KR100628699B1 - 반송장치, 도포시스템, 및 검사시스템 - Google Patents

반송장치, 도포시스템, 및 검사시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR100628699B1
KR100628699B1 KR1020040074123A KR20040074123A KR100628699B1 KR 100628699 B1 KR100628699 B1 KR 100628699B1 KR 1020040074123 A KR1020040074123 A KR 1020040074123A KR 20040074123 A KR20040074123 A KR 20040074123A KR 100628699 B1 KR100628699 B1 KR 100628699B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
base
glass substrate
main surface
conveyed
coating
Prior art date
Application number
KR1020040074123A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050033426A (ko
Inventor
도미타요시유키
고바야시유지
고야나가와야스시
미츠나가요스케
Original Assignee
스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 filed Critical 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
Publication of KR20050033426A publication Critical patent/KR20050033426A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100628699B1 publication Critical patent/KR100628699B1/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C13/00Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles
    • B05C13/02Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles for particular articles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0245Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work for applying liquid or other fluent material to a moving work of indefinite length, e.g. to a moving web
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

반송에 필요한 추력의 저감을 도모하고, 또한 피반송물의 휨을 억제할 수가 있는 반송장치, 이를 구비하는 도포시스템 및 검사시스템을 제공한다.
반송장치(12, 62)는, 피반송물(28)의 반송방향(X)으로 뻗는 주표면(16a)을 가지는 베이스(16)와, 반송방향(X)으로 뻗는 가이드부재(18)와, 가이드부재(18)에 가이드되어서 반송방향(X)으로 이동 가능한 이동부재(20)와, 이동부재(20)에 고정되어서 주표면(16a)에서 간극을 두고 피반송물(28)을 지지하는 지지부재(24)와, 베이스(16) 상의 반송방향(X)에 있어서의 일부 영역에 있어서, 반송방향(X)으로 반송되는 피반송물(28)에 대하여 기체의 토출 및 흡인을 행하기 위한 기체토출흡인기구(26)를 구비한다.
반송, 도포, 검사, 기체, 토출, 흡인

Description

반송장치, 도포시스템, 및 검사시스템{Conveying apparatus, spreading system, and inspection system}
도 1은, 제1 실시형태에 관한 도포시스템의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 2는, 제1 실시형태에 관한 도포시스템의 구성을 나타내는 평면도이다(도포장치 및 갠트리(gantry)는 일점쇄선으로 나타내고 있다).
도 3은, 반송장치의 구성을 나타내는 부분확대도이다.
도 4는, 공기토출흡인기구가 가지는 복수의 구멍에 대하여, 흡인용의 구멍(흰 동그라미로 나타낸다)과 토출용의 구멍(검정 동그라미로 나타낸다)이 서로 이웃하고 있는 상태를 설명하는 도면이다.
도 5는, 도포장치의 전단(前段)에 설치된 공기토출기구에 의하여 유리기판의 상면에 공기를 토출하는 모습을 나타내는 도면이다.
도 6은, 제2 실시형태에 관한 도포시스템의 구성을 나타내는 평면도이다(도포장치 및 갠트리는 일점쇄선으로 나타내고 있다).
도 7은, 가이드레일의 뒤틀림에 의하여 유리기판이 베이스의 상면과 평행한 면 내에서 회전하는 모습을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은, 가이드레일의 뒤틀림에 의한 유리기판의 회전을 시정(是正)하는 모습을 설명하기 위한 도면이다.
도 9는, 제3 실시형태에 관한 검사시스템의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 10은, 제3 실시형태에 관한 검사시스템의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 11은, 검사장치의 전단에 설치된 공기토출기구에 의하여 유리기판의 상면에 공기를 토출하는 모습을 나타내는 도면이다.
도 12는, 검사장치에 일체화된 공기토출기구를 나타내는 도면이다.
도 13은, 반송장치의 변형례를 설명하기 위한 도면이다.
도 14는, 반송장치의 다른 변형례를 설명하기 위한 도면이다.
도 15는, 도 14의 반송장치가 구비하는 지지기구를 나타내는 사시도이다.
도 16은, 공기토출흡인기구에 의하여 유리기판이 변형하는 모습을 설명하는 도면이다.
도 17은, 반송장치의 다른 변형례를 설명하기 위한 도면이다.
도 18은, 도 17의 반송장치가 구비한 지지부재의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 19는, 유리기판의 지지위치와 슬라이더의 속도의 관계를 설명하는 도면이다.
도 20은, 도 17의 반송장치에 있어서 가이드레일의 뒤틀림에 의한 유리기판의 회전을 시정하는 모습을 설명하기 위한 도면이다.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
10 : 도포시스템
12, 62 : 반송장치
14 : 도포장치
16 : 베이스
18 : 가이드레일
20 : 슬라이더
24 : 지지부재
26 : 공기토출흡인기구
28 : 유리기판
34 : 흡착부
36 : 탄성판부
42 : 공기토출기구
66 : 공기토출기구
80 : 검사시스템
82 : 검사장치
90 : 지지기구
92 : 베이스체부
94 : 지지다리부
96 : 흡착부
X : 반송방향
본 발명은, 유리기판 등의 피반송물을 반송하는 반송(搬送)장치, 이를 구비하는 도포(塗布)시스템 및 검사(檢査)시스템에 관한 것이다.
유리기판 상에 포토 레지스트 등의 도포액을 도포하기 위한 도포시스템으로서, 예컨대 특허문헌 1에 개시되어 있는 것이 있다. 이 도포시스템은, 도포액을 도포하기 위한 도포장치와, 도포장치에 대하여 유리기판을 이동시키기 위한 반송장치를 구비하고 있다. 반송장치는, 유리기판을 전면(全面)에서 흡착하여 지지하는 베이스를 가지며, 유리기판을 흡착한 상태에서 베이스째로 이동시킴으로써, 도포장치에 대하여 유리기판을 이동시킨다.
그리고, 유리기판은 베이스 상에 고정된 채로, 유리기판에 대하여 도포장치를 이동시키도록 한 도포시스템도 개발되어 있다(예컨대, 특허문헌 2 참조).
[특허문헌 1] 일본국 특허공개 평08-243476호 공보
[특허문헌 2] 일본국 특허공개 2002-200450호 공보
하지만, 최근, 액정용 유리기판의 사이즈가 대형화되고 있기 때문에, 상기한 특허문헌 1에 개시된 반송장치에서는, 베이스의 중량이 너무 무거워져서, 반송에 필요한 추력(推力)이 증대하여, 유리기판의 반송이 곤란하게 된다고 하는 문제가 있었다. 또한, 유리기판에 대하여 도포장치를 이동시키는 타입의 특허문헌 2에 개시된 도포시스템에서는, 또한 유리기판의 대형화에 의하여 갠트리(지지 구조물: gantry)이 커져서 중량의 증대를 초래하기 때문에, 충분한 이동정밀도가 취해지지 않게 된다고 하는 문제가 있었다.
그래서, 유리기판의 일부를 지지하여 유리기판 자체를 반송하는 것을 생각하였지만, 이 경우, 균일한 도포를 도모하기 위해서는, 유리기판의 휨을 억제할 필요가 있다.
본 발명은 상기한 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 반송에 필요한 추력의 저감을 도모하고, 또한 피반송물의 휨을 억제하는 것이 가능한 반송장치, 이를 구비한 도포시스템 및 검사시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 관한 반송장치는, (1) 피반송물의 반송방향으로 뻗은 주표면을 가지는 베이스와, (2) 반송방향으로 뻗은 가이드부재와, (3) 가이드부재에 가이드되어 반송방향으로 이동 가능한 이동부재와, (4) 이동부재에 고정되어 주표면에서 간극을 두고 피반송물을 지지하는 지지부재와, (5) 베이스 상의 반송방향에 있어서의 일부 영역에 있어서, 반송방향으로 반송되는 피반송물에 대하여 기체의 토출(吐出) 및 흡인(吸引)을 행하기 위한 기체토출흡인기구를 구비하는 것을 특징으로 한다.
이 장치에 의하면, 지지부재에 의하여 피반송물을 지지하고, 가이드부재에 의하여 이동부재를 반송방향으로 가이드하여 이동시킴으로써, 피반송물이 반송방향으로 반송된다. 이때, 베이스 상의 반송방향에 있어서의 일부 영역에 있어서, 기체토출흡인기구에 의하여 피반송물에 대하여 기체의 토출 및 흡인을 행할 수가 있다. 이와 같이, 이 반송장치에서는, 피반송물을 이동시킬 때에 베이스째로 이동시킬 필요가 없기 때문에, 반송에 필요한 추력의 저감을 도모할 수가 있다. 또한, 반송경 로 상의 일부 영역에 있어서 피반송물에 대하여 기체의 토출 및 흡인을 행할 수가 있기 때문에, 그 일부 영역에 있어서 피반송물의 휨을 억제할 수가 있다.
본 발명에 관한 반송장치에서는, 지지부재는, 피반송물을 흡착하여 지지 가능한 것을 특징으로 하여도 좋다. 이와 같이 하면, 피반송물을 확실히 지지할 수가 있다.
본 발명에 관한 반송장치에서는, 가이드부재는 1축으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하여도 좋다. 이와 같이 하면, 피반송물은 일방의 옆가장자리 측에서 지지된다.
본 발명에 관한 반송장치에서는, 지지부재는, 베이스의 주표면의 법선방향에 대하여 탄성을 가지는 것을 특징으로 하여도 좋다. 이와 같이 하면, 베이스의 주표면의 법선방향에 대하여 피반송물의 높이 위치를 미세 조정할 수가 있어서, 피반송물이 기체토출흡인기구에 닿는 등의 바람직하지 못한 일이 생길 우려를 저감시킬 수가 있다.
본 발명에 관한 반송장치에서는, 지지부재는, 베이스의 주표면의 법선방향 및 반송방향의 쌍방에 직교하는 방향에 대하여 탄성을 가지는 것을 특징으로 하여도 좋다. 이와 같이 하면, 가이드부재를 2축으로 구성하게 된 경우에 있어서, 가이드부재의 뒤틀림에 의하여 양 가이드부재의 간격이 변동하여도, 지지부재에 지지되어 있는 피반송물이 파손되거나, 지지부재에서의 지지가 빠지거나, 어긋나거나 할 우려를 저감시킬 수가 있다.
본 발명에 관한 반송장치는, 베이스의 주표면과 평행한 면 내에 있어서의, 피반송물의 회전을 시정(是正)하는 회전시정수단을 구비하는 것을 특징으로 하여도 좋다. 이와 같이 하면, 소정 작업시에 피반송물의 회전이 바람직하지 않은 시스템에 있어서, 작업을 알맞게 행하는 것이 가능해진다.
본 발명에 관한 반송장치는, 베이스 상의 일부 영역 이외의 영역에 있어서, 베이스측에서 피반송물을 향하여 기체를 토출하는 제1 기체토출기구를 구비하는 것을 특징으로 하여도 좋다. 이와 같이 하면, 지지부재에 걸리는 중량 부하가 경감되어, 피반송물의 반송이 용이해진다.
본 발명에 관한 반송장치에서는, 피반송물은 유리기판인 것을 특징으로 하여도 좋다.
본 발명에 관한 도포시스템은, 상기한 반송장치와, 피반송물에 대하여 도포액을 도포하기 위한 도포장치를 구비하고, 기체토출흡인기구는, 일부 영역에 있어서, 대향하는 1쌍의 주표면을 가지는 피반송물의 일방의 주표면측으로 기체를 토출 및 흡인하고, 도포장치는, 일부 영역에 있어서, 피반송물의 타방의 주표면측으로 도포액을 도포하는 것을 특징으로 한다.
이 도포시스템에서는, 베이스 상의 일부 영역에 있어서 피반송물에 대하여 기체의 토출 및 흡인을 행함으로써, 그 일부 영역에 있어서 피반송물의 휨을 억제하여, 평면도(平面度)를 상승시킨 상태에서 도포액을 도포할 수가 있기 때문에, 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능해진다.
본 발명에 관한 도포시스템은, 일부 영역에 있어서, 도포장치보다도 전단(前段)에, 타방의 주표면 측으로 피반송물에 대하여 기체를 토출하는 제2 기체토출기 구를 구비하는 것을 특징으로 하여도 좋다. 이와 같이 하면, 일부 영역에 있어서의 피반송물의 평면도를 보다 높일 수가 있어서, 도포액을 보다 균일하게 도포하는 것이 가능해진다.
본 발명에 관한 도포방법은, 대향하는 1쌍의 주표면을 가지는 피반송물을 반송하면서 도포액을 도포하는 방법이다. 이 방법은, 피반송물에 대하여 일방의 주표면 측으로 기체를 토출 및 흡인하면서, 타방의 주표면 측으로 도포액을 도포하는 것을 특징으로 한다.
이 도포방법에서는, 피반송물의 휨을 억제하여, 평면도를 상승시킨 상태에서 도포액을 도포할 수가 있기 때문에, 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능해진다.
본 발명에 관한 검사시스템은, 상기한 반송장치와, 피반송물의 검사를 행하기 위한 검사장치를 구비하고, 기체토출흡인기구는, 일부 영역에 있어서, 대향하는 1쌍의 주표면을 가지는 피반송물의 일방의 주표면 측으로 기체를 토출 및 흡인하고, 검사장치는, 일부 영역에 있어서, 피반송물의 타방의 주표면 측에서 피반송물을 검사하는 것을 특징으로 한다.
이 검사시스템에서는, 베이스 상의 일부 영역에 있어서 피반송물에 대하여 기체의 토출 및 흡인을 행함으로써, 그 일부 영역에 있어서 피반송물의 휨을 억제하여, 평면도를 상승시킨 상태에서 검사할 수가 있기 때문에, 검사 정밀도의 향상을 도모하는 것이 가능해진다.
본 발명에 관한 반송장치에 있어서, 지지부재와, 반송방향을 따라서 뻗은 베이스체부와, 베이스체부에서 베이스의 주표면의 법선방향 및 반송방향의 쌍방에 직 교하는 방향으로 뻗어 설치된 복수의 지지다리부와, 복수의 지지다리부의 선단에 각각 설치되어 있고, 피반송물을 흡착하여 지지하기 위한 흡착부를 포함하는 지지기구를 가지며, 복수의 지지다리부의 각각은, 적어도 베이스의 주표면의 법선방향에 대하여 탄성을 가짐과 함께, 자신의 축 둘레의 비틀림성을 가지는 것을 특징으로 하여도 좋다. 이와 같이 하면, 베이스 상의 일부 영역에 있어서 기체의 토출 및 흡인을 행함으로써, 피반송물의 높이가 반송방향으로 다르게 되는 경우이어도, 피반송물을 훼손시키지 않고, 확실히 지지할 수가 있다.
본 발명에 관한 반송장치는, 이동부재 및 지지부재를 각각 2개 구비하고, 이동부재의 각각은, 독립적으로 속도 제어 가능하게 설치되어 있고, 지지부재의 각각에 의한 피반송물의 지지위치가, 베이스의 주표면의 법선방향 및 반송방향의 쌍방에 직교하는 방향에 대하여 어긋나 있는 것을 특징으로 하여도 좋다. 이와 같이 하면, 2개의 이동부재의 이동속도를 제어함으로써, 베이스의 주표면과 평행한 면 내에 있어서의 피반송물의 회전이 시정되어, 소정 작업시에 피반송물의 회전이 바람직하지 못한 시스템에 있어서, 작업을 알맞게 행하는 것이 가능해진다.
본 발명에 관한 지지기구는, 판(板)형상체를 지지하는 지지기구로서, 소정 방향을 따라서 뻗은 베이스체부와, 베이스체부에서 소정 방향과 교차하는 방향으로 뻗어 설치된 복수의 지지다리부와, 복수의 지지다리부의 선단에 각각 설치되어 있고, 판형상체를 흡착하여 지지하기 위한 흡착부를 구비하고, 복수의 지지다리부의 각각은, 적어도 소정 방향 및 지지다리부의 뻗어 설치된 방향의 쌍방에 직교하는 방향에 대하여 탄성을 가짐과 함께, 자신의 축 둘레에 비틀림성을 가지는 것을 특 징으로 한다. 이 지지기구에 의하면, 판형상체의 높이가 상기 소정 방향으로 다르게 되는 경우이어도, 판형상체를 훼손시키지 않고, 확실히 지지할 수가 있다.
< 실시예 >
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 대하여 설명한다. 그리고, 도면의 설명에 있어서 동일한 요소에는 동일한 부호를 붙여서, 중복되는 설명을 생략한다.
(제1 실시형태)
도 1은, 본 실시형태에 관한 도포시스템의 구성을 나타내는 사시도이다. 또한 도 2는, 본 실시형태에 관한 도포시스템의 구성을 나타내는 평면도이다. 그리고, 도 2에 있어서는, 도포장치(14) 및 갠트리(40)는 일점쇄선으로 나타내고 있다.
도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 도포시스템(10)은, 반송장치(12)와, 도포장치(14)를 구비하고 있다. 반송장치(12)는, 베이스(16)와, 1쌍의 가이드레일(가이드부재)(18)과, 4개의 슬라이더(이동부재)(20)와, 구동기구(22)와, 4개의 지지부재(24)와, 공기토출흡인기구(기체토출흡인기구)(26)를 구비하고 있다.
베이스(16)는, 외형이 직육면체 형상을 이루고, 바닥(床)면 등의 수평면 상에 올려 놓여진다. 이 베이스(16)의 상면(上面)(주표면)(16a)은, 소정 방향으로 뻗어 있다. 이 베이스(16) 상면(16a)의 뻗는 방향이, 유리기판(피반송물)(28)의 반송방향이 된다. 베이스(16)의 폭은, 유리기판(28)의 폭보다도 크게 설계되어 있다. 그리고, 이하의 설명에 있어서는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 베이스(16) 상면(16a)의 뻗는 방향을 반송방향(X), 베이스(16) 상면(16a)의 법선방향을 연직방향 (Z), 반송방향(X) 및 연직방향(Z) 쌍방에 직교하는 방향을 폭방향(Y)라고 한다.
1쌍의 가이드레일(18)은, 반송방향(X)으로 뻗도록, 베이스(16)의 상면(16a)에 설치되어 있다. 이들 1쌍의 가이드레일(18)은, 유리기판(28)의 폭보다도 약간 큰 간격을 벌려서, 서로 평행하게 배치되어 있다.
슬라이더(20)는, 1쌍의 가이드레일(18) 각각에 2개씩 설치되어 있다. 각 슬라이더(20)는, 가이드레일(18)에 가이드되어서, 반송방향(X)으로 이동 가능하게 설치되어 있다.
구동기구(22)는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 고정자(30)와 가동자(32)를 포함하는 리니어모터기구로 구성되어 있다. 고정자(30)는, 1쌍의 가이드레일(18) 각각의 외측에 있어서, 가이드레일(18)을 따르도록 베이스(16) 상에 설치되어 있다. 가동자(32)는, 도 1부터 도 3에 나타내는 바와 같이, 고정자(30)와 작용하여 구동되는 구동체(33)와, 구동체(33)의 양단에서 반송방향(X)으로 뻗어 설치되어 구동체(33)와 슬라이더(20)를 연결하는 연결부재(37)를 포함하고 있다. 연결부재(37)는, 슬라이더(20)의 외측면에 각각 고정되어 있다. 이에 의하여, 각 가이드레일(18)에 설치된 2개의 슬라이더(20)는, 일정 거리를 유지한 채 동기하여 이동한다.
지지부재(24)는, 4개의 슬라이더(20)의 내측면에 각각 고정되어 있다. 지지부재(24)는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 흡착부(34)와 탄성판부(36)를 포함하고 있다. 이 지지부재(24)는, 흡착부(34)에서의 에어 흡인에 의하여, 유리기판(28)의 옆가장자리부를 흡착하여 확실히 지지한다. 이들 지지부재(24)에 의하여, 유리기판(28)은 베이스(16)의 상면(16a)에서 이격된 상태로 지지된다. 탄성판부(36)는, 연 직방향(Z)을 따라서 뻗은 베이스부(36a)와, 폭방향(Y)을 따라서 뻗은 굴곡부(36b)를 포함하고 있다. 흡착부(34)는, 굴곡부(36b) 상에 고정되어 있다.
여기서, 탄성판부(36)의 굴곡부(36b)는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 연직방향(Z)으로 탄성을 가지는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 지지부재(24)는 연직방향(Z)으로 탄성을 가지는 것이 되어, 연직방향(Z)에 대하여 유리기판(28)의 높이 위치를 미세 조정할 수가 있다. 이에 의하여, 유리기판(28)이 기체토출흡인기구(26)에 닿는 등의 바람직하지 못한 일이 생길 우려를 저감시킬 수가 있다.
또한, 일방의 가이드레일(18) 상에 설치된 2개의 슬라이더(20)에 고정된 지지부재(24)에 대하여, 탄성판부(36)의 베이스부(36a)는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 폭방향(Y)으로 탄성을 가지는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 지지부재(24)는 폭방향(Y)으로 탄성을 가지는 것이 된다. 그 결과, 가이드레일(18)이 뒤틀려 있을 때, 타방의 가이드레일(18)측을 기준으로 하여, 유리기판(28)의 폭방향(Y) 어긋남이나 베이스(16)의 상면(16a)과 평행한 면 내에 있어서의 유리기판(28)의 회전을 시정(是正)하는 것이 가능해진다(회전시정수단).
공기토출흡인기구(26)는, 베이스(16)상으로서 후술하는 도포장치(14)의 하방의 도포영역(일부 영역)에 설치되어 있다. 이 공기토출흡인기구(26)는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 유리기판(28)의 하면(일방의 주표면)(28a)측으로 공기(기체)를 토출 및 흡인한다. 공기토출흡인기구(26)는, 공기를 통하게 하는 복수의 구멍(26a)을 가지고 있고, 이들 복수의 구멍(26a)은, 반송방향(X) 및 폭방향(Y)으로 규칙적으로 배열되어 있다. 공기토출흡인기구(26)의 폭방향(Y)의 길이는, 유리기판(28)의 폭과 대략 동일하게 설치되어 있다. 공기토출흡인기구(26)의 반송방향(X) 길이는, 도포장치(14)의 전후로 충분한 길이를 채택함이 바람직하다. 일례로서, 반송방향(X)의 길이가 2300 ㎜, 폭방향(Y)의 길이가 2000㎜, 두께가 0.6 ㎜인 유리기판(28)을 250 ㎜/sec로 반송할 때, 공기토출흡인기구(26)의 반송방향(X) 길이는, 적어도 400 ㎜ 내지 500㎜ 정도 채택함이 바람직하다.
도포장치(14)는, 유리기판(28)의 상면(타방의 주표면)(28b)측에 포토 레지스트액 등의 도포액을 도포한다. 도포장치(14)의 노즐 선단부(38)는, 폭방향(Y)으로 뻗어 있다. 이 도포장치(14)는, 베이스(16) 상에 설치된 갠트리(40)에 의하여, 베이스(16) 상에 소정 높이로 지지되어 있다.
다음으로, 상기한 도포시스템(10)을 이용한 도포액의 도포방법에 대하여 설명한다.
먼저, 베이스(16) 상에 있어서의 도포장치(14)보다도 전단(前段)에, 4개의 지지부재(24)에 의하여, 유리기판(28)을 폭방향(Y)의 옆가장자리부에서 흡착하여 지지한다. 이때, 유리기판(28)은 베이스(16)의 상면(16a)에서 이격된 상태로 지지되어 있다. 보다 상세히는, 유리기판(28)은, 도포영역에 있어서 공기토출흡인기구(26)의 상면에서 10 ㎛ 정도 이격되고, 도포장치(14)의 노즐의 선단부(38)에서 100 ㎛ 내지 200 ㎛ 정도 이격되도록 지지되어 있다.
다음으로, 구동기구(22)에 의하여 슬라이더(20)를 이동시킴으로써, 유리기판(28)을 반송방향(X)으로 소정 속도로 반송한다. 그리고, 유리기판(28)이 도포영역에 왔을 때, 공기토출흡인기구(26)에 의하여 유리기판(28)의 하면(28a)에 공기의 토출 및 흡인을 행한다. 이에 의하여, 유리기판(28)은 공기토출흡인기구(26) 상에서 부상(浮上)한 상태에서, 도포영역에 있어서 휨이 교정되어서, 유리기판(28)의 평면도가 향상된다. 그리고, 본 실시형태에서는, 유리기판(28)의 휨의 교정은, 최대 위치에서 10 ㎛ 내지 100 ㎛ 정도의 것을 생각하고 있다. 이때, 공기토출흡인기구(26)에 설치된 복수의 구멍(26a)에 대하여, 도 4에 나타내는 바와 같이, 흡인용 구멍(흰 동그라미로 나타낸다)과 토출용 구멍(검정 동그라미로 나타낸다)이 서로 이웃하도록 하여, 유리기판(28)에 대하여 공기의 흡인과 토출을 균일하게 행하도록 함이 바람직하다. 이와 같이 하면, 유리기판(28)의 평면도가 가일층 향상된다.
그리고, 상기와 같이, 도포영역에 있어서 유리기판(28)의 하면(28a)에 공기의 토출 및 흡인을 행함과 동시에, 도포장치(14)에 의하여 유리기판(28)의 상면(28b)에 도포액을 도포한다. 여기서, 유리기판(28)의 평면도는 높여져 있기 때문에, 유리기판(28)의 상면(28b)에 도포액을 균일하게 도포할 수가 있다. 이때, 도 5에 나타내는 바와 같이, 공기토출흡인기구(26)의 상방으로서 도포장치(14)의 전단에 인접하도록 공기토출기구(제2 기체토출기구)(42)를 설치하여, 도포영역에 있어서의 도포의 전단에서 유리기판(28)의 상면(28b)에 공기를 토출함이 바람직하다. 이와 같이 하면, 유리기판(28)의 평면도가 가일층 높여져서, 가일층 균일한 도포를 행하는 것이 가능해진다.
다음으로, 도포영역을 통과하여 베이스(16)의 후단으로 반송된 도포 완료된 유리기판(28)에 대하여, 지지부재(24)에 의한 흡착을 해제한다. 그리고, 유리기판(28)을 시스템 밖으로 반출함과 함께, 다음 유리기판(28)에 대한 도포를 위하여, 지지부재(24)를 베이스(16)의 전단으로 되돌려보낸다.
이상 상세히 서술한 바와 같이, 본 실시형태에서는, 유리기판(28)을 이동시킬 때에 베이스째 이동시킬 필요가 없기 때문에, 반송에 필요한 추력의 저감을 도모할 수가 있다. 또한 베이스째 이동시킬 때와 비교하여, 진동이나 유리기판(28)에 전해지는 열을 저감시킬 수가 있다. 또한, 공기토출흡인기구(26)에 의하여 유리기판(28)에 대하여 공기의 토출 및 흡인을 행할 수가 있기 때문에, 도포영역에 있어서 유리기판(28)의 휨을 억제할 수가 있다. 그 결과, 도포영역에 있어서 유리기판(28)의 평면도를 상승시킨 상태에서 도포액을 도포하는 것이 가능해져서, 도포액의 균일한 도포가 가능해진다.
또한 본 실시형태에서는, 지지부재(24)는 유리기판(28)을 흡착하여 지지할 수 있기 때문에, 유리기판(28)을 확실히 지지할 수가 있다. 또한 유리기판(28)을 하면(28a)에서 지지하는 것이기 때문에, 유리기판(28)을 끼워서 지지하는 경우와 같이 유리의 깨짐이나 손상을 발생시킬 우려가 낮고, 또한 유리기판(28)의 상면(28a)의 전체에 도포액의 도포를 행할 수가 있다.
또한 본 실시형태에서는, 지지부재(24)는 연직방향(Z)으로 탄성을 가지기 때문에, 연직방향(Z)에 대하여 유리기판(28)의 높이 위치를 미세 조정할 수가 있다. 이에 의하여, 유리기판(28)이 기체토출흡인기구(26)에 닿는 등의 바람직하지 못한 일이 생길 우려를 저감시킬 수가 있다.
또한 본 실시형태에서는, 일방의 가이드레일(18) 상에 설치된 2개의 슬라이더(20)에 고정된 지지부재(24)는 폭방향(Y)으로 탄성을 가지기 때문에, 가이드레일 (18)이 뒤틀려 있을 때, 타방의 가이드레일(18)측을 기준으로 하여, 유리기판(28)의 폭방향(Y)의 어긋남이나 베이스(16)의 상면(16a)과 평행한 면 내에 있어서의 유리기판(28)의 회전을 시정하는 것이 가능해진다.
또한 본 실시형태에서는, 도포장치(14)보다도 전단에서, 유리기판(28)의 상면(28b)측에 공기를 토출하는 공기토출기구(42)를 구비함으로써, 도포영역에 있어서의 유리기판(28)의 평면도를 보다 높일 수가 있어서, 도포액을 보다 균일하게 도포하는 것이 가능해진다.
(제2 실시형태)
다음으로, 본 발명의 제2 실시형태에 대하여 설명한다. 그리고, 상기한 제1 실시형태와 동일한 요소에는 동일한 부호를 붙여서, 중복되는 설명을 생략한다.
도 6은, 제2 실시형태에 관한 도포시스템(60)의 구성을 나타내는 평면도이다. 그리고, 도 6에 있어서는, 도포장치(14) 및 갠트리(40)는 일점쇄선으로 나타내고 있다. 본 실시형태에 관한 도포시스템(60)의 구성은, 반송장치(62)의 구성이 다른 이외에는, 제1 실시형태에 관한 도포시스템(10)과 마찬가지이다.
본 실시형태에 있어서 반송장치(62)는, 가이드레일(18)이 반송방향(X)을 따라서 1개만 설치되어, 1축으로 구성되어 있다. 이에 의하여, 가이드레일(18)을 2개 병설하여 2축으로 구성하는 경우와 비교하여, 구동기구(22)로서의 리니어모터기구가 한쪽만 있으면 되어, 코스트의 저감이 도모된다.
이 경우, 유리기판(28)은 지지부재(24)에 의하여 일방의 옆가장자리부에서 지지되는데, 편측(片側)지지형 지지이기 때문에 지지부재(24)에 걸리는 중량부하가 증대하여, 휨에 의하여 베이스(16)에 접촉하여 손상이 생긴다거나, 유리기판(28)이 갈라진다거나 할 우려가 있다. 그래서, 베이스(16) 상의 도포영역 이외의 영역에 있어서, 베이스(16)측에서 유리기판(28)의 하면(28a)으로 향하여 공기(기체)를 토출하는 기체토출기구(제1 기체토출기구)(66)가 설치되어 있다. 기체토출기구(66)는, 복수의 정압(靜壓)베어링(66a)을 포함하며, 이들 복수의 정압베어링(66a)이 반송방향(X) 및 폭방향(Y)으로 규칙적으로 배열되어 있다. 이들 정압베어링(66a)은, 돌, 세라믹, 혹은 금속의 다공질체로 이루어진다.
그리고, 본 실시형태에 있어서 지지부재(24)는, 연직방향(Z)으로 탄성을 가짐이 바람직하다. 이와 같이 하면, 연직방향(Z)에 대하여 유리기판(28)의 높이 위치를 미세 조정할 수가 있다. 이에 의하여, 유리기판(28)이 기체토출흡인기구(26)에 닿는 등의 바람직하지 못한 일이 생길 우려를 저감시킬 수가 있다.
또한 본 실시형태에 있어서 반송장치(62)는, 베이스(16)의 상면(16a)과 평행한 면 내에 있어서의 유리기판(28)의 회전을 강제적으로 시정하는 회전시정수단을 구비하고 있음이 바람직하다. 즉, 가이드레일(18)은 반드시 곧바르다고는 할 수 없고, 폭방향(Y)으로 뒤틀려 있는 일도 있다. 가이드레일(18)이 뒤틀려 있으면, 도 7에 있어서 실선으로 나타내는 바와 같이, 베이스(16)의 상면(16a)과 평행한 면 내에서 유리기판(28)이 회전되어 버린다. 유리기판(28)의 회전은, 도포액을 균일하게 도포하기 위해서는 바람직하지 못하다.
그래서 지지부재(24)는, 도 8에 나타내는 바와 같이, 연직방향(Z)을 따르는 축을 중심으로 하여 회전 가능한 힌지구조(68)를 가지고, 또한 일방의 지지부재 (24)에는 폭방향(Y)으로 수십 ㎛ 정도의 미소변위가 가능한 피에조소자(70)가 장착되어 있다. 이에 의하여, 도 8에 있어서 일점쇄선으로 나타내는 바와 같이, 그대로는 유리기판(28)이 회전되어 버릴 것을, 피에조소자(70)에 의하여 실선으로 나타내는 위치로 시정할 수가 있다. 그리고, 피에조소자(70)의 대신에 보이스코일이나 초음파모터, 리니어모터, 에어 액츄에이터 등을 사용하여도 좋다.
다음으로, 상기한 도포시스템(60)을 이용한 도포액의 도포방법에 대하여 설명한다.
먼저, 도포장치(14)에 의한 도포를 행하지 않고, 유리기판(28)을 반송방향(X)으로 반송하여, 가이드레일(18)의 뒤틀림에 의하여, 베이스(16)의 상면(16a)과 평행한 면 내에 있어서의 유리기판(28)의 회전의 유무를 검출한다. 그리고, 유리기판(28)의 회전이 인정될 때는, 회전을 시정하는 방향으로 피에조소자(70)를 구동하도록, 미리 제어 프로그램을 설정하여 둔다. 이에 의하여, 이후의 도포작업에 있어서의 유리기판(28)의 회전이 방지된다.
다음으로, 공기토출기구(66)의 복수의 정압베어링(66a)에서 유리기판(28)의 하면(28a)으로 향하여, 공기의 토출을 개시한다. 정압베어링(66a)은, 공기의 토출부와 그 토출한 공기를 흡인하는 흡인부를 가지고 있어도 좋다. 이때의 공기의 흡인은, 토출한 공기가 세밀한 먼지 등을 포함하고 있는 경우가 있기 때문에, 이 먼지 등이 유리기판에 부착되어 도포에 악영향을 미치는 것을 방지하기 위한 것이다. 다음으로, 베이스(16) 상에 있어서의 도포장치(14)보다도 전단에, 2개의 지지부재(24)에 의하여 유리기판(28)을 폭방향(Y)의 옆가장자리부에서 흡착하여 편측지지형 지지를 한다. 이때, 유리기판(28)은 베이스(16)의 상면(16a)에서 이격된 상태에서 지지되어 있다. 보다 상세히는, 유리기판(28)은, 도포영역에 있어서 공기토출흡인기구(26)의 상면에서 10 ㎛ 정도 이격되고, 도포장치(14)의 노즐의 선단부(38)에서 100 ㎛ 내지 200 ㎛ 정도 이격되도록 지지되어 있다.
다음으로, 구동기구(22)에 의하여 슬라이더(20)를 이동시킴으로써, 유리기판(28)을 반송방향(X)으로 소정 속도로 반송한다. 그리고, 유리기판(28)이 도포영역에 왔을 때, 공기토출흡인기구(26)에 의하여 유리기판(28)의 하면(28a)에 공기의 토출 및 흡인을 행한다. 이에 의하여, 유리기판(28)은 공기토출흡인기구(26) 상에서 부상한 상태에서, 도포영역에 있어서 휨이 교정되어서, 유리기판(28)의 평면도가 향상된다.
그리고, 상기와 같이, 도포영역에 있어서 유리기판(28)의 하면(28a)에 공기의 토출 및 흡인을 행함과 동시에, 도포장치(14)에 의하여 유리기판(28)의 상면(28b)에 도포액을 도포한다. 여기서, 유리기판(28)의 평면도는 높여져 있기 때문에, 유리기판(28)의 상면(28b)에 도포액을 균일하게 도포할 수가 있다. 이때, 도 5에서 나타낸 바와 같이, 공기토출흡인기구(26)의 상방으로서 도포장치(14)의 전단에 인접하도록 공기토출기구(제2 기체토출기구)(42)를 설치하여, 도포영역에 있어서의 도포의 전단에서 유리기판(28)의 상면(28b)에 공기를 토출함이 바람직하다. 이와 같이 하면, 유리기판(28)의 평면도가 가일층 높여져서, 가일층 균일한 도포를 행하는 것이 가능해진다.
다음으로, 도포영역을 통과하여 베이스(16)의 후단으로 반송된 도포 완료된 유리기판(28)에 대하여, 지지부재(24)에 의한 흡착을 해제한다. 그리고, 유리기판(28)을 시스템 밖으로 반출함과 함께, 다음의 유리기판(28)에 대한 도포를 위하여, 지지부재(24)를 베이스(16)의 전단으로 되돌려보낸다.
이상, 본 실시형태에서는, 제1 실시형태와 마찬가지의 작용 효과를 얻을 수가 있다. 특히 본 실시형태에서는, 가이드레일(18)이 1축으로 구성되어 있기 때문에, 2축으로 구성하는 경우와 비교하여, 구동기구(22)로서의 리니어모터기구가 한쪽만 있으면 되므로, 코스트의 저감을 도모할 수가 있다. 이때, 베이스(16) 상의 도포영역 이외의 영역에 있어서, 베이스(16)측에서 유리기판(28)의 하면(28a)으로 향하여 공기를 토출하는 공기토출기구(66)를 구비하고 있기 때문에, 토출되는 공기에 의하여 유리기판(28)을 들어올림으로써 지지부재(24)에 걸리는 중량 부하를 경감할 수가 있어서, 유리기판(28)의 반송을 용이하게 할 수가 있다.
또한, 베이스(16)의 상면(16a)과 평행한 면 내에 있어서의 유리기판(28)의 회전을 강제적으로 시정할 수가 있기 때문에, 유리기판(28)의 회전이 방지되어서, 도포액의 가일층 균일한 도포가 가능해진다.
(제3 실시형태)
다음으로, 본 발명의 제3 실시형태에 대하여 설명한다. 그리고, 상기한 제1 및 제2 실시형태와 동일한 요소에는 동일한 부호를 붙여서, 중복되는 설명을 생략한다.
도 9는, 제3 실시형태에 관한 검사시스템(80)의 구성을 나타내는 사시도이다. 또한 도 10은, 이 검사시스템(80)의 구성을 나타내는 평면도이다. 그리고, 도 10에 있어서는, 갠트리(40)는 일점쇄선으로 나타내고 있다.
본 실시형태에 관한 검사시스템(80)은, 도 9 및 도 10에 나타내는 바와 같이, 반송장치(12)와, 검사장치(82)를 구비하고 있다. 반송장치(12)는, 제1 실시형태에 관한 도포시스템(10)의 반송장치와 마찬가지이기 때문에, 설명을 생략한다.
검사장치(82)는, 상면(28b)측에서 유리기판(28)을 검사한다. 검사장치(82)로서는, CCD카메라 등의 촬상장치나, 레이저광을 조사하여 그 반사광을 수광하는 레이저계측장치를 들 수 있다. 촬상장치에 의하면, 예컨대 유리기판(28) 상에 형성된 회로패턴 등의 광학 상이 얻어지고, 이에 의하여 불량품 등의 검사가 가능해진다. 또한 레이저계측장치에 의하면, 레이저광의 반사율을 조사함으로써, 불량품 등의 검사가 가능해진다. 그리고 검사장치(82)로서는, 이들 CCD카메라나 레이저계측장치에 한정되지 않고, 유리기판(28)의 상태를 비접촉으로 검사 가능한 공지의 장치가 모두 포함된다.
이 검사장치(82)는, 베이스(16) 상에 설치된 갠트리(40)에, 슬라이드부재(84)를 통하여 장착되어 있다. 슬라이드부재(84)는, 갠트리(40)를 따라서 폭방향(Y)으로 이동 가능하다. 따라서, 슬라이드부재(84)에 장착된 검사장치(82)는 폭방향(Y)을 이동 가능하게 되어, 유리기판(28)에 대하여 폭방향(Y)의 스캔이 가능해진다. 또한, 검사장치(82) 자신도, 슬라이드부재(84)에 대하여 연직방향(Z)으로 이동 가능하여, 이에 의하여 검사장치(82)를 베이스(16) 상의 소정 높이 위치에서 지지할 수가 있다. 따라서, 촬상장치에 있어서는 초점이 맞춰진 광학 상이 얻어지고, 레이저계측기에 있어서는 데이터의 정밀도가 향상되게 되어, 검사 정밀도의 향상이 도모된다.
다음으로, 상기한 검사시스템(80)을 이용한 유리기판(28)의 검사방법에 대하여 설명한다.
먼저, 베이스(16) 상에 있어서의 검사장치(82)보다도 전단에서, 4개의 지지부재(24)에 의하여, 유리기판(28)을 폭방향(Y)의 옆가장자리부에서 흡착하여 지지한다. 이때, 유리기판(28)은 베이스(16)의 상면(16a)에서 이격된 상태에서 지지되어 있다. 보다 상세히는, 유리기판(28)은, 검사영역(일부 영역)에 있어서 공기토출흡인기구(26)의 상면에서 10 ㎛ 정도 이격되어 있다.
다음으로, 구동기구(22)에 의하여 슬라이더(20)를 이동시킴으로써, 유리기판(28)을 반송방향(X)으로 소정 속도로 반송한다. 그리고, 유리기판(28)이 검사영역에 왔을 때, 공기토출흡인기구(26)에 의하여 유리기판(28)의 하면(28a)으로 공기의 토출 및 흡인을 행한다. 이에 의하여, 유리기판(28)은 공기토출흡인기구(26) 상에서 부상한 상태에서, 검사영역에 있어서 휨이 교정되어서, 유리기판(28)의 평면도가 향상된다. 그리고, 본 실시형태에서는, 유리기판(28)의 휨의 교정은, 최대 위치에서 10 ㎛ 내지 100 ㎛ 정도의 것을 생각하고 있다. 이때, 공기토출흡인기구(26)에 설치된 복수의 구멍(26a)에 대하여, 도 4에 나타내는 바와 같이, 흡인용의 구멍(흰 동그라미로 표시한다)과 토출용의 구멍(검정 동그라미로 표시한다)이 서로 인접하도록 하여, 유리기판(28)에 대하여 공기의 흡인과 토출을 균일하게 행하도록 함이 바람직하다. 이와 같이 하면, 유리기판(28)의 평면도가 가일층 향상된다.
다음으로, 상기와 같이, 검사영역에 있어서 유리기판(28)의 하면(28a)에 공 기의 토출 및 흡인을 행함과 동시에, 반송방향(X)으로의 유리기판(28)의 반송을 정지한다. 그리고, 슬라이드부재(84)를 폭방향(Y)으로 슬라이드시켜서, 유리기판(28)상을 스캔한다. 이때, 필요에 따라서 검사장치(82)의 연직방향의 위치를 미세 조정함이 바람직하다. 스캔이 종료하면, 반송방향(X)으로 유리기판(28)을 소정 거리만큼 이동시켜서, 다시 반송을 정지한 후, 2회째의 스캔을 행한다. 이와 같이 하여 복수회의 스캔을 행함으로써, 검사장치(82)에 의하여 유리기판(28)을 상면(28b)에서 검사한다. 여기서, 유리기판(28)의 평면도는 높여져 있기 때문에, 유리기판(28)의 검사 정밀도의 향상이 도모된다. 이때, 도 11에 나타내는 바와 같이, 공기토출흡인기구(26)의 상방으로서 검사장치(82)의 전단에 공기토출기구(42)를 설치하여, 검사영역에 있어서의 검사의 전단에서 유리기판(28)의 상면(28b)에 공기를 토출함이 바람직하다. 이와 같이 하면, 유리기판(28)의 평면도가 가일층 높여져서, 가일층 정밀도가 높은 검사를 행하는 것이 가능해진다. 그리고, 공기토출기구(42)는, 공기토출흡인기구(26)의 상방으로서 검사장치(82)의 후단에 설치하여도 좋고, 또한 전 후단의 쌍방에 설치하여도 좋다. 또한, 도 12에 나타내는 바와 같이, 촬상장치에서는 렌즈의 둘레에, 레이저계측장치에서는 레이저광의 입 출사부의 둘레에, 링 형상의 공기토출기구(42)를 설치하여, 검사장치(82)와 일체화를 도모하여도 좋다.
다음으로, 검사영역을 통과하여 베이스(16)의 후단으로 반송된 검사 완료된 유리기판(28)에 대하여, 지지부재(24)에 의한 흡착을 해제한다. 그리고, 유리기판(28)을 시스템 밖으로 반출함과 함께, 다음의 유리기판(28)에 대한 검사를 위하여, 지지부재(24)를 베이스(16)의 전단으로 되돌려보낸다.
이상 상세히 서술한 바와 같이, 본 실시형태에서는, 유리기판(28)을 이동시킬 때에 베이스째 이동시킬 필요가 없기 때문에, 반송에 필요한 추력의 저감을 도모할 수가 있다. 또한 베이스째 이동시킬 때와 비교하여, 진동이나 유리기판(28)에 전해지는 열을 저감시킬 수가 있다. 또한, 공기토출흡인기구(26)에 의하여 유리기판(28)에 대하여 공기의 토출 및 흡인을 행할 수가 있기 때문에, 검사영역에 있어서 유리기판(28)의 휨을 억제할 수가 있다. 그 결과, 검사영역에 있어서 유리기판(28)의 평면도를 상승시킨 상태에서 검사하는 것이 가능해져서, 검사 정밀도의 향상을 도모하는 것이 가능해진다.
기타, 본 실시형태에서는, 제1 실시형태에 관한 도포시스템(10)과 동일한 구성에 의하여, 마찬가지의 작용 효과를 얻을 수 있다.
그리고, 본 발명은 상기한 실시형태에 한정되는 것이 아니라, 다양한 변형이 가능하다. 예컨대, 제1 실시형태의 반송장치(12)는, 제2 실시형태에 있어서의 반송장치(62)와 마찬가지로, 도포영역 이외의 영역에 공기토출기구(66)를 구비하고 있어도 좋다.
또한 제1 실시형태의 반송장치(12)에서도, 제2 실시형태에 있어서의 반송장치(62)와 마찬가지로, 베이스(16)의 상면(16a)과 평행한 면 내에 있어서의 유리기판(28)의 회전을 강제적으로 시정하도록 하여도 좋다.
또한, 구동기구(22)의 고정자(30)는 바닥면(F) 상에 설치하는 등 하여, 베이스(16)에서 분리하여 설치함이 바람직하다. 이와 같이 하면, 구동기구(22)를 구동시킴으로써 생기는 반력을 시스템 밖으로 없애는 것이 가능해진다.
또한, 반송방향(X)을 따르는 방향의 베이스(16)의 모서리부에 의하여 가이드부재를 구성하고, 슬라이더(20)는 이 모서리부에 의하여 가이드되도록 구성하여도 좋다. 이와 같이 하면, 가이드레일(18)을 생략함으로써 부품 갯수의 감소를 도모하는 것이 가능해진다.
또한 도 13에 나타내는 바와 같이, 제2 실시형태에 관한 도포시스템(60)의 반송장치(62)에 있어서, 베이스(16)를 베이스대부(70)와 에어기구부(72)로 구성하고, 에어기구부(72)를 연삭가공 등 하여, 공기토출흡인기구(26)와 공기토출기구(66)를 일체로 구성함이 바람직하다. 이와 같이 하면, 공기토출흡인기구(26)의 높이와 공기토출기구(66)의 높이를 맞추는 작업이 생략 가능해서, 제조의 효율화가 도모된다.
또한 상기한 실시형태에서는, 슬라이더(20)는 1개의 가이드레일(18)에 2개 설치되어 있는데, 슬라이더(20)를 유리기판(28)의 반송방향(X)의 길이와 같은 정도의 길이를 가지는 1개의 부재로 구성하여도 좋다. 이와 같이 하면, 흡착부(34)의 길이를 길게 할 수가 있어서, 흡착력을 향상시킬 수가 있다. 또한, 슬라이더(20)의 수를 감소시켜서 부품 갯수의 감소를 도모할 수가 있다.
또한, 제1 실시형태에 관한 도포시스템(10) 및 제3 실시형태에 관한 검사시스템(80)이 구비하는 2축의 반송장치(12)에 있어서, 유리기판(28)의 지지를 다음과 같이 행하여도 좋다. 지지부재(24)는, 도 14 및 도 15에 나타내는 바와 같은 지지기구(90)를 가지고 있다. 이 지지기구(90)는, 반송방향(X)을 따라서 뻗는 베이스체부(92)와, 베이스체부(92)에서 폭방향(Y)으로 뻗어 설치된 복수의 지지다리부(94) 와, 복수의 지지다리부(94)의 선단에 각각 설치되어 있어서, 유리기판(28)을 흡착하여 지지하기 위한 흡착부(96)를 포함하고 있다. 베이스체부(92)의 길이는, 유리기판(28)의 반송방향(X)의 길이와 같은 정도이다. 복수의 지지다리부(94) 각각은, 적어도 연직방향(Z)에 대하여 탄성을 가짐과 함께, 자신의 축(α) 둘레에 비틀림성을 가지고 있다. 그리고, 복수의 지지다리부(94) 각각은, 반송방향(X), 폭방향(Y), 및 연직방향(Z)의 탄성을 가지고, 또한 그들의 축 둘레의 비틀림성을 가지고 있어서, 6 자유도를 가지고 있으면 최적이다. 지지다리부(94)의 선단에는, 흡착부(96)를 확실히 탑재하기 위하여 폭이 넓은 탑재부(98)가 설치되어 있다.
이 지지기구(90)가, 가이드레일(18)에 슬라이드 가능하게 설치된 2개의 슬라이더(20)의 내측면에 연결되어 있다. 보다 상세히는, 기준이 되는 일방의 가이드레일(18) 측에서는, 지지기구(90)는 베이스체부(92)가 2개의 슬라이더(20)에 직접 연결되어 있고, 타방의 가이드레일(18)의 측에서는, 탄성부재(99)를 통하여 지지기구(90)의 베이스체부(92)가 2개의 슬라이더(20)에 연결되어 있다. 이에 의하여, 타방의 가이드레일 측에서는 Y방향으로 탄성을 가지는 것이 된다. 그 결과, 타방의 가이드레일(18)이 뒤틀려 있을 때, 일방의 가이드레일(18) 측을 기준으로 하여, 유리기판(28)의 폭방향(Y)의 어긋남이나 베이스(16)의 상면(16a)과 평행한 면 내에 있어서의 유리기판(28)의 회전을 시정하는 것이 가능해진다. 이 탄성부재(99)로서는, 폭방향(Y)으로 탄성을 가지는 탄성판조각 등의 탄성체를 들 수 있다.
이와 같은 지지다리부(94)는, 예컨대 SUS 등의 재료로 형성할 수가 있다. 전형적인 치수로서는, 길이(T1)가 100 ㎜ 정도이고, 폭(T2)이 10 ㎜ 정도이고, 두께 (T3)가 1.5 ㎜ 정도이다. 이에 의하여, 지지다리부(94)는 축(α)의 둘레에 ±2 도 정도의 비틀림성을 가질 수가 있다.
여기서, 도 16에 나타내는 바와 같이, 베이스(16) 상의 도포영역 혹은 검사영역에 있어서, 공기토출흡인기구(26)에 의하여 유리기판(28)에 대하여 공기의 토출 및 흡인을 행함으로써, 유리기판(28)의 높이가 반송방향(X)으로 다르게 된다. 이 높이의 차이(d)는, 50 ㎛ 내지 200 ㎛ 정도가 되는 경우가 있다. 이때, 유리기판(28)의 변형에 따라서 잘 지지하지 못하면, 갈라짐이나 금이 생기는 등 하여 유리기판(28)을 훼손시킬 우려가 있다. 이에 대하여, 상기한 지지기구(90)에 의하여 유리기판(28)을 지지하도록 하면, 복수의 지지다리부(94)는 적어도 연직방향(Z)에 대하여 탄성을 가짐과 함께, 자신의 축(α) 둘레에 비틀림성을 가지고 있기 때문에, 유리기판(28)의 변형에 따라서 확실히 지지할 수가 있어서, 유리기판(28)이 훼손될 우려를 저감시킬 수가 있다.
또한, 제2 실시형태에 관한 도포시스템(60)이 구비하는 1축의 반송장치(62)에 있어서, 유리기판(28)의 지지를 다음과 같이 행하여도 좋다. 지지부재(24)는, 도 17 및 도 18에 나타내는 바와 같이, 탄성판부(102)와 흡착부(104)를 가지고 있다. 이들 지지부재(24)는, 탄성판부(102)를 통하여 2개의 슬라이더(20) 각각에 연결되어 있다. 탄성판부(102)는, 적어도 연직방향(Z)으로 탄성을 가지고 있다. 탄성판부(102)의 선단에 탑재된 흡착부(104)는, 에어 흡인에 의하여 유리기판(28)을 흡착하여 지지하기 위한 부재로서, 도 18에 나타내는 바와 같이, 연직방향(Z)을 따르는 축(β)의 둘레로 회전 가능하게 설치되어 있다.
상기한 지지부재(24)를 이용한 유리기판(28)의 지지에서는, 각각의 지지부재(24)에서 흡착부(104)의 폭방향(Y) 위치를 겹치지 않도록 하고 있다. 이에 의하여, 각각의 지지부재(24)에서 유리기판(28)을 흡착하여 지지하는 지지 위치가, 폭방향(Y)에 대하여 달라져 있다. 이 어긋남 양(Δy)은, 후술하는 바와 같이 유리기판(28)의 1도 정도의 회전을 시정 가능한 양으로 설정되어 있음이 바람직하다. 예컨대, 반송방향(X)의 길이가 2000 ㎜의 유리기판(28)을 반송할 때에는, 어긋남 양(Δy)은 1 ㎜ 이하인 것이 바람직하다.
또한, 상기한 지지부재(24)를 이용한 유리기판(28)의 지지에서는, 슬라이더(20)의 각각은 독립하여 속도 제어 가능하게 설치되어 있다. 즉, 상기한 제2 실시형태에서는, 각각의 슬라이더(20)는 1개의 구동체(33)에 의하여 일정 거리를 유지한 채 동기하여 이동 가능하게 설치되어 있었지만, 여기에서는 각각의 슬라이더(20)는 각각 구동체(33)에 의하여 독립하여 속도 제어 가능하게 설치되어 있다.
이에 의하여, 도 19에 나타내는 바와 같이, 2개의 슬라이더(20)가 동일 속도로 이동되고 있을 때, 유리기판(28)의 지지 위치가 A점 및 B점이었지만, 전방 슬라이더(20)의 속도(v2)를 후방 슬라이더(20)의 속도(v1)보다도 Δv만큼 크게 함으로써, 유리기판(28)의 지지 위치가 A점 및 C점이 된다. 또한, 전방 슬라이더(20)의 속도(v2)를 후방 슬라이더(20)의 속도(v1)보다도 Δv만큼 작게 함으로써, 유리기판(28)의 지지 위치가 A점 및 D점이 된다. 이에 의하여, 전방 슬라이더(20)의 속도(v2)와 후방 슬라이더(20)의 속도(v1)를 제어함으로써, 전방의 지지부재(24)에 의한 유리기판(28)의 지지 위치(B)의 궤적이, A점을 중심으로 한 반경 1의 원호(도 19에 있어서 파선으로 나타낸다)를 그리게 된다. 그 결과, 도 20에 나타내는 바와 같이, 가이드레일(18)이 뒤틀려 있을 때, 전방 슬라이더(20)의 속도(v2)와 후방 슬라이더(20)의 속도(v1)를 제어함으로써, 베이스(16)의 상면(16a)과 평행한 면 내에 있어서의 유리기판(28)의 회전을 시정하는 것이 가능해진다.
또한 상기한 제3 실시형태에서는, 슬라이드부재(84)에 의하여 검사장치(82)를 폭방향(Y)으로 슬라이드시켜서, 유리기판(28)을 스캔하는 구성으로 했지만, 검사장치(82)를 폭방향(Y)으로 어레이 형상으로 늘어놓은 검사장치 어레이를 이용하여 검사시스템을 구성하여도 좋다. 이와 같이 하면, 유리기판(28)을 폭방향(Y)으로 스캔할 필요가 없게 되어, 검사효율의 향상이 도모된다.
또한 상기한 제1 및 제2 실시형태에서는, 유리기판(28) 상에의 포토 레지스트의 도포에 대하여 설명하였지만, 칼라 필터를 적층 형성할 때의 잉크의 도포 등에도 적용할 수가 있다.
또한 상기한 실시형태에서는, 피반송물로서 유리기판(28)의 반송에 대하여 설명하였지만, 피반송물은 필름이나 반도체 기판 등의 휨을 발생시키기 쉬운 다른 부재이어도 좋다.
[ 산업상의 이용가능성 ]
본 발명에 관한 반송장치는, 예컨대 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)을 제조하는 PDP 제조장치나, 반도체 기판의 결함 등의 검사를 행하는 반도체 검사장치 등, 소정 작업시에 피반송물의 휨을 피해야 하는 다른 시스템에도 적용 가능하다.
본 발명에 의하면, 반송에 필요한 추력의 저감을 도모하고, 또한 피반송물의 휨을 억제할 수가 있는 반송장치, 이를 구비한 도포시스템 및 검사시스템을 제공하는 것이 가능해진다.

Claims (15)

  1. 피반송물의 반송방향으로 뻗은 주표면을 가지는 베이스와,
    상기 베이스의 주표면 양측에 설치되어 상기 피반송물의 반송방향으로 뻗은 가이드부재와,
    상기 가이드부재 상에 설치되어 상기 반송방향으로 이동 가능한 이동부재와,
    상기 이동부재에 고정되어 상기 베이스의 주표면에서 간극을 두고 상기 피반송물을 지지하는 지지부재와,
    상기 반송방향에 있어서의 상기 베이스 상의 일부 영역에 설치되어, 상기 일부 영역에 있어서 상기 반송방향으로 반송되는 상기 피반송물에 대하여 기체의 토출(吐出) 및 흡인(吸引)을 행하기 위한 기체토출흡인기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 지지부재는, 상기 피반송물을 흡착하여 지지 가능한 것을 특징으로 하는 반송장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 가이드부재는 1축으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 지지부재는, 상기 베이스의 상기 주표면의 법선방향에 대하여 탄성을 가지는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 지지부재는, 상기 베이스의 상기 주표면의 법선방향 및 상기 반송방향의 쌍방에 직교하는 방향에 대하여 탄성을 가지는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 지지부재는, 상기 베이스의 주표면과 평행한 면 내에 있어서의 폭방향으로의 미소변위가 가능하여, 상기 피반송물의 회전을 시정(是正)하는 회전시정수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 베이스 상의 상기 일부 영역 이외의 영역에 있어서, 상기 베이스 상에는 상기 피반송물을 향하여 기체를 토출하는 제1 기체토출기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 피반송물은 유리기판인 것을 특징으로 하는 반송장치.
  9. 제1항에 기재된 반송장치와,
    상기 반송장치의 베이스 상에 고정된 갠트리에 설치되어 상기 피반송물에 대하여 도포액을 도포하기 위한 도포장치를 구비하고,
    상기 반송장치의 기체토출흡인기구는, 상기 일부 영역에 있어서, 대향하는 1쌍의 주표면을 가지는 상기 피반송물의 일방의 주표면 측으로 상기 기체를 토출 및 흡인하고,
    상기 도포장치는, 상기 일부 영역에 있어서, 상기 피반송물의 타방의 주표면 측으로 상기 도포액을 도포하는 것을 특징으로 하는 도포시스템.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 일부 영역에 있어서, 상기 도포장치보다도 전단에, 상기 타방의 주표면 측으로 상기 피반송물에 대하여 기체를 토출하는 제2 기체토출기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 도포시스템.
  11. 대향하는 1쌍의 주표면을 가지는 피반송물을 반송하면서 도포액을 도포하는 도포방법으로서,
    상기 도포시스템의 기체토출흡인기구가 상기 피반송물에 대하여 일방의 주표면 측으로 기체를 토출 및 흡인하면서, 상기 기체토출흡인기구의 상방에 위치한 도포장치가 상기 피반송물의 타방의 주표면 측으로 상기 도포액을 도포하는 것을 특징으로 하는 도포방법.
  12. 제1항에 기재된 반송장치와,
    상기 반송장치의 베이스 상에 고정된 갠트리에 슬라이드부재를 통하여 장착되어 상기 피반송물의 검사를 행하기 위한 검사장치를 구비하고,
    상기 반송장치의 기체토출흡인기구는, 상기 일부 영역에 있어서, 대향하는 1쌍의 주표면을 가지는 상기 피반송물의 일방의 주표면 측으로 상기 기체를 토출 및 흡인하고,
    상기 검사장치는, 상기 일부 영역에 있어서, 상기 피반송물의 타방의 주표면 측에서 이 피반송물을 검사하는 것을 특징으로 하는 검사시스템.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 지지부재는,
    상기 반송방향을 따라서 뻗은 베이스체부와,
    상기 베이스체부에서 상기 베이스의 상기 주표면의 법선방향 및 상기 반송방향의 쌍방에 직교하는 방향으로 뻗어 설치된 복수의 지지다리부와,
    상기 복수의 지지다리부의 선단에 각각 설치되어 있고, 상기 피반송물을 흡착하여 지지하기 위한 흡착부를 포함하는 지지기구를 가지며,
    상기 복수의 지지다리부의 각각은, 적어도 상기 베이스의 상기 주표면의 법선방향에 대하여 탄성을 가짐과 함께, 자신의 축 둘레의 비틀림성을 가지는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  14. 제3항에 있어서,
    상기 이동부재 및 상기 지지부재를 각각 2개 구비하고,
    상기 이동부재의 각각은, 독립적으로 속도제어 가능하게 설치되어 있고,
    상기 지지부재의 각각에 의한 상기 피반송물의 지지위치가, 상기 베이스의 상기 주표면의 법선방향 및 상기 반송방향의 쌍방에 직교하는 방향에 대하여 어긋나 있는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  15. 삭제
KR1020040074123A 2003-10-06 2004-09-16 반송장치, 도포시스템, 및 검사시스템 KR100628699B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2003-00347433 2003-10-06
JP2003347433 2003-10-06
JP2003421506A JP4426276B2 (ja) 2003-10-06 2003-12-18 搬送装置、塗布システム、及び検査システム
JPJP-P-2003-00421506 2003-12-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050033426A KR20050033426A (ko) 2005-04-12
KR100628699B1 true KR100628699B1 (ko) 2006-09-28

Family

ID=34655936

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040074123A KR100628699B1 (ko) 2003-10-06 2004-09-16 반송장치, 도포시스템, 및 검사시스템

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4426276B2 (ko)
KR (1) KR100628699B1 (ko)
CN (1) CN1611430A (ko)
TW (1) TWI261041B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI603419B (zh) * 2012-06-28 2017-10-21 Seiko Epson Corp processor

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005321505A (ja) * 2004-05-07 2005-11-17 Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd 露光装置
JP2006186251A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Kumamoto Technology & Industry Foundation 塗布装置
TWI307929B (en) * 2005-05-12 2009-03-21 Olympus Corp Substrate inspection apparatus
JP4553376B2 (ja) * 2005-07-19 2010-09-29 東京エレクトロン株式会社 浮上式基板搬送処理装置及び浮上式基板搬送処理方法
JP2007051001A (ja) * 2005-08-19 2007-03-01 Nippon Sekkei Kogyo:Kk 薄板状材料の搬送方法及び装置
JP4634265B2 (ja) * 2005-09-27 2011-02-16 東京エレクトロン株式会社 塗布方法及び塗布装置
JP4615415B2 (ja) * 2005-09-30 2011-01-19 シャープ株式会社 表示素子部品修正装置および表示素子部品修正方法
JP2007283428A (ja) * 2006-04-14 2007-11-01 Yokogawa Electric Corp ワーク加工装置およびワーク移送システム
JP2007316162A (ja) * 2006-05-23 2007-12-06 Sharp Corp 表示素子部品修正装置および表示素子部品修正方法
JP2008016543A (ja) * 2006-07-04 2008-01-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP4962760B2 (ja) * 2006-07-19 2012-06-27 横河電機株式会社 移送システム
JP5265099B2 (ja) * 2006-09-11 2013-08-14 オリンパス株式会社 基板検査装置
JP4272230B2 (ja) * 2006-12-22 2009-06-03 東京エレクトロン株式会社 減圧乾燥装置
JP2008212804A (ja) * 2007-03-02 2008-09-18 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 基板の搬送塗布装置
JP4495752B2 (ja) * 2007-11-06 2010-07-07 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び塗布装置
JP5403389B2 (ja) * 2008-03-27 2014-01-29 日本電気硝子株式会社 ガラス基板検査装置およびガラス基板検査方法
KR101431146B1 (ko) 2008-05-09 2014-08-18 주식회사 디엠에스 약액도포장치
US20110069306A1 (en) * 2008-06-09 2011-03-24 Kla-Tencor Corporation Referenced Inspection Device
JP5056611B2 (ja) * 2008-06-20 2012-10-24 凸版印刷株式会社 基板処理装置
KR101690338B1 (ko) * 2008-08-18 2016-12-27 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. 하전 입자 빔 리소그래피 시스템 및 타겟 위치 결정 장치
JP4787872B2 (ja) * 2008-10-16 2011-10-05 東京エレクトロン株式会社 基板搬送処理装置
DE102010008233A1 (de) * 2010-02-11 2011-08-11 Schmid Technology GmbH, 68723 Vorrichtung und Verfahren zum Transport von Substraten
KR101146609B1 (ko) * 2010-04-08 2012-05-16 주식회사 태성기연 판유리 이송장치
JP2012096920A (ja) * 2010-11-05 2012-05-24 Hitachi High-Technologies Corp ガラス基板欠陥検査装置及びガラス基板欠陥検査方法並びにガラス基板欠陥検査システム
TW201314372A (zh) * 2011-09-26 2013-04-01 Dainippon Screen Mfg 塗佈裝置
JP5918518B2 (ja) * 2011-11-30 2016-05-18 川崎重工業株式会社 搬送ワークのヨーイング補正機構とその補正方法
JP2015034071A (ja) * 2013-08-08 2015-02-19 日本電気硝子株式会社 シート部材搬送装置、シート部材支持装置、シート部材検査装置、およびシート部材搬送方法
JP2015218055A (ja) * 2014-05-20 2015-12-07 オイレス工業株式会社 搬送用レールおよび浮上搬送装置
CN106458459A (zh) * 2014-05-21 2017-02-22 夏普株式会社 搬运装置和湿式处理装置
EP3157687A4 (en) 2014-06-17 2018-03-14 Kateeva, Inc. Printing system assemblies and methods
KR102022471B1 (ko) * 2014-09-19 2019-09-18 한화정밀기계 주식회사 기판 검사장치
JP2018120358A (ja) * 2017-01-24 2018-08-02 Thk株式会社 ワーク搬送制御システム、及び運動案内装置
JP2019010691A (ja) * 2017-06-29 2019-01-24 日本電産サンキョー株式会社 産業用ロボットのハンドおよび産業用ロボット
CN108333191B (zh) * 2018-05-14 2024-02-06 杭州智谷精工有限公司 基于暗场扫描和机器视觉的光学双场平面体快速检测设备
JP2021150351A (ja) * 2020-03-17 2021-09-27 東レエンジニアリング株式会社 基板浮上搬送装置
WO2022202396A1 (ja) * 2021-03-25 2022-09-29 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置、塗布処理装置、基板搬送方法および基板搬送プログラム
CN114602741B (zh) * 2022-03-30 2023-08-29 深圳市鑫龙邦科技有限公司 一种卷对卷cob灯带点胶机及方法
WO2024009470A1 (ja) * 2022-07-07 2024-01-11 Jswアクティナシステム株式会社 搬送装置、搬送方法、及び半導体装置の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI603419B (zh) * 2012-06-28 2017-10-21 Seiko Epson Corp processor

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005132626A (ja) 2005-05-26
TW200517322A (en) 2005-06-01
CN1611430A (zh) 2005-05-04
JP4426276B2 (ja) 2010-03-03
TWI261041B (en) 2006-09-01
KR20050033426A (ko) 2005-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100628699B1 (ko) 반송장치, 도포시스템, 및 검사시스템
JP4723201B2 (ja) 処理中の大型平板柔軟媒体の搬送と拘束のための高精度気体軸受軸方向分割ステージ
KR100399813B1 (ko) 노광장치
JP5092627B2 (ja) 基板搬送装置及び基板検査装置
KR20080034518A (ko) 공작물 반송 장치, 그것을 구비한 화상 형성 장치 및공작물 반송 방법
JP5315013B2 (ja) 基板搬送装置、及び、基板搬送方法
KR20180033598A (ko) 기판제조장치 및 기판제조방법
JP2008063130A (ja) 基板検査装置
JP2008147291A (ja) 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
JP5386238B2 (ja) パネル基板搬送装置および表示パネルモジュール組立装置
KR20120116880A (ko) 도포장치
JP2008076170A (ja) 基板検査装置
JP2007248291A (ja) 基板検査装置
CN108701635B (zh) 基板浮起输送装置
JP5303129B2 (ja) 塗布装置及び塗布方法
JP2009094184A (ja) 基板処理装置および処理方法
CN108305843B (zh) 基板处理装置及基板处理装置的异常状况检测方法
US20090092467A1 (en) Stage apparatus
KR101631414B1 (ko) 도포 장치
JP4842348B2 (ja) 搬送装置、塗布システム、塗布方法、検査システム及び保持機構
JP2009229301A (ja) 基板検査装置
KR20200026051A (ko) 스테이지 측정 지그, 도포 장치 및 스테이지 측정 방법
KR20150073931A (ko) 도포 장치 및 도포 방법
KR102525265B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP2008149238A (ja) 塗布装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120907

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130903

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee