JP2007299672A - 導電性積層体およびプラズマディスプレイ用保護板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基体12上に導電膜14が形成された導電性積層体10であって、導電膜14は、基体12側から酸化物膜20と金属膜30とが交互に積層され、金属膜30の積層数がnであり、酸化物膜20の積層数がn+1である(ただし、nは6〜8である。)多層構造体であり、酸化物膜20が、金属酸化物からなる膜であり、金属膜30が、純銀からなる膜、または金および/またはビスマスを含有する銀合金を主成分として含有する膜である。
【選択図】図1
Description
また、導電性積層体は、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムとしても用いられている。プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと記す。)の前面からは電磁波が放出されているため、その電磁波を遮蔽することを目的として、PDPの観察者側には、プラスチックフィルム等の基体上に導電膜が形成された電磁波遮蔽フィルム、または該電磁波遮蔽フィルムを有する保護板が配置されている。
電磁波遮蔽フィルムには、(i)導電性(電磁波遮蔽性)に優れていること、(ii)可視光領域全体にわたって透過率が高いことおよび可視光領域全体にわたって反射率が低いこと、すなわち透過・反射バンドが広いこと、(iii)近赤外線遮蔽性に優れていることが求められる。
抵抗値を低くし、透過・反射バンドを広げるためには、金属薄膜層の積層数を増やせばよい。しかし、金属薄膜層を6層以上にすると、可視光透過性が低下する。また、金属薄膜層をあまり増やしすぎると、電磁波遮蔽フィルムにおける内部応力が増加し、該フィルムがカールしたり、導電膜が破断して抵抗値が高くなったりする。
前記酸化物膜は、酸化亜鉛を含む膜であることが好ましい。
前記第1の酸化物層は、酸化亜鉛を含む層であることが好ましい。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、さらに導電性メッシュフィルムを有することが好ましい。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、導電性(電磁波遮蔽性)および近赤外線遮蔽性に優れ、透過・反射バンドが広い。
図1は、本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。導電性積層体10は、基体12と、導電膜14とを有する。
基体12としては、透明基体が好ましい。透明とは、可視光領域の波長の光を透過することを意味する。
透明基体の材質としては、ガラス(風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む。);ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のプラスチック等が挙げられる。
導電膜14は、基体12側から酸化物膜20と金属膜30とが交互に積層され、金属膜の積層数がnであり、酸化物膜の積層数がn+1である(ただし、nは6〜8である。)多層構造体である。図示例はn=6である。
nを6以上とすることにより、導電性(電磁波遮蔽性)に優れ、かつ透過・反射バンドが広くなる。nを8以下とすることにより、内部応力の増加が抑えられる。
酸化物膜20は、金属酸化物からなる膜である。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウム、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化アルミニウム等が挙げられる。酸化物膜20は、1種の金属酸化物からなる膜であってもよく、2種以上の金属酸化物からなる膜であってもよい。
SZO膜において、亜鉛およびチタンは、酸化亜鉛、酸化チタン、およびこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。したがって、SZO膜における酸化亜鉛および酸化チタンの含有量は、ESCA(X線光電子分光法)またはラザフォード後方散乱法(RBS:Rutherford Backscattering Spectroscopy)により測定して求められた各金属の含有量の酸化物換算(ZnO、TiO2 )として表すこととする。
亜鉛およびチタンの含有量の合計は、酸化物換算(ZnO、TiO2 )で、SZO膜(酸化物換算100質量%)のうち、95質量%以上が好ましく、99質量%以上がより好ましい。該範囲とすることにより、ターゲット表面に発生する黒色の析出物(異常放電の原因となる。)の生成を抑制できる。
SZO膜には、物性を損なわない範囲で、亜鉛およびチタンを除く他の金属が酸化物として含まれていてもよい。他の金属としては、たとえば、ガリウム、ニオブ、アルミニウム、インジウム、スズ等が挙げられる。
GZO膜において、亜鉛およびガリウムは、酸化亜鉛、酸化ガリウム、およびこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。したがって、GZO膜における酸化亜鉛および酸化ガリウムの含有量は、ESCAまたはラザフォード後方散乱法により測定して求められた各金属の含有量の酸化物換算(ZnO、Ga2O3)として表すこととする。
亜鉛およびガリウムの含有量の合計は、酸化物換算(ZnO、Ga2O3)で、GZO膜(酸化物換算100質量%)のうち、95質量%以上が好ましく、99質量%以上がより好ましい。該範囲とすることにより、ターゲット表面に発生する黒色の析出物(異常放電の原因となる。)の生成を抑制できる。
GZO膜には、物性を損なわない範囲で、亜鉛およびガリウムを除く他の金属が酸化物として含まれていてもよい。他の金属としては、たとえば、チタン、ニオブ、アルミニウム、インジウム、スズ等が挙げられる。
NZO膜において、亜鉛およびニオブは、酸化亜鉛、酸化ニオブ、およびこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。したがって、NZO膜における酸化亜鉛および酸化ニオブの含有量は、ESCAまたはラザフォード後方散乱法により測定して求められた各金属の含有量の酸化物換算(ZnO、Nb2O5)として表すこととする。
亜鉛およびニオブの含有量の合計は、酸化物換算(ZnO、Nb2O5)で、NZO膜(酸化物換算100質量%)のうち、95質量%以上が好ましく、99質量%以上がより好ましい。該範囲とすることにより、ターゲット表面に発生する黒色の析出物(異常放電の原因となる。)の生成を抑制できる。
NZO膜には、物性を損なわない範囲で、亜鉛およびニオブを除く他の金属が酸化物として含まれていてもよい。他の金属としては、たとえば、チタン、ガリウム、アルミニウム、インジウム、スズ等が挙げられる。
AZO膜において、亜鉛およびアルミニウムは、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、およびこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。したがって、AZO膜における酸化亜鉛および酸化アルミニウムの含有量は、ESCAまたはラザフォード後方散乱法により測定して求められた各金属の含有量の酸化物換算(ZnO、Al2O3)として表すこととする。
亜鉛およびアルミニウムの含有量の合計は、酸化物換算(ZnO、Al2O3)で、AZO膜(酸化物換算100質量%)のうち、95質量%以上が好ましく、99質量%以上がより好ましい。該範囲とすることにより、ターゲット表面に発生する黒色の析出物(異常放電の原因となる。)の生成を抑制できる。
AZO膜には、物性を損なわない範囲で、亜鉛およびアルミニウムを除く他の金属が酸化物として含まれていてもよい。他の金属としては、たとえば、チタン、ガリウム、ニオブ、スズ、インジウム等が挙げられる。
膜厚は、触針式表面粗さ測定機により測定される。
基体12から2〜n番目の酸化物膜20が2層の酸化物層を有する場合、基体12から2〜n番目の酸化物膜20において、基体12に近い酸化物層が第2の酸化物層24となり、もう一方の酸化物層が第1の酸化物層22となる。また、基体から1番目の酸化物膜20が、第1の酸化物層22となり、基体12からn+1番目の酸化物膜20が、第2の酸化物層24となる。
酸化亜鉛を含む膜としては、SZO膜、GZO膜、NZO膜、AZO膜等が挙げられ、抵抗値が低く、かつ耐湿性が良好な導電膜14を形成できる点から、SZO膜、GZO膜、NZO膜が好ましく、SZO膜が特に好ましい。
酸化物膜20が高屈折率層26を有する場合、基体から1番目の酸化物膜20は、第1の酸化物層22の基体12側に高屈折率層26を有し、基体12から2〜n番目の酸化物膜20は、第1の酸化物層22と第2の酸化物層24との間に高屈折率層26を有し、基体12からn+1番目の酸化物膜20は、第2の酸化物層24の基体側とは反対側に高屈折率層26を有する。
高屈折率層26は、高屈折率層26(100質量%)中に酸化ニオブまたは酸化チタンを90質量%以上含んでいることが好ましく、実質的に酸化ニオブまたは酸化チタンからなることがより好ましい。
高屈折率層26の膜厚は、20〜50nmが好ましく、30〜40nmがより好ましい。
金属膜30としては、導電膜14の抵抗値を低くする点から、純銀からなる膜が好ましい。純銀とは、金属膜30(100質量%)中に銀を99.9質量%以上含有することを意味する。
金属膜30としては、銀の拡散を抑制し、結果として耐湿性を高くできる点から、金および/またはビスマスを含有する銀合金からなる膜が好ましい。金およびビスマスの合計は、導電膜14の比抵抗を4.5μΩcm以下にするために、金属膜30(100質量%)のうち、0.2〜1.5質量%が好ましい。
導電膜14は、図4〜6に示すように、金属膜30上にバリア膜32を有していてもよい。バリア膜32は、酸化物膜20を酸素雰囲気下で成膜する場合に、金属膜30の酸化を防ぐ膜である。
バリア膜32としては、酸素非存在下で形成できる膜が挙げられ、たとえば、AZO膜、ITO膜等が挙げられる。
バリア膜32の膜厚は、0.1〜10nmが好ましい。
(i)酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入しながら、金属酸化物のターゲットを用いてパルススパッタを行い、基体12表面に酸化物膜20を成膜する。
(ii)アルゴンガスを導入しながら、銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用いてパルススパッタを行い、酸化物膜20表面に金属膜30を成膜する。
(iii)必要に応じて、アルゴンガスを導入しながら、金属酸化物等のターゲットを用いてパルススパッタを行い、金属膜30表面にバリア膜32を成膜する。
(i)〜(iii)の操作を繰り返し、最後に(i)と同様の方法で酸化物膜20を成膜することにより、多層構造体の導電膜14を形成する。
導電性積層体10は、基体12からn+1番目の酸化物膜20上に保護膜16を有していてもよい。保護膜16は、酸化物膜20および金属膜30を水分から保護し、n+1番目の酸化物膜20上に任意の樹脂フィルム(防湿フィルム、飛散防止フィルム、反射防止フィルム、近赤外線遮蔽用等の保護フィルム、近赤外線吸収フィルム等の機能性フィルム等。)を接着する際の接着剤(特にアルカリ性の接着剤。)から酸化物膜20を保護する膜である。
保護膜16としては、スズ、インジウム、チタン、ケイ素等の酸化物膜または窒化物膜が挙げられ、ITO膜が好ましい。
保護膜16の膜厚は、2〜30nmが好ましく、3〜20nmがより好ましい。
導電性積層体10は、波長850nmでの透過率が5%以下のものが好ましく、2%以下のものがより好ましい。
導電性積層体10のシート抵抗(表面抵抗)は、導電性(電磁波遮蔽性)を充分に確保するため、3.5Ω/□以下が好ましく、2.5Ω/□以下がより好ましく、1.5Ω/□以下が特に好ましい。
本発明の導電性積層体は、導電性(電磁波遮蔽性)近赤外線遮蔽性に優れ、しかもガラス等の支持基体に積層した場合、透過・反射バンドが広くなることから、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムとして有用である。
また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極として用いることができる。該透明電極は、表面抵抗が低いため応答性がよく、反射率がガラス並みに抑えられるため視認性がよい。
また、本発明の導電性積層体は、自動車風防ガラスとして用いることができる。該自動車風防ガラスは、導電膜に通電することにより、防曇または融氷の機能を発揮でき、かつ低抵抗であるので通電に要する電圧が低く済み、また、反射率がガラス並みに抑えられるためドライバーの視認性を損なうことがない。
また、本発明の導電性積層体は、赤外線領域での反射率が非常に高いため、建物の窓等に設けられるヒートミラーとして用いることができる。
また、本発明の導電性積層体は、電磁波遮蔽効果が高いため、電気・電子機器から放射される電磁波が室外に漏れることを防止し、かつ電気・電子機器に影響する電磁波が室外から室内へ侵入することを防止する電磁波遮蔽窓ガラスに用いることができる。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板(以下、保護板と記す。)は、支持基体と、該支持基体上に設けられた本発明の導電性積層体(プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム)と、該導電性積層体の導電膜に電気的に接している電極とを有する。
図7に、第1の実施形態の保護板を示す。保護板40は、支持基体42と、支持基体42の周縁部に設けられた着色セラミックス層44と、導電性積層体10の周縁部が着色セラミックス層44と重なるように、支持基体42表面に粘着剤層46を介して貼り合わされた導電性積層体10と、導電性積層体10とは反対側の支持基体42表面に、粘着剤層46を介して貼り合わされた飛散防止フィルム48と、粘着剤層46を介して導電性積層体10表面に貼り合わされた保護フィルム50と、導電性積層体10および保護フィルム50の周縁部に設けられ、導電性積層体10の導電膜14と電気的に接続する電極52とを有するものである。保護板40は、導電性積層体10が支持基体42のPDP側に設けられている例である。
支持基体42の材料としては、上述の基体12の材料と同様の材料が挙げられる。
飛散防止フィルム48には、反射防止機能を持たせてもよい。飛散防止機能と反射防止機能とを兼ね備えたフィルムとしては、旭硝子社製のARCTOP(商品名)が挙げられる。ARCTOP(商品名)は、自己修復性と飛散防止特性とを有するポリウレタン系軟質樹脂フィルムの片面に、非結晶性の含フッ素重合体からなる低屈折率の反射防止層を形成して反射防止処理を施したものである。また、PET等の高分子からなるフィルム上に、低屈折率の反射防止層を湿式または乾式で形成したフィルム等も挙げられる。
電極52の材質は、抵抗が低い方が電磁波遮蔽性の点では優位となる。電極52は、たとえば、銀とガラスフリットとを含む銀ペースト、銅とガラスフリットとを含む銅ペーストを塗布、焼成することにより形成される。
図8に、第2の実施形態の保護板を示す。保護板60は、支持基体42と、支持基体42表面に粘着剤層46を介して貼り合わされた導電性積層体10と、導電性積層体10の周縁部に設けられ、導電性積層体10の導電膜14と電気的に接続する電極52と、電極52と重ならないように、導電性積層体10表面に粘着剤層46を介して貼り合わされた飛散防止フィルム48と、導電性積層体10とは反対側の支持基体42表面の周縁部に設けられた着色セラミックス層44とを有するものである。保護板60は、導電性積層体10が支持基体42の観察者側に設けられている例である。
なお、第2の実施形態において、第1の実施形態と同じ構成については図7と同じ符号を付して説明を省略する。
図9に、第3の実施形態の保護板を示す。保護板70は、支持基体42と、支持基体42表面に粘着剤層46を介して貼り合わされた導電性積層体10と、導電性積層体10表面に粘着剤層46を介して貼り合わされた飛散防止フィルム48と、導電性積層体10とは反対側の支持基体42表面の周縁部に設けられた着色セラミックス層44と、導電性メッシュフィルム54の周縁部が着色セラミックス層44と重なるように、支持基体42表面に粘着剤層46を介して貼り合わされた導電性メッシュフィルム54と、導電性積層体10の導電膜14と導電性メッシュフィルム54の導電性メッシュ層(図示略)とを電気的に接続するように保護板70の周側部に設けられた導電体56とを有するものである。保護板70は、導電性積層体10が支持基体42の観察者側に設けられ、導電性メッシュフィルム54が支持基体42のPDP側に設けられている例である。
なお、第3の実施形態において、第1の実施形態と同じ構成については図7と同じ符号を付して説明を省略する。
銅箔は、圧延銅、電界銅のどちらでもよく、適宜必要に応じて公知のものを用いればよい。銅箔は、各種表面処理をされていてよい。表面処理としては、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理等が挙げられる。銅箔の厚さは、3〜30μmが好ましく、5〜20μmがより好ましく、7〜10μmが特に好ましい。銅箔の厚さを30μm以下とすることにより、エッチング時間を短くすることができ、3μm以上とすることにより、電磁波遮蔽性が高くなる。
導電性メッシュ層の開口部の形状は、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形等である。開口部は、形状が揃っていて、かつ面内に並んでいることが好ましい
開口部のサイズは、1辺または直径が5〜200μmであることが好ましく、10〜150μmであることがより好ましい。開口部の1辺または直径を200μm以下とすることにより、電磁波遮蔽性が向上し、5μm以上とすることにより、PDPの画像への影響が少ない。
開口部以外の金属部の幅は、5〜50μmが好ましい。すなわち、開口部の配列ピッチは、10〜250μmが好ましい。金属部の幅を5μm以上とすることにより、加工が容易となり、50μm以下とすることにより、PDPの画像への影響が少ない。
表面抵抗=R×b/a
なお、本発明の保護板は、第1〜3の実施形態に限定されない。たとえば、粘着剤層46を設けずに、熱による貼り合わせを行ってもよい。
また、本発明の保護板には、必要に応じて、反射防止フィルムまたは低屈折率薄膜である反射防止層を設けてもよい。
反射防止フィルムとしては、公知のものを用いることができ、反射防止性の点から、フッ素樹脂系フィルムが特に好ましい。
反射防止層は、保護板の反射率が低くなり、好ましい反射色が得られることから、可視光領域において反射率が最低となる波長が500〜600nmであるものが好ましく、530〜590nmであるものが特に好ましい。
また、以上説明した保護板40、60、70にあっては、電磁波遮蔽性および近赤外線遮蔽性に優れ、透過・反射バンドが広く、内部応力の増加が抑制された導電性積層体10を用いているため、電磁波遮蔽性および近赤外線遮蔽性に優れ、透過・反射バンドが広い。
酸化物膜における各金属酸化物の含有量は、ESCAまたはラザフォード後方散乱法により測定して求められた各金属の含有量の酸化物換算とした。
ESCAによる測定は、アルバック・ファイ社製、装置名:ESCA5500を用い、以下の条件で行った。
X線源:単色化Al、
X線:Kα線、
検出器の角度:試料面に対して45°。
ビームエネルギー:2300keV、
イオン種:He+ 、
散乱角:170゜、100゜、
ビーム入射角:試料面の法線に対して7゜、
試料電流:30nA、
ビーム照射量:40μC。
金属膜における各金属の含有量は、ESCAにより測定して求めた。
東京電色社製、カラーアナライザーTC1800により視感透過率(JIS Z 8701において規定されている刺激値Y)、波長850nmでの透過率、透過率50%以上の波長の帯域(バンド幅)および反射率40%以下の波長の帯域(バンド幅)を測定した。
Nagy社製、渦電流型抵抗測定器SRM12によりシート抵抗(表面抵抗)を測定した。
図5に示す導電性積層体10を以下のように作製した。
まず、イオンビームによる乾式洗浄によって、基体12である厚さ100μmのPETフィルム表面の洗浄を行った。イオンビームによる乾式洗浄は、約70体積%のアルゴンガスと約30体積%の酸素ガスの混合ガスを導入しながら、100Wの電力を投入し、イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体12表面に照射して行った。
該導電性積層体10について、視感透過率、波長850nmでの透過率、透過率50%以上の波長の帯域(バンド幅)、反射率40%以下の波長の帯域(バンド幅)およびシート抵抗(表面抵抗)を測定した。結果を表1に示す。
(i)〜(iv)の操作を6回繰り返す代わりに、(i)〜(iii)の操作を6回繰り返した以外は、例1と同様にして図4に示すような、金属膜30の積層数が6であり、酸化物膜20の積層数が7である導電性積層体10を得た。ただし、2回目以降の(i)の操作においては、酸化物膜20をバリア膜32表面に成膜した。また、基体から2〜6番目の酸化物膜20の膜厚は、70nmとした。
該導電性積層体10について、視感透過率、波長850nmでの透過率、透過率50%以上の波長の帯域(バンド幅)、反射率40%以下の波長の帯域(バンド幅)およびシート抵抗(表面抵抗)を測定した。結果を表1に示す。
(iv)の操作を以下のように変更した以外は、例1と同様にして図5に示すような、金属膜30の積層数が6であり、酸化物膜20の積層数が7であり、基体から1番目の酸化物膜20が第1の酸化物層22であり、基体から2〜6番目の酸化物膜20が2層の酸化物層を有し、基体に近い酸化物層が第2の酸化物層24であり、もう一方の酸化物層が第1の酸化物層22であり、基体12から7番目の酸化物膜20が第2の酸化物層24である導電性積層体10を得た。
図3に示す導電性積層体10を以下のように作製した。ただし、保護膜16は設けなかった。
例1と同様にして、基体12である厚さ100μmのPETフィルム表面の洗浄を行った。
(i)の操作と同様にして、基体12から6番目の第2の酸化物層24表面に膜厚20nmの高屈折率層26を成膜した。
該導電性積層体10について、視感透過率、波長850nmでの透過率、透過率50%以上の波長の帯域(バンド幅)、反射率40%以下の波長の帯域(バンド幅)およびシート抵抗(表面抵抗)を測定した。結果を表1に示す。
図1に示す導電性積層体10を以下のように作製した。ただし、保護膜16は設けなかった。
例1と同様にして、基体12である厚さ100μmのPETフィルム表面の洗浄を行った。
(i)の操作と同様にして、基体12から6番目の金属膜30表面に膜厚35nmの酸化物膜20を成膜した。
該導電性積層体10について、視感透過率、波長850nmでの透過率、透過率50%以上の波長の帯域(バンド幅)、反射率40%以下の波長の帯域(バンド幅)およびシート抵抗(表面抵抗)を測定した。結果を表1に示す。
図5に示す構造の導電性積層体10を以下のように作製した。ただし、金属膜30の積層数を8、酸化物膜20の積層数を9とした。
例1と同様にして、基体12である厚さ100μmのPETフィルム表面の洗浄を行った。
例1における(i)〜(iv)の操作をさらに7回繰り返した。ただし、(i)の操作においては、第1の酸化物層22を第2の酸化物層24表面に成膜した。また、基体12から8番目の第2の酸化物層24(基体12から9番目の酸化物膜20)の膜厚は、30nmとした。
例1における(v)の操作を行った。
該導電性積層体10について、視感透過率、波長850nmでの透過率、透過率50%以上の波長の帯域(バンド幅)、反射率40%以下の波長の帯域(バンド幅)およびシート抵抗(表面抵抗)を測定した。結果を表1に示す。
図5に示す構造の導電性積層体を以下のように作製した。ただし、金属膜30の積層数を3、酸化物膜20の積層数を4とした。
例1と同様にして、基体12である厚さ100μmのPETフィルム表面の洗浄を行った。
例1における(i)〜(iv)の操作をさらに2回繰り返した。ただし、(i)の操作においては、第1の酸化物層22を第2の酸化物層24表面に成膜した。また、基体12から3番目の第2の酸化物層24(基体12から4番目の酸化物膜20)の膜厚は、30nmとした。また、金属膜30の膜厚を15nmとした。
例1における(v)の操作を行った。
該導電性積層体について、視感透過率、波長850nmでの透過率、透過率50%以上の波長の帯域(バンド幅)、反射率40%以下の波長の帯域(バンド幅)およびシート抵抗(表面抵抗)を測定した。結果を表1に示す。
図5に示す構造の導電性積層体を以下のように作製した。ただし、金属膜30の積層数を4、酸化物膜20の積層数を5とした。
例1と同様にして、基体12である厚さ100μmのPETフィルム表面の洗浄を行った。
例1における(i)〜(iv)の操作をさらに3回繰り返した。ただし、(i)の操作においては、第1の酸化物層22を第2の酸化物層24表面に成膜した。また、基体12から4番目の第2の酸化物層24(基体12から5番目の酸化物膜20)の膜厚は、30nmとした。また、金属膜30の膜厚を13nmとした。
例1における(v)の操作を行った。
該導電性積層体について、視感透過率、波長850nmでの透過率、透過率50%以上の波長の帯域(バンド幅)、反射率40%以下の波長の帯域(バンド幅)およびシート抵抗(表面抵抗)を測定した。結果を表1に示す。
図1に示す構造の導電性積層体を以下のように作製した。ただし、保護膜16は設けなかった。また、金属膜30の積層数を3、酸化物膜20の積層数を4とした。
例1と同様にして、基体12である厚さ100μmのPETフィルム表面の洗浄を行った。
例5における(i)〜(ii)の操作をさらに2回繰り返した。ただし、(i)の操作においては、酸化物膜20を金属膜30表面に成膜した。また、基体12から2〜3番目の酸化物膜20の膜厚は、70nmとした。また、金属膜30の膜厚を15nmとした。
例5における(i)の操作と同様にして、基体12から3番目の金属膜30表面に膜厚35nmの酸化物膜20を成膜した。
該導電性積層体について、視感透過率、波長850nmでの透過率、透過率50%以上の波長の帯域(バンド幅)、反射率40%以下の波長の帯域(バンド幅)およびシート抵抗(表面抵抗)を測定した。結果を表1に示す。
図1に示す構造の導電性積層体を以下のように作製した。ただし、保護膜16は設けなかった。また、金属膜30の積層数を4、酸化物膜20の積層数を5とした。
例1と同様にして、基体12である厚さ100μmのPETフィルム表面の洗浄を行った。
例5における(i)〜(ii)の操作をさらに3回繰り返した。ただし、(i)の操作においては、酸化物膜20を金属膜30表面に成膜した。また、基体12から2〜4番目の酸化物膜20の膜厚は、70nmとした。また、金属膜30の膜厚を13nmとした。
例5における(i)の操作と同様にして、基体12から4番目の金属膜30表面に膜厚35nmの酸化物膜20を成膜した。
該導電性積層体について、視感透過率、波長850nmでの透過率、透過率50%以上の波長の帯域(バンド幅)、反射率40%以下の波長の帯域(バンド幅)およびシート抵抗(表面抵抗)を測定した。結果を表1に示す。
12 基体
14 導電膜
16 保護膜
20 酸化物膜
22 第1の酸化物層
24 第2の酸化物層
26 高屈折率層
30 金属膜
40 保護板
42 支持基体
52 電極
54 導電性メッシュフィルム
60 保護板
70 保護板
Claims (7)
- 基体と、基体上に形成された導電膜とを有する導電性積層体であって、
前記導電膜は、基体側から酸化物膜と金属膜とが交互に積層され、金属膜の積層数がnであり、酸化物膜の積層数がn+1である(ただし、nは6〜8である。)多層構造体であり、
前記酸化物膜が、金属酸化物からなる膜であり、
前記金属膜が、純銀からなる膜、または金および/またはビスマスを含有する銀合金を主成分として含有する膜である、導電性積層体。 - 前記酸化物膜が、酸化亜鉛を含む膜である、請求項1記載の導電性積層体。
- 基体から1番目の酸化物膜が、第1の酸化物層を有し、
基体から2〜n番目の酸化物膜が2層の酸化物層を有し、基体に近い酸化物層が第2の酸化物層であり、もう一方の酸化物層が第1の酸化物層であり、
基体からn+1番目の酸化物膜が、第2の酸化物層を有する、請求項1記載の導電性積層体。 - 前記第1の酸化物層が、酸化亜鉛を含む層である、請求項3記載の導電性積層体。
- 基体から1番目の酸化物膜が、第1の酸化物層の基体側に、屈折率が2.0以上である金属酸化物からなる高屈折率層を有し、
基体から2〜n番目の酸化物膜が、第1の酸化物層と第2の酸化物層との間に、屈折率が2.0以上である金属酸化物からなる高屈折率層を有し、
基体からn+1番目の酸化物膜が、第2の酸化物層の基体側とは反対側に、屈折率が2.0以上である金属酸化物からなる高屈折率層を有する、請求項3または4に記載の導電性積層体。 - 支持基体と、
該支持基体上に設けられた請求項1〜5のいずれかに記載の導電性積層体と、
該導電性積層体の導電膜に電気的に接している電極と
を有する、プラズマディスプレイ用保護板。 - さらに導電性メッシュフィルムを有する、請求項6に記載のプラズマディスプレイ用保護板。
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