JP2007140418A - 走査装置及び走査光学系 - Google Patents

Abstract

【課題】ミラーで光路を折り曲げる場合にも、ゴースト光が走査対象面に達するのを確実に防ぐことができる走査装置を提供すること。
【解決手段】光源部１０からのレーザー光束をポリゴンミラー２０で反射、偏向させ、ｆθレンズ３０を介して走査対象面４０上にスポットを形成する。第１走査レンズ３１の第１面３１ａと第２面３１ｂとの間で発生したゴースト光が、主走査方向においては第１走査レンズ３１への入射角度に関わりなく一定の位置に集中し、副走査方向においては描画光と分離されるよう構成されている。また、第２走査レンズ３２と描画対象面４０との間には、上記のゴースト光を遮光する遮光手段として、遮光板６０が設けられている。
【選択図】図１

Description

本発明は、レーザープリンタ等に内蔵されて走査対象面上でレーザー光を走査させる走査装置及び走査光学系に関し、特に、ゴースト光が走査対象面に達するのを防ぐことができる走査装置及び走査光学系に関する。

レーザープリンタ等に内蔵される走査装置は、光源部から発したレーザー光束をポリゴンミラー等の偏向器により反射、偏向させ、ｆθレンズのような走査レンズを介して感光体ドラム等の走査対象面上にスポットとして結像させる。感光体ドラム上のスポットは、ポリゴンミラーの回転に伴って主走査方向に走査し、この際レーザー光をオンオフ変調することにより走査対象面上に静電潜像を形成する。

走査装置用の光学系は低コストであることが要求され、ｆθレンズにも２枚構成のプラスチックレンズが使用されることが多く、反射防止膜も形成されないことが多い。このため、このような走査装置においては、本来透過すべきレーザー光束の一部がｆθレンズのレンズ面で反射されてゴースト光となり、走査対象面上に達してゴースト像を形成し、本来形成されるべき画像の画質を低下させるという問題がある。

ゴースト光への対策は従来から種々提案されている。例えば、特許文献１には、走査光学系を構成するプラスチックレンズのレンズ面を結像光学系の光軸に対して副走査方向へ偏心させることにより描画光とゴースト光とを分離し、それに因って生ずる走査線の湾曲を補正するために別のレンズ面を逆方向に偏心させる技術が開示されている。また、特許文献２には、ゴースト光が発散光となるようにｆθレンズの面形状を決定することにより、ゴースト光の影響を低減する技術が開示されている。これらの特許文献に開示されるものを含み、従来のゴースト対策は、ゴースト光を分散させることにより、その影響を低減しようとするものが多い。

特開平０７−２３００５１号公報 特開２００４−３５４７３４号公報

一方、走査装置をレーザープリンタ等の機器に組み込む場合には、組み込まれる装置の要求に応じてミラーにより光路を折り曲げて使う。そして、ミラーを用いて光路を折り曲げる走査光学系において、上記のようにゴースト光を広く分散させると、ゴースト光が一部のレンズを通らずにミラーや金属部品で反射され、遮光板で遮光されずに走査対象面に達する虞がある。

本発明は、以上の問題点を解決し、ミラーで光路を折り曲げる場合にも、ゴースト光が走査対象面に達するのを確実に防ぐことができる走査装置及び走査光学系を提供することを課題(目的)とする。

本発明にかかる走査装置及び走査光学系は、上記の課題を解決するため、レーザー光束を発する光源部と、光源部から発したレーザー光束を偏向、走査させる偏向器と、偏向器により偏向されたレーザー光束を走査対象面上で主走査方向に走査するスポットとして収束させる結像光学系とを備え、結像光学系の最も偏向器側に配置された第１走査レンズのレンズ面間で発生したゴースト光が、主走査方向においては第１走査レンズへの入射角度に関わりなく一定の位置に集中し、副走査方向においては描画光と分離するよう構成されていることを特徴とする。

上記走査装置及び走査光学系には、ゴースト光を遮光する遮光手段を設けることが望ましい。また、第１走査レンズは、以下の条件(１)を満たすことが望ましい。
2(d₀＋d₁)／f ＞−1−d₀×(1−3n)(1／r₁−(１＋d₁/(d₀n))/r₂) …(１)
ただし、
d₀は偏向点から第１走査レンズまでの光軸上の距離、
d₁は第１走査レンズの光軸上の厚さ、
fは結像光学系の焦点距離、
n₁は第１走査レンズの屈折率、
r₁は第１走査レンズの偏向器側の面の主走査方向における近軸曲率半径、
r₂は第１走査レンズの走査対象面側の面の主走査方向における近軸曲率半径である。

ゴースト光を描画光から分離するためには、走査レンズの一部を副走査方向に偏心させる方式と、レンズを偏心させずに、光源部からのレーザー光束をポリゴンミラーに対して副走査方向に角度を持たせて入射させる方式とがある。後者は、１つのポリゴンミラーで複数のレーザー光を同時に走査させるマルチビームの走査装置に用いられる方式である。

ここで、偏向器により偏向されたレーザー光の中心軸の軌跡として定義される平面を基準平面と定義する。レンズを偏心させる方式では、第１走査レンズの片面、あるいは両面を基準平面に対して副走査方向に偏心させることができる。また、第１走査レンズの偏向器側の面と走査対象面側の面とを、基準平面に対して副走査方向において互いに反対方向に偏心させ、結像光学系に含まれる第１走査レンズより走査対象面に配置されたレンズに含まれるアナモフィック面の一面を、副走査方向において第１走査レンズの走査対象面側の面と同一方向に偏心させるようにしてもよい。

本発明の走査装置及び走査光学系によれば、ゴースト光を一定の位置に集中するよう設定することにより、小さな遮光板で遮光することができる。また、ミラーを使用して光路を折り曲げる場合にも、ゴースト光が一部のレンズを通らずにミラーや金属部品で反射されるのを防ぐことができ、遮光板を設けることによりゴースト光が走査対象面に達するのを確実に防ぐことができる。

さらに、条件(1)を満たす場合には、第１走査レンズをポリゴンミラーに近づけ、第１走査レンズの両レンズ面への入射高さを異ならせることにより、走査対象面側の第２面での反射時の収束を強め、ポリゴンミラー側の第１面での発散を弱め、ゴースト光の発散を抑えることができる。また、両レンズ面の曲率半径の差を規定することにより、光束の収束度合いを制御し、収束過剰による光束の発散を防ぐことができる。

以下、本発明にかかる走査装置(走査光学系)の実施形態について説明する。実施形態の走査装置は、レーザープリンタのレーザースキャンニングユニット(ＬＳＵ)として使用され、入力される描画信号にしたがってON/OFF変調されたレーザー光束を感光体ドラム等の走査対象面上で走査させ、静電潜像を形成する。この明細書では、走査対象面上でスポットが走査する方向を主走査方向、これに直交する方向を副走査方向と定義し、各光学素子の形状、パワーの方向性は、走査対象面上での方向を基準に説明する。また、主走査方向に対して平行で結像光学系の光軸を含む平面を主走査面、偏向器により偏向されたレーザー光の中心軸の軌跡として定義される平面を基準平面と定義する。

実施形態の走査装置１は、主走査面内の平面図である図１に示されるように、光源部１０から発したレーザー光束を偏向器であるポリゴンミラー２０により反射、偏向させ、反射されたレーザー光束を結像光学系であるｆθレンズ３０により走査対象面４０上にスポットとして収束させる。

光源部１０は、半導体レーザー１１と、この半導体レーザーから発した発散光を平行光にするコリメートレンズ１２と、副走査方向に正のパワーを有するシリンドリカルレンズ１３とを備え、描画信号に応じて変調されるレーザー光束を、ポリゴンミラー２０による光束の走査範囲外からポリゴンミラー２０に入射させる。なお、シリンドリカルレンズ１３に代えて、副走査方向に正のパワーを有し、主走査方向には副走査方向より弱いパワーを持つアナモフィックレンズを用いることもできる。

ポリゴンミラー２０は、７つの反射面２１を持ち、主走査面に対して垂直な回転軸２０ａ回りに図中時計回りに回転可能に設けられている。ｆθレンズ３０は、ポリゴンミラー２０の近傍に配置された第１走査レンズ３１と、走査対象面４０側に配置された第２走査レンズ３２とを備える。第１走査レンズ３１と第２走査レンズ３２とは、いずれもプラスチックレンズである。第１走査レンズ３１のポリゴンミラー２０側のレンズ面を第１面３１ａ、走査対象面４０側のレンズ面を第２面３１ｂとする。

半導体レーザー１１から発してコリメートレンズ１２により平行光束とされたレーザー光束は、シリンドリカルレンズ１３を介してポリゴンミラー２０の近傍に線像を形成する。

ポリゴンミラー２０で反射されたレーザー光束は、主走査方向には図１に実線で示すようにほぼ平行光として、副走査方向には図２に実線で示すように発散光としてｆθレンズ３０に入射する。ｆθレンズ３０を透過した正規の描画光ＬＷは、走査対象面４０上にスポットを形成する。スポットは、ポリゴンミラー２０の回転に伴って走査対象面４０上を主走査方向に走査し、半導体レーザーを変調することにより、走査線が形成される。

なお、走査対象面４０の開始端の手前には、変調のための同期信号を得るための光検出センサー５０が設けられている。

上記の走査装置１は、第１走査レンズ３１の第１面３１ａと第２面３１ｂとの間で発生したゴースト光ＬＧが、主走査方向においては第１走査レンズ３１への入射角度に関わりなく一定の位置に集中し(図１参照)、副走査方向においては描画光と分離される(図２参照)よう構成されている。また、第２走査レンズ３２と描画対象面４０との間には、上記のゴースト光を遮光する遮光手段として、遮光板６０が設けられている。遮光板６０は、主走査方向においては、図１に示すように走査範囲の中央部に、副走査方向においては、図２に示すように光軸からシフトした位置に配置されている。

ゴースト光ＬＧを主走査方向において一定の位置に集中させるため、第１走査レンズ３１は、以下の条件(１)を満たしている。
2(d₀＋d₁)／f ＞ −1−d₀×(1−3n)(1／r₁−(１＋d₁/(d₀n))/r₂) …(１)
ただし、
d₀は偏向点から第１走査レンズまでの光軸上の距離、
d₁は第１走査レンズの光軸上の厚さ、
fは結像光学系の焦点距離、
n₁は第１走査レンズの屈折率、
r₁は第１走査レンズの第１面の近軸曲率半径、
r₂は第１走査レンズの第２面の近軸曲率半径である。

また、ゴースト光を副走査方向において描画光と分離するため、第１走査レンズ３１の第１面３１ａを基準平面に対して副走査方向に偏心(シフト)させ、第１面３１ａの偏心による走査線の曲がりを補正するため、第２面３１ｂを基準平面に対して逆方向に偏心させている。なお、レンズ面を偏心させるには、このように第１走査レンズ３１の両面を互いに異なる方向に偏心させる他、第１走査レンズ３１の一方のレンズ面のみを基準平面に対して偏心させてもよいし、第１走査レンズの第１面３１ａと第２面３１ｂとを異なる方向に偏心させた上、第２走査レンズのアナモフィック面(この例では走査対象面４０側のレンズ面)を第２面３１ｂと同一の方向に偏心させてもよい。

次に、上記の条件(１)の導出過程を図３〜図７に基づいて説明する。図３は、第１走査レンズ３１の第２面３１ｂ、第１面３１ａで順に反射されたゴースト光の進み方を示している。図中の実線ＬＧがゴースト光、一点鎖線はｆθレンズ３０の光軸である。なお、図４〜７に示される光軸以外の一点鎖線は、光軸と平行な直線である。

偏向角θでポリゴンミラー２０に反射されたレーザー光は、図４に示すように、第１面３１ａで屈折し、レンズ内を第２面３１ｂに向かって進む。光線と第１面３１ａとの交点に点線で示すような垂線を立て、この垂線が光軸となす角度をθ₁とすると、屈折した光線と光軸とのなす角度α₁は、以下の式(2)で表される。
α₁≒((ｎ−１)θ₁＋θ)/ｎ …(2)

なお、ｆθレンズでは、f−θ特性と呼ばれる負のディストーションを与えるために、第1面に光軸から離れるほど平面板に近くなるような非球面成分を与えるのが一般的である。また、光束が主走査方向に幅を持ち、偏向点変化により入射高さが変わるため、角度θ₁が小さくても一部の光の入射高さは高くなる。これらを考慮すると、上記の式(2)はα₁≒θ／ｎで近似することができる。

第２面３１ｂに達したレーザー光のうち、透過する成分は正規の描画光、反射する成分がゴースト光となる。図５に示すように、光線と第２面３１ｂとの交点に点線で示すような垂線を立て、この垂線が光軸となす角度をθ₂とすると、第２面３１ｂで反射された光線と光軸とのなす角度α₂は、以下の式(3)で表される。
α₂≒２θ₂−α₁ …(3)

そして、ゴースト光は再び第１面３１ａで反射されて第２面３１ｂに向かう。図６に示すように、光線と第１面３１ａとの交点に点線で示すような垂線を立て、この垂線が光軸とのなす角度をθ₃とすると、第１面３１ａで反射された光線と光軸とのなす角度α₃は、以下の式(4)で表される。
α₃≒２θ₃−α₂ …(4)

再び第２面３１ｂに達したゴースト光は、第２面３１ｂを透過して描画対象面４０に向かう。図７に示すように、光線と第２面３１ｂとの交点に点線で示すような垂線を立て、この垂線が光軸となす角度をθ₄とすると、第２面３１ｂで屈折した光線と光軸とのなす角度α₄は、以下の式(5)で表される。
α₄≒(１−ｎ)θ₄＋ｎα₃ …(5)

上記の式(2)〜(5)を合わせると、以下の式(6)を導くことができる。
α₄＝θ−(１−ｎ)θ₁＋２ｎθ₃−２ｎθ₂＋(１−ｎ)θ₄
α₄／θ＝１＋(−(１−ｎ)θ₁＋２ｎθ₃−２ｎθ₂＋(１−ｎ)θ₄)／θ…(6)

ここで、偏向角θで偏向されたレーザー光が第１面３１ａに入射する位置の光軸からの高さをｈ₁とすると、
θ≒ｈ₁／ｄ₀…(7)
θ₁≒−ｈ₁／ｒ₁…(8)
となる。そして、第１面３１ａで屈折した光線が第２面３１ｂと交差する位置の光軸からの高さｈ₂は、上記のα₁≒θ／ｎを用いて、式(9)で表される。また、垂線の角度θ₂は、式(9)を使うと式(10)の通りとなる。
ｈ₂＝ｈ₁＋ｄ₁θ／ｎ＝ｈ₁＋(ｄ₁ｈ₁)／(ｄ₀ｎ) …(9)
θ₂＝−ｈ₂／ｒ₂＝ｈ₁／ｒ₂(ｄ₁／ｄ₀ｎ) …(10)

前記の式(6)でθ₁≒θ₃、θ₂≒θ₄と近似して、式(7),(8),(10)を代入すると、以下の式(11)が得られる。
α₄／θ＝１＋ｄ₀(１−３ｎ)(１／ｒ₁−(１＋ｄ₁／(ｄ₀ｎ))／ｒ₂)…(11)

一方、最大偏向角をθとすると、走査長はｆθ、第１走査レンズ３１の有効径(レンズの全幅)Ｈ≒２(ｄ₁＋ｄ₂)θとなるので、有効径Ｈを走査長で割ると、以下の式(12)の通りとなる。
Ｈ／ｆθ＝２(ｄ₁＋ｄ₂)／ｆ…(12)

ここで、ゴースト光の最大像高ｆα₄が有効径Ｈと等しいとすると、α₄＜０であるため、式(12)は以下の式(13)のように変形できる。そして、条件(14)を満たす場合には、ゴースト光の像高を第１走査レンズの径内に抑えることができる。
α₄／θ＝−２(ｄ₁＋ｄ₂)／ｆ…(13)
α₄／θ＜−２(ｄ₁＋ｄ₂)／ｆ…(14)

上記の式(11)により条件(14)の左辺を置換することにより、条件(1)を導くことができる。すなわち、条件(1)を満たすことにより、ゴースト光の最大像高を第１走査レンズの径より小さくし、ゴースト光を発散させずに一定の位置に収束させることができる。

次に、実施形態の走査装置１の具体的な構成について説明する。実施形態においては、第１走査レンズ３１の第１面３１ａは凹の球面、第２面３１ｂは凸の回転対称非球面、第２走査レンズ３２のポリゴンミラー２０側の面は凹の回転対称非球面、走査対象面４０側の面はアナモフィック非球面である。

回転対称非球面の形状は、光軸からの距離ｈにおける光軸と非球面との交点での接平面からのサグ量Ｘ(ｈ)で表すことができ、そのサグ量は、以下の式で表される。
X(h)＝h²／［r{1＋√(1−(κ＋1)h²／r²)}］＋A₄h⁴＋A₆h⁶

上式中、ｒは光軸上の曲率半径、κは円錐係数、A₄,A₆はそれぞれ４次、６次の非球面係数である。

また、アナモフィック非球面は、光軸から離れた位置での副走査方向の曲率半径が主走査方向の断面形状とは無関係に設定された回転軸を持たない非球面であり、主走査方向の断面形状X(y)、 副走査方向の曲率半径ｒz(y)は、光軸上での主走査方向の曲率半径をry₀、円錐係数をκ、主走査方向のｎ次の非球面係数をＡＭ_n、主走査方向の各位置yにおける光軸上での副走査方向の曲率半径をrz₀、副走査方向のｎ次の非球面係数をＡＳ_nとして、それぞれ以下の式により求められる。

実施形態の走査装置１の具体的な数値構成を表１に示す。表１中の記号ｒyは各光学素子の主走査方向の曲率半径(単位：mm)、ｒzは副走査方向の曲率半径(回転対称面の場合には省略，単位：mm)、ｄは面間の光軸上の距離(単位：mm)、ｎλは設計波長での屈折率である。この例では、設計波長λは780nmである。

面番号５、６で示される回転対称非球面を定義する円錐係数、非球面係数の値を表２、表３、面番号７で示されるアナモフィック非球面を定義する円錐係数、非球面係数の値を表４にそれぞれ示す。

上記の構成では、
2(d₀＋d₁)／f ≒０．２４９
1−d₀×(1−3n)(1／r₁−(１＋d₁/ (d₀n))/ r₂) ≒０．１７４
であり、条件(1)を満たしている。

図８は、実施形態の走査装置１において、正規の描画光が走査対象面４０に形成するスポットの主走査方向の像高と、その時点において遮光板６０がない場合に走査対象面４０に達するゴースト光の主走査方向の像高範囲との関係を示すグラフである。このグラフに示されるように、描画光の像高、即ち偏向角θが変化しても、ゴースト光の範囲は走査中心を含む中心部に集中しており、その最大値及び最小値が第１走査レンズ３１の有効径Ｈの範囲内(−Ｈ／２〜＋Ｈ／２)に入っており、この有効径と同程度の幅を持つ小さな遮光板６０で遮光することが可能であることがわかる。

なお、走査装置１の光路は、一般的にはミラーを用いて折り曲げられる。図９は、光路の折り曲げ例を示す副走査方向の説明図である。図９の構成では、第１走査レンズ３１を透過した光束が第１ミラー７１、及び第２ミラー７２の２枚のミラーにより垂直に折り曲げられ、第２走査レンズ３２に入射する。一点鎖線で示す光軸に対して、ゴースト光ＬＧは点線で示す光路をたどり、遮光板６０により遮光される。ゴースト光が一定の範囲に収束するため、図９の例のようにミラーを用いる場合にも、ゴースト光は描画光と共にレンズを透過し、レンズを通らずにミラーで反射されることがない。

また、ゴースト光を描画光に対して副走査方向に分離する方式としては、上記のようにレンズ面を副走査方向に偏心させずに、光源部からのレーザー光束をポリゴンミラーに対して副走査方向に角度を持たせて入射させる方式としてもよい。例えば、１つのポリゴンミラーで複数のレーザー光を同時に走査させるマルチビームＬＳＵでは、レーザー光束をポリゴンミラーに対して副走査方向に角度を持って入射させる。

図１０は、上記実施形態の変形例として、マルチビームＬＳＵとして用いられる走査装置のポリゴンミラーより走査対象面側の配置を示す副走査方向の説明図である。図１０では、複数のレーザー光のうちの１本のみを示している。ポリゴンミラーの反射面２１に対して副走査方向に角度を持って入射したレーザー光は、ｆθレンズ３０の第１走査レンズ３１に対しても斜めに入射し、正規の描画光ＬＷは光軸から離れた位置で第２走査レンズ３２を透過し、走査対象面４０に達する。第１走査レンズ３１内で反射したゴースト光ＬＧは、光軸に近い位置で第２走査レンズ３２を透過し、遮光板６０により遮光され、描画対象面には達しない。

図１０では、光路を直線状に示したが、一般的には、図９の例と同様にミラーを用いて光路が折り曲げられる。カラープリンター等に用いられるタンデム方式(複数の感光体ドラムを持つ方式)の走査装置では、ポリゴンミラーと第１走査レンズを複数のレーザー光で共用し、互いに角度差を持つレーザー光をミラーで分離してそれぞれの光路に設けられた第２走査レンズを介して各感光体ドラム(描画対象面)に収束させる。このような場合にも、それぞれの光路の第２走査レンズと描画対象面との間に遮光板を設けることにより、ゴースト光が描画対象面に達するのを防ぐことができる。

本発明の実施形態にかかる走査装置(走査光学系)の光学素子の配置を示す主走査面内の平面図である。 図１の走査装置のポリゴンミラーより走査対象面側を示す副走査方向の説明図である。 第１走査レンズで発生するゴースト光の光路を示す主走査面内の説明図である。 第１走査レンズで発生するゴースト光の第１面での屈折角度を説明するための主走査面内の説明図である。 第１走査レンズで発生するゴースト光の第２面での反射角度を説明するための主走査面内の説明図である。 第１走査レンズで発生するゴースト光の第１面での反射角度を説明するための主走査面内の説明図である。 第１走査レンズで発生するゴースト光の第２面での屈折角度を説明するための主走査面内の説明図である。 実施形態の走査装置における描画光の像高とゴースト光の像高範囲との関係を示すグラフである。 実施形態の走査装置の光路をミラーで折り曲げた例を示す副走査方向の説明図である。 実施形態の変形例にかかる走査装置のポリゴンミラーより走査対象面側の配置を示す副走査方向の説明図である。

符号の説明

１０ 光源部
１１ 半導体レーザー
１２ コリメートレンズ
１３ シリンドリカルレンズ
２０ ポリゴンミラー
２１ 反射面
３０ ｆθレンズ
３１ 第１走査レンズ
３１ａ 第１面
３１ｂ 第２面
３２ 第２走査レンズ
４０ 走査対象面
６０ 遮光板

Claims (12)

1. レーザー光束を発する光源部と、
   該光源部から発したレーザー光束を偏向、走査させる偏向器と、
   該偏向器により偏向されたレーザー光束を走査対象面上で主走査方向に走査するスポットとして収束させる結像光学系とを備え、
   前記結像光学系の最も前記偏向器側に配置された第１走査レンズのレンズ面間反射で発生したゴースト光が、主走査方向においては前記第１走査レンズへの入射角度に関わりなく一定の位置に集中し、副走査方向においては描画光と分離するよう構成されていることを特徴とする走査装置。
2. 前記ゴースト光を遮光する遮光手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の走査装置。
3. 前記第１走査レンズが、以下の条件(１)を満たすことを特徴とする請求項１又は２に記載の走査装置。
   2(d₀＋d₁)／f ＞ −1−d₀×(1−3n)(1／r₁−(１＋d₁/(d₀n))/r₂) …(１)
   ただし、
   d₀は偏向点から第１走査レンズまでの光軸上の距離、
   d₁は第１走査レンズの光軸上の厚さ、
   fは結像光学系の焦点距離、
   n₁は第１走査レンズの屈折率、
   r₁は第１走査レンズの偏向器側の面の主走査方向における近軸曲率半径、
   r₂は第１走査レンズの走査対象面側の面の主走査方向における近軸曲率半径である。
4. 前記偏向器により偏向されたレーザー光の中心軸の軌跡として定義される平面を基準平面として、前記第１走査レンズの片面、あるいは両面が前記基準平面に対して副走査方向に偏心していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の走査装置。
5. 前記第１走査レンズの前記偏向器側の面と前記走査対象面側の面とが、前記基準平面に対して副走査方向において互いに反対方向に偏心しており、前記結像光学系に含まれる前記第１走査レンズより前記走査対象面に配置されたレンズに含まれるアナモフィック面の一面が、副走査方向において前記第１走査レンズの前記走査対象面側の面と同一方向に偏心していることを特徴とする請求項４に記載の走査装置。
6. 前記偏向器により偏向されたレーザー光束が、前記第１走査レンズに入射する際に、副走査方向において前記結像光学系の光軸に対して所定の角度傾いて入射することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の走査装置。
7. レーザー光束を発する光源部と、
   該光源部から発したレーザー光束を偏向、走査させる偏向器と、
   該偏向器により偏向されたレーザー光束を走査対象面上で主走査方向に走査するスポットとして収束させる結像光学系とを備え、
   前記結像光学系の最も前記偏向器側に配置された第１走査レンズのレンズ面間反射で発生したゴースト光が、主走査方向においては前記第１走査レンズへの入射角度に関わりなく一定の位置に集中し、副走査方向においては描画光と分離するよう構成されていることを特徴とする走査光学系。
8. 前記ゴースト光を遮光する遮光手段を備えることを特徴とする請求項７に記載の走査光学系。
9. 前記第１走査レンズが、以下の条件(１)を満たすことを特徴とする請求項７又は８に記載の走査光学系。
   2(d₀＋d₁)／f ＞ −1−d₀×(1−3n)(1／r₁−(１＋d₁/ (d₀ n))/ r₂) …(１)
   ただし、
   d₀は偏向点から第１走査レンズまでの光軸上の距離、
   d₁は第１走査レンズの光軸上の厚さ、
   fは結像光学系の焦点距離、
   n₁は第１走査レンズの屈折率、
   r₁は第１走査レンズの偏向器側の面の主走査方向における近軸曲率半径、
   r₂は第１走査レンズの走査対象面側の面の主走査方向における近軸曲率半径である。
10. 前記偏向器により偏向されたレーザー光の中心軸の軌跡として定義される平面を基準平面として、前記第１走査レンズの片面、あるいは両面が前記基準平面に対して副走査方向に偏心していることを特徴とする請求項７〜９のいずれかに記載の走査光学系。
11. 前記第１走査レンズの前記偏向器側の面と前記走査対象面側の面とが、前記基準平面に対して副走査方向において互いに反対方向に偏心しており、前記結像光学系に含まれる前記第１走査レンズより前記走査対象面に配置されたレンズに含まれるアナモフィック面の一面が、副走査方向において前記第１走査レンズの前記走査対象面側の面と同一方向に偏心していることを特徴とする請求項１０に記載の走査光学系。
12. 前記偏向器により偏向されたレーザー光束が、前記第１走査レンズに入射する際に、副走査方向において前記結像光学系の光軸に対して所定の角度傾いて入射することを特徴とする請求項７〜１０のいずれかに記載の走査光学系。