JP2007188987A - 物体搬送装置、露光装置、計測システム、物体処理システム、及び計測方法 - Google Patents
物体搬送装置、露光装置、計測システム、物体処理システム、及び計測方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007188987A JP2007188987A JP2006004380A JP2006004380A JP2007188987A JP 2007188987 A JP2007188987 A JP 2007188987A JP 2006004380 A JP2006004380 A JP 2006004380A JP 2006004380 A JP2006004380 A JP 2006004380A JP 2007188987 A JP2007188987 A JP 2007188987A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- base member
- delivery position
- supported
- illumination
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【課題】 物体の搬送先の装置の構成の簡略化を図りつつ、該搬送先の装置への物体の投入再現性に基づく誤差を解消できるようにする。
【解決手段】 第1ベース部材WLBと、第1ベース部材WLB上に支持されており、且つ所定の受渡位置P4へ物体Wを保持して搬送する搬送部材143とを有し、受渡位置P4に位置された物体Wの周縁部の一部を、第1ベース部材WLBとは振動伝達が分離された第2ベース部材(MCL)上に支持されている検出装置S1,S2,S3と協働して計測するために該周縁部の一部を照明する照明装置EL1,EL2,EL3を、搬送部材143上に設けて構成される。
【選択図】 図2
【解決手段】 第1ベース部材WLBと、第1ベース部材WLB上に支持されており、且つ所定の受渡位置P4へ物体Wを保持して搬送する搬送部材143とを有し、受渡位置P4に位置された物体Wの周縁部の一部を、第1ベース部材WLBとは振動伝達が分離された第2ベース部材(MCL)上に支持されている検出装置S1,S2,S3と協働して計測するために該周縁部の一部を照明する照明装置EL1,EL2,EL3を、搬送部材143上に設けて構成される。
【選択図】 図2
Description
本発明は、基板等の物体を搬送する物体搬送装置、該物体搬送装置を備えた露光装置、物体の位置等を計測する計測システム、物体に露光処理等の処理を施す物体処理システム、及び物体の位置等を計測する計測方法に関する。
半導体素子の製造工程の1つであるフォトリソグラフィ工程においては、ウエハやガラスプレートなどの基板(物体)上に感光材料(フォトレジスト)を塗布するレジスト塗布装置(コータ)、該感光材料が塗布された基板にレチクル(マスク)のパターンの像を投影転写して該パターンの潜像を形成する露光装置(ステッパ)、及び該基板上に形成された潜像を現像する現像装置(デベロッパ)等が使用される。レジスト塗布装置と露光装置との間、及び露光装置と現像装置との間の基板の受け渡しは、複数の基板を収納できる基板キャリア(基板カセット)を用いて一括的に行うもの、あるいは、これと併用する形で若しくは独立的に、露光装置の近傍に配置されたレジスト塗布装置などとの間で基板を個別的に受け渡すようにしたもの(いわゆるインライン化したもの)がある。
レジストが塗布された基板は、基板キャリアに収納されてあるいはレジスト塗布装置から個別的に、所定の搬入位置に搬入され、露光装置が備える基板搬送装置により個別的に露光本体部(基板ステージ)との間で基板を受け渡す所定の受渡位置まで搬送される。露光処理が終了した基板は、露光本体部から当該基板搬送装置により所定の搬出位置に搬送され、基板キャリアに収納されてあるいは個別的に次の現像装置へと搬出される。
基板の搬出入位置と露光本体部との間には、基板の位置及び姿勢を外形基準で予備的に調整するプリアライメント機構や基板を所定の温度に調節するクールプレート等の処理部が配置され、基板搬送装置は搬出入位置、処理部及び露光本体部との間で、基板を順次搬送する。基板搬送装置としては、各種のものが知られているが、例えば、多関節ロボットで基板を搬入位置からクールプレート上に搬送し、クールプレートにより所定の温度に温調された基板を、必要に応じてプリアライメント(基板の外形計測による位置計測及び位置調整)を実施した後に、リニアモータ等により直線的に駆動されるスライダアーム(ロードスライダ)により、露光本体部との受渡位置まで搬送するようにしたものが使用されている。
ところで、露光本体部は露光精度の向上の観点から高性能の除振装置上に支持する必要があるが、基板搬送装置をも当該除振装置上に設置することは、コスト的に不利であるとともに、基板搬送装置の各部の動作に伴う振動が露光本体部に伝達されることは好ましくないこと等から、一般に露光本体部と基板搬送装置とは、互いに振動伝達が分離した状態、即ち、それぞれ異なるベース部材(支持体)上に設置されているのが一般的である。
従って、基板搬送装置の搬送部材(ロードアーム等)から露光本体部の基板ステージへ該基板を受け渡す時の両者の振動状態が相互に無関係であり、この振動状態の相違に基づき、基板ステージへの基板の投入再現性が悪化する。このため、従来は露光本体部側に設けられた搬送アーム(駆動機構を含む)により基板搬送装置から基板を一旦受け取り、同じく露光本体部側に設けられた検出装置及び該検出装置に照明光を供給する照明装置により、基板の外周検出を行い、該露光本体部の搬送アームにより基板の位置及び回転調整を行った後に、基板ステージ上に基板を渡すことで、基板搬送装置からの基板の投入再現性に基づく誤差を相殺するようにしていた。
しかしながら、露光本体部側の構成は、なるべくシンプルであることが望ましく、露光本体部側に設けた搬送アームの動作に伴う振動や駆動機構の発熱が問題となる。また、検出装置による基板の外形検出は、反射照明(検出装置側から基板を照明してその反射光を検出する場合の照明方法)よりも、精度的に透過照明(検出装置に対して基板を挟んで反対側から照明光を供給する照明方法)が有利であり、透過照明を行うため、照明装置を例えば基板ステージ上に設けるとステージの構成が複雑化し、好ましくない。なお、下記特許文献に記載されているように、検出装置及び照明装置を基板搬送装置側の搬送部材上に設け、基板の搬送中に基板の外形検出を行うようにしたものでは、基板の露光本体部への投入再現性に基づく誤差を解消することはできず、根本的な解決とはならない。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、物体の搬送先の装置の構成の簡略化を図りつつ、該搬送先の装置への物体の投入再現性に基づく誤差を解消できるようにすることを目的とする。
本発明によると、第1ベース部材と、前記第1ベース部材上に支持されており、且つ所定の受渡位置へ物体を保持して搬送する搬送部材と、を有し、前記受渡位置に位置された前記物体の周縁部の一部を、前記第1ベースとは振動伝達が分離された第2ベース部材上に支持されている検出装置と協働して計測するために該周縁部の一部を照明する照明装置を、前記搬送部材上に設けた物体搬送装置が提供される。
本発明では、第1ベース部材上に支持された搬送部材上に設けた照明装置と、第1ベース部材とは振動伝達が分離された第2ベース部材上に支持された検出装置とを協働させて、該物体の周縁部の一部を検出するようにしており、従来のように、第2ベース部材上に別途搬送部材や照明装置を設ける必要がなくなるので、第2ベース部材上に設置される装置等の構成を簡略化することができるとともに、検出装置は第2ベース部材上に支持されているので、第2ベース部材上に設けられる装置等に対する該物体の投入再現性に基づく誤差を有効に解消することができるようになる。なお、本発明の他の目的やこれを実現するための構成等は、以下に説明する実施形態において明らかになる。
本発明によれば、物体の搬送先の装置の構成の簡略化を図りつつ、該搬送先の装置への物体の投入再現性に基づく誤差を有効に解消できるようになるという効果がある。
以下、図面を参照して本発明の実施形態に係る露光システムについて説明する。この露光システムは、露光処理を行う露光装置(露光本体部)及び該露光装置に対するウエハの搬出入を行うウエハ搬送装置等を備えて構成されている。以下、最初に露光装置の全体構成を概説し、次いでウエハ搬送装置について説明する。
[露光装置]
露光装置の全体構成の概略が図1に示されている。露光装置EXは、いわゆる液浸型の露光装置であるとともに、投影光学系PLに対してレチクルステージRSTとウエハステージWSTとを同期移動させつつ、レチクルRに形成されたパターンの像をウエハW上のショット領域に逐次転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置である。
露光装置の全体構成の概略が図1に示されている。露光装置EXは、いわゆる液浸型の露光装置であるとともに、投影光学系PLに対してレチクルステージRSTとウエハステージWSTとを同期移動させつつ、レチクルRに形成されたパターンの像をウエハW上のショット領域に逐次転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置である。
照明光学系ILは、ArFエキシマレーザ光源(波長193nm)等の光源から射出されるレーザ光の断面形状をスキャン方向(X方向)に直交する方向(Y方向)に伸びるスリット状に整形するとともに、その照度分布を均一化して照明光ELとして射出する。なお、本実施形態では、光源としてArFエキシマレーザ光源を備える場合を例に挙げて説明するが、これ以外にg線(波長436nm)、i線(波長365nm)を射出する超高圧水銀ランプ、又はKrFエキシマレーザ(波長248nm)、F2レーザ(波長157nm)、その他の光源を用いることができる。
レチクルRは、レチクルステージRST上に吸着保持されており、レチクルステージRST上の一端にはレチクル用干渉計システムIFRからの測長用のレーザビームが照射される移動鏡MRrが固定されている。レチクルRの位置決めは、レチクルステージRSTを光軸AXと垂直なXY平面内で並進移動させるとともに、XY平面内で微小回転させるレチクル駆動装置(不図示)によって行われる。このレチクル駆動装置は、レチクルRのパターンの像をウエハW上に転写する際には、レチクルステージRSTを一定速度で所定のスキャン方向(X軸方向)に走査する。
レチクルステージRSTの上方には、レチクルRの周辺に複数形成されたレチクルアライメント用のマークを光電検出するアライメント系OB1,OB2がスキャン方向に沿ってそれぞれ設けられている。アライメント系OB1,OB2の検出結果は、レチクルRを投影光学系PLの光軸AXに対して所定の精度で位置決めするためなどに使用される。干渉計システムIFRは、移動鏡MRrにレーザビームを投射し、その反射ビームを受光してレチクルRの位置変化を計測する。
レンズ等の複数の光学素子を有する投影光学系PLの下方には、ウエハWを載置してXY平面に沿って2次元移動するウエハステージWSTが設けられている。ウエハステージWST上には、ウエハテーブルWTBが設けられ、ウエハテーブルWTBには、ウエハWを真空吸着するウエハホルダWHが設けられている。
ウエハテーブルWTBは、不図示のオートフォーカス機構(AF機構)の計測値に基づいて、ウエハホルダWHをZ方向(光軸AX方向)に微小移動させるとともに微小傾斜させる。ウエハステージWSTのXY平面内での移動座標位置とヨーイングによる微小回転量とは、ウエハ用干渉計システムIFWによって計測される。この干渉計システムIFWは、レーザ光源(不図示)からの測長用のレーザビームをウエハステージWSTのウエハテーブルWTBに固定された移動鏡MRwに照射し、その反射光と所定の参照光とを干渉させてウエハステージWSTの座標位置と微小回転量(ヨーイング量)とを計測する。ウエハテーブルWTB上には、その外形が矩形状に形成され、そのほぼ中央部には、ウエハWの外径よりも僅かに大きい内径の開口(円形開口)PTaが形成された撥水プレートPTが適宜に交換可能に設けられている。撥水プレートPTの表面には、フッ素系の材料等を用いた撥水処理(撥水コート)が施されている。
また、図1では図示を省略しているが、ウエハホルダWHの中央部には、上下方向(Z方向)に上下動可能なセンターテーブルCT1(図2又は図4参照)が設けられている。センターテーブルCT1は、ウエハステージWST(ウエハホルダWH)に対するウエハWの搬出入を行うための上下動機構であり、その先端位置において、後述する所定の受渡位置よりも上側の上死点とウエハホルダのウエハWの載置面よりも下側の下死点との間で任意の位置で位置決め可能に構成されており、その中心にウエハWを負圧吸着するための吸着口が配置されている。
投影光学系PLの側方には、ウエハWに形成されたウエハマーク(アライメントマーク)の位置情報を計測するための、オフ・アクシス型のアライメントセンサALGが設けられている。アライメントセンサALGとしては、この実施形態では、ウエハW上のレジストを感光させないブロードバンドな検出光を対象マークに照射し、その対象マークからの反射光により受光面に受光された対象マークの像と、不図示の指標(センサ内に設けれらた指標板上の指標マーク)の像とを2次元CCD(Charge Coupled Device)等からなる撮像素子(カメラ)で撮像し、それらの撮像信号を出力する画像処理方式のFIA(Field Image Alignment)系のセンサが用いられている。アライメントセンサALGによる計測結果は、露光装置を全体的に制御する制御装置CNTに供給されるようになっている。
また、ウエハステージWSTのウエハテーブルWTB上には、AF機構が備えるAFセンサのキャリブレーションやベースライン量の計測等に用いられる基準板FMBが取り付けられている。基準板FMBの表面には、レチクルRのマークとともにアライメント系OB1,OB2で検出可能な基準マーク(フィジューシャルマーク)やその他のマークが形成されている。AFセンサは投影光学系PLの像面に対するウエハWの表面のずれ量を計測するセンサである。ベースライン量とは、ウエハW上に投影されるレチクルのパターン像の基準位置(例えば、パターン像の中心)とアライメントセンサALGの視野中心との距離を示す量である。
この露光装置は、液浸型であるため、投影光学系PLの像面側(ウエハW側)の先端部近傍には、液浸機構を構成する液体供給ノズルSUNと、これと対向するように液体回収ノズルRENとが設けられている。液体供給ノズルSUNは、不図示の液体供給装置に供給管を介して接続されており、液体回収ノズルRENには、不図示の液体回収装置に接続された回収管が接続されている。液体としては、一例として、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)が透過する超純水が用いられる。ArFエキシマレーザ光に対する水の屈折率nは、ほぼ1.44である。この水の中では、照明光(露光光)ELの波長は、193nm×1/n=約134nmに短波長化される。制御装置CNTが、液体供給装置及び液体回収装置を適宜に制御して、液体供給ノズルSUNから液体(純水)を供給するとともに、液体回収ノズルRENから液体を回収することにより、投影光学系PLとウエハWとの間に、一定量の液体Lqが保持される。なお、この液体Lqは常に入れ替わっている。
上述したレチクルステージRST、投影光学系PL、アライメントセンサALG等は、本体コラムMCLに支持されている。本体コラムMCLは、例えば半導体工場の床面に配置されたフレームキャスタFC上に複数(ここでは3個)の能動型防振台AVS(同図では2個のみ表示)を介して支持されている。上述したウエハステージWSTは、本体コラムMCLに複数の支柱SCLを介して一体的に設けられたウエハベースWBS上に支持されている。本体コラムMCLには、電気式の水準器又は光学式の傾斜角検出器等の変位センサ(不図示)が設置されている。
能動型防振台AVSはそれぞれエアーダンパ又は油圧式のダンパ等の大重量に耐える機械式のダンパと、ボイスコイルモータ等の電磁式のアクチュエータよりなる電磁式のダンパとを含み、変位センサで検出される本体コラムMCLの水平面に対する傾斜角が許容範囲内に収まるように、3個の能動型防振台AVS中の電磁式のダンパが駆動され、必要に応じて機械式のダンパの空気圧又は油圧等が制御される。この場合、機械的なダンパによって、床からの高い周波数の振動は露光本体部に伝わる前に減衰され、残存している低い周波数の振動は電磁的なダンパによって減衰される。
[ウエハ搬送装置]
図2は、本発明の実施形態に係る物体搬送装置としてのウエハ搬送装置の構成を示す平面図である。このウエハ搬送装置WLは、所定のフープ位置P1に搬入されたウエハキャリア(ウエハカセット)WC又は露光装置の前の処理工程であるレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装置(コータ)若しくは後の処理工程である現像処理を行う現像装置(デベロッパ)に対する搬出入位置P2と、露光装置(露光本体部)EXのウエハステージWSTに対する所定の受渡位置P4との間で、搬送対象としてのウエハ(物体、基板)Wを搬送する装置である。
図2は、本発明の実施形態に係る物体搬送装置としてのウエハ搬送装置の構成を示す平面図である。このウエハ搬送装置WLは、所定のフープ位置P1に搬入されたウエハキャリア(ウエハカセット)WC又は露光装置の前の処理工程であるレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装置(コータ)若しくは後の処理工程である現像処理を行う現像装置(デベロッパ)に対する搬出入位置P2と、露光装置(露光本体部)EXのウエハステージWSTに対する所定の受渡位置P4との間で、搬送対象としてのウエハ(物体、基板)Wを搬送する装置である。
ウエハ搬送装置WLは、不図示のウエハローダチャンバ内に収容されており、ウエハローダベースWLB上に、搬出入テーブルユニット110、ロードロボット120、クーリングユニット130、ロードスライダ140、アンロードスライダ150、アンロードロボット160、及び必要に応じて位置P6に設けられる、ウエハに残存した液浸露光用の液体を除去する水除去ユニット(不図示)を配置して構成されている。搬出入テーブルユニット110には第1プリアライメント部が併設され、クーリングユニット130には第2プリアライメント部が併設され、受渡位置P4には第3プリアライメント部が併設されている。ウエハローダチャンバ内には、露光装置EXに付属する空調装置からダクトを介して所定温度に温調された気体(ここでは、空気)がダウンフロー供給されている。
搬出入テーブルユニット(インラインテーブル)110は、詳細図示は省略されているが、ウエハWがそれぞれ載置される上下に2段のテーブルを有しており、上段は図外のレジスト塗布装置から送られるウエハWを受け取るためのテーブルであり、下段は図外の現像装置に対してウエハWを受け渡すためのテーブルである。搬出入テーブルユニット110には、第1プリアライメント部が併設されている。
第1プリアライメント部では、ウエハWを回転させつつ外形を検出してウエハWの中心及びノッチ(又はオリフラ)の方位をラフに計測する第1プリアライメントが実施される。第1プリアライメント部は、搬出入テーブルユニット110の上段テーブル111の中央部に形成された貫通穴を貫通した状態で、昇降及び回転可能なターンテーブル112と、上段テーブル111の上方に設けられた外形検出用のラインセンサ(ラインCCDセンサ)S11とを備えて構成されている。
ロードロボット120は、ロボットベース121にその一端側が回動可能に取り付けられた第1アーム122、第1アーム122の他端側にその一端側が回動可能に取り付けられた第2アーム123、及び第2アーム123の他端側にその基端部側が回動可能に取り付けられたハンド部124を備えて構成されたスカラー型の多関節ロボットである。
ロボットベース121は、Z軸ユニット127によりZ軸方向(上下方向)にスライド可能に支持されており、Z軸ユニット127が備えるサーボモータ及びリニアエンコーダ等からなる駆動部により、Z軸方向の所定範囲の任意の位置に位置決めできるようになっている。ロボットベース121、第1アーム122、第2アーム123、及びハンド部124のそれぞれの連結部分には、サーボモータ及びロータリーエンコーダ等からなる駆動部が設けられており、これらを制御することにより、ハンド部124を任意の位置に任意の姿勢で位置決めできるようになっている。
ハンド部124は、その先端側に一対の指部125a,125bを有しており、各指部125a,125bの先端部近傍には、ウエハWを真空吸着するための負圧を供給する吸着溝126a,126bが配置されている。ハンド部124の指部125a,125bは、一方の指部125aよりも他方の指部125bの長さが短くなるように、左右非対称に構成されている。このような非対称な構成としたのは、後述するアンロードロボット160のハンド部164の指部165a,165bの非対称性、並びにハンド部124,164のウエハWを受け渡す時の姿勢及び進行方向との関係で、ウエハWを受け渡す際に互いに干渉しないようにするためである。吸着溝126a,126bは、ウエハWを保持したときに、ウエハWの裏面が指部125a,125bに接触しないように、その外壁部分が僅かに高く形成されており、裏面側の負圧供給管に連通された孔(不図示)を介して真空吸引することにより、ウエハWを吸着保持するようになっている。吸着溝126a,126bは、ここでは互いに相対する側が凹となるように円弧状に形成されている。
クーリングユニット130は、重ね合わせ精度(ウエハWのある層に形成されるパターンとその後に形成されるパターンとの重ね合わせ精度)を向上させるため、ウエハWを露光装置EXによる露光時の温度とほぼ同じ温度に冷却(温調)するためのユニットである。クーリングユニット130は、温調されたクールプレート131を備え、このクールプレート131上にウエハWを所定時間だけ載置することにより、ウエハWの全面を予め定められた所定の温度に温調する装置である。
クーリングユニット130は、ロードロボット120から温調すべきウエハWを受け取るため、クールプレート131の中心に対して放射状に等配的に設けられた3本のピン部材132を有する昇降装置を備えている。昇降装置は、ロードロボット120により位置P3においてクールプレート131から離間して上方に搬入されたウエハWを、ピン部材132を上昇させることにより受け取り、ロードアーム120が待避された後にピン部材132を降下させて、ウエハWをクールプレート131の上面に載置させる。クールプレート131で温調されたウエハWは、ピン部材132が上昇されて、後述するスライダアーム143に受け渡されるようになっている。なお、各ピン部材132の先端には、ウエハWを真空吸引するための吸着口(不図示)が形成されている。
クーリングユニット130には第2プリアライメント部が併設されており、ここで第2プリアライメントが行われる。このため、ウエハWの周縁部の所定の3箇所を撮像するための二次元CCDカメラ等からなる撮像装置S21,S22,S23がクールプレート131の上方に設けられている。
また、各撮像装置S21,S22,S23に照明光を供給する照明装置(ここでは、有機EL発光体)EL21,EL22,EL23が、クールプレート131に形成された貫通穴を介して下側から照明するように設けられている。位置P3に位置されたウエハWの外周の3箇所が、それぞれ撮像装置S21,S22,S23により撮像され、その撮像結果(所定の基準に対する位置誤差及び回転誤差)に基づき、クーリングユニット130を全体的に支持している微調整テーブル(不図示)を駆動して、微小回転させると共に、X及びY方向へ微小移動させて、ウエハWの中心位置及び回転位置を該所定の基準に位置合わせするものである。
ロードスライダ140は、ガイド141に沿ってスライド可能なスライダ142に取り付けられたスライダアーム(ロードスライダアーム)143を備えて構成され、スライダアーム143がクーリングユニット130及び第2プリアライメント部が配置された位置P3と、ウエハステージWSTの露光装置EXに対する所定の受渡位置P4との間で往復移動されるようになっている。
ロードスライダ140の要部の詳細構成は、図3及び図4に示されている。ガイド141はその断面が凹状に形成され、ガイド141の内側の溝部には固定子及び可動子からなるリニアモータLMが該溝部に沿って挿入配置されている。スライダ142はリニアモータLMの可動子に固定され、リニアモータLMにより駆動されるようになっている。スライダ142の位置は、ガイド141の側面に取り付けられたリニアスケールLS、及びスライダ142に取り付けられたエンコーダ(フォトセンサ)ECにより検出され、スライダ142がガイド141に沿う任意の位置で位置決め可能となっている。
スライダ142上には、離散的に配設された複数の断熱部材(例えば、断熱ワッシャー)148を介して支持されたヒートシンク147が設けられ、このヒートシンク147上にスライダアーム143が取り付けられている。ヒートシンク147は、一例として、高熱伝導率で且つ軽量であるアルミニウムから形成され、供給管147a及び回収管147bを介して、その内部に冷媒(例えば、純水、ハイドロフルオロエーテル等)が流通される流路を有している。
スライダアーム143は、ウエハWを保持するための上板部としてのハンド部143aと、ヒートシンク147に取り付けられる下板部143bと、該ハンド部143a及び下板部143bを相互に連結する側板部143cとを、略コの字状に一体形成することにより構成されている。ハンド部143aは、一対の指部145a,145bを有しており、各指部145a,145bには搬送するウエハWを真空吸着するための一対の吸着溝146a,146bが設けられている。吸着溝146a,146bは、ウエハWを保持したときに、ウエハWの裏面がハンド部143aに接触しないように、その外壁部分が僅かに高く形成されており、裏面側の負圧供給管に連通された不図示の孔を介して真空吸引することにより、ウエハWを吸着保持するようになっている。
ハンド部143aには、3個の照明装置EL1,EL2,EL3が設けられている。各照明装置EL1,EL2,EL3は、有機EL(Electro Luminescence)発光体から構成されており、ハンド部143aに形成された凹部に設けられている。照明装置EL1,EL2,EL3として、このような有機EL発光体を用いるのは、有機EL発光体は蛍光体に電圧を印可したときに発光する現象を利用した照明装置であり、ほとんど発熱しないと共に、薄型、軽量であるため、ハンド部143aに対する熱の影響が少なく、ハンド部143aの軽量化を図れるので、有利だからである。
これらの照明装置EL1,EL2,EL3は、ハンド部143aが受渡位置P4に位置された状態で、露光装置EXの本体コラムMCLに支持固定された二次元CCDカメラ等からなる3個の撮像装置S1,S2,S3に対向するように設けられており、それぞれ対をなす照明装置EL1,EL2,EL3からの照明光を撮像装置S1,S2,S3により受光することにより、ハンド部143aに保持されて受渡位置P4に位置されたウエハW、又はハンド部143aからウエハステージWSTのセンターテーブルCT1に渡した後のウエハWの周縁部の所定の3カ所を撮像できるようになっている。
本実施形態では、照明装置EL1,EL2,EL3は、露光装置EXの本体コラムMCLに設けられる3個の撮像装置S1,S2,S3に対応して3個設けられている。但し、取り扱うウエハWのサイズ(例えば、12インチウエハ、8インチウエハ等)のそれぞれに対応するため、更に複数の撮像装置を設ける場合には、同図に符号EL4,EL5,EL6で示されているように、これらの撮像装置に対応して更に複数の照明装置を設けることができる。ここでは、取り扱うウエハWは、その周縁部の一部に形成されたノッチ(V字状の切り欠き)を有するウエハとするが、オリエンテーションフラット(直線上の切り欠き)を有するウエハの場合には、撮像装置S1,S2,S3、照明装置EL1,EL2,EL3(又はEL4,EL5,EL6)の配置は、その場合に対応した位置(オリエンテーションフラット上の二箇所とそれ以外の周縁部上の一箇所)となる。なお、図4において、CT1はウエハステージWSTのウエハホルダWHの中央部に上下動可能に設けられたセンターテーブルであり、センターテーブルCT1の先端面には、ウエハWを真空吸着保持するための負圧を供給する複数(ここでは、3個)の吸着孔BHが設けられている。
アンロードスライダ150は、ガイド151に沿ってスライド可能なスライダ152に取り付けられたハンド部153を備えて構成される。ハンド部153は、左右非対称に配置された一対の指部155a,155bを有しており、各指部155a,155bには搬送するウエハWを真空吸着するための吸着ピン156a,156b,156cが設けられている。吸着ピン156a,156b,156cは、ウエハWを保持したときに、ウエハWの裏面が指部155a,155bに接触しないように、その外壁部分が僅かに高く形成されており、裏面側の負圧供給管に連通された不図示の孔を介して真空吸引することにより、ウエハWを吸着保持するようになっている。スライダ152は不図示のリニアモータ及びリニアエンコーダ等を有する駆動部により駆動され、ハンド部153が、ウエハステージWSTとの受渡位置P4と、アンロードロボット160のハンド部164との受渡位置P5との間で往復移動されるようになっている。
アンロードロボット160は、ロボットベース161にその一端側が回動可能に取り付けられた第1アーム162、第1アーム162の他端側にその一端側が回動可能に取り付けられた第2アーム163、及び第2アーム163の他端側にその基端部側が回動可能に取り付けられたハンド部164を備えて構成されたスカラー型の多関節ロボットである。ロボットベース161、第1アーム162、第2アーム163、及びハンド部164のそれぞれの連結部分には、サーボモータ及びロータリーエンコーダ等からなる駆動部が設けられており、これらを制御することにより、ハンド部164を任意の位置に任意の姿勢で位置決めできるようになっている。
ハンド部164は、その先端側に一対の指部165a,165bを有しており、各指部165a,165bの先端部近傍には、ウエハWを真空吸着するための負圧を供給する吸着溝166a,166bが配置されている。ハンド部164の指部165a,165bは、左右非対称になるように構成されている。ここでは、一方の指部165aよりも他方の指部165bの長さが短く形成されるとともに、指部165aの長手方向と指部165bの長手方向が互いに斜交するように形成された形状を有している。この一対の指部165a,165bを左右非対称性にしたのは、前述したロードロボット120のハンド部124における指部125a,125bの非対称性及びハンド部124,164のウエハWを受け渡す時の姿勢及び進行方向との関係で、アンロードスライダ150のハンド部153の指部155a,155bの非対称性及びハンド部153,164のウエハWを受け渡す時の姿勢及び進行方向との関係で、ウエハWを受け渡す際に互いに干渉しないようにするためである。吸着溝166a,166bは、ウエハWを保持したときに、ウエハWの裏面が指部165a,165bに接触しないように、その外壁部分が僅かに高く形成されており、裏面側の負圧供給管に連通された孔(不図示)を介して真空吸引することにより、ウエハWを吸着保持するようになっている。吸着溝166a,166bは、ここでは互いに平行となるように直線状に形成されている。
次に、この搬送装置WLにおけるウエハWの搬送動作について説明する。フープ(FOUP)位置P1に搬入されたウエハキャリアWC内に収納されたウエハWを処理する場合には、ウエハキャリアWC内のウエハWが、ロードロボット120により取り出され、搬出入テーブルユニット110が設置された位置P2まで搬送され、上段テーブル111に載置される。
また、レジスト塗布装置からインラインで搬入されるウエハWを処理する場合には、レジスト塗布装置の搬送装置によりウエハWが上段テーブル111上に載置されている。この搬出入テーブルユニット110には、第1プリアライメント部が併設されており、ここで第1プリアライメントが行われる。この第1プリアライメントは、ウエハWのノッチの位置及び偏芯を検出し、その位置及び回転を補正するために行われる。上段テーブル111上に載置されたウエハWは、ターンテーブル112が上昇されることによって、ターンテーブル112上に渡され、ターンテーブル112の吸着機能により、ターンテーブル112に吸着保持される。
次いで、ターンテーブル112が回転され、ラインCCDセンサS11によりウエハWの外形及びノッチ部(あるいはオリフラ部)が検出される。ウエハWの回転方向のズレは、ターンテーブル112が当該ズレを相殺するように回転された位置で停止することにより補正され、中心位置のズレは、ロードロボット120によりウエハWが取り出されるときの該ロードロボット120のハンド部124の位置を補正することにより解消される。第1プリアライメントが終了したウエハWは、ロードロボット120により取り出され、クーリングユニット130との受渡位置P3まで搬送され、上昇した3本のピン部材132(以下、センターテーブル132ともいう)上に渡される。
次いで、クーリングユニット130に併設されている第2プリアライメント部による第2プリアライメントが行われる。即ち、クーリングユニット130に設けられた照明装置EL21,EL22,EL23による照明光の照射が行われると共に、撮像装置S21,S22,S23によるウエハWの周縁部の所定の3箇所が撮像され、その撮像結果に基づいて、ウエハWの中心位置及び回転位置の所定の基準に対する誤差が検出される。これらの誤差は、クーリングユニット130の位置及び回転を微調整する不図示の微調整テーブルが駆動されることにより補正される。
第2プリアライメントが終了したウエハWは、センターテーブル132が降下されることにより、クーリングプレート131の上面上に載置され、所定の時間だけクーリングプレート131上に載置されることにより、その温度が全面に渡って一様に所定温度となるように調整される。ウエハWの冷却が終了したならば、−Y軸方向側の所定の待機位置にロードスライダ140のスライダアーム143が予め待機している状態で、センターテーブル132が上昇された後に、該スライダアーム143が所定の受渡位置P3まで前進(+Y軸方向に移動)されて停止される。その後、センターテーブル132による吸着保持が解除された状態で該センターテーブル132が降下されることにより、温調(冷却)されたウエハWがスライダアーム143に渡される。次いで、ロードスライダ140により、+Y軸方向に搬送されて、ウエハステージWSTとの受渡位置P4まで搬送される。
ウエハステージWSTとスライダアーム143との間のウエハWの受渡位置P4には、第3プリアライメント部が併設されている。第3プリアライメント部は、露光装置EXの本体コラムMCLに支持された撮像装置S1,S2,S3と、アームスライダ143に設けられた照明装置EL1,EL2,EL3とを備えて構成されており、この第3プリアライメント部では、スライダアーム143からウエハステージWSTのセンターテーブルCT1に受け渡す前の(即ち、スライダアーム143に保持された)ウエハWと、受け渡した後の(即ち、センターテーブルCT1に保持された)ウエハWについて、それぞれプリアライメントを実施する。以下では、便宜上、ウエハWをセンターテーブルCT1に受け渡す前のプリアライメントを第3プリアライメント、受け渡した後のプリアライメントを第4プリアライメントということにする。
図6〜図9は、スライダアーム143に保持されて受渡位置P4に位置されたウエハWをウエハステージWSTに受け渡す様子を示す図である。まず、図6に示されているように、ウエハWを保持したスライダアーム143が受渡位置P4に位置された状態で、第3プリアライメントが実施される。
第3プリアライメントでは、スライダアーム143に保持された状態のウエハWの周縁部の所定の3箇所を、アームスライダ143に設けられた照明装置EL1,EL2,EL3と露光装置EXの本体コラムMCLに支持された撮像装置S1,S2,S3とを協働させることにより撮像し(即ち、照明装置EL1,EL2,EL3を発光させて、撮像装置S1,S2,S3による画像検出を行い)、該ウエハWの中心位置及び回転位置についての所定の基準に対する誤差を検出する。
このとき、図5に示されているように、照明装置EL1により下から上に向けて照明光が射出され、ウエハWの周縁部の一部を介した光が撮像装置S1により撮像される。なお、他の撮像箇所についても同様である。このように、撮像装置に対してウエハWを挟んで反対側から照明する透過照明を行うことにより、ウエハWを上から照明してその反射光を受光するようにした反射照明と比較して、ウエハWのエッジをより正確に検出することが可能である。
次いで、第3プリアライメントにより検出された誤差を相殺するように、ウエハステージWSTのXY平面内における微小移動及びZ軸周りの微小回転を行った後に、センターテーブルCT1の上昇を開始する。この上昇の際に、センターテーブルCT1は、その上に設けられた吸引孔より真空吸引しながら上昇する。またこのとき、スライダアーム143によるウエハWの吸着は解除されている。次に、図7に示されているように、センターテーブルCT1の先端面がスライダアーム143の上面(吸着溝146a,146bの上面より僅かに上に位置した状態で、センターテーブルCT1の上昇が停止され、センターテーブルCT1によるウエハWの吸着保持が行われる。
センターテーブルCT1によるウエハWの吸着保持が行われたならば、その後、第4プリアライメントが実施される。第4プリアライメントでは、スライダアーム143を退避させずに受渡位置P4に待機させた状態で、センターテーブルCT1に保持された状態のウエハWの周縁部の所定の3箇所を、アームスライダ143に設けられた照明装置EL1,EL2,EL3と露光装置EXの本体コラムMCLに支持された撮像装置S1,S2,S3とを協働させることにより撮像し、該ウエハWの中心位置及び回転位置についての所定の基準に対する誤差が検出される。
この第4プリアライメントにより計測されたウエハWの中心位置誤差及び回転誤差は、ウエハステージWSTの微小移動(即ち、ステージ移動の目標値への加算)及び微小回転により補正することができる。但し、ウエハステージWSTを回転させたまま露光処理を行うことが好ましくない場合には、この回転誤差は、露光時におけるレチクルRの微小回転によって補正するようにすると良い。
また第4プリアライメントを行う前になされていた、ウエハステージWSTによる第3プリアライメント結果にかかる位置誤差及び回転誤差を補正するために行われた前記微小移動及び微小回転分も、上述の第4プリアライメント後にステージWSTが目標位置に移動する際に元に戻される。なお、この第3プリアライメント結果にかかる位置誤差及び回転誤差を補正するために行われた前記微小移動及び微小回転分を元に戻す動作は、上述の第4プリアライメントを行う前に行うようにしても良い。
次いで、図8に示されているように、スライダアーム143を待避させると共に、センターテーブルCT1を降下させ、ウエハWがウエハステージWST(ウエハホルダWH)上に載置される直前に、センターテーブルCT1によるウエハWの吸着保持を解除し、センターテーブルCT1を更に降下させることにより、図9に示されているように、ウエハWがウエハステージWST上に載置される。
次いで、ウエハステージWST上において、ウエハWはウエハホルダWHに吸着保持され、ウエハステージWSTにより所定の露光位置に搬送されて、アライメントセンサALGによるウエハW上のマークを計測するサーチアライメント及びファインアライメントが実施された後に、露光装置EXによりレチクルRのパターンの像がウエハW上に露光転写される。ウエハWに対する露光処理が終了したならば、ウエハステージWSTが移動されて、受渡位置P4に再度位置される。露光処理が終了したウエハWはセンタテーブルCT1を介してアンロードスライダ150のアンロードアーム153に渡される。
次いで、ウエハWはアンロードスライダ150により、アンロードロボット160との受渡位置P5まで搬送され、アンロードロボット160のハンド部164に渡される。アンロードロボット160のハンド部164に渡されたウエハWは、位置P6まで搬送され、位置P6に除水ユニットが設けられている場合には、ウエハW上の水分が取り除かれた後に、ロードロボット120のハンド部124に渡され、ロードロボット120により、フープ位置P1に設置されたウエハキャリアWC内まで、又は位置P2の搬出入テーブルユニット110の現像装置に対して搬出するための下段テーブルまで搬送される。
上述した実施形態によると、搬出入テーブルユニット110に併設された第1プリアライメント部、クーリングユニット130に併設された第2プリアライメント部、露光装置EXとの受渡位置P4に設けられた第3プリアライメント部において、第1〜第3プリアライメントを行い、ウエハ搬送装置WL内におけるウエハWの搬送やその他の処理に伴いウエハWに生じる位置及び回転誤差をそれぞれの位置で補正するようにしたので、ウエハWをウエハステージWSTのセンターテーブルCT1に受け渡す際の当該位置及び回転誤差を極めて小さくすることができ、良好な投入再現性を実現することができる。
このように第1〜第3プリアライメントによりウエハWの位置及び回転誤差は極めて小さくなるのではあるが、ウエハWをセンターテーブルCT1に渡すスライダアーム143は、ロードスライダ140を介してウエハローダベースWLBに支持されており、一方、ウエハWを受け取るセンターテーブルCT1は、ウエハステージWST、本体コラムMCL及び除振装置AVSを介してフレームキャスタFCに支持されおり、両者間の振動伝達は完全に分離されている(即ち、それぞれ別個の振動系を有している)。
これは、各種の駆動部を有するウエハ搬送装置WLから露光装置EXに振動が伝達されると、露光精度に悪影響があるため、必然的な構成である。このため、ウエハWをスライダアーム143からセンターテーブルCT1に受け渡す正にその時点における両者の振動状態は一定しておらず、センターテーブルCT1に渡した後のウエハWに、該振動状態の相違に起因する位置及び回転誤差が発生することは防止することはできない。
そこで、本実施形態では、露光装置EXに対するウエハWの受渡位置P4において、ウエハWをウエハステージWSTに渡す前に第3プリアライメントを行うことに加えて、ウエハWをウエハステージWSTのセンターテーブルCT1に渡した後に、第4プリアライメントを行い、スライダアーム143とセンターテーブルCT1との振動状態の相違に起因して発生するウエハWの位置及び回転誤差を検出して、これを補正するようにしている。
従って、その後に行われるウエハW上のマークの位置計測において、アライメントセンサALGの計測視野内に、計測対象となるマークが入らずに、リトライ処理やエラー処理等が行われることが少なくなり、処理のスループットを向上することができる。
また、ウエハWを搬送するスライダアーム143に照明装置EL1,EL2,EL3を設け、露光装置EX側の本体コラムMCLに支持された撮像装置S1,S2,S3と協働させることにより、第3及び第4プリアライメントを行うようにしており、露光装置EX側に搬送装置や照明装置を設ける必要がなくなるので、露光装置EXの装置構成の複雑化を防止することができる。
なお、撮像装置S1,S2,S3としては、第3プリアライメントと第4プリアライメントでは、ウエハWのZ軸方向の位置が相違するので、焦点深度の大きいものを用いることが好ましい。また、ウエハステージWSTのセンターテーブルCT1を微小回転可能なターンテーブルとして、第3又は第4プリアライメント結果に基づく回転誤差を、該ターンテーブルを微小回転させることにより補正するようにしてもよい。センターテーブルCT1をX及びY軸方向に微動できるようにして、第3又は第4プリアライメント結果に基づく位置誤差をもセンターテーブルCT1の微小移動により補正するようにしてもよい。
さらに、センターテーブルCT1が上昇した状態で第4プリアライメントが実施されるため、センターテーブルCT1の降下に伴い、センターテーブルCT1の駆動機構の誤差に起因して、ウエハWに位置又は回転誤差が発生することが懸念される場合には、センターテーブルCT1が上昇した位置と下降した位置とで、位置及び回転誤差についてのオフセットを予め計測しておき、これらを補正するようにウエハステージWSTの駆動やレチクルRの微小回転を行うようにするとよい。
上述した実施形態では、図5に示したように、照明装置EL1及び撮像装置S1を配置した透過照明の場合について説明したが、このような透過照明の場合に限定されず、図10に示されているように、反射照明を行うようにしてもよい。即ち、同図に示すように、スライダアーム143に支持部材143dを一体的に設けて、該支持部材143dに吸着溝146aを介してウエハWを保持するようにし、斜め上方向から照明光を照射するように照明装置EL1を取り付ける。ウエハWで反射された光が撮像装置S1により検出される。なお、この場合において、同図に符号143eで示されるような拡散反射板を設けて、拡散反射板143eに照明装置EL1による照明光を照射し、拡散反射板143eで拡散・反射された光をウエハWを介して撮像装置S1により検出することにより、透過照明と同様の検出を行うことができる。
また、これらのように、ウエハWのエッジ計測に限られず、図11に示されているように、ウエハステージWST上に載置されたウエハW上に形成されたアライメントマークMaを、スライダアーム143に設けられた照明装置EL1で斜め上方向から照明するようにして、撮像装置S1で該アライメントマークMaの位置計測を行うようにすることもできる。
なお、図11では、ウエハステージWST上に載置されたウエハWのマーク計測を行うものとしたが、アームスライダ143に保持されたウエハW上のマーク、又はウエハステージWSTのセンターテーブルCT1に保持されたウエハW上のマークを計測するようにしても勿論よい。
上述した実施形態では、クーリングユニット130に併設された第2プリアライメント部で、クールプレート131側に設けられた照明装置EL21,EL22,EL23による照明光を、ウエハWを介して対向配置された撮像装置S21,S22,S23により検出するようにしたが、照明装置EL21,EL22,EL23を省略して、スライダアーム143を位置P3にスライドさせてスライダアーム143の照明装置EL1,EL2,EL3により照明してウエハWの周縁部計測を行うようにしてもよい。
なお、デバイスとしての半導体素子は、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいて、レチクルを製造するステップ、シリコン材料からウエハを製造するステップ、上述した実施形態の露光装置等によりレチクルのパターンをウエハに露光転写するステップ、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)、検査ステップ等を経て製造される。
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。例えば、上記実施形態においては、液浸型のステップ・アンド・スキャン方式の露光装置に適用した場合について説明したが、ステップ・アンド・リピート方式、ミラープロジェクション方式、プロキシミティ方式、コンタクト方式等の露光装置等に適用することも可能である。
また、半導体素子、液晶表示素子のみならず、プラズマディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCDなど)、マイクロマシン、及びDNAチップ等の製造にも用いられる露光装置、並びにレチクル又はマスクを製造するための露光装置にも本発明を適用できる。即ち本発明は、露光装置の露光方式や用途等に関係なく適用可能である。更に、上述した実施形態では、露光装置においてウエハなどの基板を搬送する搬送装置について説明したが、本発明はこれに限定されず、露光装置以外の物体処理システムにおいて物体を搬送する搬送装置や物体の位置計測を行う計測装置に適用することが可能である。
EX…露光装置、FC…フレームキャスタ、除振装置…AVS、MCL…本体コラム、WST…ウエハステージ、CT1…センターテーブル、W…ウエハ、S1,S2,S3…撮像装置、WL…ウエハ搬送装置、141…ガイド、142…スライダ、143…スライダアーム、146a,146b…吸着溝、EL1,EL2,EL3…照明装置、LM…リニアモータ、WLB…ウエハローダベース、P4…受渡位置。
Claims (13)
- 第1ベース部材と、
前記第1ベース部材上に支持されており、且つ所定の受渡位置へ物体を保持して搬送する搬送部材と、を有し、
前記受渡位置に位置された前記物体の周縁部の一部を、前記第1ベース部材とは振動伝達が分離された第2ベース部材上に支持されている検出装置と協働して計測するために該周縁部の一部を照明する照明装置を、前記搬送部材上に設けたことを特徴とする物体搬送装置。 - 前記照明装置は、有機EL発光体を備えることを特徴とする請求項1に記載の物体搬送装置。
- マスクのパターンを可動ステージ上に載置された物体に露光転写する露光装置であって、
請求項1又は2に記載の物体搬送装置を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記受渡位置は、前記搬送部材から前記可動ステージに前記物体を受け渡す位置であることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記物体を保持した前記搬送部材が前記受渡位置にある状態で、前記検出装置が前記照明装置からの照明光を検出するようにしたことを特徴とする請求項3又は4に記載の露光装置。
- 前記可動ステージは前記物体の載置面と該載置面から離間した前記受渡位置との間で該物体を保持して昇降する昇降部材を有し、該物体が該昇降部材に保持され、かつ前記搬送部材が前記受渡位置にある状態で、前記検出装置が前記照明装置からの照明光を検出するようにしたことを特徴とする請求項3〜5のうちの何れか一項に記載の露光装置。
- 所定の計測位置に位置された物体の位置及び姿勢の少なくとも一方を計測する計測システムであって、
第1部材上に支持され、且つ前記所定の計測位置に位置された前記物体に対して計測光を照射する照明装置と、
前記第1部材からの振動伝達が分離されている第2部材上に支持され、且つ前記物体を介した前記計測光を検出する検出装置と、
を有することを特徴とする計測システム。 - 前記照明装置は、有機EL発光体を備えることを特徴とする請求項7に記載の計測システム。
- 前記検出装置は、前記計測光を、前記物体を挟んで前記照明装置と対向して検出することを特徴とする請求項7又は8に記載の計測システム。
- 物体に対して所定処理を施す処理装置と、前記処理装置内に前記物体を搬送する搬送装置とを含む物体処理システムであって、
前記搬送装置は、
第1ベース部材と、
前記第1ベース部材上に支持されており、且つ前記処理装置内の所定の受渡位置へ前記物体を搬送する搬送部材と、
前記搬送部材上に設けられており、且つ前記所定の受渡位置に位置された前記物体に対して計測光を照射する照明装置と、を含み、
前記処理装置は、
前記第1ベース部材とは振動伝達が分離された第2ベース部材と、
前記第2ベース部材上に支持されており、前記照明装置から照射され且つ前記物体を介した前記計測光を検出する検出装置と、を含むことを特徴とする物体処理システム。 - それぞれ物体を保持して移動する第1保持部材と第2保持部材との間で該物体を受け渡す所定の受渡位置に位置された物体の位置及び姿勢の少なくとも一方を計測する計測方法であって、
第1ベース部材上に支持された前記第1保持部材を移動して、前記受渡位置まで前記物体を搬送する工程と、
前記受渡位置において、前記物体を前記第1保持部材から、前記第1ベース部材とは振動伝達が分離された第2ベース部材上に支持されている前記第2保持部材に受け渡す工程と、
前記第2保持部材に保持された前記物体の一部を、前記第1保持部材に設けられた照明装置で照明すると共に、その物体を介した照明光を、前記第2ベース部材上に支持された検出装置で検出する工程と、
を含むことを特徴とする計測方法。 - それぞれ物体を保持して移動するとともに、第1ベース部材上に支持された第1保持部材と、前記第1ベース部材とは振動伝達が分離された第2ベース部材上に支持されている第2保持部材との間で該物体を受け渡す所定の受渡位置に位置された物体の、位置及び姿勢の少なくとも一方を計測する計測方法であって、
前記第1保持部材を移動して、前記受渡位置まで前記物体を搬送する工程と、
前記受渡位置において前記第1保持部材上に保持されている前記物体の一部を、前記第2ベース部材上に支持された検出装置で検出する工程と、
前記検出工程の後で、前記受渡位置において、前記物体を前記第1保持部材から前記第2保持部材に受け渡す工程と、
を含むことを特徴とする計測方法。 - 前記検出工程では、照明装置により前記物体の周縁部を照明するとともに、前記物体を挟んで前記照明装置と対向配置された前記検出装置を用いて前記照明光を検出することを特徴とする請求項11又は12に記載の計測方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006004380A JP2007188987A (ja) | 2006-01-12 | 2006-01-12 | 物体搬送装置、露光装置、計測システム、物体処理システム、及び計測方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006004380A JP2007188987A (ja) | 2006-01-12 | 2006-01-12 | 物体搬送装置、露光装置、計測システム、物体処理システム、及び計測方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007188987A true JP2007188987A (ja) | 2007-07-26 |
Family
ID=38343956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006004380A Pending JP2007188987A (ja) | 2006-01-12 | 2006-01-12 | 物体搬送装置、露光装置、計測システム、物体処理システム、及び計測方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007188987A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009147144A (ja) * | 2007-12-14 | 2009-07-02 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ搬送装置およびウェーハ搬送方法 |
JP2018110271A (ja) * | 2009-05-15 | 2018-07-12 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP2019032483A (ja) * | 2017-08-09 | 2019-02-28 | キヤノン株式会社 | 搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
CN110168712A (zh) * | 2017-02-02 | 2019-08-23 | 相生技术有限公司 | 用于半导体或显示***领域的移送位置测量用试验模型及利用所述用于半导体或显示***领域的移送位置测量用试验模型的精密移送测量方法 |
-
2006
- 2006-01-12 JP JP2006004380A patent/JP2007188987A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009147144A (ja) * | 2007-12-14 | 2009-07-02 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ搬送装置およびウェーハ搬送方法 |
JP2018110271A (ja) * | 2009-05-15 | 2018-07-12 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
CN110168712A (zh) * | 2017-02-02 | 2019-08-23 | 相生技术有限公司 | 用于半导体或显示***领域的移送位置测量用试验模型及利用所述用于半导体或显示***领域的移送位置测量用试验模型的精密移送测量方法 |
CN110168712B (zh) * | 2017-02-02 | 2023-05-12 | 相生技术有限公司 | 用于半导体或显示***领域的移送位置测量用试验模型及精密移送测量方法 |
JP2019032483A (ja) * | 2017-08-09 | 2019-02-28 | キヤノン株式会社 | 搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPWO2007080779A1 (ja) | 物体搬送装置、露光装置、物体温調装置、物体搬送方法、及びマイクロデバイスの製造方法 | |
JP2023078199A (ja) | 搬送システム、露光装置、及び搬送方法 | |
WO1999028220A1 (fr) | Dispositif et procede de transfert de substrats | |
JP4978471B2 (ja) | 物体の搬出入方法及び搬出入装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
US7990519B2 (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method | |
JP2004273702A (ja) | 搬送装置及び搬送方法、露光装置 | |
JP2014003259A (ja) | ロード方法、基板保持装置及び露光装置 | |
JP2007335613A (ja) | 基板位置検出装置、基板搬送装置、露光装置、基板位置検出方法及びマイクロデバイスの製造方法 | |
JP2014165470A (ja) | 搬送システム及び搬送方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP2006024683A (ja) | 搬送装置、露光装置、及び搬送方法 | |
JP2014204079A (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP2007266079A (ja) | 変形量計測装置、調整方法及び判定方法 | |
JPH11307425A (ja) | マスクの受け渡し方法、及び該方法を使用する露光装置 | |
JP2007188987A (ja) | 物体搬送装置、露光装置、計測システム、物体処理システム、及び計測方法 | |
JP4348734B2 (ja) | 基板保持装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP4228137B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2002184665A (ja) | アライメント装置及びアライメント方法、露光装置 | |
JP4815847B2 (ja) | 基板処理装置及び露光装置 | |
JP2005044882A (ja) | 搬送装置及び露光装置 | |
JPH11219999A (ja) | 基板の受け渡し方法、及び該方法を使用する露光装置 | |
JP2007115829A (ja) | マスク搬送装置、マスク搬送方法、及び露光方法 | |
JP2005311113A (ja) | 位置合わせ装置と位置合わせ方法、搬送システムと搬送方法、及び露光システムと露光方法並びにデバイス製造方法 | |
JP4784860B2 (ja) | 処理装置及び処理方法、並びに露光装置 | |
JP4724954B2 (ja) | 露光装置、デバイス製造システム | |
JP2005026446A (ja) | 基板搬送装置、露光装置、基板計測装置及び基板搬送方法 |