1996年4月9日);発明の名称「Semiconductor nanocrystals covalently bound to solid inorganic surfaces using self−assembled monolayers」であるAlivisatosらの米国特許第5,751,018号(1998年5月12日);発明の名称「Encapsulated quantum sized doped semiconductor particles and method of manufacturing same」であるGallagherらの米国特許第6,048,616号(2000年4月11日);および発明の名称「Organo luminescent semiconductor nanocrystal probes for biological applications and process for making and using such probes」であるWeissらの米国特許第5,990,479号(1999年11月23日)。
種々のアスペクト比を有するナノワイヤ(制御された直径を伴うナノワイヤを含む)の成長は、例えば、以下に記載される:Gudiksenら、(2000)、「Diameter−selective synthesis of semiconductor nanowires」、J.Am.Chem.Soc.122、8801−8802;Cuiら、(2001)、「Diameter−controlled synthesis of single−crystal silicon nanowires」、Appl.Phvs.Lett.78、2214−2216;Gudiksenら、(2001)、「Synthetic control of the diameter and length of single crystal semiconductor nanowires」、J.Phvs.Chem.B 105、4062−4064;Moralesら、(1998)、「A laser ablation method for the synthesis of crystalline semiconductor nanowires」、Science 279、208−211;Duanら、(2000)、「General synthesis of compound semiconductor nanowires」、Adv.Mater. 12、298−302;Cuiら、(2000)、「Doping and electrical transport in silicon nanowires」、J.Phys.Chem.B 104、5213−5216;Pengら、(2000)、「Shape control of CdSe nanocrystals」、Nature 404、59−61;Puntesら、(2001)、「Colloidal nanocrystal shape and size control:The case of cobalt」、Science 291、2115−2117;発明の名称「Process for forming shaped group III−V semiconductor nanocrystals,and product formed using process」であるAlivisatosらの米国特許第6,306,736号(2001年10月23日);発明の名称「Process for forming shaped group II−VI semiconductor nanocrystals、and product formed using process」であるAlivisatosらの米国特許第6,225,198号(2001年5月1日);発明の名称「Method of producing metal oxide nanorods」であるLieberらの米国特許第6,036,774号(2000年3月14日);発明の名称「Metal oxide nanorods」であるLieberらの米国特許第5,897,945号(1999年4月27日);「Preparation of carbide nanorods」であるLieberらの米国特許第5,997,832号(1999年12月7日);Urbauら、(2002)、「Synthesis of single−crystalline perovskite nanowires composed of barium titanate and strontium titanate」、J.Am.Chem.Soc.124、1186;およびYunら、(2002)、「Ferroelectric Properties of Individual Barium Titanate Nanowires Investigated by Scanned Probe Microscopy」、Nanoletters 2、447。
分枝状ナノワイヤ(例えば、ナノテトラポッド、トライポッド、ジポッド、および分枝状テトラポッド)の成長は、例えば、以下に記載される:Junら、(2001)、「Controlled synthesis of multi−armed CdS nanorod architectures using monosurfactant system」、J.Am.Chem.Soc.123、5150−5151;およびMannaら、(2000)、「Synthesis of Soluble and Processable Rod−,Arrow−,Teardrop−,and Tetrapod−Shaped CdSe Nanocrystals」、J.Am.Chem.Soc.122、12700−12706。
ナノ粒子の合成は、例えば、以下に記載される:発明の名称「Method for producing semiconductor particles」であるClark Jr.らの米国特許第5,690,807号(1997年11月25日);発明の名称「Nanoparticles of silicon oxide alloys」であるEl−Shallらの米国特許第6,136,156号(2000年10月24日);発明の名称「Synthesis of nanometer−sized particles by reverse micelle mediated techniques」であるYingらの米国特許第6,413,489号(2002年7月2日);およびLiuら、(2001)、「Sol−Gel Synthesis of Free−Standing Ferroelectric Lead Zirconate Titanate Nanoparticles」、J.Am.Chem.Soc.123、4344。ナノ粒子の合成はまた、ナノ結晶、ナノワイヤ、および分枝状ナノワイヤの成長についての上記の引用に記載され、得られるナノ構造は、約1.5未満のアスペクト比を有する。
コア−シェルナノ構造のヘテロ構造(すなわち、ナノ結晶およびナノワイヤ(例えば、ナノロッド)のコア−シェルヘテロ構造)の合成は、例えば、以下に記載される:Pengら、(1997)、「Epitaxial growth of highly luminescent CdSe/CdS core/shell nanocrystals with photostability and electronic accessibility」、J.Am.Chem.Soc.119、7019−7029;Dabbousiら、(1997)、「(CdSe)ZnS core−shell quantum dots:Synthesis and characterization of a size series of highly luminescent nanocrysallites」、J.Phys.Chem.B 101、9463−9475;Mannaら、(2002)、「Epitaxial growth and photochemical annealing of graded CdS/ZnS shells on colloidal CdSe nanorods」、J.Am.Chem.Soc.124、7136−7145;およびCaoら、(2000)、「Growth and properties of semiconductor core/shell nanocrystals with InAs cores」、J.Am.Chem.Soc.122、9692−9702。同様のアプローチは、他のコア−シェル ナノ構造の成長に適用され得る。
異なる物質がナノワイヤの長軸にそって異なる位置に分散されるナノワイヤのヘテロ構造の成長は、例えば、以下に記載される:Gudiksenら、(2002)、「Growth of nanowire superlattice structures for nanoscale photonics and electronics」、Nature 415、617−620;Bjorkら、(2002)、「One−dimensional steeplechase for electrons realized」、Nano Letters 2、86−90;Wuら、(2002)、「Block−by−block growth of single−crystalline Si/SiGe superlattice nanowires」、Nano Letters 2、83−86;および発明の名称「Nanowire heterostructures for encoding information」であるEmpedoclesの米国特許出願第60/370,095号(2002年4月2日)。同様のアプローチは、他のヘテロ構造の成長に適用され得る。
(ナノワイヤ成長基板上の緩衝層および使用方法)
ナノワイヤ成長基板上に堆積した触媒のナノ粒子は、ナノワイヤ成長を促進するために使用される。不運にも、多くの場合、このナノワイヤ成長構造および触媒のナノ粒子は、負に荷電される。例えば、Au触媒のナノ粒子およびSiO2被覆Siナノワイヤ成長基板は、両方とも負に荷電される。したがって、ナノワイヤ成長表面に正の電荷をもたらす緩衝コーティングは、ナノ粒子がこの表面に効率的に付着するために必要とされる。数種の代替的なプロセスは、ナノワイヤ成長基板に小さい分子を接着するために存在する。しかし、これらのアプローチは、多くの場合、面倒であり、不純物のレベルを制御することが困難であり、そして触媒のナノ粒子の凝塊形成を生じる。異なる基板物質および触媒粒子が使用される場合、当業者に公知であるような、同様の欠点および課題が生じる。以下に記載される方法200は、これらの欠点に取り組む代替的なアプローチを提供する。方法200は、これらの欠点に取り組むための緩衝層を使用したプロセスを記載する。
ナノワイヤ成長基板上に堆積した触媒のナノ粒子は、ナノワイヤ成長を促進するために使用される。不運にも、多くの場合、このナノワイヤ成長構造および触媒のナノ粒子は、負に荷電される。例えば、Au触媒のナノ粒子およびSiO2被覆Siナノワイヤ成長基板は、両方とも負に荷電される。したがって、ナノワイヤ成長表面に正の電荷をもたらす緩衝コーティングは、ナノ粒子がこの表面に効率的に付着するために必要とされる。数種の代替的なプロセスは、ナノワイヤ成長基板に小さい分子を接着するために存在する。しかし、これらのアプローチは、多くの場合、面倒であり、不純物のレベルを制御することが困難であり、そして触媒のナノ粒子の凝塊形成を生じる。異なる基板物質および触媒粒子が使用される場合、当業者に公知であるような、同様の欠点および課題が生じる。以下に記載される方法200は、これらの欠点に取り組む代替的なアプローチを提供する。方法200は、これらの欠点に取り組むための緩衝層を使用したプロセスを記載する。
図2は、本発明の実施形態に従う、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板を使用してナノワイヤを成長させるための方法200のフローチャートである。方法200は、工程210で始まる。工程210において、緩衝層は、ナノワイヤ成長基板上に堆積する。この緩衝層は、触媒粒子を誘引する荷電した表面を提供する。さらに、この緩衝層は、ナノワイヤ成長基板と触媒粒子との間の反応を防止し得る保護層を提供する。実施形態において、このナノワイヤ成長基板としては、以下の型の物質のうちの1つが挙げられるが、これらに限定されない:半導体、金属、セラミック、ガラス、およびプラスチック。これらの物質は、ウエハ、薄板または箔、ブロック、種々の内径を有するチューブおよび種々のセルサイズを有する発泡体が挙げられる種々の形態であり得る。実施形態において、種々の型の堆積技術が、このナノワイヤ成長基板上に緩衝層を堆積させるために使用され得、この技術としては、酸化、窒化物形成、化学蒸着(CVD)、プラズマ化学気相成長(PECVD)、スパッタリング、噴霧、浸漬被覆、電子ビーム蒸着、スピンコーティングおよびロールツーロールコーティング(roll−to−roll coating)が挙げられるが、これらに限定されない。実施形態において、この緩衝層は、以下の物質の1つを含み得るが、これらに限定されない:Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2、MgO、またはZnO。
工程220において、上記緩衝層は、この緩衝層とその後の工程においてこの緩衝層上に堆積される触媒の粒子との間の相互作用を増強させるために処理される。実施形態において、この緩衝層は、水中でこの緩衝層を煮沸するか、この緩衝層を蒸気処理するか、この緩衝層の酸処理を提供するか、この緩衝層の塩基処理を提供するかそして/またはこの緩衝層の表面の官能性化(functionalization)を行うことによって処理され得る。他の実施形態において、この緩衝層は、処理されなくてもよい。
工程230において、触媒のナノ粒子は、緩衝層上に堆積する。実施形態において、この触媒のナノ粒子は、以下の物質の1つを含み得るが、これらに限定されない:Au、Pt、Pd、Cu、Al、Ni、Fe、Au合金、Pt合金、Pd合金、Cu合金、Al合金、Ni合金またはFe合金。実施形態において、この触媒のナノ粒子は、電荷誘導性の自己集合、化学官能基の集合、スピンコーティングまたは浸漬被覆を介して堆積され得る。
工程240において、ナノワイヤは、本明細書中の教示に基づいて当業者に公知であるように、成長する。工程250において、方法200は、終了する。
図3Aは、本発明の実施形態に従う、平面上の触媒被覆されたナノワイヤ成長基板300の線図である。実施形態において、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板300は、上記の工程230を介する方法200を使用して生産され得る。触媒被覆されたナノワイヤ成長基板300は、ナノワイヤ成長基板310、緩衝層320および触媒粒子330の層を備える。ナノワイヤ成長基板310は、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板300の基礎を形成する。実施形態において、ナノワイヤ成長基板310は、以下の物質の1つを含み得るが、これらに限定されない:半導体、金属、セラミック、ガラスまたはプラスチック。
緩衝層320は、ナノワイヤ成長基板310の表面上に堆積する。実施形態において、緩衝層320は、以下の物質の1つを含み得るが、これらに限定されない:Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2、MgO、またはZnO。この緩衝層は、触媒粒子を誘引する荷電した表面を提供する。さらに、この緩衝層は、基板と触媒粒子との間の反応を防止する保護層を提供する。
触媒粒子330の層内の触媒粒子は、緩衝層320の表面上に分散される。実施形態において、触媒粒子330の層は、以下のナノ粒子の1つを含み得るが、これらに限定されない:Au、Pt、Pd、Cu、Al、Ni、Fe、Au合金、Pt合金、Pd合金、Cu合金、Al合金、Ni合金またはFe合金。
図3Bは、本発明の実施形態に従う、管を使用する触媒被覆されたナノワイヤ成長基板335の線図である。触媒被覆されたナノワイヤ成長基板335は、管340、ナノワイヤ成長基板345、緩衝層350および触媒粒子355を備える。ナノワイヤ成長基板345は、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板335の基礎を形成する。ナノワイヤ成長基板345は、管340の内側に配置される。ナノワイヤ成長基板345内に含まれる物質の例としては、金属、半導体、プラスチック、セラミック、またはガラスが挙げられるが、これらに限定されない。
緩衝層350は、ナノワイヤ成長基板345の表面上に堆積する。実施形態において、緩衝層320は、以下の物質の1つを含み得るが、これらに限定されない:Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2、MgO、またはZnO。
触媒粒子355は、緩衝層350の表面上に分散される。触媒粒子355は、以下のナノ粒子の1つを含み得るが、これらに限定されない:Au、Pt、Pd、Cu、Al、Ni、Fe、Au合金、Pt合金、Pd合金、Cu合金、Al合金、Ni合金またはFe合金。
図3Cは、本発明の実施形態に従う、ナノ構造化したAl2O3緩衝層および直径40nmのAu触媒のナノ粒子を有するSiナノワイヤ成長基板の走査電子顕微鏡(SEM)写真である。この写真は、Auナノ粒子(例えば、Auナノ粒子361)を示し、このAuナノ粒子は、この写真全体に示される明るい色の点である。この写真はまた、テクスチャード加工されたAl2O3緩衝層(例えば、Al2O3テクスチャー362)を示し、この緩衝層は、この写真全体の明るい色の細長い画像である。
図3Dは、本発明の実施形態に従う、Al2O3緩衝層およびAu触媒のナノ粒子を有するナノワイヤ成長基板の異なる拡大率の、一組のSEM写真であり、このAu触媒のナノ粒子は、ドットパターンで配列される。具体的には、上の写真は、Al2O3のドットパターンを有し、このドットパターンにおいて、40nmのAuナノ粒子の直径5mmのナノ構造化したドットパターンが40mmの間隔をあけているシリコン基板を示す。この写真において、Al2O3の円形のパターンが、使用される(例えば、Al2O3ドット363)。他の実施形態において、このAuナノ粒子は、四角、矩形、三角または他の構造に構造化され得る。Al2O3または他の緩衝層物質のこのパターン化は、本出願、および成長するのに必要とされるナノワイヤの型に基づいて選択され得る。下の写真は、このドットパターンうちの1つの写真を、より高い拡大率で提供する。
図4Aは、本発明の実施形態に従う、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板を使用して、Siナノワイヤを成長させるための方法400のフローチャートである。方法400は、方法200の1つの実施形態を示す。方法400は、工程410で始まる。工程410において、実施形態では、Al2O3コーティングは、ナノワイヤ成長基板上に堆積する。実施形態において、電子ビーム蒸着は、Al2O3を高純度で堆積させるために使用され得る。
実施形態において、実験室における試験では、Al2O3被覆の厚さは、5ナノメートル〜70ナノメートルの範囲であった。これらの範囲は、例示として提供され、そして本発明を限定することを意図しない。工程420において、このAl2O3被覆ナノワイヤ成長基板は、沸騰水中で処理される。沸騰水による処理は、結晶化を誘導し、粒子の境界を際立たせ、そしてAl2O3被覆の表面上に−OH基を導入する。
工程430において、上記Al2O3被覆ナノワイヤ成長基板は、コロイド溶液中に浸漬される。このコロイドは、Auであり得るが、Auに限定されない。金粒子の密度は、金コロイド溶液の濃度および浸漬時間を変えることによって制御され得る。
実験室における試験では、SEM画像の分析は、上記基板上の金粒子の分散、密度および形態学についての情報を集めるために使用された。この結果は、この基板上の金粒子の分散が完全に均一であることを示した。例えば、直径40ナノメートルの金粒子に関して、金粒子の密度は、2粒子/μm2と35粒子/μm2との間であるように制御され得る。注目すべきことに、90%を超える金粒子が、単一であった(すなわち、この金粒子は、凝塊を形成しなかった)。
工程440において、ナノワイヤは、上記表面上に分散されたコロイド粒子を有するAl2O3被覆基板上で成長する。成長の方法は、本明細書中の教示に基づいて当業者に公知である。工程450において、方法400は、終了する。
図4Bは、本発明の実施形態に従う、ZnO緩衝層を有する触媒被覆されたナノワイヤ成長基板を使用して配向Siナノワイヤを成長させるための方法460のフローチャートである。方法460は、方法200の1つの実施形態であり、この実施形態は、ZnOを緩衝層として使用することによる配向ナノワイヤの成長を提供する。
方法460は、工程465で始まる。工程465において、ZnOは、Siが<111>のMiller指数を有するSi基板上に堆積する。方法200におけるように、この基板は、種々の物質の型を有し得、そしてこのSiは、異なる配向を有し得る。ZnO緩衝層は、触媒粒子を誘引する荷電した表面を提供する。さらに、このZnO緩衝層は、エピタキシャルな配向ナノワイヤの成長を容易にする。実施形態において、このZnO層は、約10nm未満の厚さである。工程470において、このZnO被覆Si<111>ナノワイヤ成長基板は、Auコロイド溶液中に浸漬される。他の実施形態において、例えば、Ptナノ粒子、Feナノ粒子、Tiナノ粒子、Gaナノ粒子、またはSnナノ粒子が、使用され得る。
工程475において、SiCl4は、配向Siナノワイヤの成長を刺激するために導入される。代替的な実施形態において、SiH2Cl2またはSiClはまた、ナノワイヤの成長を刺激するために使用され得る。ナノワイヤの成長の間に、ZnOは、このナノワイヤがナノワイヤ自体をSi<111>ナノワイヤ成長基板表面に整列させることを可能にするClイオンによってエッチングされ、それによって配向Siナノワイヤの成長を提供する。工程480において、方法400は、終了する。
図5Aは、本発明の実施形態に従う、ナノワイヤを有するナノワイヤ成長基板500の線図である。触媒被覆されたナノワイヤ成長基板500は、ナノワイヤ成長基板510、緩衝層520、ナノワイヤ530および触媒のナノ粒子540を備える。ナノワイヤ成長基板510は、触媒被覆されたナノワイヤ成長基板500の基礎を形成する。実施形態において、ナノワイヤ成長基板510は、以下の物質の1つを含み得るが、これらに限定されない:半導体、金属、セラミック、ガラスまたはプラスチック。
緩衝層520は、ナノワイヤ成長基板510の表面上に塗布される。実施形態において、緩衝層520は、以下の物質の1つを含み得るが、これらに限定されない:Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2、MgO、またはZnO。この緩衝層は、触媒粒子を誘引する荷電した表面を提供する。さらに、この緩衝層は、基板と触媒粒子との反応を防止する保護層を提供する。
ナノワイヤ(例えば、ナノワイヤ530)は、緩衝層520表面から伸びるか、またはAlナノワイヤ成長基板では、Alナノワイヤ成長基板から直接伸びる。このナノワイヤは、以下の1つを含み得るが、これらに限定されない:Si、Ge、Six−1Gex、GaN、GaAs、InP、SiC、CdS、CdSe、ZnSまたはZnSe。実施形態において、ナノワイヤ(例えば、ナノワイヤ530)は、それらの末端の一方に触媒の粒子(例えば、触媒の粒子540)を有する。触媒の粒子540の物質は、以下のナノ粒子の型の1つであり得るが、これらに限定されない:Au、Pt、Pd、Cu、Al、Ni、Fe、Au合金、Pt合金、Pd合金、Cu合金、Al合金、Ni合金またはFe合金。実施形態において、このナノワイヤは、ナノワイヤ成長基板に対して、垂直に成長し得るか、好ましい角度で成長し得るか、またはランダムな配向性で成長し得る。さらに、実施形態において、このナノワイヤは、ワイヤの種々の直径および長さを伴って成長し得る。
図5Bは、本発明の実施形態に従う、短いSiナノワイヤを伴うAl2O3緩衝層を有するSiナノワイヤ成長基板のSEM写真である。図5Cは、本発明の実施形態に従う、長いSiナノワイヤを伴うAl2O3緩衝層を有するSiナノワイヤ成長基板のSEM写真である。図5Bおよび図5Cは、図5Aに提供されたナノワイヤ500を有するナノワイヤ成長基板の実施形態の実際の画像を提供する。
図5Dは、本発明の実施形態に従う、石英キャピラリー内に完全に成長したSiナノワイヤを伴うAl2O3緩衝層を有するSiナノワイヤ成長基板のSEM写真である。図5Eは、本発明の実施形態に従う、石英キャピラリー内に部分的に成長したSiナノワイヤを伴うAl2O3緩衝層を有するSiナノワイヤ成長基板のSEM写真である。図5Dおよび図5Eは、図5Aに提供されたナノワイヤ500を有するナノワイヤ成長基板の実施形態の実際の画像を提供する。図5Cおよび図5Dの両方において、ナノ構造化Al2O3緩衝層は、Siナノワイヤを成長させるために使用された。このナノワイヤは、約40nmの直径を有する。しかし、この場合において、このナノワイヤ成長基板は、石英キャピラリー内に、図3Bに示されるような配置で提供される。
図5Fは、網状のアルミニウム発泡体の構造を有する発泡体の表面のSEM写真である。図5Gは、本発明の実施形態に従う、Siナノワイヤによって被覆された網状のアルミニウム発泡体の構造のSEM写真である。
(ロールツーロールの連続的ナノワイヤ合成)
図6は、本発明の実施形態に従う、ナノワイヤ成長システム600の線図である。ナノワイヤ成長システム600は、触媒噴霧ディスペンサー605、プラズマクリーナー610、ナノワイヤ成長チャンバー615、ゲート誘電体堆積チャンバー620、ナノワイヤ収集超音波処理器625、ローラークリーナー635および沸騰水浴チャンバー650を備える。ローラー665は、これらの要素の各々を互いに連結する。スピンドル(例えば、スピンドル655およびスピンドル660)は、ローラー665を駆動する。さらに、ワイヤ収集超音波処理器625は、ナノワイヤ産物チャンバー630を備え、そしてローラークリーナー635は、溶媒ディスペンサー640および廃棄物除去チャンバー645を備える。
図6は、本発明の実施形態に従う、ナノワイヤ成長システム600の線図である。ナノワイヤ成長システム600は、触媒噴霧ディスペンサー605、プラズマクリーナー610、ナノワイヤ成長チャンバー615、ゲート誘電体堆積チャンバー620、ナノワイヤ収集超音波処理器625、ローラークリーナー635および沸騰水浴チャンバー650を備える。ローラー665は、これらの要素の各々を互いに連結する。スピンドル(例えば、スピンドル655およびスピンドル660)は、ローラー665を駆動する。さらに、ワイヤ収集超音波処理器625は、ナノワイヤ産物チャンバー630を備え、そしてローラークリーナー635は、溶媒ディスペンサー640および廃棄物除去チャンバー645を備える。
ナノワイヤ成長システム600は、連続的な様式または半連続的な様式で作動して、ナノワイヤを生産し得る。ナノワイヤ成長システム600は、現行のウエハベースのナノワイヤ生産方法より、多くのナノワイヤの処理量および高いナノワイヤ産物の制御を提供する。実施形態において、ローラー665は、アルミニウム箔である。ナノワイヤ成長システム600は、アルミニウム箔ローラー(例えば、ローラー665)上でナノワイヤを成長させ、そしてこのローラーをナノワイヤの成長が進行するように異なるチャンバーを通して移動することによってナノワイヤを生産する。
例えば、ある実施形態において、触媒噴霧ディスペンサー605は、アルミニウム箔ローラー(例えば、ローラー665)上にAuコロイドを噴霧して、ナノワイヤの成長を刺激する。スピンドル(例えば、スピンドル655およびスピンドル660)は、このシステムにおいて、次の段階であるプラズマクリーナー610にローラー665を進める。プラズマクリーナー610は、過剰なAuコロイド溶液を除去し、そしてローラー665を洗浄する。ローラー665は、ナノワイヤ成長チャンバー615に進み、ナノワイヤの成長が起きる。ナノワイヤ成長チャンバー615は、例えば、低圧化学蒸着(LP−CVD)または純粋気相式のチャンバーを使用して、ナノワイヤを成長させ得る。実施形態において、気体濃度は、本明細書中の教示に基づいて当業者に公知であるように、ナノワイヤの所望の特性を変化させるために変えられ得る。
ナノワイヤ成長チャンバー615の後、ローラー665は、ゲート誘電体堆積チャンバー620に進む。ゲート誘電体堆積チャンバー620において、ゲート誘電体は、ローラー665上のアルミニウム箔に固着されるナノワイヤ上に堆積する。一旦ゲート誘電体が堆積すると、ローラー665は、ローラー665上のナノワイヤをワイヤ収集超音波処理器625に進め、このナノワイヤは、ローラー665から離され、そしてナノワイヤ産物チャンバー630中に堆積する。例として、ローラー665上のナノワイヤは、このナノワイヤを放出させる超音波シグナルに曝される。溶液が、放出されるナノワイヤを受容し、そしてナノワイヤ産物チャンバー630にこれらを輸送するワイヤ収集超音波処理器に含まれる。
ローラー665は、ナノワイヤ成長システム600のナノワイヤ成長セクションを通る別のラウンドに備えて洗浄されるために、継続してナノワイヤ成長システム600通って進む。特に、ローラー665は、ローラークリーナー635を通って進む。ローラークリーナー635において、溶媒が溶媒ディスペンサー640から提供されて、このローラーを洗浄する。廃棄物は、ローラークリーナー635から除去され、そして廃棄物チャンバー645中に堆積する。ローラー635は、ローラークリーナー635を通って沸騰水浴チャンバー650に進み、ローラー635は、ナノワイヤ成長セクションを通る別のラウンドに対してこのローラーを準備するために、すすがれ、そして煮沸される。
ある実施形態において、ローラー665は、ナノワイヤ成長システム600を通って連続的に移動し得る。別の実施形態において、ローラー665は、成長システム600を通って半連続的に移動し得る。スピンドル(例えば、スピンドル655およびスピンドル660)は、ローラー665の移動速度を制御する。実施形態において、ローラー665の移動速度は、生産されるべきナノワイヤの所望の特性に基づいて変えられ得る。例えば、この移動速度は、ナノワイヤ物質、ドーピングの型およびレベル、ならびにナノワイヤの寸法の関数であり得る。動作の連続的な様式において、要素の間(例えば、プラズマクリーナー610およびナノワイヤ成長チャンバー615)の距離は、変えられて、ナノワイヤ成長システム600の異なる部分において必要とされる時間差を許容し得る。
ナノワイヤ成長システム600は、アルミニウム箔が使用される実施形態を用いて記載された。しかし、本発明は、アルミニウム箔ローラーの使用に限定されない。このローラーのために他の金属箔(例えば、ステンレス鋼、チタン、ニッケル、および鋼が挙げられるが、これらに限定されない)が、使用され得る。さらに、緩衝層を有するか、またはこれを有さない金属箔の任意の型が、使用され得るが、但し、箔または緩衝層は、使用されるべき特定のコロイドと反対に荷電される。
(結語)
本発明の例示的な実施形態が、示された。本発明は、これらの例に限定されない。これらの例は、例示を目的として本明細書中に示され、そして限定ではない。代替物(本明細書中に記載されるものの等価物、拡張物(extensions)、変異物(variations)、逸脱物(deviations)などを含む)は、本明細書中の教示に基づいて、当業者に明らかとなる。このような代替物は、本発明の範囲および精神に含まれる。
本発明の例示的な実施形態が、示された。本発明は、これらの例に限定されない。これらの例は、例示を目的として本明細書中に示され、そして限定ではない。代替物(本明細書中に記載されるものの等価物、拡張物(extensions)、変異物(variations)、逸脱物(deviations)などを含む)は、本明細書中の教示に基づいて、当業者に明らかとなる。このような代替物は、本発明の範囲および精神に含まれる。
Claims (50)
- ナノワイヤの成長のための触媒被覆されたナノワイヤ成長基板を製造する方法であって、該方法は、以下:
(a)基板上に緩衝層を堆積させる工程;
(b)該緩衝層と触媒粒子との間の相互作用を増強するために該緩衝層を処理する工程;および
(c)該緩衝層の表面上に触媒の粒子を堆積させる工程、
を包含する、方法。 - 前記緩衝層は、触媒の粒子を誘引する荷電した表面を提供する、請求項1に記載の方法。
- 前記緩衝層は、前記基板と触媒の粒子との間の反応を防止する保護層を提供する、請求項1に記載の方法。
- 前記緩衝層は、前記基板と前記触媒粒子との間の化学反応を防止する保護層を提供する、請求項1に記載の方法。
- 前記基板は、半導体、金属、セラミック、ガラスまたはプラスチックを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板は、ウエハ、箔、ブロック、チューブまたは発泡体の形状である、請求項1に記載の方法。
- 前記緩衝層は、Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2、MgOまたはZnOである、請求項1に記載の方法。
- 工程(a)は、前記基板上に前記緩衝層を堆積させるために、酸化、窒化物形成、スパッタリング、噴霧、浸漬被覆、電子ビーム蒸着、スピンコーティング、ロールツーロールコーティング、化学蒸着、またはプラズマ化学気相成長を包含する、請求項1に記載の方法。
- 前記緩衝層を処理する工程(b)は、水中で該緩衝層を煮沸する工程、該緩衝層を蒸気処理する工程、該緩衝層を酸で処理する工程、該緩衝層を塩基で処理する工程、または該緩衝層の表面に官能性をもたせる工程を包含する、請求項1に記載の方法。
- 工程(c)は、前記緩衝層の表面上に触媒の粒子を堆積させるために、電荷誘導性の自己集合、化学官能基誘導性の集合、スピンコーティング、または浸漬被覆を使用する工程を包含する、請求項1に記載の方法。
- 請求項1に記載の方法を使用して製造されるナノワイヤの成長のための触媒被覆されたナノワイヤ成長基板。
- Siナノワイヤを成長させる方法であって、該方法は、以下:
(a)Si基板上にAl2O3を堆積させる工程;
(b)沸騰水中でAl2O3被覆基板を処理する工程;
(c)Al2O3被覆Si基板をAuコロイド溶液中に浸漬する工程;および
(d)Al2O3被覆Si基板上でナノワイヤを成長させる工程、
を包含する、方法。 - 配向Siナノワイヤを成長させる方法であって、該方法は、以下:
(a)Si基板上にZnOを堆積させる工程;
(b)工程(a)で生産されたZnO被覆Si基板をAuコロイド溶液中に浸漬する工程;および
(c)配向Siナノワイヤを成長させる工程、
を包含する、方法。 - 工程(c)は、配向Siナノワイヤを成長させるためにSiCl4をZnO被覆Si基板に導入する工程を包含する、請求項13に記載の方法。
- 工程(a)の前記Si基板は、Si<111>基板である、請求項13に記載の方法。
- 組成物であって、該組成物は、以下:
ナノワイヤ成長基板;
該ナノワイヤ成長基板の表面上の緩衝層;および
該緩衝層の表面上の触媒粒子の層
を含有する、組成物。 - 前記ナノワイヤ成長基板は、半導体、金属、セラミック、ガラスまたはプラスチックである、請求項16に記載の組成物。
- 前記ナノワイヤ成長基板は、ウエハ、箔、ブロック、チューブ、または発泡体の形状を有する、請求項16に記載の組成物。
- 前記緩衝層は、触媒粒子を誘引する荷電した表面を提供するか、または前記基板と触媒粒子との間の化学反応を防止する保護層を提供する、請求項16に記載の組成物。
- 前記緩衝層は、Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2、MgOまたはZnOである、請求項16に記載の組成物。
- 前記触媒粒子は、Au、Pt、Pd、Cu、Al、Ni、Fe、Au合金、Pt合金、Pd合金、Cu合金、Al合金、Ni合金またはFe合金を含む、請求項16に記載の組成物。
- 組成物であって、該組成物は、以下:
ナノワイヤ成長基板;
該ナノワイヤ成長基板の表面上の緩衝層;
該緩衝層に固着されたナノワイヤ;および
該ナノワイヤの末端に固着された触媒粒子、
を含有する、組成物。 - 前記ナノワイヤ成長基板は、半導体、金属、セラミック、ガラスまたはプラスチックである、請求項22に記載の組成物。
- 前記ナノワイヤ成長基板は、ウエハ、箔、ブロック、チューブまたは発泡体の形状を有する、請求項22に記載の組成物。
- 前記緩衝層は、Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2、MgOまたはZnOである、請求項22に記載の組成物。
- 前記触媒粒子は、Au、Pt、Pd、Cu、Al、Ni、Fe、Au合金、Pt合金、Pd合金、Cu合金、Al合金、Ni合金またはFe合金を含む、請求項22に記載の組成物。
- 前記ナノワイヤは、Si、Ge、Six−1Gex、GaN、GaAs、InP、SiC、CdS、CdSe、ZnSまたはZnSeである、請求項22に記載の組成物。
- 前記ナノワイヤは、前記ナノワイヤ成長基板に対して、垂直に配向されるか、好ましい角度で配向されるか、またはランダムに配向される、請求項22に記載の組成物。
- 前記ナノワイヤは、種々のワイヤの直径および/またはワイヤの長さに基づいてパターン化される、請求項22に記載の組成物。
- 組成物であって、該組成物は、以下:
ナノワイヤ成長基板;
該ナノワイヤ成長基板の表面上の緩衝層;
該緩衝層に固着されたナノリボン;および
該ナノリボンの末端に固着された触媒粒子、
を含有する、組成物。 - ナノワイヤ成長システムであって、該システムは、以下:
ナノワイヤ成長基板を提供し、そしてナノワイヤを該ナノワイヤ成長システムを通して移動させるためのローラー;
触媒噴霧ディスペンサー;
プラズマクリーナー;
ナノワイヤ成長チャンバー;および
ナノワイヤ収集超音波処理器、
を備え、該ローラーは、該触媒噴霧ディスペンサー、該プラズマクリーナー、該ナノワイヤ成長チャンバーおよび該ナノワイヤ収集超音波処理器に連結される、ナノワイヤ成長システム。 - 請求項31に記載のナノワイヤ成長システムであって、該システムは、以下:
前記ローラーを洗浄するローラークリーナー;
該ローラーを浄化する沸騰水浴チャンバー、
をさらに備え、該ローラーは、該ローラークリーナーおよび該沸騰水浴チャンバーに連結される、ナノワイヤ成長システム。 - 請求項31に記載のナノワイヤ成長システムであって、ナノワイヤ上にゲート誘電体を堆積させるゲート誘電体堆積チャンバーをさらに備え、前記ローラーは、該ゲート誘電体堆積チャンバーに連結される、ナノワイヤ成長システム。
- 請求項31に記載のナノワイヤ成長システムであって、収集されたナノワイヤを回収するために、前記ワイヤ収集超音波処理器に連結されるナノワイヤ製造チャンバーをさらに備える、ナノワイヤ成長システム。
- 請求項31に記載のナノワイヤ成長システムであって、前記ローラーの移動速度を制御する複数のスピンドルをさらに備える、ナノワイヤ成長システム。
- 前記ローラーの速度は、連続的であるか、または半連続的である、請求項31に記載のナノワイヤ成長システム。
- 前記複数のスピンドルの速度は、ナノワイヤ産物の1つ以上の所望の特性に基づいて調整され得る、請求項31に記載のナノワイヤ成長システム。
- 前記ローラーは、金属箔である、請求項31に記載のナノワイヤ成長システム。
- 前記金属箔は、Al2O3箔、SiO2箔、TiO2箔、ZrO2箔、MgO箔、またはZnO箔である、請求項38に記載のナノワイヤ成長システム。
- 前記金属薄膜は、ニッケル箔、鋼箔、ステンレス鋼箔、またはチタン箔である、請求項38に記載のナノワイヤ成長システム。
- 前記触媒噴霧ディスペンサーは、Auコロイド噴霧ディスペンサーである、請求項31に記載のナノワイヤ成長システム。
- 前記ナノワイヤ成長チャンバーは、低圧化学蒸着式のナノワイヤ成長チャンバーまたは高純度気相式のナノワイヤ成長チャンバーである、請求項31に記載のナノワイヤ成長システム。
- プロセスガスの濃度は、特定の特性を有するナノワイヤを製造するために、前記ナノワイヤ成長チャンバー内で変えられる、請求項31に記載のナノワイヤ成長システム。
- ナノワイヤ成長システムを使用してナノワイヤを製造するための方法であって、該方法は、以下:
(a)該ナノワイヤ成長システムのローラー上に触媒を噴霧する工程;
(b)該ローラーをプラズマクリーナーに進める工程;
(c)該プラズマクリーナー内で該触媒を洗浄する工程;
(d)該ローラーをナノワイヤ成長チャンバーに進める工程;
(e)該ナノワイヤ成長チャンバー内でナノワイヤを成長させる工程;
(f)該ローラーをワイヤ収集超音波処理器に進める工程;および
(g)ナノワイヤを収集する工程、
を包含する、方法。 - 請求項44に記載の方法であって、該方法は、以下:
(h)前記ローラーをローラークリーナーに進める工程;
(i)該ローラーを該ローラークリーナー内で洗浄する工程;
(j)該ローラーを沸騰水浴チャンバーに進める工程;および
(k)該ローラーを該沸騰水浴チャンバー中で再度洗浄する工程、
をさらに包含する、方法。 - 請求項44に記載の方法であって、該方法は、工程(e)と工程(f)との間に、以下:
(h)前記ローラーをゲート誘電体堆積チャンバーに進める工程;および
(i)ナノワイヤ上にゲート誘電体を堆積させる工程、
をさらに包含する、方法。 - 前記ローラーは、金属箔である、請求項44に記載の方法。
- 前記金属箔は、AI2O3箔、SiO2箔、TiO2箔、ZrO2箔、MgO箔、またはZnO箔である、請求項47に記載の方法。
- 前記金属箔は、ステンレス鋼箔、鋼箔、チタン箔またはニッケル箔である、請求項47に記載の方法。
- 請求項44に記載の方法であって、該方法は、連続的であるか、または半連続的である、方法。
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