JP2002333590A - 走査光学系 - Google Patents

走査光学系

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光束がポリゴンミラーに対して副走査方向に
角度を持って入射する場合にも、被走査面上での走査線
の湾曲を抑えることができる走査光学系を提供すること 【解決手段】 走査光学系は、２本の光束を発する光源
部１０、ポリゴンミラー２０、第１レンズ３１と第２レ
ンズ３２とから構成される走査レンズ３０、補正レンズ
５０を備え、感光体ドラム６０上にビームスポットを形
成する。走査レンズ３０の１つの凸面はトーリック面で
あり、補正レンズ５０のポリゴンミラー２０側の面はア
ナモフィック非球面である。これらの面は、以下の条件
を満たしている。 −１．１＜ｒz2／ｒz1＜−０．３ ただし、ｒz1はトーリック面の副走査方向の曲率半径、
ｒz2はアナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザープリン
ター等の走査光学装置に用いられる走査光学系に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】レーザープリンター等に用いられる走査
光学系は、半導体レーザー等の光源から発したレーザー
光をポリゴンミラーにより偏向、走査させ、ｆθレンズ
等の走査レンズを介して感光体ドラム等の被走査面上に
スポットとして結像させる。被走査面上のスポットは、
ポリゴンミラーの回転に伴って走査し、この際レーザー
光をオンオフ変調することにより被走査面上に静電潜像
を形成する。なお、この明細書では、被走査面上でスポ
ットが走査する方向を主走査方向、これに直交する方向
を副走査方向と定義し、各光学素子の形状、パワーの方
向性は、被走査面上での方向を基準に説明することとす
る。また、ポリゴンミラーの回転軸に対して垂直で、走
査レンズの光軸を含む平面を主走査平面と定義する。
【０００３】上記のような走査光学系において、複数の
ビームを単一のポリゴンミラーにより同時に偏向させる
場合がある。共用化による部品点数の削減が可能とな
り、かつ、配置スペースを小さくできる。この場合、複
数のビームのポリゴンミラーへの入射位置がほぼ一致す
るように副走査方向に関して斜めに入射させる(副走査
方向の入射角度が０度でない)ことにより、ポリゴンを
薄くすることが可能となり、ポリゴンミラーのコストを
抑えることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように光束がポリゴンミラーに対して副走査方向に関し
て斜めに入射すると、被走査面上ではビームスポットの
軌跡である走査線が湾曲するという問題が生じる。走査
線の湾曲は一般にボウ(Bow)と呼ばれ、描画精度を悪化
させるため、特に高精細のシステムにおいては低く抑え
る必要がある。
【０００５】この発明は、上記の従来技術の問題点に鑑
み、光束がポリゴンミラーに対して副走査方向に関して
斜めに入射する場合にも、被走査面上での走査線の湾曲
を抑えることができる走査光学系を提供することを目的
とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる走査光
学系は、単一又は複数の光束を発生する光源部と、光源
部から発する光束を副走査方向に収束させるアナモフィ
ック光学素子と、アナモフィック光学素子により収束さ
れた光束を反射、偏向させるポリゴンミラーと、ポリゴ
ンミラーにより反射された光束を被走査面上で主走査方
向に走査するスポットとして収束させる結像光学系とを
備え、結像光学系は、ポリゴンミラー側に配置された第
１レンズ及び被走査面側に配置された第２レンズの２枚
のレンズ要素から構成される走査レンズと、走査レンズ
より被走査面側に配置された像面湾曲補正用の補正レン
ズとを備え、走査レンズに含まれる少なくとも１つの凸
面は副走査方向により強い屈折力を持つトーリック面で
あり、補正レンズの１つの面は光軸から離れた位置での
副走査方向の曲率半径が主走査方向の断面形状とは無関
係に設定された回転軸を持たないアナモフィック非球面
であり、以下の条件(１)を満たすことを特徴とする。 −１．１＜ｒz2／ｒz1＜−０．３ …(１) ただし、 ｒz1：トーリック面の副走査方向の曲率半径、 ｒz2：アナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径。
【０００７】上記の構成によれば、走査レンズにトーリ
ック面、補正レンズにアナモフィック非球面を設けるこ
とにより、主走査方向のパワー分布を変化させずに、副
走査方向のパワー配分をコントロールすることができ、
副走査方向の収差として現れる走査線の湾曲を補正する
ことが可能となる。また、条件(１) を満たすことによ
り、走査線の湾曲に対する補正量を適切に保つことがで
きる。
【０００８】走査レンズは、第１レンズをプラスチック
レンズ、第２レンズをガラスレンズとしてもよいし、２
枚共にプラスチックレンズとしてもよい。また、光源部
からポリゴンミラーに入射する光束が、ポリゴンミラー
の回転軸に対して垂直で走査レンズの光軸を含む主走査
平面に対して傾いて入射するようにしてもよい。さら
に、光源部は、複数の光束を発し、複数の光束のうちの
少なくとも一本は、主走査平面に対して傾いてポリゴン
ミラーに入射するようにしてもよい。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、この発明にかかる走査光学
系の実施形態を説明する。図１は、実施形態にかかる走
査光学系を利用したタンデム走査光学系を示す主走査方
向に垂直な面内での説明図であり、(Ａ)はポリゴンミラ
ーより光源部側、(Ｂ)はポリゴンミラーより被走査面で
ある感光体ドラム側を示している。
【００１０】図１(Ａ)に示すタンデム走査光学系の光源
部１０は、２個の半導体レーザー１１、１１と、これら
の半導体レーザーから発する発散光を平行光にする２個
のコリメートレンズ１２、１２とを備えている。コリメ
ートレンズ１２により平行光とされた２本のレーザー光
Ｌ1、Ｌ2は、副走査方向にのみパワーを持つ単一のシリ
ンドリカルレンズ１３により副走査方向に関して収束光
となり、かつ、シリンドリカルレンズ１３が持つプリズ
ム作用により偏向されてポリゴンミラー２０の近傍でほ
ぼ同一位置に線像を形成する。すなわち、光源部１０か
ら発する２本の光束は、ポリゴンミラー２０の回転軸２
０ａに対して垂直で走査レンズ３０の光軸Ａｘを含む主
走査平面に対して傾いてポリゴンミラー２０に入射し、
ポリゴンミラー２０の反射面上で交差する。
【００１１】光源部１０から発した２本の光束Ｌ1，Ｌ2
は、回転軸２０ａ回りに回転するポリゴンミラー２０に
より同時に偏向される。偏向された２本の光束Ｌ1，Ｌ2
は、副走査方向に関しては所定の角度で異なる方向に進
み、第１レンズ３１と第２レンズ３２とから構成される
走査レンズ３０に入射する。走査レンズ３０から射出し
た光束は、それぞれ一対のミラー４０，４１により反射
され、各光束毎の光路に配置された補正レンズ５０を介
して、それぞれ異なる感光体ドラム６０上に収束してビ
ームスポットを形成する。ポリゴンミラー２０を回転軸
２０ａ回りに回転させることにより、２本の感光体ドラ
ム上にそれぞれ一本の走査線を同時に形成することがで
きる。
【００１２】なお、シリンドリカルレンズ１３は、光源
部から発する光束を副走査方向に収束させるアナモフィ
ック光学素子としての機能を有しており、走査レンズ３
０及び補正レンズ５０は、ポリゴンミラーにより反射さ
れた光束を被走査面上で主走査方向に走査するスポット
として収束させる結像光学系としての機能を有してい
る。
【００１３】走査レンズ３０に含まれる１つの凸面はト
ーリック面であり、補正レンズ５０のポリゴンミラー２
０側の面は光軸から離れた位置での副走査方向の曲率半
径が主走査方向の断面形状とは無関係に設定された回転
軸を持たないアナモフィック非球面である。走査レンズ
にトーリック面、補正レンズにアナモフィック非球面を
設けることにより、主走査方向のパワー分布を変化させ
ずに、副走査方向のパワー配分をコントロールすること
ができ、副走査方向の収差として現れる走査線の湾曲を
良好に補正することが可能となる。また、走査レンズ３
０の凸面をトーリック面としたのは、ガラスレンズにト
ーリック面を形成する際の加工を容易にするためであ
る。すなわち、凸のトーリック面を研磨する場合には、
一方の主経線方向の曲率半径に等しい半径を持つ回転皿
にレンズを貼り付け、他方の主経線方向の曲率半径に等
しい曲率半径を持つ凹面形状の砥石を接触させればよい
が、凹のトーリック面の加工は困難であるため、加工が
困難になる。
【００１４】また、上記のトーリック面、アナモフィッ
ク非球面は、以下の条件(１) を満たしている。 −１．１＜ｒz2／ｒz1＜−０．３ …(１) ただし、 ｒz1：トーリック面の副走査方向の曲率半径、 ｒz2：アナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径。
【００１５】条件(１)は、走査レンズ３０に含まれるト
ーリック面と補正レンズ５０に含まれるアナモフィック
非球面との副走査の曲率半径の関係を規定する。条件
(１)の下限を下回る場合には、走査線の湾曲の補正か過
剰となり、走査線が逆方向に湾曲する。上限を超える場
合には、走査線の湾曲の補正が不足する。
【００１６】次に、図１に示したタンデム走査光学系の
具体的な実施例を３例説明する。なお、以下の実施例で
は、図１(Ｂ)で示した２本の光束のうち、上側の光束Ｌ
2が透過する光学系のみを取り出し、ミラー４０，４１
を省略し、光路を展開して説明する。
【００１７】
【実施例１】図２は、実施例１の走査光学系を示す主走
査平面内の説明図である。表１は、実施例１の走査光学
系におけるシリンドリカルレンズ１３より感光体ドラム
６０側の構成を示す。表中の記号ｆはｆθレンズの主走
査方向の焦点距離、ｒyは主走査方向の曲率半径(単位:m
m)、ｒzは副走査方向の曲率半径(回転対称面の場合には
省略、単位:mm)、ｄは面間の光軸上の距離(単位:mm)、
ｎは設計波長780nmでの屈折率、DECZは各面の副走査方
向への偏心(単位：mm)である。入射角度は、各半導体レ
ーザーからの光束の中心軸がポリゴンミラー２０に入射
する際に主走査平面に対してなす角度である。
【００１８】表中、第１面及び第２面がシリンドリカル
レンズ１３、第３面がポリゴンミラー２０のミラー面、
第４面及び第５面が走査レンズ３０の第１レンズ３１、
第６面及び第７面が第２レンズ３２、第８面及び第９面
が補正レンズ５０、第１０面が感光体ドラム６０を示
す。実施例１では、走査レンズ３０の第１レンズ３１が
プラスチックレンズ、第２レンズ３２がガラスレンズで
構成され、第２レンズの凸面がトーリック面として形成
されている。
【００１９】
【表１】 ｆ＝200.0mm 走査幅 216mm 設計波長 780nm 入射角度 1.15° 面番号 ｒy ｒz ｄ ｎ DECZ 1 ∞ 51.08 4.00 1.51072 0.00 2 ∞ − 97.00 3 ∞ − 33.00 4 −77.50 − 5.00 1.48617 0.00 5 −69.00 − 2.00 0.00 6 ∞ − 10.00 1.51072 0.00 7 −119.00 −52.60 101.50 0.00 8 −465.50 32.00 5.00 1.48617 0.89 9 −979.20 − 92.50 0.00 10 ∞ − 0.45
【００２０】第１面は副走査方向にのみパワーを持つシ
リンドリカル面、第２面、第３面、第６面、第１０面は
平面、第４面、第５面は回転対称非球面、第７面はトー
リック面、第８面は光軸から離れた位置での副走査方向
の曲率半径が主走査方向の断面形状とは無関係に設定さ
れた回転軸を持たないアナモフィック非球面、第９面は
球面である。
【００２１】回転対称非球面は、光軸からの高さがhと
なる非球面上の座標点の非球面の光軸上での接平面から
の距離(サグ量)をＸ(h)、非球面の光軸上での曲率(1/r)
をＣ、円錐係数をκ、４次、６次、８次、１０次の非球
面係数をＡ4，Ａ6，Ａ8として、以下の式で表される。 Ｘ(h)＝Ｃh2/(１+√(１-(１+κ)Ｃ2h2))+Ａ4h4+Ａ6h6+
Ａ8h8 表１における回転対称非球面の曲率半径は、光軸上の曲
率半径であり、円錐係数、非球面係数は表２に示され
る。
【００２２】
【表２】
【００２３】アナモフィック非球面は、面上で光軸を通
る主走査方向の曲線を想定した際に、光軸からの主走査
方向の距離がYとなる上記曲線上の座標点での光軸上の
接線からの距離(サグ量)をＸ(Y)、当該座標点でこの曲
線に接する副走査方向の円弧の曲率半径をｒｚ(Y)とし
て、以下の式で定義される。 Ｘ(Y)＝ＣY2/(１+√(１−(１+κ)Ｃ2Y2))+Ａ4Y4+Ａ6Y6+
Ａ8h8 1／rz(Y)＝(1／rz0)＋Ｂ1・Y1＋Ｂ2・Y2＋Ｂ4・Y4 式中、Ｃ、κ、Ａ4、Ａ6，Ａ8の定義は回転対称非球面
と同様であり、rz0は光軸上での副走査方向の曲率半径
(表１のrz)、Ｂ1，Ｂ2，Ｂ4はそれぞれ副走査方向の曲
率半径を決定する係数である。第８面における各数値
は、表３に示されている。
【００２４】
【表３】第８面 κ ＝ 0.000 Ａ4 ＝ 1.46×10-07 Ｂ1＝−2.45×10-06 Ａ6 ＝−1.33×10-11 Ｂ2＝−9.56×10-07 Ａ8 ＝ 8.76×10-16 Ｂ4＝ 1.85×10-11
【００２５】上述した実施例１の走査光学系の性能は、
図３のグラフに示される。図３(A)は、fθ誤差(スポッ
ト位置の理想位置からの主走査方向のズレ)を示し、図
３(B)は、像面湾曲(焦点位置の仮想像面からの光軸方向
のズレ)を示し、破線が主走査方向Ｍ、実線が副走査方
向Ｓの値を示す。また、図３(C)は、走査線湾曲(スポッ
ト位置の理想的な走査直線からの副走査方向のずれ)を
示す。各グラフの縦軸は像高(単位：ｍｍ)、横軸は収差
量(単位：ｍｍ)を示す。
【００２６】また、図４は、実施例１と同等の仕様で走
査レンズ３０にトーリック面を用いなかった場合の走査
線湾曲を示す。図３(C)と図４とを比較するとわかるよ
うに、実施例１ではトーリック面を採用することによ
り、これを採用しない場合と比較して走査線湾曲が極め
て良好に補正されている。
【００２７】
【実施例２】図５は、実施例２の走査光学系を示す主走
査方向の説明図である。表４は、実施例２の走査光学系
におけるシリンドリカルレンズ１３より感光体ドラム６
０側の構成を示す。各面番号と光学素子との対応は実施
例１と同一である。実施例２では、走査レンズ３０の第
１、第２レンズ３１、３２が共にプラスチックレンズレ
ンズで構成され、第２レンズの凸面がトーリック面とし
て形成されている。
【００２８】
【表４】 ｆ＝200.0mm 走査幅 216mm 設計波長 780nm 入射角度 1.15° 面番号 ｒy ｒz ｄ ｎ DECZ 1 ∞ 51.08 4.00 1.51072 0.00 2 ∞ − 97.00 3 ∞ − 33.00 4 ∞ − 15.00 1.48617 0.00 5 −102.70 − 4.00 0.00 6 −85.80 − 10.00 1.48617 0.00 7 −80.20 −49.73 92.50 0.00 8 −1000.00 32.78 5.00 1.48617 1.33 9 −2603.60 − 98.60 0.00 10 ∞ − 0.71
【００２９】第１面は副走査方向にのみパワーを持つシ
リンドリカル面、第２面、第３面、第１０面は平面、第
４面、第５面、第９面は回転対称非球面、第６面は球
面、第７面はトーリック面、第８面はアナモフィック非
球面である。回転対称非球面の円錐係数、非球面係数は
表５、アナモフィック非球面の各係数は表６に示され
る。
【００３０】
【表５】 κ Ａ4 Ａ6 Ａ8 第４面 0.00 2.37×10-6 7.16×10-11 0.00 第５面 0.00 1.87×10-6 5.10×10-10 7.87×10-14 第９面 0.00 3.56×10-9 0.00 0.00
【００３１】
【表６】第８面 κ ＝ 0.000 Ａ4 ＝ 1.29×10-07 Ｂ1＝−2.23×10-06 Ａ6 ＝−7.34×10-12 Ｂ2＝−8.51×10-07 Ａ8 ＝ 2.70×10-16 Ｂ4＝ 1.95×10-11
【００３２】上述した実施例２の走査光学系の性能は、
図６のグラフに示される。図６(A)はfθ誤差、図６(B)
は像面湾曲、図６(C)は走査線湾曲をそれぞれ示す。実
施例２においても、トーリック面を採用することによ
り、走査線湾曲が極めて良好に補正されている。
【００３３】
【実施例３】図７は、実施例３の走査光学系を示す主走
査方向の説明図である。表７は、実施例３の走査光学系
におけるシリンドリカルレンズ１３より感光体ドラム６
０側の構成を示す。各面番号と光学素子との対応は実施
例１と同一である。実施例３では、走査レンズ３０の第
１、第２レンズ３１、３２が共にプラスチックレンズレ
ンズで構成され、第１レンズの凸面がトーリック面とし
て形成されている。
【００３４】
【表７】 ｆ＝200.0mm 走査幅 216mm 設計波長 780nm 入射角度 1.15° 面番号 ｒy ｒz ｄ ｎ DECZ 1 ∞ 51.08 4.00 1.51072 0.00 2 ∞ − 97.00 3 ∞ − 33.00 4 −163.50 − 12.00 1.48617 0.00 5 −105.00 −80.24 4.00 0.00 6 −115.40 − 10.00 1.48617 0.00 7 −65.50 − 92.50 0.00 8 −1002.60 33.43 5.00 1.48617 1.36 9 −2333.30 − 108.07 0.00 10 ∞ − 0.88
【００３５】第１面は副走査方向にのみパワーを持つシ
リンドリカル面、第２面、第３面は平面、第４面は球
面、、第５面はトーリック面、第６面、第７面、第９面
は回転対称非球面、第８面はアナモフィック非球面であ
る。回転対称非球面の円錐係数、非球面係数は表８、ア
ナモフィック非球面の各係数は表９に示される。
【００３６】
【表８】 κ Ａ4 Ａ6 Ａ8 第６面 0.00 9.44×10-7 9.37×10-11 −2.05×10-14 第７面 0.00 9.05×10-7 2.04×10-10 2.04×10-14 第９面 0.00 −3.44×10-8 0.00 0.00
【００３７】
【表９】第８面 κ ＝ 0.000 Ａ4 ＝ 9.53×10-08 Ｂ1＝−1.95×10-06 Ａ6 ＝−8.35×10-12 Ｂ2＝−9.56×10-07 Ａ8 ＝ 3.10×10-16 Ｂ4＝ 2.33×10-11
【００３８】上述した実施例３の走査光学系の性能は、
図８のグラフに示される。図８(A)はfθ誤差、図８(B)
は像面湾曲、図８(C)は走査線湾曲をそれぞれ示す。実
施例３においても、トーリック面を採用することによ
り、走査線湾曲が極めて良好に補正されている。以下の
表１０は、前述した条件式と各実施例の数値との関係を
示す。いずれの実施例も、各条件を満たしており、その
結果、ｆθ誤差や像面湾曲を抑えつつ、ポリゴンミラー
への入射光が主走査平面に対して傾いている場合にも、
走査線の湾曲を小さく抑えることができる。
【００３９】
【表１０】 実施例１ 実施例２ 実施例３ (１) ｒz2／ｒz1 −0.608 −0.659 −0.417
【００４０】なお、上記の実施形態は、２本の光束を１
つのポリゴンミラーにより同時に走査させる構成である
が、光束の本数はこれに限られず、３本、または４本以
上にすることも可能である。いずれの場合にも、複数の
光束をポリゴンミラーの反射面上で交差するよう構成す
ることにより、ポリゴンミラーの厚さを小さく保つこと
ができ、ポリゴンミラー自体のコストを低くすることが
できると共に、ポリゴンミラーを駆動するモータに要求
されるトルク、発生するノイズ等も小さくすることがで
きる。
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、走査レンズにトーリック面、補正レンズにアナモフ
ィック非球面を設けることにより、主走査方向のパワー
分布を変化させずに、副走査方向のパワー配分をコント
ロールすることができ、光束がポリゴンミラーに対して
副走査方向に角度を持って入射する場合にも、走査線の
湾曲を良好に補正することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の実施形態にかかる走査光学系を示
し、(A)は光源部を示す副走査方向の説明図、(B)はポリ
ゴンミラーより感光体ドラム側を示す副走査方向の説明
図である。
【図２】 実施例１の走査光学系を示す主走査方向の説
明図である。
【図３】 実施例１の走査光学系の収差を示すグラフで
あり、(A)はｆθ誤差、(B)は像面湾曲、(C)は走査線湾
曲を示す。
【図４】 走査レンズにトーリック面を用いない比較例
の走査光学系の走査線湾曲を示すグラフである。
【図５】 実施例２の走査光学系を示す主走査方向の説
明図である。
【図６】 実施例２の走査光学系の収差を示すグラフで
あり、(A)はｆθ誤差、(B)は像面湾曲、(C)は走査線湾
曲を示す。
【図７】 実施例３の走査光学系を示す主走査方向の説
明図である。
【図８】 実施例３の走査光学系の収差を示すグラフで
あり、(A)はｆθ誤差、(B)は像面湾曲、(C)は走査線湾
曲を示す。
【符号の説明】
１０ 光源部 １１ 半導体レーザー １２ コリメートレンズ １３ シリンドリカルレンズ ２０ ポリゴンミラー ３０ 走査レンズ ３１ 第１レンズ ３２ 第２レンズ ５０ 補正用レンズ ６０ 感光体ドラム
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１４年６月１９日（２００２．６．１
９）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる走査光
学系は、単一又は複数の光束を発生する光源部と、光源
部から発する光束を副走査方向に収束させるアナモフィ
ック光学素子と、アナモフィック光学素子により収束さ
れた光束を反射、偏向させるポリゴンミラーと、ポリゴ
ンミラーにより反射された光束を被走査面上で主走査方
向に走査するスポットとして収束させる結像光学系とを
備え、結像光学系は、ポリゴンミラー側に配置された走
査レンズと、走査レンズより被走査面側に配置された像
面湾曲補正用の補正レンズとを備え、走査レンズに含ま
れる少なくとも１つの凸面は副走査方向により強い屈折
力を持つトーリック面であり、補正レンズの１つの面は
光軸から離れた位置での副走査方向の曲率半径が主走査
方向の断面形状とは無関係に設定された回転軸を持たな
いアナモフィック非球面であり、以下の条件(１)を満た
すことを特徴とする。 −１．１＜ｒz2／ｒz1＜−０．３ …(１) ただし、 ｒz1：トーリック面の副走査方向の曲率半径、 ｒz2：アナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】走査レンズをポリゴンミラー側に配置され
た第１レンズと被走査面側に配置された第２レンズの２
枚のレンズ要素から構成する場合、第１レンズをプラス
チックレンズ、第２レンズをガラスレンズとしてもよい
し、２枚共にプラスチックレンズとしてもよい。また、
光源部からポリゴンミラーに入射する光束が、ポリゴン
ミラーの回転軸に対して垂直で走査レンズの光軸を含む
主走査平面に対して傾いて入射するようにしてもよい。
さらに、光源部は、複数の光束を発し、複数の光束のう
ちの少なくとも一本は、主走査平面に対して傾いてポリ
ゴンミラーに入射するようにしてもよい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 13/18 Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｚ Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ Ｆターム(参考） 2C362 AA07 AA10 BA04 BA84 BA86 BB14 2H045 AA01 BA02 BA22 BA34 CA04 CA34 CA55 CA68 CB15 2H087 KA19 LA28 NA08 PA03 PA17 PB03 QA03 QA07 QA12 QA21 QA26 QA37 QA41 QA45 RA05 RA07 RA08 RA13 RA33 UA01 5C051 AA02 CA07 DB02 DB22 DB24 DB30 DC04 DC07 5C072 AA03 BA17 HA02 HA06 HA09 HA13 XA05

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 単一又は複数の光束を発生する光源部
    と、 前記光源部から発する光束を副走査方向に収束させるア
    ナモフィック光学素子と、 該アナモフィック光学素子により収束された光束を反
    射、偏向させるポリゴンミラーと、 該ポリゴンミラーにより反射された光束を被走査面上で
    主走査方向に走査するスポットとして収束させる結像光
    学系とを備え、 前記結像光学系は、前記ポリゴンミラー側に配置された
    第１レンズ及び前記被走査面側に配置された第２レンズ
    の２枚のレンズ要素から構成される走査レンズと、該走
    査レンズより前記被走査面側に配置された像面湾曲補正
    用の補正レンズとを備え、 前記走査レンズに含まれる少なくとも１つの凸面は副走
    査方向により強い屈折力を持つトーリック面であり、前
    記補正レンズの１つの面は光軸から離れた位置での副走
    査方向の曲率半径が主走査方向の断面形状とは無関係に
    設定された回転軸を持たないアナモフィック非球面であ
    り、以下の条件(１)を満たすことを特徴とする走査光学
    系。 −１．１＜ｒz2／ｒz1＜−０．３ …(１) ただし、 ｒz1：トーリック面の副走査方向の曲率半径、 ｒz2：アナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径。
  2. 【請求項２】 前記走査レンズの第１レンズがプラスチ
    ックレンズであり、前記第２レンズがガラスレンズであ
    ることを特徴とする請求項１に記載の走査光学系。
  3. 【請求項３】 前記走査レンズの第１、第２レンズが、
    共にプラスチックレンズであることを特徴とする請求項
    １に記載の走査光学系。
  4. 【請求項４】 前記光源部から前記ポリゴンミラーに入
    射する光束が、前記ポリゴンミラーの回転軸に対して垂
    直で前記走査レンズの光軸を含む主走査平面に対して傾
    いて入射することを特徴とする請求項１に記載の走査光
    学系。
  5. 【請求項５】 前記光源部は、複数の光束を発し、前記
    複数の光束のうちの少なくとも一本は、前記主走査平面
    に対して傾いて前記ポリゴンミラーに入射することを特
    徴とする請求項４に記載の走査光学系。
  6. 【請求項６】 前記光源部から発した複数の光束は、副
    走査方向において、前記ポリゴンミラーの反射面上で交
    差することを特徴とする請求項５に記載の走査光学系。
  7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の走査光
    学系を備えるレーザープリンター等の走査光学装置。
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