JP2007036299A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 FETを含む半導体装置の製造方法であって、主面上に第1導電型を有する第1半導体層が形成された半導体基板を準備し、第1半導体層上にゲート絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成し、第1半導体層内に第2導電型を有するベース領域を形成し、第1半導体層の表面付近のベース領域内に第1導電型を有するソース領域を形成し、ゲート電極及びソース領域上に層間絶縁膜を形成し、層間絶縁膜及び第1半導体層内にコンタクトホールを形成し、ソース領域の側壁を露出させ、層間絶縁膜の側壁をエッチングすることで前記コンタクトホールを拡大し、ソース領域の上面を露出させ、ソース領域の側面及び上面、ベース領域と接触し、かつ電気的に接続されるように、コンタクトホール内及び層間絶縁膜上にソース配線を形成し、半導体基板の裏面にドレイン電極を形成する。
【選択図】 図26
Description
の場合には、大電流化を達成する方法として、チャネル幅を増大させることによって容易に達成できる。そして、このようなチャネル幅の増大を行なうことによってチップ面積が増大するのを回避するために、例えばメッシュゲート構造が用いられている。
本発明の課題は、このような問題を解決し、ソースオフセットの発生を防止することが可能な技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろう。
半導体基板主面に延設した溝にゲートとなる導体層を設けるトレンチゲート構造のFETを有する半導体装置について、前記トレンチゲート導体層の上面が、前記半導体基板主面と同等若しくはそれよりも高く形成されている。
(1)本発明によれば、トレンチゲート導体層の上面を、前記半導体基板主面と同等若しくはそれよりも高く形成することによってソースオフセットを防止することができるという効果がある。
(2)本発明によれば、上記効果(1)により、ソースのシャロー化を進めることができるという効果がある。
(3)本発明によれば、上記効果(2)により、セルの微細化を進めることができるという効果がある。
以下、本発明の実施の形態を説明する。
なお、実施の形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
図1は、本発明の一実施の形態の半導体装置となるトレンチゲート構造のパワーMISFETを示す平面図であり、図2は、図1中a部を拡大して示す要部平面図であり、図3は、図2中のa‐a線に沿った縦断面図である。
先ず、例えばヒ素(As)が導入された単結晶珪素からなるn+型半導体基体1上に、エピタキシャル成長によって半導体基体1よりも低濃度のn−型のエピタキシャル層2を5μm程度形成する。次に、この半導体基板の主面に40nm程度の酸化珪素膜を、例えば熱酸化法で形成し、この酸化珪素膜上に窒化珪素(SiN)膜のマスクを、半導体基板の外周に沿って矩形環状に形成する。次に、角部内側に矩形部分を有するフィールド絶縁膜3を、熱酸化により、窒化珪素膜に対して自己整合的に形成する。この後、このフィールド絶縁膜3の内周に沿って、例えばボロン(B)のイオン打込みを行ない、導入した不純物を拡散させて、電界緩和部となるp型のウエル14を形成する。この状態を図4に示す。なお、p型のウエル14の不純物濃度は、例えば第2半導体層2bと等しい又はそれより低く構成される。
図5及び図15に示す。
次に、半導体基板主面上の全面に、例えばBPSG膜を500nm程度堆積させ、層間絶縁膜7を形成する。
次に、CHF3ガスを用いた異方性ドライエッチング処理を施し、層間絶縁膜7に、ソース領域となる第3半導体層2c,ゲート配線6,ソースガードリング半導体領域13a,保護ダイオード12の接続領域を露出させる開口CHを設け、この開口内を含む半導体基板主面上の全面に例えばシリコンを含むアルミニウムからなる導電膜(金属膜)を形成し、この金属膜をパターニングして、ゲートガードリング8,ゲート電極9,ソース配線10,ソースガードリング13を形成する。この状態を図12に示す。
図28及び図29に、本願発明の他の実施の形態を示す。
本実施の形態は、半導体基板2のエッチングにより、半導体基板主面2dをトレンチゲート4の上面4aに対して下げる工程が、前記実施の形態とは異なる。他の工程は前記実施の形態と実質的に同様なのでその説明は省略する。
前記実施の形態の図18に示す工程の後、図28に示すように、トレンチゲート4上の絶縁膜17上に、例えばホトレジスト膜30を形成する。
次に、ホトレジスト膜30をマスクにして、等方性エッチングにより、絶縁膜5,17に対して半導体基板2を選択的にエッチングすることで、半導体基板の主面2dをトレンチゲート4の上面4aに対して下げる。この状態を図29に示す。
このように、絶縁膜17上のホトレジスト膜30をマスクにして、半導体基板表面を後退させることにより、増速酸化で形成された弱い絶縁膜17を保護して、Siエッチングガスがトレンチゲート4に進入し、トレンチゲート4がエッチングされるのを防止する。
ホトレジスト膜30を除去した後、絶縁膜17aを形成する前記実施の形態の図20以降の工程と同様の工程により、半導体装置が形成される。
本実施の形態によれば、半導体基板表面を後退させる半導体基板2のエッチングにおいて、弱い絶縁膜17を保護し、トレンチゲート4がエッチングされるのを防止することができるので、半導体装置の信頼性を向上させることができる。
例えば本発明は、パワーMISFET以外にも、IGBT(Integrated Gate Bipolar Transistor)等にも適用が可能である。
Claims (13)
- MISFETを含む半導体装置の製造方法であって、
(a)主面上に第1導電型を有する第1半導体層が形成された半導体基板を準備する工程と、
(b)前記第1半導体層上に、前記MISFETのゲート絶縁膜を形成する工程と、
(c)前記ゲート絶縁膜上に、前記MISFETのゲート電極を形成する工程と、
(d)前記第1半導体層内に、前記第1導電型と逆の第2導電型を有する前記MISFETのベース領域を形成する工程と、
(e)前記第1半導体層の表面付近であって、前記ベース領域内に、前記第1導電型を有する前記MISFETのソース領域を形成する工程と、
(f)前記ゲート電極及びソース領域上に層間絶縁膜を形成する工程と、
(g)前記工程(f)の後、前記層間絶縁膜及び第1半導体層内にコンタクトホールを形成し、前記ソース領域の側壁を露出させる工程と、
(h)前記工程(g)の後、前記層間絶縁膜の側壁をエッチングすることで前記コンタクトホールを拡大し、前記ソース領域の上面を露出させる工程と、
(i)前記工程(h)の後、前記ソース領域の側面及び上面、前記ベース領域と接触し、かつ電気的に接続されるように、前記コンタクトホール内及び前記層間絶縁膜上にソース配線を形成する工程と、
(j)前記半導体基板の裏面にドレイン電極を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、前記工程(h)の後、前記層間絶縁膜内の前記コンタクトホールの幅は、前記第1半導体層内の前記コンタクトホールの幅よりも大きくなることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、前記工程(h)において、前記層間絶縁膜は選択性エッチングによってエッチングされることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、前記工程(g)の後、前記ベース領域に前記第2導電型を有する不純物を導入することでソースコンタクト層を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、前記第1半導体層はエピタキシャル成長法によって形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- トレンチゲート型MISFETを含む半導体装置の製造方法であって、
(a)第1導電型を有する第1半導体層が形成された半導体基板を準備する工程と、
(b)前記第1半導体層の主面に、前記MISFETのゲート用トレンチを形成する工程と、
(c)前記ゲート用トレンチの内壁に、前記MISFETのゲート絶縁膜を形成する工程と、
(d)前記ゲート絶縁膜上に、前記MISFETのゲート電極を形成する工程と、
(e)前記第1半導体層内に、前記第1導電型と逆の第2導電型を有する前記MISFETのベース領域を形成する工程と、
(f)前記第1半導体層の表面付近であって、前記ベース領域内に、前記第1導電型を有する前記MISFETのソース領域を形成する工程と、
(g)前記ゲート電極及びソース領域上に層間絶縁膜を形成する工程と、
(h)前記工程(g)の後、前記層間絶縁膜及び第1半導体層内にコンタクトホールを形成し、前記ソース領域の側壁を露出させる工程と、
(i)前記工程(h)の後、前記層間絶縁膜の側壁をエッチングすることで前記コンタクトホールを拡大し、前記ソース領域の上面を露出させる工程と、
(j)前記工程(i)の後、前記ソース領域の側面及び上面、前記ベース領域と接触し、かつ電気的に接続されるように、前記コンタクトホール内及び前記層間絶縁膜上にソース配線を形成する工程と、
(k)前記半導体基板の裏面にドレイン電極を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項6に記載の半導体装置の製造方法であって、前記工程(i)の後、前記層間絶縁膜内の前記コンタクトホールの幅は、前記第1半導体層内の前記コンタクトホールの幅よりも大きくなることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- MISFETを含む半導体装置であって、
(a)第1導電型を有する第1半導体層が形成された半導体基板と、
(b)前記第1半導体層上に形成された、前記MISFETのゲート絶縁膜と、
(c)前記ゲート絶縁膜上に形成された、前記MISFETのゲート電極と、
(d)前記第1半導体層内に形成された、前記第1導電型と逆の第2導電型を有する前記MISFETのベース領域と、
(e)前記第1半導体層の表面付近であって、前記ベース領域内に形成された、前記第1導電型を有する前記MISFETのソース領域と、
(f)前記ゲート電極及びソース領域上に形成された層間絶縁膜と、
(g)前記層間絶縁膜及び第1半導体層内に形成されたコンタクトホールと、
(h)前記コンタクトホール内及び前記層間絶縁膜上に形成されたソース配線と、
(i)前記半導体基板の裏面に形成されたドレイン電極と、
を有し、
前記コンタクトホールは前記第1半導体層内に形成された第1部分と前記層間絶縁膜内に形成された第2部分からなり、
前記第2部分の幅は前記第1部分より大きく、
前記ソース配線は前記ソース領域の側面及び上面、前記ベース領域と接触し、かつ電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項8に記載の半導体装置であって、前記第1半導体層はエピタキシャル成長法によって形成されていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項8に記載の半導体装置であって、前記ベース領域内に前記第2導電型を有し、かつ前記ベース領域よりも不純物濃度の高いソースコンタクト層が形成されていることを特徴とする半導体装置。
- トレンチゲート型MISFETを含む半導体装置であって、
(a)第1導電型を有する第1半導体層が形成された半導体基板と、
(b)前記第1半導体層の主面に形成された前記MISFETのゲート用トレンチと、
(c)前記ゲート用トレンチの内壁に形成された、前記MISFETのゲート絶縁膜と、
(d)前記ゲート絶縁膜上に形成された、前記MISFETのゲート電極と、
(e)前記第1半導体層内に形成された、前記第1導電型と逆の第2導電型を有する前記MISFETのベース領域と、
(f)前記第1半導体層の表面付近であって、前記ベース領域内に形成された、前記第1導電型を有する前記MISFETのソース領域と、
(g)前記ゲート電極及びソース領域上に形成された層間絶縁膜と、
(h)前記層間絶縁膜及び第1半導体層内に形成されたコンタクトホールと、
(i)前記コンタクトホール内及び前記層間絶縁膜上に形成されたソース配線と、
(j)前記半導体基板の裏面に形成されたドレイン電極と、
を有し、
前記コンタクトホールは前記第1半導体層内に形成された第1部分と前記層間絶縁膜内に形成された第2部分からなり、
前記第2部分の幅は前記第1部分より大きく、
前記ソース配線は前記ソース領域の側面及び上面、前記ベース領域と接触し、かつ電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項11に記載の半導体装置であって、前記第1半導体層はエピタキシャル成長法によって形成されていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項11に記載の半導体装置であって、前記ベース領域内に前記第2導電型を有し、かつ前記ベース領域よりも不純物濃度の高いソースコンタクト層が形成されていることを特徴とする半導体装置。
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