JP3549761B2 - 電磁波遮蔽膜付き基板 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、外部からの電磁波を室内に入れない、或いは発生する電磁波を外部に出さないようにする電磁波遮蔽膜付き基板に関する。
【０００２】
【従来技術とその解決すべき課題】
事務所ビルなどにおいて、建物内でＯＡ機器などの電子機器、高周波機器などが発生する電磁波を外部に出さず、外部の自動車、電車などの乗り物、各種の無線機器、高圧線などから到来する電磁波を建物内に入れないことで、建物内のフロアを電波に対して独立した空間にすることが、近年求められるようになってきた。
【０００３】
従って、建物などにおいては、壁、天井、床などを電磁波遮蔽構造とするとともに、窓などの開口部にも電磁波遮蔽部材を使用して、ビル全体或いは特定のフロアを電磁遮蔽構造にする必要がある。
【０００４】
このような窓などに好適な電磁波遮蔽ガラスとして、ガラス上にＩＴＯ膜やＳｎＯ２膜等の導電性膜を被覆するものがあるが、電磁波の遮蔽性能を３０ｄＢ以上とするには該膜の表面シート抵抗を２．３Ω／□以下の低抵抗とする必要があり、そのためには膜厚を約１，０００ｎｍ以上に厚くする必要がある。
しかしながら、そのように膜厚を厚くすると可視光線透過率が非常に低くなるとともに、ニュートラルな色調を得ることは困難であるという欠点がある。
【０００５】
また、例えば、特公平５−７０５８０号公報、特公平８−３２４４３６号公報には、抵抗値が低いＬｏｗ−Ｅの膜としてＡｇ層を２層にし、透明酸化物と交互に積層したものが一般に知られている。しかし、これらの構成のものは比較的高い可視光線透過率で低い抵抗値のガラスを得ることは可能であるが、前記のように２．３Ω／□以下の低抵抗のものを得るためには、２層の各々のＡｇ層の膜厚を１５ｎｍ以上の膜厚にする必要がある。
このようにすると可視光線透過率が低くなり外の景色がほとんど見えなくなったり、反射色調が赤紫色等の非常に濃い色となってしまい外観の品質上、一般的なビルの外層や住宅向けには使用に耐えられないものとなる欠点がある。
また、従来の銀層を有するものは、耐湿性に劣るため取り扱いに充分な注意をしないと斑点状の欠陥が発生する恐れがあった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、従来のかかる課題に鑑みてなしたものであって、高可視光線透過率で耐湿性に優れ且つ反射色調に違和感のない３０ｄＢ以上（１ＧＨｚ）の高電磁波遮蔽性能を有する電磁波遮蔽膜付き基板について鋭意検討した結果、Ａｇ層を１５ｎｍ以上に厚くしても特定の膜構成で且つ銀層の直上層に亜鉛金属にＡｌ金属を含有させたＺｎＡｌ合金からなる金属バリアー層を特定の厚さ設けることにより高電磁波遮蔽性能を有する高品質の電磁波遮蔽膜付き基板が得られることを見出した。
【０００７】
すなわち、本発明は、透明基板上に、透明酸化物層および／または
透明窒化物層よりなる第１層／Ａｇ層よりなる第２層／ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層よりなる第３層／透明酸化物層および／または透明窒化物層よりなる第４層／Ａｇ層よりなる第５層／ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層よりなる第６層/透明酸化物層および／または透明窒化物よりなる第７層からなる被膜が順次積層され、第１層目の膜厚が２６〜３６ｎｍ，第２層及び第５層の膜厚がそれぞれ１５ｎｍ〜５０ｎｍ、第３層及び第６層の膜厚がそれぞれ１．５ｎｍ以下、第４層の膜厚が８０〜１００ｎｍ、第７層の膜厚が２３〜４０ｎｍからなることを特徴とする電磁波遮蔽膜付き基板に関する。
【０００８】
また、前記被膜の表面シート抵抗値が２．３Ω／□以下、可視光線透過率が３０〜８０％、被膜の被覆されていない透明基板面の反射色調はＬａ＊ｂ＊表示において、−２０＜ａ＊＜−５、−４０＜ｂ＊＜１０の範囲である無彩色からやや青緑色の色調を呈することことが好ましい。
【０００９】
さらに、第１層、第４層および第７層の透明金属酸化物層および／または透明金属窒化物層は、ＺｎＯ２，ＺｎＡｌＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｎ３、Ｓｉ２Ｎ３のうちから選択された少なくとも１種からなることが好ましい。
【００１０】
さらにまた、ＺｎＡｌの金属バリアー層は、Ａｌを１〜１０原子％含むＺｎＡｌ合金であることが好ましく、さらに、第２層および第５層のＡｇ層の膜厚が２０ｎｍ以上で、１ＧＨＺにおける電磁波遮蔽性能が４０ｄＢ以上であることが好適である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の電磁波遮蔽膜付き基板は、透明基板上に、透明酸化物層および／または透明窒化物層よりなる第１層／Ａｇ層よりなる第２層／ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層よりなる第３層／透明酸化物層および／または透明窒化物層よりなる第４層／Ａｇ層よりなる第５層／ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層よりなる第６層/透明酸化物層および／または透明窒化物よりなる第７層からなる被膜が順次積層され、第１層目の膜厚が２６〜３６ｎｍ，第２層及び第５層の膜厚がそれぞれ１５ｎｍ〜５０ｎｍ、第３層及び第６層の膜厚がそれぞれ１．５ｎｍ以下、第４層の膜厚が８０〜１００ｎｍ、第７層の膜厚が２３〜４０ｎｍからなる。
【００１２】
上記の透明酸化物層および／または透明窒化物層よりなる第１層、第４層および第７層は、ＺｎＯ２，ＺｎＡｌＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２等の透明酸化物、Ａｌ２Ｎ３、Ｓｉ２Ｎ３等の透明窒化物の内から選択された少なくとも１種からなることが好ましい。
なお、第１層の膜厚を２６〜３６ｎｍ，第４層の膜厚を８０〜１００ｎｍ、７層の膜厚を２３〜４０ｎｍの範囲にそれぞれすることにより、目的とする色調および光学特性を得ることができる。
【００１３】
そのうち、酸化物層としてのＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層よりなる非晶質の被膜は、化学的にも機械的にも強く、且つ非晶質のルーズな構造のためガラスとの密着力も強く、内部応力も発生しにくい。従ってガラスの直上に被覆する第１層被膜はＳｎＯ２層及び／又はＴｉＯ２層が望ましい。ガラスとの密着力を高め、アルカリイオンの影響を断つための第１層のＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層の厚みは少なくとも５ｎｍが必要である。
【００１４】
しかし、ＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層は特にＡｇとの密着力が劣り、ＳｎＯ２層、ＴｉＯ２層／Ａｇ層界面での剥離が起こりやすい。又、ＳｎＯ２はそのイオン化傾向から分かるように酸素との結合が弱く、被膜内の酸素の化学的ポテンシャルが高いため、Ａｇ層に酸素が拡散しやすく電気抵抗が上り、高電磁波遮蔽を達成し難い。
【００１５】
以上より、ＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層よりなる層はＡｇ層と接触させないことが好ましい。なお、ＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層には化学的、機械的特性を向上し、またガラスとの密着力も強くする非晶質の被膜成分としての元素が含まれても良い。
【００１６】
ＺｎＯ２層は、Ａｇ層との密着力が高く、又酸素との高い結合力によって層内の酸素のポテンシャルが低いため、Ａｇ層内に酸素が拡散しにくい。従ってＡｇ層直下の層はＺｎＯ２層が望ましい。その下のＳｎＯ２層からの酸素の拡散を防ぎ、Ａｇ層との強い密着力を得るためのＺｎＯ２層の厚みは少なくとも３ｎｍは必要である。なお、ＺｎＯ２層にはＡｇ層との密着力を低下せず、Ａｇ層内に酸素が拡散しにくくするような被膜の成分としての公知の元素が含まれても良い。
【００１７】
なお、Ａｇ層に接触する酸化物層中の酸素の化学ポテンシャルはできる限り低く保つことが肝要で、ＺｎＯ２成膜時の雰囲気は酸素と共にできるだけ多くのアルゴンを添加するのが望ましい。望ましいアルゴンの添加率は設備によって異なるが、概ね１０〜３０％である。この値は酸素雰囲気から徐々にアルゴンを添加していき、ターゲットに掛かる電圧が急に上がるか、電流が急に下がる現象を観測し、そこからアルゴンを若干減らすことで決められる。
【００１８】
また、ＺｎＯ２層は緻密で大気中の腐食性ガスの拡散を防ぐ効果があり、また太陽光線に含まれる紫外線を吸収する働きがあるが化学的耐久性が低いため、第７層の上層にＺｎＯ２層を用いる場合には、さらにその上層に非晶質酸化物であるＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層を設けるのが望ましい。該ＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層の膜厚は１ｎｍ以上が好ましい。
【００１９】
第２層、第５層に用いられるＡｇ層の厚みは、電磁波遮蔽性、可視光線透過率および反射色調に影響し、３０ｄＢ以上の高電磁波遮蔽性を得るためには１５ｎｍ以上の膜厚が必要であり、高可視光線透過率、とりわけ７０％以上を確保し、且つ赤い反射光を避けるためには６０ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００２０】
なお、Ａｇ層の膜厚を２０ｎｍ以上とすることにより、該膜の表面シート抵抗は、２Ω／□以下の低抵抗となり、電磁遮蔽性能も４０ｄＢ以上が得られるので、さらに高電磁遮蔽性能が必要な窓には、Ａｇ層の膜厚を２０ｎｍ以上の膜構成とすることが特に好ましい。また、Ａｇ層はＡｇを主成分としＡｇにＡｕ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｉｒ等の元素が含まれても良い。
【００２１】
Ａｇ層の直上部に用いられる第４層、第７層の金属バリアー層は、Ａｇ層と酸化物層および／または窒化物層の両方に高い密着性をもつＡｌを１〜１０原子％含むＺｎＡｌ合金層が望ましい。なお、ここでいう金属バリアー層とは、Ａｇ層の直上に第４層および／または第７層の金属バリアー層を成膜した直後は全厚が合金層であるが、次いで、例えば、該合金層の上層に第４層あるいは第７層の酸化物層等を成膜する時、酸化性雰囲気（例えば酸素８０％、アルゴン２０％）で成膜するため、該合金層の上層部の一部が酸化物に変換される。この上層部が酸化された酸化物層と残った合金層を含めて金属バリアー層と呼ぶ。すなわち、金属バリアー層の膜厚とは、最初にＺｎＡｌ合金層を成膜した時の膜厚を示す。
【００２２】
該金属バリアー層の作用は、前記第４層或いは第７層の酸化物層を成膜する際に、その酸化性雰囲気の影響が下部のＡｇ層に及ばないように成膜中のＡｇ層を保護することと、或いは窒化物の場合にはＡｇ層が酸化されないように該金属バリアー層を介在させて該Ａｇ層が酸化されるのを保護するためのものである。さらに、成膜後に大気中の水分が膜中に入りこみＡｇを酸化させるのを防ぎ、Ａｇ層の耐湿性を向上する作用も併せて有している。
この金属バリアー層としては、前記のようにＺｎＡｌ合金が好ましく、特にＡｌを１．０〜１０．０原子％含むＺｎＡｌ合金は、酸素との結合力が高く、最も効果的にＡｇ層中に拡散してきた酸素その他の腐食性イオンをトラップするので特に好ましい。
【００２３】
金属バリアー層の膜厚は、厚いほど強い効果が長続きすることは当然であるが、厚すぎると可視光線透過率を下げてしまう。しかし次に酸化物を成膜する際、該金属バリアー層の一部は酸化されるので、その酸化前の最初の金属層の厚みは例えば８ｎｍ以下とし、前記のようにその一部が酸化され残った金属バリアー層が１．５ｎｍ以下とすれば高い透過率が得られる。
【００２４】
本発明の透明基板としては、透明のガラス、プラスチック等を用いることが出来、例えばガラス基板としては、自動車用ならびに建築用ガラス等に通常用いられている普通板ガラス、所謂フロート板ガラスなどであり、クリアをはじめグリ−ン、ブロンズ等各種着色ガラスや各種機能性ガラス、強化ガラスやそれに類するガラス、合せガラスのほか複層ガラス等、さらに平板あるいは曲げ板等各種板ガラス製品として使用できることは言うまでもない。また、ガラスは透明プラスチック板等との積層体であってもよい。なお、ガラスの組成は、ソーダ石灰ガラス、アルミノシリケートガラス等であるが、これらに限定されないことは、言うまでもない。
【００２５】
得られた電磁波遮蔽膜付き基板は、被膜の表面シート抵抗値が２．３Ω／□以下、可視光線透過率が３０〜８０％と高透過率から低透過率まで自在に制御でき、また、色調についてはＬａ＊ｂ＊表示において、
−２０＜ａ＊＜−５、−４０＜ｂ＊＜１０の範囲である無彩色からやや青緑色の色調を呈するので、目視で見た場合に違和感のない落ち着いた感じの色調となる。また、電磁波遮蔽性能（１ＧＨＺ）については、３０ｄＢが可能であり、用途によって４０ｄＢ以上のさらに高性能のものも自由に選択出来る。
【００２６】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。なお、成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により行った。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではない。
【００２７】
実施例１
大きさが１８００ｍｍ×２４０００ｍｍ×約３ｍｍのフロートガラス上に、下記順序で被膜を形成した。スパッタ装置は、カソードに予めＳｎ、Ｚｎ（３台）、Ａｇ、ＺｎＡｌ（Ａｌ含有率４原子％）の各金属ターゲットを取り付けたのち、成膜前の圧力が５×１０−５Ｔｏｒｒとなるまで真空チャンバー内の排気を充分に行った。本方法は、真空チャンバー内のターゲットの下方に搬送ロールが設置され、そのロール上をガラス板が往復動する時に電力が印加されたターゲットより所定の金属層あるいは金属酸化物層がガラス板上に成膜されるようになっている。
【００２８】
先ず１パス目として、成膜室の雰囲気を酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、Ｓｎターゲットにより第１層の１層目としてのＳｎＯ２層を８．８ｎｍ成膜した後、 １層目と同条件でＺｎターゲットにより第１層の２層目のＺｎＯ２層を２３．１ｎｍ成膜した。次に２パス目として雰囲気をＡｒ１００％の不活性雰囲気に保持し、Ａｇターゲットにより第２層としてのＡｇ層を１６．５ｎｍ、ＺｎＡｌターゲットにより第３層のＺｎＡｌ合金層（いわゆる金属バリアー層）を０．８ｎｍ成膜した。３パス目として成膜室の雰囲気を再び酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、第４層の酸化物層を形成した。第４層の１層目としてのＺｎＡｌＯ２層を３．６ｎｍ、２層目としてのＳｎＯ２層を６．９ｎｍ、３層目としてのＺｎＯ２層を１７．９ｎｍを順次成膜した。、さらに４パス目として３パス目と同じ雰囲気で３層目の追加としてのＺｎＯ２層を１７．８ｎｍ、４層目としてのＳｎＯ２層を１３．８ｎｍ成膜した後、さらに５パス目として５層目としてのＺｎＯ２層を３５．７ｎｍ成膜した。さらに６パス目として雰囲気をＡｒ１００％の不活性雰囲気に保持し、Ａｇターゲットにより第５層としてのＡｇ層を１６．５ｎｍ、ＺｎＡｌターゲットにより第６層のＺｎＡｌ合金層（いわゆる金属バリアー層）を０．８ｎｍ成膜した。次に７パス目として成膜室の雰囲気を再び酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、第７層の１層目としてのＺｎＡｌＯ２層を２．９ｎｍ、２層目としてのＳｎＯ２層を５．５ｎｍ、３層目としてのＺｎＯ２層を１８．７ｎｍ、８パス目として４層目としてのＳｎＯ２層を１．７ｎｍ順次成膜し、ガラスを成膜室より排出した。
【００２９】
なお、第３層および第６層のＺｎＡｌ合金層（金属バリアー層）の上層に酸化性雰囲気で第４層および第７層を成膜するとき、第３層および第６層のＺｎＡｌ合金層は酸化されていた。
また、第１層、第４層および第７層の酸化物層の膜厚は、合計でそれぞれ３１．９ｎｍ、９５．７ｎｍ、２８．８ｎｍであった。
膜構成と各膜の膜厚を、表１に示す。
なお、表１にはＺｎＯ２層、ＳｎＯ２層、ＺｎＡｌＯ２層を簡略化のためＺｎＯ、ＳｎＯ、ＺｎＡｌＯで示した。
【００３０】
【表１】
また、各被膜の膜厚Ｄは搬送速度とカソード電力で調整し、その値は予め１００ｎｍ前後の厚さに電力Ｅ０、搬送速度Ｖ０で成膜した被膜を部分的にエッチングによって除去し、その段差を触針式表面粗さ計で測定して厚みＤ０を求め、実施例におけるカソード電力Ｅ、搬送速度をＶとして、Ｄ＝Ｄ０×Ｅ／Ｅ０×Ｖ０／Ｖの式に従って求めた。
【００３１】
得られた電磁波遮蔽基板の可視光透過率（％）、被膜の被覆していない側のガラス面の反射率（％）、ガラス面の反射色調ａ＊値、ｂ＊値（Ｌａ＊ｂ＊表示法による）、ガラス面の目視による色調（目視角度；真正面および４５°方向）、膜表面のシート抵抗値（Ω／□）、電磁遮蔽性能値（１ＧＨＺ）および耐湿性を表２に、また反射色調の色度座標を図１に示す。
【００３２】
なお、表２の耐湿性の欄における◎、△、×の各記号は下記の内容を示す。
【００３３】
◎：２週間経過後 径＝０．２ｍｍ以上の欠陥なし
△：２週間経過後 径＝０．２ｍｍ以上の欠陥有り，径＝０．５ｍｍ以上の欠陥なし
×：２週間経過後 径＝０．５ｍｍ以上の欠陥有り
また、図１の色度座標における、図内の▲１▼〜▲８▼は下記サンプルＮｏを示す。
【００３４】
▲１▼；実施例１、▲２▼；実施例２、▲３▼；実施例３、▲４▼；比較例１、▲５▼；比較例２，▲６▼；比較例３，▲７▼；比較例４、▲８▼；比較例５
【００３５】
【表２】
得られた電磁波遮蔽基板の可視光線透過率は、分光光度計により、また反射色調は、ｐｈｏｔａｌ（型式；ＭＣ−８５０Ａ（コントロール），ＭＣＰＤ１００（スペクトロマルチチャンネル），ＵＶ−ＶＩＳ（フォトディテクター）、大塚エレクトロニクス製）により、また抵抗値は、４探針プローブ抵抗計（エプソン社製）により、電磁波遮蔽性能は、米国軍用規格ＭＩＬ−ｓｔｄ２８５に準じる、また耐湿性は温度３０度 湿度９０％の恒温槽に保管（環境試験機 タバイエタック 製品名 ビルトイン Ｈシリーズ 型式 ＴＢＬ−３ＨＷＯＧＡＣ）によりそれぞれ測定した。
【００３６】
評価の結果、表２および図１に示すように、可視光線透過率は約７５％と高く、ガラス面の反射色調も緑色から青緑色の落ち着いた色調であり、電磁波遮蔽性能も３５ｄＢ以上と高性能のものが得られた。
さらに、耐湿性も良好であった。
【００３７】
実施例２
実施例１と比較して、第４層５層目のＺｎＯ２層は成膜せず、その他は表１に示すような膜厚になるように実施例１と同様に成膜した。
なお、第１層、第４層および第７層の酸化物層の膜厚は、合計でそれぞれ３３．４ｎｍ、８５．８ｎｍ、３５．７ｎｍであった。
【００３８】
評価の結果、可視光線透過率は約６６％と高く、ガラス面の反射色調も青緑色から青色の落ち着いた色調であり、電磁波遮蔽性能も４１ｄＢと高性能のものが得られた。
さらに、耐湿性も良好であった。なお、表２の耐湿性の欄の◎印は耐湿性の良好のものであり、△印は長期耐湿性に劣り好ましくなく、×印は全く耐湿性に劣るものを示す。
【００３９】
実施例３
実施例１と比較して、第４層５層目のＺｎＯ２層は成膜せず、その他は表１に示すような膜厚になるように実施例１と同様に成膜した。
なお、第１層、第４層および第７層の酸化物層の膜厚は、合計でそれぞれ３４．８ｎｍ、９１．１ｎｍ、３５．４ｎｍであった。
【００４０】
評価の結果、可視光線透過率は約５６％とやや透視性を抑えたものであり、ガラス面の反射色調も青緑色から青色の落ち着いた色調であり、電磁波遮蔽性能も４３ｄＢと高性能のものが得られた。
さらに、耐湿性も良好であった。
【００４１】
比較例１
実施例１と同様に、カソードには予め、Ｚｎ、Ａｇの各金属ターゲットを取り付けた。先ず１パス目として、成膜室の雰囲気を酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、第１層としてのＺｎＯ２層を３８．０ｎｍ成膜した。次に２パス目として雰囲気をＡｒ１００％の不活性雰囲気に保持し、次いでＡｇ層を１６．６ｎｍ、第３層のＺｎ層を１．７ｎｍ成膜した。３パス目として成膜室の雰囲気を再び酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、次にＺｎＯ２層を７０ｎｍ成膜し、さらに４パス目として２パス目と同じ雰囲気で、第５層のＡｇ層を１６．６ｎｍ、第６層のＺｎ層を１．７ｎｍ成膜し、５パス目として３パス目と同じ雰囲気でＺｎＯ２層を３２．５ｎｍ成膜ガラスしたのち、成膜室より排出した。
【００４２】
評価の結果、可視光線透過率は約６５％と高透過率であり、電磁波遮蔽性能も３６ｄＢと高性能のものが得られたが、ガラス面の反射色調が赤から橙色と違和感のある色調であり、好ましいものではなかった。
さらに、耐湿性も２週間経過後膜の白濁のピンホール欠陥がみられ、好ましくなかった。
【００４３】
比較例２
比較例１と比較して、第３層および第６層の金属バリアー層としてのＺｎの代わりに、Ｔｉターゲットを用いてＴｉの金属バリアー層を成膜した。なお、各膜の膜厚は表１に示す通りである。
【００４４】
評価の結果、可視光線透過率は約６９％と高透過率であり、電磁波遮蔽性能も３７ｄＢと高性能のものが得られたが、比較例１と同様にガラス面の反射色調が赤から橙色と違和感のある色調であり、好ましいものではなかった。
さらに、耐湿性も２週間経過後膜の白濁のピンホール欠陥がみられ、好ましくなかった。
【００４５】
比較例３
比較例２と同じターゲットを用いて、表１に示す膜厚に成膜した。
【００４６】
評価の結果、可視光線透過率は約７６％と高透過率であり、電磁波遮蔽性能も３０ｄＢものが得られたが、ガラス面の反射色調が白から赤紫色と違和感のある色調であり、好ましいものではなかった。
さらに、耐湿性も２週間経過後膜の白濁のピンホール欠陥がみられ、好ましくなかった。
【００４７】
比較例４
比較例１と同様に、カソードには予め、Ｚｎ、Ａｇ、ＺｎＡの各金属ターゲットを取り付けた。先ず１パス目として、成膜室の雰囲気を酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、第１層としてのＺｎＯ２層を３８．０ｎｍ成膜した。次に２パス目として雰囲気をＡｒ１００％の不活性雰囲気に保持し、次いでＡｇ層を１７．０ｎｍ、第３層のＺｎＡｌ層を１．０ｎｍ成膜した。３パス目として成膜室の雰囲気を再び酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、第４層の１層目としてのＺｎＡｌＯ２層を３．６ｎｍ、２層目としてのＺｎＯ２層を６１．４ｎｍを順次成膜し、さらに４パス目として２パス目と同じ雰囲気で、第５層のＡｇ層を１７．０ｎｍ、第６層のＺｎＡｌ層を１．０ｎｍ成膜し、５パス目として３パス目と同じ雰囲気でＺｎＡｌＯ２層を３．６ｎｍ、次いでＺｎＯ２層を２８．４ｎｍを順次成膜したのち、成膜室より排出した。
なお、第４層および第７層の酸化物層の膜厚は、合計でそれぞれ６９．０ｎｍ、３４．０ｎｍであった。
【００４８】
評価の結果、可視光線透過率は約７２％と高透過率であり、電磁波遮蔽性能も３６ｄＢと高性能のものが得られたが、比較例１と同様にガラス面の反射色調が赤から橙色と違和感のある色調であり、好ましいものではなかった。
さらに、耐湿性も２週間経過後膜の白濁のピンホール欠陥がみられ、好ましくなかった。
【００４９】
比較例５
比較例４と同じターゲットを用いて、表１に示すような膜厚になるようにそれぞれ成膜した。
【００５０】
評価の結果、可視光線透過率は約７１％と高透過率であり、電磁波遮蔽性能も３６ｄＢと高性能のものが得られたが、比較例３と同様にガラス面の反射色調が白から紫色と違和感のある色調であり、好ましいものではなかった。
さらに、耐湿性も２週間経過後膜の白濁のピンホール欠陥がみられ、好ましくなかった。
【００５１】
【発明の効果】
本発明は、反射色調が無彩色から青緑色である違和感のない３０ｄＢ以上（１ＧＨｚ）の高電磁波遮蔽性能を有し、さらに可視光線透過率が８０％以下から３０％まで自在に得られる耐湿性の優れた高品質・高性能の電磁波遮蔽膜付き基板が容易に得られる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】反射色調の色度座標図。
【発明の属する技術分野】
本発明は、外部からの電磁波を室内に入れない、或いは発生する電磁波を外部に出さないようにする電磁波遮蔽膜付き基板に関する。
【０００２】
【従来技術とその解決すべき課題】
事務所ビルなどにおいて、建物内でＯＡ機器などの電子機器、高周波機器などが発生する電磁波を外部に出さず、外部の自動車、電車などの乗り物、各種の無線機器、高圧線などから到来する電磁波を建物内に入れないことで、建物内のフロアを電波に対して独立した空間にすることが、近年求められるようになってきた。
【０００３】
従って、建物などにおいては、壁、天井、床などを電磁波遮蔽構造とするとともに、窓などの開口部にも電磁波遮蔽部材を使用して、ビル全体或いは特定のフロアを電磁遮蔽構造にする必要がある。
【０００４】
このような窓などに好適な電磁波遮蔽ガラスとして、ガラス上にＩＴＯ膜やＳｎＯ２膜等の導電性膜を被覆するものがあるが、電磁波の遮蔽性能を３０ｄＢ以上とするには該膜の表面シート抵抗を２．３Ω／□以下の低抵抗とする必要があり、そのためには膜厚を約１，０００ｎｍ以上に厚くする必要がある。
しかしながら、そのように膜厚を厚くすると可視光線透過率が非常に低くなるとともに、ニュートラルな色調を得ることは困難であるという欠点がある。
【０００５】
また、例えば、特公平５−７０５８０号公報、特公平８−３２４４３６号公報には、抵抗値が低いＬｏｗ−Ｅの膜としてＡｇ層を２層にし、透明酸化物と交互に積層したものが一般に知られている。しかし、これらの構成のものは比較的高い可視光線透過率で低い抵抗値のガラスを得ることは可能であるが、前記のように２．３Ω／□以下の低抵抗のものを得るためには、２層の各々のＡｇ層の膜厚を１５ｎｍ以上の膜厚にする必要がある。
このようにすると可視光線透過率が低くなり外の景色がほとんど見えなくなったり、反射色調が赤紫色等の非常に濃い色となってしまい外観の品質上、一般的なビルの外層や住宅向けには使用に耐えられないものとなる欠点がある。
また、従来の銀層を有するものは、耐湿性に劣るため取り扱いに充分な注意をしないと斑点状の欠陥が発生する恐れがあった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、従来のかかる課題に鑑みてなしたものであって、高可視光線透過率で耐湿性に優れ且つ反射色調に違和感のない３０ｄＢ以上（１ＧＨｚ）の高電磁波遮蔽性能を有する電磁波遮蔽膜付き基板について鋭意検討した結果、Ａｇ層を１５ｎｍ以上に厚くしても特定の膜構成で且つ銀層の直上層に亜鉛金属にＡｌ金属を含有させたＺｎＡｌ合金からなる金属バリアー層を特定の厚さ設けることにより高電磁波遮蔽性能を有する高品質の電磁波遮蔽膜付き基板が得られることを見出した。
【０００７】
すなわち、本発明は、透明基板上に、透明酸化物層および／または
透明窒化物層よりなる第１層／Ａｇ層よりなる第２層／ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層よりなる第３層／透明酸化物層および／または透明窒化物層よりなる第４層／Ａｇ層よりなる第５層／ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層よりなる第６層/透明酸化物層および／または透明窒化物よりなる第７層からなる被膜が順次積層され、第１層目の膜厚が２６〜３６ｎｍ，第２層及び第５層の膜厚がそれぞれ１５ｎｍ〜５０ｎｍ、第３層及び第６層の膜厚がそれぞれ１．５ｎｍ以下、第４層の膜厚が８０〜１００ｎｍ、第７層の膜厚が２３〜４０ｎｍからなることを特徴とする電磁波遮蔽膜付き基板に関する。
【０００８】
また、前記被膜の表面シート抵抗値が２．３Ω／□以下、可視光線透過率が３０〜８０％、被膜の被覆されていない透明基板面の反射色調はＬａ＊ｂ＊表示において、−２０＜ａ＊＜−５、−４０＜ｂ＊＜１０の範囲である無彩色からやや青緑色の色調を呈することことが好ましい。
【０００９】
さらに、第１層、第４層および第７層の透明金属酸化物層および／または透明金属窒化物層は、ＺｎＯ２，ＺｎＡｌＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｎ３、Ｓｉ２Ｎ３のうちから選択された少なくとも１種からなることが好ましい。
【００１０】
さらにまた、ＺｎＡｌの金属バリアー層は、Ａｌを１〜１０原子％含むＺｎＡｌ合金であることが好ましく、さらに、第２層および第５層のＡｇ層の膜厚が２０ｎｍ以上で、１ＧＨＺにおける電磁波遮蔽性能が４０ｄＢ以上であることが好適である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の電磁波遮蔽膜付き基板は、透明基板上に、透明酸化物層および／または透明窒化物層よりなる第１層／Ａｇ層よりなる第２層／ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層よりなる第３層／透明酸化物層および／または透明窒化物層よりなる第４層／Ａｇ層よりなる第５層／ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層よりなる第６層/透明酸化物層および／または透明窒化物よりなる第７層からなる被膜が順次積層され、第１層目の膜厚が２６〜３６ｎｍ，第２層及び第５層の膜厚がそれぞれ１５ｎｍ〜５０ｎｍ、第３層及び第６層の膜厚がそれぞれ１．５ｎｍ以下、第４層の膜厚が８０〜１００ｎｍ、第７層の膜厚が２３〜４０ｎｍからなる。
【００１２】
上記の透明酸化物層および／または透明窒化物層よりなる第１層、第４層および第７層は、ＺｎＯ２，ＺｎＡｌＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２等の透明酸化物、Ａｌ２Ｎ３、Ｓｉ２Ｎ３等の透明窒化物の内から選択された少なくとも１種からなることが好ましい。
なお、第１層の膜厚を２６〜３６ｎｍ，第４層の膜厚を８０〜１００ｎｍ、７層の膜厚を２３〜４０ｎｍの範囲にそれぞれすることにより、目的とする色調および光学特性を得ることができる。
【００１３】
そのうち、酸化物層としてのＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層よりなる非晶質の被膜は、化学的にも機械的にも強く、且つ非晶質のルーズな構造のためガラスとの密着力も強く、内部応力も発生しにくい。従ってガラスの直上に被覆する第１層被膜はＳｎＯ２層及び／又はＴｉＯ２層が望ましい。ガラスとの密着力を高め、アルカリイオンの影響を断つための第１層のＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層の厚みは少なくとも５ｎｍが必要である。
【００１４】
しかし、ＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層は特にＡｇとの密着力が劣り、ＳｎＯ２層、ＴｉＯ２層／Ａｇ層界面での剥離が起こりやすい。又、ＳｎＯ２はそのイオン化傾向から分かるように酸素との結合が弱く、被膜内の酸素の化学的ポテンシャルが高いため、Ａｇ層に酸素が拡散しやすく電気抵抗が上り、高電磁波遮蔽を達成し難い。
【００１５】
以上より、ＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層よりなる層はＡｇ層と接触させないことが好ましい。なお、ＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層には化学的、機械的特性を向上し、またガラスとの密着力も強くする非晶質の被膜成分としての元素が含まれても良い。
【００１６】
ＺｎＯ２層は、Ａｇ層との密着力が高く、又酸素との高い結合力によって層内の酸素のポテンシャルが低いため、Ａｇ層内に酸素が拡散しにくい。従ってＡｇ層直下の層はＺｎＯ２層が望ましい。その下のＳｎＯ２層からの酸素の拡散を防ぎ、Ａｇ層との強い密着力を得るためのＺｎＯ２層の厚みは少なくとも３ｎｍは必要である。なお、ＺｎＯ２層にはＡｇ層との密着力を低下せず、Ａｇ層内に酸素が拡散しにくくするような被膜の成分としての公知の元素が含まれても良い。
【００１７】
なお、Ａｇ層に接触する酸化物層中の酸素の化学ポテンシャルはできる限り低く保つことが肝要で、ＺｎＯ２成膜時の雰囲気は酸素と共にできるだけ多くのアルゴンを添加するのが望ましい。望ましいアルゴンの添加率は設備によって異なるが、概ね１０〜３０％である。この値は酸素雰囲気から徐々にアルゴンを添加していき、ターゲットに掛かる電圧が急に上がるか、電流が急に下がる現象を観測し、そこからアルゴンを若干減らすことで決められる。
【００１８】
また、ＺｎＯ２層は緻密で大気中の腐食性ガスの拡散を防ぐ効果があり、また太陽光線に含まれる紫外線を吸収する働きがあるが化学的耐久性が低いため、第７層の上層にＺｎＯ２層を用いる場合には、さらにその上層に非晶質酸化物であるＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層を設けるのが望ましい。該ＳｎＯ２層および／またはＴｉＯ２層の膜厚は１ｎｍ以上が好ましい。
【００１９】
第２層、第５層に用いられるＡｇ層の厚みは、電磁波遮蔽性、可視光線透過率および反射色調に影響し、３０ｄＢ以上の高電磁波遮蔽性を得るためには１５ｎｍ以上の膜厚が必要であり、高可視光線透過率、とりわけ７０％以上を確保し、且つ赤い反射光を避けるためには６０ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００２０】
なお、Ａｇ層の膜厚を２０ｎｍ以上とすることにより、該膜の表面シート抵抗は、２Ω／□以下の低抵抗となり、電磁遮蔽性能も４０ｄＢ以上が得られるので、さらに高電磁遮蔽性能が必要な窓には、Ａｇ層の膜厚を２０ｎｍ以上の膜構成とすることが特に好ましい。また、Ａｇ層はＡｇを主成分としＡｇにＡｕ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｉｒ等の元素が含まれても良い。
【００２１】
Ａｇ層の直上部に用いられる第４層、第７層の金属バリアー層は、Ａｇ層と酸化物層および／または窒化物層の両方に高い密着性をもつＡｌを１〜１０原子％含むＺｎＡｌ合金層が望ましい。なお、ここでいう金属バリアー層とは、Ａｇ層の直上に第４層および／または第７層の金属バリアー層を成膜した直後は全厚が合金層であるが、次いで、例えば、該合金層の上層に第４層あるいは第７層の酸化物層等を成膜する時、酸化性雰囲気（例えば酸素８０％、アルゴン２０％）で成膜するため、該合金層の上層部の一部が酸化物に変換される。この上層部が酸化された酸化物層と残った合金層を含めて金属バリアー層と呼ぶ。すなわち、金属バリアー層の膜厚とは、最初にＺｎＡｌ合金層を成膜した時の膜厚を示す。
【００２２】
該金属バリアー層の作用は、前記第４層或いは第７層の酸化物層を成膜する際に、その酸化性雰囲気の影響が下部のＡｇ層に及ばないように成膜中のＡｇ層を保護することと、或いは窒化物の場合にはＡｇ層が酸化されないように該金属バリアー層を介在させて該Ａｇ層が酸化されるのを保護するためのものである。さらに、成膜後に大気中の水分が膜中に入りこみＡｇを酸化させるのを防ぎ、Ａｇ層の耐湿性を向上する作用も併せて有している。
この金属バリアー層としては、前記のようにＺｎＡｌ合金が好ましく、特にＡｌを１．０〜１０．０原子％含むＺｎＡｌ合金は、酸素との結合力が高く、最も効果的にＡｇ層中に拡散してきた酸素その他の腐食性イオンをトラップするので特に好ましい。
【００２３】
金属バリアー層の膜厚は、厚いほど強い効果が長続きすることは当然であるが、厚すぎると可視光線透過率を下げてしまう。しかし次に酸化物を成膜する際、該金属バリアー層の一部は酸化されるので、その酸化前の最初の金属層の厚みは例えば８ｎｍ以下とし、前記のようにその一部が酸化され残った金属バリアー層が１．５ｎｍ以下とすれば高い透過率が得られる。
【００２４】
本発明の透明基板としては、透明のガラス、プラスチック等を用いることが出来、例えばガラス基板としては、自動車用ならびに建築用ガラス等に通常用いられている普通板ガラス、所謂フロート板ガラスなどであり、クリアをはじめグリ−ン、ブロンズ等各種着色ガラスや各種機能性ガラス、強化ガラスやそれに類するガラス、合せガラスのほか複層ガラス等、さらに平板あるいは曲げ板等各種板ガラス製品として使用できることは言うまでもない。また、ガラスは透明プラスチック板等との積層体であってもよい。なお、ガラスの組成は、ソーダ石灰ガラス、アルミノシリケートガラス等であるが、これらに限定されないことは、言うまでもない。
【００２５】
得られた電磁波遮蔽膜付き基板は、被膜の表面シート抵抗値が２．３Ω／□以下、可視光線透過率が３０〜８０％と高透過率から低透過率まで自在に制御でき、また、色調についてはＬａ＊ｂ＊表示において、
−２０＜ａ＊＜−５、−４０＜ｂ＊＜１０の範囲である無彩色からやや青緑色の色調を呈するので、目視で見た場合に違和感のない落ち着いた感じの色調となる。また、電磁波遮蔽性能（１ＧＨＺ）については、３０ｄＢが可能であり、用途によって４０ｄＢ以上のさらに高性能のものも自由に選択出来る。
【００２６】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。なお、成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により行った。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではない。
【００２７】
実施例１
大きさが１８００ｍｍ×２４０００ｍｍ×約３ｍｍのフロートガラス上に、下記順序で被膜を形成した。スパッタ装置は、カソードに予めＳｎ、Ｚｎ（３台）、Ａｇ、ＺｎＡｌ（Ａｌ含有率４原子％）の各金属ターゲットを取り付けたのち、成膜前の圧力が５×１０−５Ｔｏｒｒとなるまで真空チャンバー内の排気を充分に行った。本方法は、真空チャンバー内のターゲットの下方に搬送ロールが設置され、そのロール上をガラス板が往復動する時に電力が印加されたターゲットより所定の金属層あるいは金属酸化物層がガラス板上に成膜されるようになっている。
【００２８】
先ず１パス目として、成膜室の雰囲気を酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、Ｓｎターゲットにより第１層の１層目としてのＳｎＯ２層を８．８ｎｍ成膜した後、 １層目と同条件でＺｎターゲットにより第１層の２層目のＺｎＯ２層を２３．１ｎｍ成膜した。次に２パス目として雰囲気をＡｒ１００％の不活性雰囲気に保持し、Ａｇターゲットにより第２層としてのＡｇ層を１６．５ｎｍ、ＺｎＡｌターゲットにより第３層のＺｎＡｌ合金層（いわゆる金属バリアー層）を０．８ｎｍ成膜した。３パス目として成膜室の雰囲気を再び酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、第４層の酸化物層を形成した。第４層の１層目としてのＺｎＡｌＯ２層を３．６ｎｍ、２層目としてのＳｎＯ２層を６．９ｎｍ、３層目としてのＺｎＯ２層を１７．９ｎｍを順次成膜した。、さらに４パス目として３パス目と同じ雰囲気で３層目の追加としてのＺｎＯ２層を１７．８ｎｍ、４層目としてのＳｎＯ２層を１３．８ｎｍ成膜した後、さらに５パス目として５層目としてのＺｎＯ２層を３５．７ｎｍ成膜した。さらに６パス目として雰囲気をＡｒ１００％の不活性雰囲気に保持し、Ａｇターゲットにより第５層としてのＡｇ層を１６．５ｎｍ、ＺｎＡｌターゲットにより第６層のＺｎＡｌ合金層（いわゆる金属バリアー層）を０．８ｎｍ成膜した。次に７パス目として成膜室の雰囲気を再び酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、第７層の１層目としてのＺｎＡｌＯ２層を２．９ｎｍ、２層目としてのＳｎＯ２層を５．５ｎｍ、３層目としてのＺｎＯ２層を１８．７ｎｍ、８パス目として４層目としてのＳｎＯ２層を１．７ｎｍ順次成膜し、ガラスを成膜室より排出した。
【００２９】
なお、第３層および第６層のＺｎＡｌ合金層（金属バリアー層）の上層に酸化性雰囲気で第４層および第７層を成膜するとき、第３層および第６層のＺｎＡｌ合金層は酸化されていた。
また、第１層、第４層および第７層の酸化物層の膜厚は、合計でそれぞれ３１．９ｎｍ、９５．７ｎｍ、２８．８ｎｍであった。
膜構成と各膜の膜厚を、表１に示す。
なお、表１にはＺｎＯ２層、ＳｎＯ２層、ＺｎＡｌＯ２層を簡略化のためＺｎＯ、ＳｎＯ、ＺｎＡｌＯで示した。
【００３０】
【表１】
【００３１】
得られた電磁波遮蔽基板の可視光透過率（％）、被膜の被覆していない側のガラス面の反射率（％）、ガラス面の反射色調ａ＊値、ｂ＊値（Ｌａ＊ｂ＊表示法による）、ガラス面の目視による色調（目視角度；真正面および４５°方向）、膜表面のシート抵抗値（Ω／□）、電磁遮蔽性能値（１ＧＨＺ）および耐湿性を表２に、また反射色調の色度座標を図１に示す。
【００３２】
なお、表２の耐湿性の欄における◎、△、×の各記号は下記の内容を示す。
【００３３】
◎：２週間経過後 径＝０．２ｍｍ以上の欠陥なし
△：２週間経過後 径＝０．２ｍｍ以上の欠陥有り，径＝０．５ｍｍ以上の欠陥なし
×：２週間経過後 径＝０．５ｍｍ以上の欠陥有り
また、図１の色度座標における、図内の▲１▼〜▲８▼は下記サンプルＮｏを示す。
【００３４】
▲１▼；実施例１、▲２▼；実施例２、▲３▼；実施例３、▲４▼；比較例１、▲５▼；比較例２，▲６▼；比較例３，▲７▼；比較例４、▲８▼；比較例５
【００３５】
【表２】
【００３６】
評価の結果、表２および図１に示すように、可視光線透過率は約７５％と高く、ガラス面の反射色調も緑色から青緑色の落ち着いた色調であり、電磁波遮蔽性能も３５ｄＢ以上と高性能のものが得られた。
さらに、耐湿性も良好であった。
【００３７】
実施例２
実施例１と比較して、第４層５層目のＺｎＯ２層は成膜せず、その他は表１に示すような膜厚になるように実施例１と同様に成膜した。
なお、第１層、第４層および第７層の酸化物層の膜厚は、合計でそれぞれ３３．４ｎｍ、８５．８ｎｍ、３５．７ｎｍであった。
【００３８】
評価の結果、可視光線透過率は約６６％と高く、ガラス面の反射色調も青緑色から青色の落ち着いた色調であり、電磁波遮蔽性能も４１ｄＢと高性能のものが得られた。
さらに、耐湿性も良好であった。なお、表２の耐湿性の欄の◎印は耐湿性の良好のものであり、△印は長期耐湿性に劣り好ましくなく、×印は全く耐湿性に劣るものを示す。
【００３９】
実施例３
実施例１と比較して、第４層５層目のＺｎＯ２層は成膜せず、その他は表１に示すような膜厚になるように実施例１と同様に成膜した。
なお、第１層、第４層および第７層の酸化物層の膜厚は、合計でそれぞれ３４．８ｎｍ、９１．１ｎｍ、３５．４ｎｍであった。
【００４０】
評価の結果、可視光線透過率は約５６％とやや透視性を抑えたものであり、ガラス面の反射色調も青緑色から青色の落ち着いた色調であり、電磁波遮蔽性能も４３ｄＢと高性能のものが得られた。
さらに、耐湿性も良好であった。
【００４１】
比較例１
実施例１と同様に、カソードには予め、Ｚｎ、Ａｇの各金属ターゲットを取り付けた。先ず１パス目として、成膜室の雰囲気を酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、第１層としてのＺｎＯ２層を３８．０ｎｍ成膜した。次に２パス目として雰囲気をＡｒ１００％の不活性雰囲気に保持し、次いでＡｇ層を１６．６ｎｍ、第３層のＺｎ層を１．７ｎｍ成膜した。３パス目として成膜室の雰囲気を再び酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、次にＺｎＯ２層を７０ｎｍ成膜し、さらに４パス目として２パス目と同じ雰囲気で、第５層のＡｇ層を１６．６ｎｍ、第６層のＺｎ層を１．７ｎｍ成膜し、５パス目として３パス目と同じ雰囲気でＺｎＯ２層を３２．５ｎｍ成膜ガラスしたのち、成膜室より排出した。
【００４２】
評価の結果、可視光線透過率は約６５％と高透過率であり、電磁波遮蔽性能も３６ｄＢと高性能のものが得られたが、ガラス面の反射色調が赤から橙色と違和感のある色調であり、好ましいものではなかった。
さらに、耐湿性も２週間経過後膜の白濁のピンホール欠陥がみられ、好ましくなかった。
【００４３】
比較例２
比較例１と比較して、第３層および第６層の金属バリアー層としてのＺｎの代わりに、Ｔｉターゲットを用いてＴｉの金属バリアー層を成膜した。なお、各膜の膜厚は表１に示す通りである。
【００４４】
評価の結果、可視光線透過率は約６９％と高透過率であり、電磁波遮蔽性能も３７ｄＢと高性能のものが得られたが、比較例１と同様にガラス面の反射色調が赤から橙色と違和感のある色調であり、好ましいものではなかった。
さらに、耐湿性も２週間経過後膜の白濁のピンホール欠陥がみられ、好ましくなかった。
【００４５】
比較例３
比較例２と同じターゲットを用いて、表１に示す膜厚に成膜した。
【００４６】
評価の結果、可視光線透過率は約７６％と高透過率であり、電磁波遮蔽性能も３０ｄＢものが得られたが、ガラス面の反射色調が白から赤紫色と違和感のある色調であり、好ましいものではなかった。
さらに、耐湿性も２週間経過後膜の白濁のピンホール欠陥がみられ、好ましくなかった。
【００４７】
比較例４
比較例１と同様に、カソードには予め、Ｚｎ、Ａｇ、ＺｎＡの各金属ターゲットを取り付けた。先ず１パス目として、成膜室の雰囲気を酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、第１層としてのＺｎＯ２層を３８．０ｎｍ成膜した。次に２パス目として雰囲気をＡｒ１００％の不活性雰囲気に保持し、次いでＡｇ層を１７．０ｎｍ、第３層のＺｎＡｌ層を１．０ｎｍ成膜した。３パス目として成膜室の雰囲気を再び酸化性雰囲気（Ｏ２：Ａｒ＝８：２）に保持し、第４層の１層目としてのＺｎＡｌＯ２層を３．６ｎｍ、２層目としてのＺｎＯ２層を６１．４ｎｍを順次成膜し、さらに４パス目として２パス目と同じ雰囲気で、第５層のＡｇ層を１７．０ｎｍ、第６層のＺｎＡｌ層を１．０ｎｍ成膜し、５パス目として３パス目と同じ雰囲気でＺｎＡｌＯ２層を３．６ｎｍ、次いでＺｎＯ２層を２８．４ｎｍを順次成膜したのち、成膜室より排出した。
なお、第４層および第７層の酸化物層の膜厚は、合計でそれぞれ６９．０ｎｍ、３４．０ｎｍであった。
【００４８】
評価の結果、可視光線透過率は約７２％と高透過率であり、電磁波遮蔽性能も３６ｄＢと高性能のものが得られたが、比較例１と同様にガラス面の反射色調が赤から橙色と違和感のある色調であり、好ましいものではなかった。
さらに、耐湿性も２週間経過後膜の白濁のピンホール欠陥がみられ、好ましくなかった。
【００４９】
比較例５
比較例４と同じターゲットを用いて、表１に示すような膜厚になるようにそれぞれ成膜した。
【００５０】
評価の結果、可視光線透過率は約７１％と高透過率であり、電磁波遮蔽性能も３６ｄＢと高性能のものが得られたが、比較例３と同様にガラス面の反射色調が白から紫色と違和感のある色調であり、好ましいものではなかった。
さらに、耐湿性も２週間経過後膜の白濁のピンホール欠陥がみられ、好ましくなかった。
【００５１】
【発明の効果】
本発明は、反射色調が無彩色から青緑色である違和感のない３０ｄＢ以上（１ＧＨｚ）の高電磁波遮蔽性能を有し、さらに可視光線透過率が８０％以下から３０％まで自在に得られる耐湿性の優れた高品質・高性能の電磁波遮蔽膜付き基板が容易に得られる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】反射色調の色度座標図。
Claims (5)
- 透明基板上に、透明酸化物層および／または透明窒化物層よりなる第１層／Ａｇ層よりなる第２層／ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層よりなる第３層／透明酸化物層および／または透明窒化物層よりなる第４層／Ａｇ層よりなる第５層／ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層よりなる第６層/透明酸化物層および／または透明窒化物よりなる第７層からなる被膜が順次積層され、第１層目の膜厚が２６〜３６ｎｍ，第２層および第５層の膜厚がそれぞれ１５ｎｍ〜５０ｎｍ、第３層および第６層の膜厚がそれぞれ１．５ｎｍ以下、第４層の膜厚が８０〜１００ｎｍ、第７層の膜厚が２３〜４０ｎｍからなることを特徴とする電磁波遮蔽膜付き基板。
- 前記被膜の表面シート抵抗値が２．３Ω／□以下、前記膜付き基板の可視光線透過率が３０〜８０％、被膜の被覆されていない透明基板面の反射色調はＬａ*ｂ*表示において−２０＜ａ*＜−５、−４０＜ｂ*＜１０の範囲である無彩色からやや青緑色の色調を呈することを特徴とする請求項１記載の電磁波遮蔽膜付き基板。
- 第１層、第４層および第７層の透明金属酸化物層および／または透明金属窒化物層は、ＺｎＯ2，ＺｎＡｌＯ2、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｎ3、Ｓｉ2Ｎ3のうちから選択された少なくとも１種からなることを特徴とする請求項１乃至２記載の電磁波遮蔽膜付き基板。
- ＺｎＡｌ合金の金属バリアー層は、Ａｌを１〜１０原子％含むＺｎＡｌ合金であることを特徴とする請求項１乃至３記載の電磁波遮蔽膜付き基板。
- 第２層および第５層のＡｇ層の膜厚がそれぞれ２０ｎｍ以上で、１ＧＨＺにおける電磁波遮蔽性能が４０ｄＢ以上であることを特徴とする請求項１乃至４記載の電磁波遮蔽膜付き基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04932399A JP3549761B2 (ja) | 1999-02-26 | 1999-02-26 | 電磁波遮蔽膜付き基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04932399A JP3549761B2 (ja) | 1999-02-26 | 1999-02-26 | 電磁波遮蔽膜付き基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000252682A JP2000252682A (ja) | 2000-09-14 |
| JP3549761B2 true JP3549761B2 (ja) | 2004-08-04 |
Family
ID=12827781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04932399A Expired - Lifetime JP3549761B2 (ja) | 1999-02-26 | 1999-02-26 | 電磁波遮蔽膜付き基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3549761B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4547657B2 (ja) * | 2001-04-04 | 2010-09-22 | 日本電気硝子株式会社 | 防火ガラス物品 |
| JP2002368482A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-12-20 | Gunze Ltd | 電磁波シ−ルド用部材とその製造方法 |
| WO2003037056A1 (fr) * | 2001-10-26 | 2003-05-01 | Central Glass Company, Limited | Substrat dote d'un film de protection electromagnetique |
| US7514037B2 (en) * | 2002-08-08 | 2009-04-07 | Kobe Steel, Ltd. | AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film |
| FR2859721B1 (fr) * | 2003-09-17 | 2006-08-25 | Saint Gobain | Substrat transparent muni d'un empilement de couches minces pour un blindage electromagnetique |
| JP2007191384A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-08-02 | Central Glass Co Ltd | 低放射ガラス |
| JP4935215B2 (ja) * | 2006-07-18 | 2012-05-23 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
| JP4858032B2 (ja) * | 2006-09-15 | 2012-01-18 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
-
1999
- 1999-02-26 JP JP04932399A patent/JP3549761B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000252682A (ja) | 2000-09-14 |
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