JP2006306611A - 搬送物浮上ユニット、搬送物浮上装置、及びステージ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 搬送物を浮上させたときの保持剛性を高める。
【解決手段】 上面５２側に設けられた吹出口５４からエアを吹出すための吹出流路６６と、上面５２側に設けられた吸引口５６からエアを吸引するための吸引流路６４と、を備えた搬送物浮上ユニット５０である。搬送物浮上ユニット５０は、吹出流路６６内に設けられており、エアの流れ方向を変換する流路変換体９４を備える。
【選択図】 図４

Description

本発明は、ガラス基板などの搬送物を非接触で浮上させるための搬送物浮上ユニット、搬送物浮上装置、及びこれを備えるステージ装置に関する。

従来、ガラス基板などの搬送物をエアにより非接触で浮上させる技術が知られている。例えば特許文献１には、吹出流路を通して移動テーブルの下面からエアを吹出して浮上させる一方、吸引流路を通してエアを吸引することにより、平面移動剛性（すなわち、保持剛性）を高める技術が開示されている。
特開平６−５６２３４号公報

しかしながら、移動テーブルの下面から単にエアを吹出し、且つ吸引するのみでは、基板の十分な保持剛性が得られないため、基板を搬送しながら処理するときに、大きな振幅で振動してしまい、処理の要求精度を十分に満たすことができなかった。具体的には、カメラで基板上を検査するときに焦点ぶれが起きたり、基板に塗布液を塗布するとき塗布ムラが生じたりするおそれがあった。

本発明は、上記した事情に鑑みて為されたものであり、搬送物を浮上させたときの保持剛性を高めることを課題とする。

発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、吹出流路の孔径を吸引流路の孔径よりも小さくすると、吹出流路から吹出されるエアに圧力損失が生じ、これにより基板の保持剛性が高まって、振動を低減することができることを見出した。しかしながら、このとき吹出流路の孔径を小さくし過ぎると孔が詰まり易くなり、一方、吸引流路の孔径を大きくし過ぎると大きな吸引ポンプが必要となるという問題があった。そこで、吹出流路内にエアの流れ方向を変換する流路変換体を設け、エアに圧力損失を生じさせることで、上記問題を生じさせることなく基板の保持剛性を高め、振動を低減することができることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明に係る搬送物浮上ユニットは、一の主面側に設けられた吹出口からエアを吹出すための吹出流路と、一の主面側に設けられた吸引口からエアを吸引するための吸引流路と、を備えた搬送物浮上ユニットであって、吹出流路内に設けられており、エアの流れ方向を変換する流路変換体を備えることを特徴とする。

この搬送物浮上ユニットによれば、流路変換体によりエアの流れ方向が変換されて曲げられるため、また流路変換体の存在により吹出流路の流路断面積が変わるため、圧力損失を生じさせることができる。従って、基板の保持剛性を高めることが可能となる。

流路変換体は、吹出流路内の位置を可変に設けられていると好ましい。このようにすれば、吹出流路内における流路変換体の位置を変更することで、エアの圧力損失を微調整することができる。

吹出流路は、所定の流路断面積を有する小流路と、小流路よりも流路断面積が大きい大流路とを有し、流路変換体は大流路内に設けられていると好ましい。このようにすれば、より大きな圧力損失を生じさせることができる。

吹出流路内には、流路変換体が複数設けられていると好ましい。このようにすれば、より大きな圧力損失を生じさせることができる。

吸引流路は一の主面に略直交する方向に沿って延びており、吸引流路を除く部分は、吹出流路により実質的に占められていると好ましい。このようにすれば、限られたスペースで効率的に圧力損失を稼ぐことができる。

上記した搬送物浮上ユニットを複数備え、複数の搬送物浮上ユニットは、一の主面に垂直な方向に積層されていると好ましい。このようにすれば、限られた設置面積でより大きな圧力損失を稼ぐことが可能となる。

本発明に係る搬送物浮上装置は、上記した搬送物浮上ユニットを複数備え、複数の搬送物浮上ユニットは、一の主面に沿う方向に２次元状に配置されていることを特徴とする。

この搬送物浮上装置では、吹出流路に連通された吹出口と吸引流路に連通された吸引口とが一の主面側で２次元状に配置されているため、一の主面に沿う方向に延びる搬送物を高い保持剛性で浮上させることができる。

搬送物浮上装置は、複数の貫通孔を有する定盤を備え、定盤は、２次元状に配置された複数の搬送物浮上ユニットの一の主面上に載置されて、複数の貫通孔が吹出口及び吸引口に気密に連通されていると好ましい。このようにすれば、搬送物浮上ユニットと対面する側とは異なる側の定盤の主面を基準面とすることができるため、エアの吹出しと吸引とを行う面の平面度を出すことが可能となる。

本発明に係るステージ装置は、上記した搬送物浮上装置と、搬送物を把持し搬送物浮上装置上を通過させる搬送装置と、を備えることを特徴とする。

このステージ装置によれば、搬送装置により搬送物を把持して搬送することができる。特に、搬送物浮上装置上を通過させるときは、十分な保持剛性で搬送物を浮上させることができるため、振動を十分に低減することができる。

本発明によれば、搬送物を浮上させたときの保持剛性を高めることが可能となる。

以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

図１は、本実施形態に係る基板検査システム１０の構成を示す斜視図である。また図２は、この基板検査システム１０の構成を示す平面図である。なお、図２においては、ガントリ４０は一点鎖線で示している。

本実施形態に係る基板検査システム１０は、図１及び図２に示すように、ステージ装置１１と、検査装置１４と、を備えている。ステージ装置１１は、搬送装置１２と、基板浮上装置（搬送物浮上装置）２６とを備えている。

搬送装置１２は、ベース１６と、１対のガイドレール１８と、４つのスライダ２０と、駆動機構２２と、４つの保持部材２４と、を備えている。

ベース１６は、外形が直方体状をなし、床面などの水平面上に載置される。このベース１６の上面１６ａは、所定方向に延びている。このベース１６の上面１６ａの延びる方向が、ガラス基板（搬送物）２８の搬送方向となる。ベース１６の幅は、ガラス基板２８の幅よりも大きめに設けられている。なお、以下の説明においては、図１に示すように、ベース１６の上面１６ａの延びる方向を搬送方向Ｘ、ベース１６の上面１６ａの法線方向を鉛直方向Ｚ、搬送方向Ｘ及び鉛直方向Ｚの双方に直交する方向を幅方向Ｙという。

１対のガイドレール１８は、搬送方向Ｘに延びるように、ベース１６の上面１６ａに設置されている。これら１対のガイドレール１８は、ガラス基板２８の幅よりも若干大きめの間隔を開けて、互いに平行に配置されている。

スライダ２０は、１対のガイドレール１８それぞれに２個ずつ設けられている。各スライダ２０は、ガイドレール１８にガイドされて、搬送方向Ｘに移動可能に設けられている。

駆動機構２２は、図３に示すように、固定子３０と可動子３２とを含むリニアモータ機構から構成されている。固定子３０は、一対のガイドレール１８それぞれの外側において、ガイドレール１８に沿うようにベース１６上に設けられている。可動子３２は、図１から図３に示すように、固定子３０と作用して駆動される駆動体３３と、駆動体３３の両端から搬送方向Ｘに延設され駆動体３３とスライダ２０とを連結する連結部材３７と、を含んでいる。連結部材３７は、スライダ２０の外側面にそれぞれに固定されている。これにより、各ガイドレール１８に設けられた２つのスライダ２０は、一定距離を保ったまま同期して移動する。

保持部材２４は、４つのスライダ２０の内側面にそれぞれ固定されている。保持部材２４は、図３に示すように、吸着部３４とバネ板部３６とを含んでいる。この保持部材２４は、吸着部３４でのエア引きにより、ガラス基板２８の側縁部を吸着して確実に保持する。これら保持部材２４により、ガラス基板２８はベース１６の上面１６ａから離間した状態で保持される。バネ板部３６は、鉛直方向Ｚに沿って延びる基部３６ａと、幅方向Ｙに沿って延びる屈曲部３６ｂとを含んでいる。吸着部３４は、屈曲部３６ｂ上に固定されている。

ここで、バネ板部３６の屈曲部３６ｂは、図３に示すように、鉛直方向Ｚにバネ性を有すると好ましい。このようにすれば、保持部材２４は鉛直方向Ｚにバネ性を有することとなり、鉛直方向Ｚについてガラス基板２８の高さ位置を微調整することができる。これにより、ガラス基板２８が基板浮上装置２６に当たる等の不具合が生じるおそれを低減することができる。

また、一方のガイドレール１８上に設けられた２つのスライダ２０に固定された保持部材２４について、バネ板部３６の基部３６ａは、図３に示すように、幅方向Ｙにバネ性を有すると好ましい。このようにすれば、保持部材２４は幅方向Ｙにバネ性を有することとなる。その結果、ガイドレール１８が歪んでいるとき、他方のガイドレール１８側を基準として、ガラス基板２８の幅方向Ｙのズレやベース１６の上面１６ａと平行な面内におけるガラス基板２８の回転を是正することが可能となる。

基板浮上装置２６は、ベース１６上であって後述する検査装置１４の下方の検査領域に設けられている。この基板浮上装置２６は、図３に示すように、ガラス基板２８の下面２８ａ側にエアを吹出し及び吸引する。

基板浮上装置２６の幅方向Ｙの長さは、ガラス基板２８の幅と略同一に設けられている。基板浮上装置２６の搬送方向Ｘの長さは、検査装置１４の前後に十分な長さを採ると好ましい。一例として、搬送方向Ｘの長さが２３００ｍｍ、幅方向Ｙの長さが２０００ｍｍ、厚みが０．６ｍｍのガラス基板２８を２５０ｍｍ／ｓｅｃで搬送するとき、基板浮上装置２６の搬送方向Ｘの長さは、４００ｍｍ〜５００ｍｍ程度とする。

この基板浮上装置２６は、複数の基板浮上ユニット５０と、定盤８０とを有している。図４（ａ）は、基板浮上ユニット５０の平面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示すＢ−Ｂ線断面図である。

基板浮上ユニット５０は、図４に示すように、略直方体状の外形を有し、ＳＵＳ等の金属材料からブロック状に形成されている。基板浮上ユニット５０の典型的な寸法としては、例えば縦が１０ｍｍ程度であり、横が３０ｍｍ程度であり、厚さが５ｍｍ程度である。基板浮上ユニット５０の上面（一の主面）５２には、エアを吹出す吹出口５４と、エアを吸引する吸引口５６とが設けられている。また基板浮上ユニット５０の下面（他の主面）５８には、エアを導入する導入口６０と、エアを引出す引出口６２とが設けられている。なお、吹出口５４、吸引口５６、導入口６０、及び引出口６２は、全て同一面積に形成されている。吸引口５６と引出口６２とは、上下面５２，５８の相対峙する位置に設けられており、吸引流路６４により連通されている。従って、吸引流路６４は、上下面５２，５８に垂直な方向に延びている。

一方、導入口６０と吹出口５４とは、吹出流路６６により連通されている。この吹出流路６６は、小流路６８と、小流路６８よりも流路断面積の大きい大流路７０とを有している。本実施形態では、大流路７０は略直方体状の空間部として構成されている。

大流路７０は小流路６８に挟まれるように配置されている。これにより、小流路６８と大流路７０との境界で流路断面積が不連続に変化するため、この部分でエアに圧力損失を生じさせることができる。

大流路７０内には、流路変換体９４が設けられている。この流路変換体９４は、外形が略立方体状に形成されている。また、流路変換体９４には調節ねじ９６が接続されており、大流路７０内において上下方向の位置を調節できるようになっている。なお、流路変換体９４の水平方向の位置を調節する調節ねじを更に設けてもよい。

この基板浮上ユニット５０は、例えば上半分と下半分とを別々に加工し、張り合わせにより形成することができる。なお、メンテナンス時には、両者を分解して流路変換体９４を取り外し可能となっている。これにより、吸引流路６４や吹出流路６６が詰まった場合にも容易に取り替えることができ、メンテナンスを行い易くなっている。

基板浮上装置２６は、上記した構成の基板浮上ユニット５０を複数備えており（例えば、数百〜数千個）、これら複数の基板浮上ユニット５０は、上面５２（及び下面５８）が面一になるように、互いに当接した状態で２次元状に配置されている。

定盤８０は、図５に示すように、エアを通す複数の貫通孔８０ａを有しており、これら複数の貫通孔８０ａは、搬送方向Ｘ及び幅方向Ｙに規則的に配列されている。この貫通孔８０ａは、２次元状に配置された複数の基板浮上ユニット５０の吹出口５４及び吸引口５６の数だけ設けられている。なお、図５において、白丸は吸引用の貫通孔８０ａを示し、黒丸は吹出し用の貫通孔８０ａを示している。定盤８０の上面８２は、平面度が高く加工されており、ガラス基板２８に対する基準面として機能している。

図６は、基板浮上装置２６の定盤８０と基板浮上ユニット５０との配置関係を示す断面図である。図６に示すように、定盤８０は２次元状に配置された複数の基板浮上ユニット５０上に載置されており、複数の貫通孔８０ａが吹出口５４及び吸引口５６にパッキン等を介して気密に連通されている。なお、基板浮上ユニット５０の下面に設けられた導入孔６０は、導入管９０を介して図示しないコンプレッサに接続されており、一方、引出口６２は、吸引管９２を介して図示しない吸引ポンプに接続されている。これにより、吹出口５４から定盤８０の貫通孔８０ａを通してエアを吹出すと共に、同じく定盤８０の貫通孔８０ａを通してエアを吸引口５６から吸引することで、十分な保持剛性でガラス基板２８を浮上させることができる。

ここで、基板浮上ユニット５０によるガラス基板２８の浮上について、図４及び図６を参照して詳細に説明する。

まず、図６に示すように、図示しないコンプレッサからのエアが、導入管９０を通して導入口６０から基板浮上ユニット５０の吹出流路６６に導入される。導入されたエアは、図４に示すように、吹出流路６６内を通って、吹出口５４から吹出される。吹出口５４（更には貫通孔８０a）から吹出されたエアは、ガラス基板２８と定盤８０との隙間を通して吸引口５６（貫通孔８０aを通して）から吸引される。この流れにおいて、吹出流路６６では、「小流路６８→大流路７０」あるいは「大流路７０→小流路６８」という流路断面積が不連続に変化する部分において、圧力損失が生じる。また、流路変換体９４が大流路７０内に存在することで流路断面積が変化するため、これによっても圧力損失が生じる。更に、流路変換体９４にエアが当たることでエアの流れ方向が変換されて曲げられるため、これによっても圧力損失が生じる。この圧力損失により、ガラス基板２８を浮上させたときの保持剛性が高められる。

また、調節ねじ９６により大流路７０内で流路変換体９４の鉛直方向及び水平方向の位置を変更することで、圧力損失を微調整することができるため、より適切な保持剛性を得ることができる。

ここで、圧力損失により保持剛性が高められる作用について、エアの供給圧が一定として説明する。ガラス基板２８と基板浮上装置２６との隙間量ｈが平衡位置よりも大きくなると、隙間内の流路断面積は増え、エアの流量は増加する。隙間内の圧力をガラス基板２８の面積で積分した量をＷとすると、隙間量ｈが大きくなるのに伴って隙間内の平均圧力が減少し、負荷容量Ｗは小さくなる。この状態では、負荷容量Ｗは釣り合い状態より小さくなっているため、ガラス基板２８の重量を支えきれず、もとの平衡位置に戻ろうとする。同様に、隙間量ｈが小さくなったときも、元の平衡位置に戻ろうとする。

この隙間量ｈの変化が負荷容量Ｗの変化に与える感度（ｄＷ／ｄｈ）が、ガラス基板２８の保持剛性に相当する。つまり、隙間量ｈの僅かの変化で負荷容量Ｗが大きく変化すると（保持剛性が大きいと）、力のバランスが大きく崩れるため、もとの平衡位置（隙間量）にすぐに戻ろうとする。反対に、この感度が鈍いと（保持剛性が小さいと）、隙間量ｈが大きく変化しても負荷容量Ｗはほとんど変化しないため、もとの平衡位置への戻りが鈍くなる。このように、隙間内のエアは仮想的なバネとして作用している。

従って、本実施形態では大流路７０と小流路６８との組み合わせによる絞りと、大流路７０内の流路変換体９４とによって圧力損失を生じさせ、隙間内の圧力とエアの流量との関係を変更することで、負荷容量Ｗと隙間量ｈとの関係を調整し、バネ剛性を高めている。つまり、隙間量ｈが増大しようとしても、絞りによる圧力損失の影響でエアの流量は増え難く、負荷容量Ｗが大きく変化するため、平衡位置にすぐに戻ろうとして、保持剛性が高くなるのである。一方、隙間量ｈが減少しようとしても、絞りによる圧力損失の影響でエアの流量は減り難く、負荷容量Ｗが大きく変化するため、平衡位置にすぐに戻ろうとして、保持剛性が高くなるのである。

再び、基板検査システム１０の説明に戻る。検査装置１４は、図１及び図２に示すように、上面２８ｂ側からガラス基板２８を検査する。検査装置１４としては、ＣＣＤカメラなどの撮像装置や、レーザ光を照射してその反射光を受光するレーザ計測装置が挙げられる。撮像装置によれば、例えばガラス基板２８上に形成された回路パターン等の光学像が得られ、これにより不良品等の検査が可能となる。またレーザ計測装置によれば、レーザ光の反射率を調べることで、不良品等の検査が可能となる。なお検査装置１４としては、これらＣＣＤカメラやレーザ計測装置に限定されず、ガラス基板２８の状態を非接触で検査可能な公知の装置が全て含まれる。

この検査装置１４は、ベース１６上に設置されたガントリ４０に、スライド部材４４を介して取り付けられている。スライド部材４４は、ガントリ４０に沿って幅方向Ｙに移動可能である。従って、スライド部材４４に取り付けられた検査装置１４は幅方向Ｙに移動可能となり、ガラス基板２８に対する幅方向Ｙのスキャンが可能となる。また、検査装置１４自身も、スライド部材４４に対して鉛直方向Ｚに移動可能であり、これにより検査装置１４をベース１６上の所定高さ位置で支持することができる。従って、撮像装置においては焦点の合った光学像が得られ、レーザ計測器においてはデータの精度が向上されることになり、検査精度の向上が図られる。

次に、上記した基板検査システム１０を用いたガラス基板２８の検査方法について説明する。

まず、ベース１６上における検査装置１４よりも前段で、４つの保持部材２４により、ガラス基板２８を幅方向Ｙの側縁部にて吸着して保持する。このとき、ガラス基板２８はベース１６の上面１６ａから離間した状態で保持されている。

次に、駆動機構２２によりスライダ２０を移動させることで、ガラス基板２８を搬送方向Ｘに所定速度で搬送する。そして、ガラス基板２８が検査領域に来たとき、基板浮上装置２６によりガラス基板２８の下面２８ａでエアの吹出し及び吸引を行う。このとき、吹出流路６６内においてエアの圧力損失を生じさせているため、ガラス基板２８は基板浮上装置２６上において、定盤８０の上面８２から５０μｍ程度離間した高さ位置で高い保持剛性で保持される。なお、ガラス基板２８の浮上量は、導入管９０を介して基板浮上ユニット５０の導入口６０に接続された図示しないコンプレッサの圧力により制御されている。

次に、上記の通り、検査領域においてガラス基板２８の下面２８ａにエアの吹出し及び吸引を行うと同時に、搬送方向Ｘへのガラス基板２８の搬送を停止する。そして、スライド部材４４を幅方向Ｙにスライドさせて、検査装置１４によりガラス基板２８上をスキャンする。このとき、必要に応じて検査装置１４の鉛直方向の位置を微調整すると好ましい。スキャンが終了すると、搬送方向Ｘにガラス基板２８を所定距離だけ移動させ、再び搬送を停止した後、２回目のスキャンを行う。このようにして複数回のスキャンを行うことで、検査装置１４によりガラス基板２８を上面２８ｂから検査する。このとき、ガラス基板２８の保持剛性は高められているため、振動が抑制されて、ガラス基板２８の検査精度の向上が図られる。

次に、検査領域を通過してベース１６の後段に搬送された検査済みのガラス基板２８に対し、保持部材２４による吸着を解除する。そして、ガラス基板２８を系外に搬出すると共に、次のガラス基板２８に対する検査のために、保持部材２４をベース１６の前段に戻す。

以上詳述したように、本実施形態では、基板浮上装置２６によりガラス基板２８に対しエアの吹出し及び吸引を行うとき、大流路７０と小流路６８との組み合わせによる絞りと、大流路７０内の流路変換体９４とによって十分な圧力損失を生じさせることができるため、ガラス基板２８の保持剛性を高めることができる。その結果、検査装置１４による検査領域においてガラス基板２８の振動を抑制することが可能となり、検査精度の向上を図ることが可能となる。

特に、流路変換体９４は、大流路７０内の位置を調節ねじ９６により可変に設けられているため、大流路７０内における流路変換体９４の位置を変更することで、エアの圧力損失を微調整することができる。従って、より適切な保持剛性を得ることができ、検査精度の一層の向上を図ることが可能となる。

また、上記のように十分な圧力損失を生じさせることができるため、吐出口５４と吸引口５６との間隔を狭くすることができ、限られたスペースで効率的に圧力損失を稼ぐことができで、コンパクト化と低コスト化を図ることができる。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されることなく、種々の変形が可能である。例えば、図７に示すように、基板浮上装置２６を自動制御してもよい。すなわち、調節ねじ９６にサーボモータ１１０を接続する。また、センサ１１２により、流路変換体９４の位置やガラス基板２８の浮上量、ガラス基板２８の平面度、流路径、エアの流量、エアの流速、圧力損失等を測定する。そして、測定値をＡ／Ｄ変換ボード１１４に入力して、アナログ値からデジタル値に変換してコンピュータ１１６に取り込む。コンピュータ１１６により、取り込んだ値と目標値（最適値）とを比較し、それに応じたモータ１１０の制御量を演算してＤ／Ａ変換ボード１１８に送出する。そして、Ｄ／Ａ変換ボード１１８によりデジタル値からアナログ値に制御信号を変換し、インバータ１２０を通してモータ１１０を制御する。このように、モータ１１０により調節ねじ９６を自動制御して流路変換体９４の位置をフィードバック制御することにより、常に最適なバランスを保つことができる。

また、図８に示すように、吹出流路６６内に流路変換体９４を複数設けてもよい。この場合、複数の大流路７０と複数の小流路６８とを設け、これらを交互に配置して、大流路７０内に流路変換体９４を設けると好ましい。このように、流路断面積が不連続に変化する部分を複数生じさせ、且つ複数の流路変換体９４によりエアの流れ方向を頻繁に曲げることで、圧力損失を稼ぐことができる。かかる構成の吹出流路６６が、上面５２（あるいは下面５８）に沿う方向に延びている。このように上面５２に沿う方向に吹出流路６６を延ばすことで、圧力損失を稼ぎながら基板浮上ユニット５０を薄く構成することができる。なお、基板浮上ユニット５０を厚くすることが許容されるときは、上下方向に吹出流路６６を延ばしてもよい。

なお、図８に示すように、吹出流路６６は、略直角に屈曲する屈曲部Ｒを有しており、この屈曲部Ｒに大流路７０が設けられていると好ましい。これにより、大流路７０と小流路６８とを限られたスペースに効率的に配置しつつ、圧力損失を更に稼ぐことができる。この吹出流路６６は、複数の屈曲部Ｒで屈曲しながらユニット内に隈なく張り巡らされており、吸引流路６４を除く部分は、この吹出流路６６により実質的に占められていると好ましい。これにより、限られたスペースで圧力損失を十分に稼ぐことができる。なお、図８の基板浮上ユニット５０では、導入口６０から吹出流路６６に導入されたエアは、吹出流路６６内を矢印ａ〜ｄの順に流れて行き、吹出口５４から吹出される。

また、図９に示すように、基板浮上ユニット５０は、上下面に垂直な方向に積層してもよい。これにより、吸引流路６４同士が気密に接続され、また吹出流路６６同士が気密に接続される。このような積層型の基板浮上ユニットとすると、限られた設置スペース内で吹出流路６６を長く稼げるため、圧力損失を十分に稼ぐことができる。

また、上記実施形態に係る基板浮上ユニット５０において、大流路７０及び流路変換体９４の形状は、略直方体や略立方体に限定されず、図１０に示すように、８面体など他の形状としてもよい。そして、図１０（ａ）から（ｃ）に示すように、流路変換体９４を大流路７０内で鉛直方向、水平方向、或いは任意方向に変位可能に構成してもよい。

また、図１１（ａ）から（ｃ）に示すように、吹出流路６６の大流路７０内の右側壁に、吹出流路６６の延伸方向に対して直交するように延びる薄い固定壁１２０を所定間隔を置いて複数設け、一方、左側壁において、これら固定壁１２０間に薄い可動壁１２２を設けて、可動壁１２２を鉛直方向、水平方向、或いは任意方向に可動に構成してもよい。このようにしても、可動壁１２２の位置を制御することで、圧力損失を微調整することができる。なお、この場合、固定壁１２０及び可動壁１２２により、流路変換体９４が構成される。

また、図１２に示すように、吹出流路６６の大流路７０内に、吹出流路６６の延伸方向に沿って延びる薄い固定壁１３０を所定間隔を置いて複数設け、また複数の固定壁１３０の上端及び下端に水平方向に延びる可動壁１３２を設けて、可動壁１３２を水平方向に可動に構成してもよい。このようにしても、可動壁１３２の位置を制御することで、圧力損失を微調整することができる。なお、この場合、固定壁１３０及び可動壁１３２により、流路変換体９４が構成される。

また、図１３に示すように、吹出流路６６の大流路７０内の左右両側壁に、圧電素子と金属板とを張り合わせて構成した可動片を含む流路変換体９４を設けてもよい。このようにすれば、圧電素子に電圧をかけることで流路変換体９４を変位させる（すなわち反りを生じさせて変形させる）ことができ、これにより圧力損失を微調整することができる。なお、流路変換体９４を形状記憶合金により構成して、熱により変形させることで、圧力損失を微調整してもよい。

また、上記実施形態では、複数の基板浮上ユニット５０を２次元状に配置し、その上に定盤８０を載置して基板浮上装置２６を構成したが、複数の基板浮上ユニット５０は、ユニット化せずに２次元状に広がる一体物として構成してもよい。この場合は、一つのユニットに相当する部分が基板浮上ユニット５０となる。ただし、基板浮上ユニット５０のようにユニット化すると、搬送物の多様なサイズに柔軟に対応可能となるため好ましい。

また、上記した基板検査システム１０では、スライド部材４４により検査装置１４を幅方向Ｙにスライドさせて、ガラス基板２８をスキャンする構成としたが、検査装置１４を幅方向Ｙにアレイ状に並べた検査装置アレイを利用して基板検査システムを構成してもよい。このようにすれば、ガラス基板２８を幅方向Ｙにスキャンする必要がなくなり、検査効率の向上が図られる。

また、上記した実施形態では、基板浮上装置２６を含むステージ装置１１を基板検査システム１０に適用した例について説明したが、ガラス基板２８の上面２８ｂに、フォトレジスト液やカラーフィルターを積層形成するときのインクなどの塗布液を塗布する塗布システムに本発明を適用してもよい。このような塗布システムにおいても、ガラス基板２８の保持剛性が高く振動を抑制できるため、塗布液の均一な塗布が可能となる。

また上記した実施形態では、搬送物としてガラス基板２８の搬送について説明したが、搬送物はフィルムや半導体基板などの他の部材であってもよい。

また本発明は、例えばプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を製造するＰＤＰ製造装置や、半導体基板の欠陥等の検査を行う半導体検査装置などのような他のシステムにも適用可能である。

実施形態に係る基板検査システムの構成を示す斜視図である。 実施形態に係る基板検査システムの構成を示す平面図である（ガントリは一点鎖線で示している）。 搬送装置の構成を示す部分拡大部である。 基板浮上ユニットの構成を示す図である。 基板浮上装置が有する定盤の複数の孔について、吸引用の貫通孔（白丸で示す）と吹出し用の貫通孔（黒丸で示す）とが２次元状に配列されている状態を説明する図である。 基板浮上装置の定盤と基板浮上ユニットとの配置関係を示す断面図である。 基板浮上装置の変形例を示す図である。 基板浮上ユニットの変形例を示す図である。 基板浮上ユニットの他の変形例を示す図である。 基板浮上ユニットの他の変形例を示す図である。 基板浮上ユニットの他の変形例を示す図である。 基板浮上ユニットの他の変形例を示す図である。 基板浮上ユニットの他の変形例を示す図である。

符号の説明

１０…基板検査システム、１１…ステージ装置、１２…搬送装置、１４…検査装置、２６…基板浮上装置、２８…ガラス基板、５０，１００…基板浮上ユニット、５２…上面、５４…吹出口、５６…吸引口、５８…下面、６０…導入孔、６４…吸引流路、６６…吹出流路、６８…小流路、７０…大流路、８０…定盤、８０ａ…貫通孔、９４…流路変換体、９６…調節ねじ、１１０…サーボモータ、１１２…センサ、１２０，１３０…固定壁、１２２，１３２…可動壁、Ｒ…屈曲部、Ｘ…搬送方向。

Claims (9)

1. 一の主面側に設けられた吹出口からエアを吹出すための吹出流路と、前記一の主面側に設けられた吸引口からエアを吸引するための吸引流路と、を備えた搬送物浮上ユニットであって、
   前記吹出流路内に設けられており、エアの流れ方向を変換する流路変換体を備えることを特徴とする搬送物浮上ユニット。
2. 前記流路変換体は、前記吹出流路内の位置を可変に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の搬送物浮上ユニット。
3. 前記吹出流路は、所定の流路断面積を有する小流路と、前記小流路よりも流路断面積が大きい大流路とを有し、前記流路変換体は前記大流路内に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の搬送物浮上ユニット。
4. 前記吹出流路内には、前記流路変換体が複数設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の搬送物浮上ユニット。
5. 前記吸引流路は前記一の主面に略直交する方向に沿って延びており、前記吸引流路を除く部分は、前記吹出流路により実質的に占められていることを特徴とする請求項４に記載の搬送物浮上ユニット。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載の搬送物浮上ユニットを複数備え、
   複数の前記搬送物浮上ユニットは、前記一の主面に垂直な方向に積層されていることを特徴とする搬送物浮上ユニット。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の搬送物浮上ユニットを複数備え、
   複数の前記搬送物浮上ユニットは、前記一の主面に沿う方向に２次元状に配置されていることを特徴とする搬送物浮上装置。
8. 複数の貫通孔を有する定盤を備え、
   前記定盤は、２次元状に配置された複数の前記搬送物浮上ユニットの前記一の主面上に載置されて、前記複数の貫通孔が前記吹出口及び前記吸引口に気密に連通されていることを特徴とする請求項７に記載の搬送物浮上装置。
9. 請求項７又は８に記載の搬送物浮上装置と、
   搬送物を把持し前記搬送物浮上装置上を通過させる搬送装置と、
   を備えることを特徴とするステージ装置。

Images