JP2006310280A - プラズマディスプレイ用背面板およびプラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

【課題】外光反射が少なく表示コントラストの高いプラズマディスプレイを提供する。
【解決手段】 表示領域の短辺の方向を縦方向、長辺の方向を横方向としたときに、基板上に少なくとも縦方向及び横方向の画素を仕切るパターンが配設されたプラズマディスプレイ用背面板であって、少なくとも縦方向の画素を仕切るパターンが黒色であることを特徴とするプラズマディスプレイ用背面板とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、高いコントラストが得られるプラズマディスプレイパネルと、それを構成するプラズマディスプレイ用背面板に関するものである。

薄型・大型テレビに使用できるディスプレイとして、プラズマディスプレイが注目されている。プラズマディスプレイは、図７に模式図を示すように、例えば、表示面となる前面板２２側のガラス基板８には、対をなす複数のサステイン電極１０とスキャン電極１１が、銀やクロム、アルミニウム、ニッケル等の材料で、表示領域の短辺の方向を縦方向、長辺の方向を横方向としたときに、横方向を長手方向とするストライプ状に形成されている。また、これらサステイン電極１０、スキャン電極１１上を含む、プラズマディスプレイの縦方向の画素と画素の間には、画像表示時のコントラストを維持するためにブラックストライプ９が形成される場合がある。
さらにサステイン電極１０を被覆してガラスを主成分とする誘電体層４が２０〜５０μｍ厚みで形成され、誘電体層４を被覆してＭｇＯ層１２が形成されている。一方、背面板側のガラス基板には、複数のアドレス電極３が、縦方向を長手方向とするストライプ状に形成され、アドレス電極３を被覆してガラスを主成分とする誘電体層４が形成されている。前記誘電体層４上に放電セルを仕切るための隔壁１が形成され、隔壁１と誘電体層４で形成された放電空間内に蛍光体層１３、１４、１５が形成されてなる。フルカラー表示が可能なプラズマディスプレイにおいては、蛍光体層は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色に発光するものにより構成される。前面板２２側のサステイン電極１０と背面板側のアドレス電極３が互いに直交するように、前面板と背面板が封着され、それらの基板の間隙内にヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される希ガスが封入されプラズマディスプレイが形成される。スキャン電極１１とアドレス電極３の交点を中心として画素セルが形成されるので、プラズマディスプレイは複数の画素セルを有し、画像の表示が可能になる。

プラズマディスプレイにおいて表示を行う際、選択された画素セルにおいて、発光していない状態からサステイン電極１０とアドレス電極３との間に放電開始電圧以上の電圧を印加すると電離によって生じた陽イオンや電子は、画素セルが容量性負荷であるために放電空間内を反対極性の電極へと向けて移動してＭｇＯ層１２の内壁に帯電し、内壁の電荷はＭｇＯ層１２の抵抗が高いために減衰せずに壁電荷として残留する。

次に、スキャン電極１０とサステイン電極１１の間に放電維持電圧を印加する。壁電荷のあるところでは、放電開始電圧より低い電圧でも放電することができる。放電により放電空間内のキセノンガスが励起され、１４７ｎｍの紫外線が発生し、紫外線が蛍光体層１３、１４、１５を励起することにより、発光表示が可能になる。

このようなプラズマディスプレイにおいては蛍光面を発光させた時の輝度を高めることが重要となっている。この輝度を高めるための手段として、図８に模式図を示すように隔壁１の他に横方向を長手方向とするストライプ状の補助隔壁２を設け、補助隔壁の表面にも蛍光面を形成することにより蛍光面の発光面積を大きくし、紫外線を効率よく蛍光面に作用させ、輝度を高めることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。

また、補助隔壁は電圧印加により発生する電荷の、縦方向に隣接するセルへの移動を抑制する効果もあるため、前述した対をなすサステイン電極の電極間距離（以下、メインギャップという）を広くすることができ、それによって発光輝度を向上できるという利点がある。

しかし、単純にメインギャップを広めた場合、補助隔壁を形成した場合であっても縦方向の発光したセルから発光していない隣接したセルへ光が漏れ、コントラストが低下するという問題があった。
特開平１０−３２１１４８号公報（請求項１等）

本発明が解決しようとする課題は、プラズマディスプレイの輝度を確保するために、発光に寄与するメインギャップを広げた場合であっても、縦方向の発光の漏れを抑制でき、コントラストの高いプラズマディスプレイを得ることができるプラズマディスプレイ用背面板、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネルを提供することにある。

すなわち、本発明は、表示領域の短辺の方向を縦方向、長辺の方向を横方向としたときに、基板上に少なくとも縦方向及び横方向の画素を仕切るパターンが配設されたプラズマディスプレイ用背面板であって、少なくとも縦方向の画素を仕切るパターンの一部が黒色であることを特徴とするプラズマディスプレイ用背面板である。

また、本発明は前記プラズマディスプレイ用背面板を含むプラズマディスプレイ用パネルを要旨とするものである。

本発明によれば、輝度およびコントラストの高いプラズマディスプレイパネルと、それに用いるプラズマディスプレイ用背面板を提供することができる。

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明においては、少なくとも縦方向の画素を仕切るパターンの一部が黒色であることが必要である。該黒色のパターンの反射率は２５％以下であることが好ましい。縦方向に画素を仕切るパターンがなく、横方向に画素を仕切るストライプパターンの隔壁形状の構成をとる場合、特定のセルの発光が縦方向に隣接するセルに漏れてしまい、コントラストが低下する問題があった。また、縦方向に画素を仕切るパターンが存在した場合でも、該パターンの反射率が黒くない場合は縦方向に隣接するセルへの発光漏れを十分に防止することができないという問題があった。該パターンを黒色化し、好ましくは反射率を２５％以下にすることで、例えば発光に寄与するメインギャップを拡大しプラズマディスプレイの輝度を大きくした場合であっても、縦方向の隣接する画素への発光の漏れを抑制することができ、高いコントラストを得ることができる。

また、本発明では横方向の画素を仕切る隔壁の、少なくとも頂部の反射率は３５％以上であることが好ましい。セルの発光光はダイレクトに前面板方向に出てくるものと、一度隔壁頂部付近に反射して前面板方向に出てくるものに分かれるが、隔壁頂部の反射率が３５％より小さい場合、発行光の反射が隔壁頂部付近で十分に行われないために、発光光の取り出し効率が下がり、パネルの輝度が下がってしまう問題が発生する。また、カラー表示を行うプラズマディスプレイにおいては、上述のように横方向に隣接したセルは同色の発光をするものではないので、横方向に光が漏れてコントラストが低下するという問題が発生する場合は少ない。

本発明において黒色とは、少なくとも４００〜６００ｎｍの波長を有する光線に対し、反射率が３０％以下のものをいう。

以下、本発明のプラズマディスプレイ用背面板の構成および製造方法について詳細に説明する。

本発明のプラズマディスプレイ用背面板に用いる基板としては、ソーダガラスなどを用いることができ、具体的にはプラズマディスプレイ用の耐熱ガラスである旭硝子（株）製のＰＤ２００や日本電気硝子（株）製のＰＰ８などが挙げられる。

基板上には、銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属により縦方向を長手方向とするストライプ状のアドレス電極が形成される。形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷し、４００〜６００℃に加熱・焼成して金属パターンを形成する方法や、金属粉末と感光性有機成分を含む感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを用いてパターン露光後、不要な部分を現像工程で溶解除去し、さらに４００〜６００℃に加熱、焼成して金属パターンを形成する感光性ペースト法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロムやアルミニウム等の金属をスパッタリングした後にレジストを塗布し、レジストをパターン露光、現像した後にエッチングにより不要な部分の金属を取り除くエッチング法を用いることもできる。電極厚みは１．５〜１０μｍが好ましく、２〜８μｍがより好ましい。電極厚みが薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、厚すぎると材料が多く必要とされ、コスト的に不利な傾向にある。アドレス電極の幅は好ましくは３０〜１５０μｍ、より好ましくは３５〜２４０μｍである。アドレス電極の幅が細すぎると抵抗値が高くなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、太すぎると隣合う電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じやすい傾向にある。さらに、アドレス電極は表示セル（画素の各ＲＧＢを形成する領域）に応じたピッチで形成される。通常のプラズマディスプレイでは１００〜５００μｍ、高精細プラズマディスプレイにおいては１００〜４００μｍのピッチで形成するのが好ましい。

前記アドレス電極を被覆して、誘電体層が形成される。誘電体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストをアドレス電極を覆う形で塗布した後に、４００〜６００℃で焼成することにより形成することができる。誘電体層に用いるガラスペーストには、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも１種類以上を含有し、これらを合計で１０〜８０質量％含有する低融点ガラス粉末を好ましく用いることができる。該配合物を１０質量％以上とすることで、６００℃以下での焼成が容易になり、８０質量％以下とすることで、結晶化を防ぎ透過率の低下を防止する。

上記低融点ガラス粉末と有機バインダーを混練してペーストを作成する。用いる有機バインダーとしては、エチルセルロース、メチルセルロース等に代表されるセルロース系化合物、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレート等のアクリル系化合物等を用いることができる。また、ガラスペースト中に、溶媒、可塑剤等の添加剤を加えても良い。溶媒としては、テルピネオール、ブチロラクトン、トルエン、メチルセルソルブ等の汎用溶媒を用いることができる。また、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジエチルフタレート等を用いることができる。低融点ガラス粉末以外に軟化温度が高く焼成時に軟化しないフィラー成分を添加することにより、反射率が高く、輝度の高いＰＤＰを得ることができる。フィラーとしては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が好ましく、体積分布曲線における５０％粒子径が０．０５〜３μｍの酸化チタンを用いることが特に好ましい。フィラーの含有量はガラス粉末：フィラーの質量比で、１：１〜１０：１が好ましい。フィラーの含有量を重量比でガラス粉末含有量の１０分の１以上とすることで、輝度向上の実効を得ることができる。また、ガラス粉末の含有量の同量以下とすることで、焼結性を保つことができる。

また、誘電体層に用いるガラスペーストに導電性微粒子を添加することにより駆動時の信頼性の高いプラズマディスプレイを作成することができる。導電性微粒子は、ニッケル、クロムなどの金属粉末が好ましく、体積分布曲線における５０％粒子径は１〜１０μｍであることが好ましい。１μｍ以上とすることで十分な効果を発揮でき、１０μｍ以下とすることで誘電体上の凹凸を抑えることができ、誘電体層上での後述の隔壁の形成を容易にすることができる。これらの導電性微粒子が誘電体層に含まれる含有量としては、０．１〜１０質量％が好ましい。０．１質量％以上とすることで導電性を得ることができ、１０質量％以下とすることで、横方向の隣り合うアドレス電極間でのショートを防ぐことができる。誘電体層の厚みは好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホールが多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くなり、消費電力が大きくなる傾向にある。

本発明のプラズマディスプレイ用部材は、基板上または誘電体層上に、縦方向及び横方向の画素を仕切るパターンが配設される。

本発明において、前記パターンは横方向の画素を仕切る、低融点ガラスを主成分とする隔壁と、縦方向の画素を仕切る、低融点ガラスを主成分とする補助隔壁からなることが好ましい。また、前記縦方向の画素を仕切るパターンは、低融点ガラスを主成分とする２以上の補助隔壁と、該２以上の補助隔壁の間に形成された領域により構成することもできる。

本発明でいう主成分とは、パターンを構成する全成分のうち７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上を構成する成分のことをいう。

隔壁及び補助隔壁はそれぞれが直交する形で形成される場合が多い。補助隔壁を形成することにより、補助隔壁の壁面にも蛍光体層を形成することができ、発光面積を大きくとることができる。さらに、電圧を印加した際に、縦方向に隣接した画素への電荷の抜けを抑制することができ、前面板の発光に寄与するメインギャップを広くすることができる。メインギャップを広くすることによって、紫外線が効率よく蛍光面に作用するため輝度を高めることが可能である。また、補助隔壁が存在することで、隔壁および補助隔壁の合計底面積が広くなり、隔壁の強度が向上し、隔壁の倒れや剥がれを防止することができる。その結果、隔壁の幅を小さくすることができ、表示セル部における放電容積を大きくすることができるため、放電効率をさらに向上させることができる。

隔壁及び補助隔壁の断面形状は台形や矩形とすることができる。隔壁の頂部幅は２５〜８０μｍであることが好ましく、３０〜７５μｍであることがより好ましい。隔壁の頂部幅が２５μｍ未満では、強度が低くなり、前面板との封着時に隔壁が倒れる等の問題が生じやすくなる。また８０μｍを超えると、蛍光体層の形成面積が小さくなるため輝度が低くなる傾向にある。なお、隔壁の底部幅は頂部幅の１．０〜２．３倍であることが好ましく、１．１〜２倍であることがより好ましい。

隔壁の高さは８０〜１８０μｍとすることが好ましく、９０〜１５０μｍであることがより好ましい。８０μｍ以上とすることで蛍光体とスキャン電極が近づきすぎるのを防ぎ、放電による蛍光体の劣化を防ぐことができる。また、１８０μｍ以下とすることで、スキャン電極での放電と蛍光体の距離を近づけ、充分な輝度を得ることができる。

隔壁の高さは補助隔壁の高さより高いことが好ましく、隔壁の高さと補助隔壁の高さの差が２〜４０μｍ、さらには３〜３０μｍであることがより好ましい。隔壁の高さと補助隔壁の高さの差が２μｍ未満であると、パネル封着・排気の際、前面板、背面板、隔壁および補助隔壁に囲まれたセル内に残存するガス成分の排気経路が狭くなるために、不純ガスが残存しやすくなり、その結果パネル特性に悪影響を及ぼす場合がある。また、４０μｍを超えると電圧印加によりセル内に蓄積した電荷が、縦方向に隣接するセルに抜けやすくなり、補助隔壁としての機能を果たさなくなる傾向にある。

補助隔壁を形成する位置とピッチは、前面板と合わせてプラズマディスプレイとした際に画素を区切る位置に形成することが、ガス放電と蛍光体層の発光の効率の点から好ましい。

隔壁と補助隔壁の他に、接合補助壁なるものを形成することも好ましい。接合補助壁とは、画素から構成される画像表示部分の上下外側に、横方向を長手方向として形成されるものであり、これにより隔壁端部の剥がれを防ぐことができる。隔壁が接合補助壁から突出する端部の長さは０．５ｍｍ以下とすることが、剥がれ防止の実効を得るうえで好ましい。

次に、本発明における隔壁および補助隔壁の形成方法について説明する。隔壁および補助隔壁は、基板上に絶縁性の無機成分と有機成分からなるペーストを用いて、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、感光性ペースト法（フォトリソグラフィー法）、金型転写法、リフトオフ法等公知の技術によりパターンを形成し、焼成することで形成されるが、高度な形状制御、均一性が得られるという理由から、中でも感光性ペーストを基板上に塗布、乾燥し感光性ペースト膜を形成し、フォトマスクを介して露光、現像する、いわゆる感光性ペースト法（フォトリソグラフィー法）が本発明では好ましく適用される。

以下に本発明で好ましく適用する感光性ペースト法について、詳述する。

感光性ペースト法で用いる隔壁形成用感光性ペーストは、無機微粒子と感光性有機成分を主成分とし、必要に応じて光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を含有する。

隔壁形成用感光性ペーストの無機微粒子としては、ガラス、セラミック（アルミナ、コーディライトなど）などを用いることができる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物、または、アルミニウム酸化物を必須成分とするガラスやセラミックスが好ましい。

無機微粒子の粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、体積分布曲線における５０％粒子径が、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは、１〜５μｍである。体積分布曲線における５０％粒子径を１０μｍ以下とすることで、表面凸凹が生じるのを防ぐことができる。また、１μｍ以上とすることで、ペーストの粘度調整を容易にすることができる。さらに、比表面積０．２〜３ｍ^２／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン形成において特に好ましい。

隔壁および補助隔壁は、好ましくは熱軟化点の低いガラス基板上にパターン形成されるため、無機微粒子として、熱軟化温度が３５０〜６００℃の低融点ガラス微粒子を６０質量％以上含む無機微粒子を用いることが好ましい。また、熱軟化温度が６００℃以上の高融点ガラス微粒子やセラミック微粒子からなるフィラー成分を添加することによって、焼成時の収縮率を抑制することができるが、その量は、無機微粒子の合計量に対して４０質量％以下が好ましい。低融点ガラス微粒子としては、焼成時にガラス基板にそりを生じさせないためには線膨脹係数が５０×１０^−７〜９０×１０^−７Ｋ^−１、さらには、６０×１０^−７〜９０×１０^−７Ｋ^−１の低融点ガラス微粒子を用いることが好ましい。

低融点ガラス微粒子としては、ケイ素および／またはホウ素の酸化物を含有したガラスが好ましく用いられる。

酸化ケイ素は、３〜６０質量％の範囲で配合されていることが好ましい。３質量％以上とすることで、ガラス層の緻密性、強度や安定性が向上し、また、熱膨脹係数を所望の範囲内とし、ガラス基板との熱膨張係数の差によるそり発生の問題を防ぐことができる。また、６０質量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。

酸化ホウ素は、５〜５０質量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０質量％以下とすることでガラスの安定性を保つことができる。

さらに、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０質量％含有させることによって、ガラス基板上にパターン加工するのに適した温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０質量％含有するガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが長いなどの利点が得られる。ビスマス系ガラス微粒子としては、次の組成をからなるガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化ビスマス：１０〜４０質量％
酸化ケイ素：３〜５０質量％
酸化ホウ素：１０〜４０質量％
酸化バリウム：８〜２０質量％
酸化アルミニウム：１０〜３０質量％
また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０質量％含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物の添加量は、２０質量％以下、好ましくは、１５質量％以下にすることによって、ペーストの安定性を向上することができる。上記３種のアルカリ金属酸化物の内、酸化リチウムがペーストの安定性の点で、特に好ましい。リチウム系ガラス微粒子としては、例えば次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化リチウム：２〜１５質量％
酸化ケイ素：１５〜５０質量％
酸化ホウ素：１５〜４０質量％
酸化バリウム：２〜１５質量％
酸化アルミニウム：６〜２５質量％
また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ金属含有量で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールすることができる。

また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨脹係数の点からは、その含有量は、４０質量％以下が好ましく、より好ましくは２５質量％以下である。

感光性有機成分としては、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なくとも１種類を含有することが好ましい。

感光性モノマーは、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、単官能および多官能性の（メタ）アクリレート類、ビニル系化合物類、アリル系化合物類などのアクリル系モノマーを用いることが好ましい。これらは１種または２種以上使用することができる。

感光性オリゴマー、感光性ポリマーとしては、炭素−炭素２重結合を有するモノマーのうちの少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを用いることができる。好ましくは上記アクリル系モノマーのうち少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーであって、前記モノマーの含有率が、１０質量％以上、さらに好ましくは３５質量％以上になるように、他の感光性のモノマーと共重合することができる。ポリマーやオリゴマーに不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、または、これらの酸無水物などが挙げられる。こうして得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポリマ、もしくは、オリゴマーの酸価（ＡＶ）は、５０〜１８０の範囲が好ましく、７０〜１４０の範囲がより好ましい。以上に示したポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性をもつ感光性ポリマや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。

光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾフェノン、Ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対し、好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜５質量％の範囲で添加される。重合開始剤の量が少な過ぎると、光感度が低下する傾向にあり、光重合開始剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなり過ぎる傾向にある。

光吸収剤を添加することも有効である。紫外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ましく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は、０．０５〜５質量％が好ましく、より好ましくは、０．０５〜１質量％である。添加量が前記範囲より少ないと、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあり、前記範囲より多いと、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向にある。

増感剤は、感度を向上させるために好ましく添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。増感剤を感光性ペーストに添加する場合、その添加量は、感光性成分に対して通常０．０５〜１０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％である。増感剤の量が前記範囲より少ないと感度を向上させる効果が発揮されない傾向にあり、増感剤の量が前記範囲より多いと、露光部の残存率が小さくなる傾向にある。

有機溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。

隔壁形成用感光性ペーストは、通常、上記の無機微粒子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。次いで感光性ペーストの塗布、乾燥、露光、現像等を行う。

隔壁形成用感光性ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどを用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。

また、塗布後の乾燥は、通風オーブン、ホットプレート、ＩＲ（赤外線）炉などを用いることができる。

露光で使用される活性光源は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ^２の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間露光を行う。

ここで、フォトマスクと感光性ペーストの塗布膜表面との距離（以下ギャップ量という）は５０〜５００μｍ、さらには７０〜４００μｍに調整することが好ましい。ギャップ量を５０μｍ以上、さらに好ましくは７０μｍ以上とすることにより、感光性ペースト塗布膜とフォトマスクの接触を防ぎ、双方の破壊や汚染を防ぐことができる。また５００μｍ以下、さらに好ましくは４００μｍ以下とすることにより、シャープなパターニングが可能となる。

現像は、露光部分と非露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して行う。現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。

現像液は、感光性ペースト中の溶解させたい有機成分、すなわち、ネガ型感光性ペーストの場合は露光前の感光性有機成分が、ポジ型感光性ペーストの場合は露光後の有機成分が溶解可能である溶液を用いる。溶解させたい有機成分にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像することができる。アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などの無機アルカリ水溶液を使用することもできるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されにくい傾向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥離したり、また、非可溶部を腐食させる傾向にある。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。

次に、現像により得られた隔壁及び補助隔壁のパターンは焼成炉にて焼成される。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８００℃で行うと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成する場合は、４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うと良い。

本発明において、少なくとも縦方向の画素を仕切るパターンの一部を黒色にする方法としては、例えば下記の３つの方法がある。

第１の方法としては、図１に示すように、縦方向の画素を仕切る補助隔壁全体を黒色部分とする方法が挙げられる。補助隔壁全体を黒色化する方法としては、前述した感光性ペースト中に黒色顔料を添加する方法が最も簡便である。具体的には、前記感光性ペースト中に黒色顔料を含有せしめ、該ペーストを所望の厚みで塗布・乾燥し、所望の隔壁及び／または補助隔壁パターンが配置されたフォトマスクを介して露光・現像する方法などを挙げることができる。

また、第２の方法としては少なくとも補助隔壁の頂部と、補助隔壁の側面、隔壁の頂部及び隔壁の側面の一部を黒色部分とする方法が挙げられる。

少なくとも補助隔壁の頂部と、補助隔壁の側面、隔壁の頂部及び隔壁の側面の一部を黒色部分とする方法としては、黒色顔料を含有しない感光性ペーストを所望の厚みで基板あるいは前記誘電体上に塗布・乾燥し、次いで所望の厚みで黒色顔料を含有する感光性ペーストを塗布・乾燥した後に、所望の隔壁および／または補助隔壁パターンが配置されたフォトマスクを介して露光・現像し、図２に示す構成のプラズマディスプレイ用背面板を得る方法、黒色顔料を含有する感光性ペーストを塗布・乾燥した後に、所望の補助隔壁パターンが配置されたフォトマスクを介して一度露光し、ついで所望の厚みで感光性ペーストを塗布・乾燥後、所望の隔壁パターンが配置されたフォトマスクを介して露光・現像し、図３に示す構成のプラズマディスプレイ用背面板を得る方法、３層構成として補助隔壁頂部を構成する層に黒色顔料を含有する感光性ペーストを用いて図４に示す構成のプラズマディスプレイ用背面板を得る方法などが挙げられる。ここで、補助隔壁頂部を構成する黒色部分の厚みは特に規定されるものではないが、通常は５〜５０μｍ、好ましくは１３〜４５μｍの範囲で形成される場合が多い。

さらに第３の方法は、図５に示すように、横方向に隣接した画素を各々１の隔壁で仕切り、縦方向に隣接した画素を各々２以上の補助隔壁と該２以上の補助隔壁の間に形成された黒色部分によって縦方向の画素を仕切る方法であり、黒色顔料を含有しない感光性ペーストを用いて塗布、乾燥、露光、現像を行って隔壁および補助隔壁を形成した後に、該２以上の補助隔壁の間に黒色顔料を含有する黒色ペーストを塗布する方法が挙げられる（図６）。

ここで、補助隔壁間に黒色ペーストを塗布する方法としては、公知の技術、例えばスクリーン印刷法、ディスペンサー塗布法などが挙げられる。

黒色顔料としては、Ｒｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、ＣｕおよびＮｉの群から選ばれた少なくとも１種の金属またはその酸化物を用いるのがよい。好ましくはＲｕの酸化物を用いるのがよい。

本発明で使用する黒色顔料の最大粒子径は、２０μｍ以下であることが好ましい。最大粒子径が２０μｍを越えると、露光時に大きく光が遮られる箇所ができてパターンに不良部が生じることがあり、焼成の際にこの不良部を起点として大きな断線や蛍光体形成時の混色の原因となることがあるためである。ここで、粒子径とはレーザ散乱・回折法によって測定した値であり、体積分布曲線における５０％粒子径とは、体積分布曲線において、その粒径以下の粒子が全粒子の５０％となる粒径（メジアン系）、最大粒子径とは粒子径の最大値である。

また、黒色顔料の体積分布曲線における５０％粒子径は２μｍ未満であることが、欠陥のない隔壁を形成できる点で好ましい。２μｍ以上であると隔壁形成時に隔壁の欠けが生じる傾向にあるため、前面板と封着しパネルにした場合に誤放電が起きることがある。

黒色顔料の配合量は、感光性黒色ペースト中に添加する場合はペースト中の０．５〜１０質量％であることが好ましい。０．５質量％より少ないと、黒色度が弱くなり灰色がかって見え、コントラスト向上に効果がない。また１０質量％より多いとガラスの軟化点が上昇したり、熱膨張係数をガラス基板と整合させるのが難しくなることがある。また、黒色度が強くなりすぎて紫外線が下部まで到達しにくくなり、パターン形成性が低下することがあるので好ましくない。ただし、補助隔壁間に黒色ペーストを塗布する場合は、塗布幅や塗布厚さによって発光の漏れを制御することができるため、黒色顔料の添加量は前記範囲に限られるものではない。

また、本発明の黒色顔料と前述ガラス粉末については、黒色粉末の体積分布曲線における５０％粒子径をＤ_ｂ（μm）、ガラス粉末の体積分布曲線における５０％粒子径をＤ_ｇ（μm）としたときに、下式（１）を満たすことが好ましい。
０．０１＜Ｄ_ｂ／Ｄ_ｇ＜１ （１）
式（１）を満たすことによって欠陥のない優れたプラズマディスプレイ用の黒色隔壁が得られる。

次いで所定のアドレス電極と平行方向に形成された隔壁間に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）各色に発光する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、蛍光体粉末、有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じて焼成することにより形成することができる。

蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させる方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、蛍光体ペーストに前述の感光性有機成分を用いた感光性ペースト法により各色の蛍光体ペーストを所定の場所に塗着させることができるが、コストの理由からスクリーン印刷法、ディスペンサー法が本発明では好ましく適用される。

赤色蛍光体層の厚みをＴ_ｒ（μｍ）、緑色蛍光体層の厚みをＴ_ｇ（μｍ）、および青色蛍光体層の厚みをＴ_ｂ（μｍ）としたとき、式（２）および（３）を満たすことが好ましい。
１０≦Ｔ_ｒ≦Ｔ_ｂ≦５０ （２）、
１０≦Ｔ_ｇ≦Ｔ_ｂ≦５０ （３）
つまり、発光輝度の低い青色について、厚みを緑色、赤色よりも厚くすることにより、より色バランスに優れた（色温度の高い）プラズマディスプレイを作製できる。蛍光体層の厚みとしては、１０μｍ以上とすることで充分な輝度を得ることができる。また、５０μｍ以下とすることで、放電空間を広くとり高い輝度を得ることができる。この場合の蛍光体層の厚みは、隣り合う隔壁の中間点での焼成後の厚みとして測定する。つまり、放電空間（隔壁、補助隔壁によって囲まれた画素セル内）の底部に形成された蛍光体層の厚みとして測定する。

塗着させた蛍光体層を必要に応じて、４００〜５５０℃で焼成することにより、本発明のプラズマディスプレイ用背面板を作製することができる。

このプラズマディスプレイ用背面板を用いて、前面板と封着後、前背面の基板間隔に形成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラズマディスプレイを作製できる。前面板は、基板上に所定のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、ＭｇＯ層を形成した部材である。背面板上に形成されたＲＧＢ各色蛍光体層に一致する部分にカラーフィルター層を形成しても良い。また、コントラストを向上するために、ブラックストライプを形成しても良い。

以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。
４２インチサイズのＡＣ（交流）型プラズマディスプレイパネルの背面板を形成し、評価を実施した。評価方法について説明する。
＜反射率＞
背面板単体でパターン部の反射率を測定した。顕微分光測定装置（（株）睦コーポレーション社製 ＭＩＳＭ−０５）を用いて、隔壁頂部など所望の位置で１０μｍ×１０μｍの範囲で４００〜６００ｎｍの波長に対する反射率を測定し、５５０ｎｍの波長に対する反射率をそのポイントでの反射率とした。背面板面内９カ所で同様の測定を繰り返し、９点の平均値を反射率の値とした。
＜コントラスト＞
１００ルクスの環境下で、パネルに電圧を印加して白を表示し、輝度測定器（テクノチーム社製 ＬＭＫ２０００）を用いて直径１ｃｍのスポットで輝度を測定した。次に黒を表示し、同様に輝度を測定し、２つの輝度の比をコントラストとした。パネル面内９点で同様の測定を繰り返し、平均値をそのパネルのコントラストとした。
＜輝度＞
パネルに電圧を印加して白を表示し、輝度測定器（テクノチーム社製 ＬＭＫ２０００）をもちいて直径１ｃｍのスポットで輝度を測定した。パネル面内９点で同様の測定を繰り返し、９点の平均値をそのパネルの輝度とした。

次に、形成方法を順に説明する。
（実施例１〜５、比較例１）
ガラス基板として、５９０×９６４×２．８ｍｍの４２インチサイズのＰＤ−２００（旭硝子（株）製）を使用した。この基板上に、書き込み電極として、平均粒径２．０μｍの銀粉末を７０重量部、Ｂｉ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３／Ｂ_２Ｏ_３＝６９／２４／４／３（質量％）からなる平均粒径２．２μｍのガラス粉末２重量部、アクリル酸、メチルメタクリレート、スチレンの共重合ポリマー８重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート７重量部、ベンゾフェノン３重量部、ブチルカルビトールアクリレート７重量部、ベンジルアルコール３重量部からなる感光性銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィー法により、ピッチ２４０μｍ、線幅１００μｍ、焼成後厚み３μｍのストライプ状電極を形成した。

この基板に、Ｂｉ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３／ＺｎＯ／Ｂ_２Ｏ_３＝７８／１４／３／３／２（質量％）からなる体積平均粒子径２μｍの低融点ガラス微粒子を６０重量部、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量部、エチルセルロース１５重量部、テルピネオール１５重量部からなる誘電体ペーストを塗布した後、５８０℃で焼成して、厚み１０μｍの誘電体層を形成した。

隔壁形成用の感光性ペーストは以下の組成のものを用いた。
（隔壁形成用感光性ペーストＡ）
下記成分を配合、分散して用いた。
ガラス粉末：Ｂｉ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３／ＺｎＯ／Ｂ_２Ｏ_３＝８２／５／３／５／３／２（質量％）からなり、平均粒径２μｍのガラス粉末 ６７重量部
フィラー：平均粒径０．２μｍの酸化チタン ３重量部
ポリマー：”サイクロマー”Ｐ（ＡＣＡ２５０、ダイセル化学工業社製） １０重量部
有機溶剤（１）：ベンジルアルコール ４重量部
有機溶剤（２）：ブチルカルビトールアセテート ３重量部
モノマー：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ８重量部
光重合開始剤：ベンゾフェノン ３重量部
酸化防止剤：１，６−ヘキサンジオール−ビス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］ １重量部
有機染料：ベージックブルー２６ ０．０１重量部
チキソトロピー付与剤：Ｎ，Ｎ’−１２−ヒドロキシステアリン酸ブチレンジアミン：０．５重量部
界面活性剤：ポリオキシエチレンセチルエーテル：０．４９重量部。
（隔壁形成用感光性ペーストＢ）
上記の隔壁形成用感光性ペーストＡと黒顔料を下記の割合で混合、分散して用いた。
隔壁形成用感光性ペーストＡ：９８重量部
黒顔料（ＲｕＯ_３）：２重量部
（実施例１）
隔壁形成用感光性ペーストＢをダイコーターを用いて３００μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、所定のフォトマスクとのギャップを１５０μｍとり、隔壁および補助隔壁の露光を露光量３００ｍＪで実施した。隔壁の幅は５０μｍ、ピッチは３００μｍ、補助隔壁の幅は５０μｍ、ピッチは７００μｍとした。

上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％のエタノールアミン水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。得られた基板の模式図を図１に示す。

形成された隔壁に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法を用いて塗布、焼成（５００℃、３０分）して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成した。
次に、前面板を以下の工程によって作製した。まず、ガラス基板として５９０×９６４×２．８ｍｍの４２インチサイズのＰＤ−２００（旭硝子（株）製）を用い、このガラス基板上にＩＴＯをスパッタ法で形成後、レジスト塗布し、露光、現像処理、エッチング処理によって厚み０．１μｍ、線幅２００μｍの透明電極を形成した。また、黒色銀粉末からなる感光性銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、焼成後厚み５μｍのバス電極を形成した。電極はピッチ３７５μｍ、線幅１００μｍのものを作製した。

次に、酸化鉛を７５質量％含有する低融点ガラスの粉末を７０重量部、エチルセルロース２０重量部、テルピネオール１０重量部を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われるように５０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃、１５分間の焼成を行って前面誘電体を形成した。

誘電体を形成した基板上に、保護膜として、電子ビーム蒸着により厚み０．５μｍの酸化マグネシウム層を形成して前面板を作製した。

背面板の反射率を測定したところ、隔壁頂部で６％、補助隔壁頂部で６％であった。

得られた前面ガラス基板を、前記の背面ガラス基板と貼り合わせ封着した後、放電用ガスを封入し、駆動回路を接合してプラズマディスプレイを作製した。このパネルに電圧を印加して表示を観察したところ、１００ルクス時で３２０：１のコントラストが得られた。輝度は５５０ｃｄ／ｍ^２であった。
（実施例２）
隔壁形成用感光性ペーストＡをダイコーターを用いて２５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い塗布膜を形成した。さらに、隔壁形成用感光性ペーストＢをダイコーターを用いて５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、３０分の乾燥を行い塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、形成塗布膜に対し、所定のフォトマスクとのギャップを１５０μｍとり、隔壁および補助隔壁の露光を露光量３００ｍＪで実施した。隔壁の幅は５０μｍ、ピッチは３００μｍ、補助隔壁の幅は５０μｍ、ピッチは７００μｍとした。

上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％のエタノールアミン水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。得られた基板の模式図を図２に示す。

形成された隔壁に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法を用いて塗布、焼成（５００℃、３０分）して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成した。

背面板の反射率を測定したところ、隔壁頂部で１２％、補助隔壁頂部で１２％であった。

得られた背面ガラス基板を用い、実施例１と同様にしてプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）を作製した。このパネルに電圧を印加して表示を観察したところ、１００ルクス時で３１５：１のコントラストが得られた。輝度は５８０ｃｄ／ｍ^２であった。
（実施例３）
隔壁形成用感光性ペーストＢをダイコーターを用いて２５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、所定のフォトマスクとのギャップを１５０μｍとり、隔壁下層および補助隔壁の露光を露光量３００ｍＪで実施した。補助隔壁の幅は５０μｍ、ピッチは７００μｍとした。得られた露光済み基板に隔壁形成用の感光性ペーストＡをダイコーターを用いて５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、形成塗布膜に対し、所定のフォトマスクとのギャップを１５０μｍとり、隔壁の露光を露光量３００ｍＪで実施した。隔壁の幅は５０μｍ、ピッチは３００μｍとした。

上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％のエタノールアミン水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。得られた基板の模式図を図３に示す。

形成された隔壁に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法を用いて塗布、焼成（５００℃、３０分）して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成した。

背面板の反射率を測定したところ、隔壁頂部で４０％、補助隔壁頂部で６％であった。

得られた背面ガラス基板を用い、実施例１と同様にしてプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）を作製した。このパネルに電圧を印加して表示を観察したところ、１００ルクス時で３０７：１のコントラストが得られた。輝度は６３０ｃｄ／ｍ^２であった。
（実施例４）
隔壁形成用感光性ペーストＡをダイコーターを用いて２００μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い塗布膜を形成した。さらに、隔壁形成用感光性ペーストＢをダイコーターを用いて５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、３０分の乾燥を行い塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、形成塗布膜に対し、所定のフォトマスクとのギャップを１５０μｍとり、補助隔壁の露光を露光量３００ｍＪで実施した。補助隔壁の幅は５０μｍ、ピッチは７００μｍとした得られた露光済み基板に隔壁形成用の感光性ペーストをダイコーターを用いて５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、形成塗布膜に対し、所定のフォトマスクとのギャップを１５０μｍとり、隔壁の露光を露光量３００ｍＪで実施した。隔壁の幅は５０μｍ、ピッチは３００μｍとした。

上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％のエタノールアミン水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。得られた基板の模式図を図４に示す。

形成された隔壁に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法を用いて塗布、焼成（５００℃、３０分）して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成した。

背面板の反射率を測定したところ隔壁頂部で４０％、補助隔壁頂部で１２％であった。

得られた背面ガラス基板を用い、実施例１と同様にしてプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）を作製した。このパネルに電圧を印加して表示を観察したところ、１００ルクス時で３０２：１のコントラストが得られた。輝度は６４０ｃｄ／ｍ^２であった。
（実施例５）
隔壁形成用の感光性ペーストをダイコーターを用いて３００μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、形成塗布膜に対し、所定のフォトマスクとのギャップを１５０μｍとり、隔壁および補助隔壁の露光を露光量３００ｍＪで実施した。縦方向の画素を区切る補助隔壁は２本を一組として配設した。補助隔壁の幅は５０μｍ、ピッチは７００μｍとした。

上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％のエタノールアミン水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。得られた基板の模式図を図５に示す。

形成された隔壁に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法を用いて塗布した。さらに組をなす２本の補助隔壁の間に下記組成の黒色ペーストをスクリーン印刷法を用いて塗布した。塗布厚は９０μｍとした。
テルピネオール：８０重量部
エチルセルロース：１０重量部
黒顔料（ＣｕＣｒ_２Ｏ_４）：１０重量部
この基板を焼成（５００℃、３０分）して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成し、組をなす２本の補助隔壁の間の側面および底部に黒色層を形成した。黒色層を形成した基板の模式図を図６に示す。

背面板の反射率を測定したところ、隔壁頂部で４５％、黒色部分で８％であった。

得られた背面ガラス基板を用い、実施例１と同様にしてプラズマディスプレイを作製した。このパネルに電圧を印加して表示を観察したところ、１００ルクス時で３２３：１のコントラストが得られた。輝度は６５０ｃｄ／ｍ^２であった。
（比較例１）
隔壁形成用の感光性ペーストをダイコーターを用いて３００μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、形成塗布膜に対し、所定のフォトマスクとのギャップを１５０μｍとり、隔壁の露光を露光量３００ｍＪで実施した。隔壁の幅は５０μｍ、ピッチは３００μｍとした。

上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％のエタノールアミン水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。

形成された隔壁に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法を用いて塗布した。

背面板の反射率を測定したところ、隔壁頂部で４５％、補助隔壁頂部で４５％であった。

得られた背面ガラス基板を用い、実施例１と同様にしてプラズマディスプレイを作製した。このパネルに電圧を印加して表示を観察したところ、１００ルクス時で２５０：１のコントラストが得られた。輝度は６５０ｃｄ／ｍ^２であった。

本発明の第１の方法によるプラズマディスプレイ用背面板の模式図である。 本発明の第２の方法によるプラズマディスプレイ用背面板の模式図である。 本発明の第２の方法の別の様式によるプラズマディスプレイ用背面板の模式図である。 本発明の第２の方法のさらに別の様式によるプラズマディスプレイ用背面板の模式図である。 本発明の第３の方法によるプラズマディスプレイ用背面板に用いる隔壁形状の模式図である。 本発明の第３の方法の別の様式によるプラズマディスプレイ用背面板の上面図である。 プラズマディスプレイパネルの模式図である。 プラズマディスプレイ用背面板の模式図である。

符号の説明

１：隔壁
２：補助隔壁
３：アドレス電極
４：誘電体層
５：ガラス基板
６：黒色部分
７：主セル
８：ガラス基板
９：ブラックストライプ
１０：サステイン電極
１１：スキャン電極
１２：ＭｇＯ層
１３：蛍光体層（Ｒ）
１４：蛍光体（Ｇ）
１５：蛍光体（Ｂ）
２１：背面板
２２：前面板

Claims (7)

1. 表示領域の短辺の方向を縦方向、長辺の方向を横方向としたときに、基板上に少なくとも縦方向及び横方向の画素を仕切るパターンが配設されたプラズマディスプレイ用背面板であって、少なくとも縦方向の画素を仕切るパターンの一部が黒色であることを特徴とするプラズマディスプレイ用背面板。
2. 前記縦方向及び横方向の画素を仕切るパターンが、横方向の画素を仕切る、低融点ガラスを主成分とする隔壁と、縦方向の画素を仕切る、低融点ガラスを主成分とする補助隔壁からなることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用背面板。
3. 少なくとも前記補助隔壁の頂部が黒色であることを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイ用背面板。
4. 隔壁の高さが補助隔壁の高さより高いことを特徴とする請求項２または３に記載のプラズマディスプレイ用背面板。
5. 前記縦方向の画素を仕切るパターンが、低融点ガラスを主成分とする２以上の補助隔壁と該２以上の補助隔壁の間に形成された黒色部分からなることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用背面板。
6. 前記横方向の画素を仕切る隔壁の少なくとも頂部の反射率が３５％以上であり、縦方向の画素を仕切るパターンの黒色部の反射率が２５％以下であることを特徴とする請求項２〜５のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用背面板。
7. 前記請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用背面板を含むプラズマディスプレイパネル。

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