JP2007505810A5

JP2007505810A5 -

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Publication number: JP2007505810A5
Application number: JP2006526656A
Authority: JP
Filing date: 2004-08-18
Publication date: 2007-08-16
Anticipated expiration: 2024-08-18

Claims

３つの銀層（Ａｇ₁，Ａｇ₂，Ａｇ₃）を包含し、かつ二酸化チタン層（２１）、金属酸化物層（２２）、銀層（Ａｇ₁，Ａｇ₂，Ａｇ₃）の１つ及び被覆層（２３）を基板上に交互に含んで成る薄膜多重層（２０）が備わった透明基板において、
金属酸化物が酸化亜鉛であること；
被覆層（２３）が犠牲金属であること；及び
少なくとも１つの金属酸化物を含む反射防止層（２４）が、基板から最も遠く離れた銀層（Ａｇ₃）のための被覆層（２３）上に被着されていること、
を特徴とする透明基板。
銀層（Ａｇ₁，Ａｇ₂，Ａｇ₃）の各々の厚みが１３ｎｍ〜１９ｎｍの間であることを特徴とする請求項１に記載の基板。
それぞれの層（Ａｇ₁，Ａｇ₂，Ａｇ₃）の厚み（ｅＡｇ₁，ｅＡｇ₂，ｅＡｇ₃）が同一であるか、さもなければ、０．８〜１．２の間の比率で変動し、ｅＡｇ₁≦ｅＡｇ₃≦ｅＡｇ₂となるようなものであることを特徴とする請求項２に記載の基板。
基板に最も近い銀層（Ａｇ₁）のための副層としての二酸化チタン層（２１）が、１０〜２０ｎｍの厚みを有し、その他の２つの銀層（Ａｇ₂，Ａｇ₃）のための副層としての酸化チタン層（２１）が、３５〜５５ｎｍの厚みを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板。
酸化亜鉛層（２２）が１５ｎｍより大きい厚みを有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板。
犠牲金属層（２３）が、ニオブ（Ｎｂ）、チタン（Ｔｉ）又はジルコニウム（Ｚｒ）からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板。
犠牲金属層（２３）が、２ｎｍを超えない厚みを有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の基板。
反射防止層（２４）が、２５〜５０ｎｍの厚みを有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の基板。
反射防止層（２４）が、１５〜３５ｎｍの厚みを有する少なくとも１つの二酸化チタン層を内含することを特徴とする請求項８に記載の基板。
反射防止層（２４）が、二酸化チタン層及びこの二酸化チタン層上に被着させられ５〜１５ｎｍの厚みを有する金属酸化物のもう１つの層を内含することを特徴とする請求項８又は９のいずれかに記載の基板。
反射防止層（２４）の金属酸化物層が、酸化錫（ＳｎＯ₂）又は窒化珪素（Ｓｉ₃Ｎ₄）であることを特徴とする請求項１０に記載の基板。
１Ω／□を超えない表面抵抗を有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の基板。
強化ガラス又は非強化ガラスから作られているか又はプラスチックから作られていることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の基板。
下記のような光学特性：
４５〜５５％の間の光透過率Ｔ_L；
透過における１０％未満の純度；
５％未満の光反射率Ｒ_L；
２０％未満の純度での反射における主として紫−青の色；
透過における主として青の色、
を有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の基板を含む電磁遮蔽フィルタ。
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の少なくとも１つの基板又はフィルタをその前面に内蔵するプラズマディスプレイタイプの表示スクリーン。