JP2010195592A

JP2010195592A - 浮上ユニット及び基板検査装置

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Publication number: JP2010195592A
Application number: JP2010062632A
Authority: JP
Inventors: Mamoru Yasuda; 守安田
Original assignee: Olympus Corp
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 2010-03-18
Filing date: 2010-03-18
Publication date: 2010-09-09

Abstract

【課題】ガラス基板を平面状に矯正する。
【解決手段】ガラス基板２４を搬送する基板搬送ステージにおいて、前記ガラス基板２４の搬送方向に沿って各々両側に配列され、エアーを吹出して前記ガラス基板２４を浮上させる浮上ブロック２、３と、これら浮上ブロック２、３の間に配置され、エアーの吸引により前記ガラス基板２４を非接触で引き込む複数の吸引ブロック４とを備え、吸引ブロック４には、エアー吸引孔１７を設けた溝底部１５の外周縁の全周に亘ってパッド壁１６を有する長方形状の吸引パッド１４を設け、パッド壁１６の上面は浮上ブロック２、３の上面よりも低く配置し、前記ガラス基板２４の反りを検査するために、前記ガラス基板２４の搬送方向に対して直角に横切るライン状の検査領域を配置した。
【選択図】図１

Description

本発明は、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、カラーフィルタに用いられる大型基板の平面度を高く保って浮上させる浮上ユニット及びこの浮上ユニットを用いた基板検査装置に関する。

現在、大型ディスプレイの分野では、ＬＣＤやＰＤＰといったフラットディスプレイパネル（ＦＤＰ）に用いられるガラス基板は、画面の大型化やコスト削減などの要望に応じるためにそのサイズが益々大型化する傾向にある。ＦＤＰ製造工程では、大型ガラスを搬送するためにローラを用いている。最近では、大型基板とローラとの間の摩擦が問題となり、ガラス基板を浮上させて搬送することが考えられている。

又、ガラス基板の検査工程では、光学系とＣＣＤカメラとを組み合わせてガラス基板を撮像し、この撮像により取得された画像データを解析処理してガラス基板を検査している。

一方、ガラス基板のパターン生成工程では、半導体回路の生成工程と同様に、
成膜→露光→現像→エッチングの各処理を繰り返してパターンを形成する。ガラス基板は、剛性が低いために、生成した薄膜との熱膨張率の違いや、高温下の処理などの影響を受けて反りを生じることがある。ガラス基板は、サイズの大型化に伴ない、反りの大きさが益々大きくなる傾向にある。

ガラス基板を拡大光学系により検査する場合には、ガラス基板に反りがあると、フォーカスが合わずにガラス基板の画像がぼけてしまう。又、ガラス基板を縮小光学系により検査する場合には、ガラス基板に反りがあると、干渉像や輝度分布が正確に得られなくなる。

このようなガラス基板の反りの影響を解消する技術が例えば特許文献１に記載されている。この特許文献１は、液晶基板などの薄板の両端部を把持して定盤上に移送し、この移送される薄板をエアスライダにより浮上させ、かつ検査ステーションにおいてエアベアリングによりエア吹き付けと吸引とを同時に行って薄板の浮上高さを調整している。

特開２００２−１８１７１４号公報

しかしながら、特許文献１は、検査ステーションに配置されたエアベアリングと薄板を浮上させて搬送するエアースライダとの上面が同一になっているため、大きな反りを矯正するためにエアー吸引力を増加させると、エアー吐出し力とのバランスが崩れてしまう。このように吐出しによる正圧よりも吸引による負圧が大きくなると、負圧によりガラス基板が吸着固着されるおそれがある。

又、特許文献１は、透過照明用のライン光源がガラス基板をエアー搬送する搬送路の幅方向に設けられているため、エアー搬送路が幅方向に途切れ、ガラス基板の先端が衝突するおそれがある。

そこで本発明は、ガラス基板を高い平面度に矯正できる浮上ユニット及びこれを用いた基板検査装置を提供することを目的とする。

本発明は、基板を搬送する基板搬送ステージにおいて、前記基板の搬送方向に対して垂直な方向にライン状に配置された一部領域と、前記一部領域の長手方向に亘って配列され、前記基板に対してエアーを吹出して浮上させる複数の浮上ブロックと、これら浮上ブロックの間に配置され、エアーの吸引により前記基板を非接触で引き込む複数の吸引ブロックと、を備えたことを特徴とする基板搬送ステージである。

また本発明は、基板を搬送する基板搬送ステージと、前記基板の搬送方向に対して垂直な方向に設けられた一部領域を検査する検査部と、前記一部領域に亘って配列され、前記基板に対してエアーを吹出して浮上させる複数の浮上ブロックと、これら浮上ブロックの間に配置され、エアーの吸引により前記基板を非接触で引き込む複数の吸引ブロックとを備え、前記浮上ブロックからのエアー吹き上げと前記吸引ブロックのエアー吸引により前記一部領域上における基板を水平に維持し、前記検査部により前記一部領域全面に亘って検査することを特徴とする基板検査装置である。

以上詳記したように本発明によれば、ガラス基板を平面状に矯正できる浮上ユニット及びこれを用いた基板検査装置を提供できる。

以下、本発明の第１の実施の形態について図面を参照して説明する。

図１は浮上ユニットの外観構成図である。ベース１上には、複数の浮上ブロック２、３と、これら浮上ブロック２、３の間に吸引ブロック４とが設けられている。各浮上ブロック２、３は、それぞれ直方体形状に形成され、図２に示すように内部にエアーの吹上げ圧力を均等化するための各バッファ空間５、６が形成されている。

これら浮上ブロック２、３の各上面位置は、それぞれ同一高さ位置に形成されている。これら浮上ブロック２、３の各上面には、それぞれ複数のエアー吹上げ孔７、８と９、１０が設けられている。これらエアー吹上げ孔７、８及び９、１０は、各浮上ブロック２、３上面に２つに限らず、１つであったり、２つ以上の多数設けてもよい。

これら浮上ブロック２、３の設けられたベース１の部分には、図２に示すように各エアー供給孔１１、１２が設けられている。これらエアー供給孔１１、１２には、圧搾空気供給源１３が接続されている。この圧搾空気供給源１３は、各エアー供給孔１１、１２を通して各バッファ空間５、６内に圧搾空気を所定のエアー圧力Ｐ₁で供給する。この圧搾空気供給源１３は、圧搾空気のエアー圧力Ｐ₁を調整可能である。

吸引ブロック４は、直方体状に形成され、その上部に凹形の吸引パッド１４が設けられている。この吸引パッド１４の上面高さ位置は、各浮上ブロック２、３の上面の高さ位置よりも段差Ｌだけ低く設けられている。

この吸引パッド１４は、長方形状に形成された溝底部１５の外周縁の全周に亘ってパッド壁１６を設けてパッド溝を形成し、このパッド溝の溝底部１５にエアー吸引孔１７を設けている。このエアー吸引孔１７は、溝底部１５の中央部に若しくは両端部に設けてもよく、又、エアー吸引孔１７の数は、１つに限らず、複数設けてもよい。

吸引ブロック４のエアー吸引孔１７に対応するベース１の部分には、図２に示すようにエアー吸引孔１８が設けられている。このエアー吸引孔１８には、負圧空気供給源１９が接続されている。

負圧空気供給源１９は、エアー吸引孔１７、１８を通して吸着パッド１４内のエアーを所定のエアー負圧力Ｐ₂で排気する。この負圧空気供給源１９は、エアー負圧力Ｐ₂を調整可能である。

又、各浮上ブロック２、３と吸引ブロック４との間には、大気中のエアーをエアー吸引ブロック４の吸引パッド１４上面に供給するための各隙間２０、２１が設けられている。これら隙間２０、２１は、エアーをエアー吸引ブロック４に充分供給可能な間隔であればよい。これら隙間２０、２１に対応するベース１の各部分には、それぞれ各通気孔２２、２３が設けられている。これら通気孔２２、２３は、１つ又は複数設けられるもので、エアーをエアー吸引ブロック４に充分供給可能な径、個数に形成される。

次に、上記の如く構成された装置の動作について説明する。

圧搾空気供給源１３は、各エアー供給孔１１、１２を通して各バッファ空間５、６内に圧搾空気を所定のエアー圧力Ｐ₁で供給する。これら圧搾空気は、バッファ空間５、６内においてエアー圧力Ｐ₁程度のエアーの圧力分布に均等化されて各エアー吹上げ孔７、８と９、１０から吹上げられ、ガラス基板２４を浮上させる。

一方、負圧空気供給源１９は、エアー吸引孔１７、１８を通してエアーを所定のエアー負圧力Ｐ₂で排気する。これにより、吸引パッド１４は、パッド溝内の全体からエアーを吸引し、このパッド溝内からエアー吸引孔１７、１８を通してエアーを排気する。これにより、吸引パッド１４の開口側の全面は、エアーの吸引により負圧となり、ガラス基板２４を吸引する。

ガラス基板２４が図１に示すように吸引パッド１４のパッド溝の長手方向と同一方向に搬送されと、ガラス基板２４は、各エアー吹上げ孔７、８と９、１０から吹上げられるエアー圧力によりガラス基板２４と各浮上ブロック２、３の上面との間にエアー層が形成されて各浮上ブロック２、３上に浮上する。

これと共にガラス基板２４は、吸引パッド１４のパッド溝の全面からエアー吸引孔１７、１８を通して吸引されるエアー負圧力により吸引パッド１４側に引き寄せられる。このときのエアー負圧力は、吸引パッド１４の僅か上方にガラス基板２４が浮上しているので、ガラス基板２４に対して吸引パッド１４のパッド溝の全面に加わる。

このときのエアーの流れは、各エアー吹上げ孔７、８と９、１０から吹上げられたエアーがガラス基板２４に吹き付けられ、各浮上ブロック２、３の上面とガラス基板２４との間を流れて吸引パッド１４の上面に至り、この吸引パッド１４のパッド溝内を通してエアー吸引孔１７、１８に吸引される。

ガラス基板２４に生じている反りを矯正するために、負圧空気供給源１９に
りエアー吸引孔１８及びエアー吸引孔１７を通して排気するエアー負圧力Ｐ₂を大きくすると、長方形状に形成された吸引パッド１４のパッド溝の全面を通して吸引されるエアー負圧力が大きくなり、ガラス基板２４を吸引パッド１４側に引き寄せる力が大きくなる。

この結果、各エアー吹上げ孔７、８と９、１０から吹上げられるエアー圧力と、吸引パッド１４を通して吸引されるエアー負圧力とのバランスを調整すれば、ガラス基板２４の反りが矯正される。

ガラス基板２４の反り量が大きい場合には、吸引パッド１４を通して吸引するエアー負圧力を大きくする。エアー負圧力を大きくすると、ガラス基板２４は、図３に示すように下降して各浮上ブロック２、３に近付き、ガラス基板２４と各浮上ブロック２、３の上面との隙間も狭くなる。

このときのエアーの流れは、図３に示すようにベース１の各通気孔２２、２３から各浮上ブロック２、３と吸引ブロック４との間の各隙間２０、２１を通して吸引パッド１４の上面に流れ、この吸引パッド１４のパッド溝内からエアー吸引孔１７、エアー吸引孔１８を通して排気される。

このとき、ガラス基板２４は、各浮上ブロック２、３とガラス基板２４との間に吹上げられたエアー層により各浮上ブロック２、３上で浮上する。又、吸引パッド１４の上面は、各浮上ブロック２、３の上面よりも低い位置に設けられているので、吸引パッド１４とガラス基板２４との隙間が確保され、エアー負圧力を大きくしても、この間隔を介して吸着パッド１４の周囲からエアーが流入し、吸着パッド１４がガラス基板２４により塞がれることがない。

従って、上記第１の実施の形態において、吸引パッド１４とガラス基板２４との間隔がエアー層より確実に確保され、かつ吸着パッド１４の上面が各浮上ブロック２、３の上面より一段低くし、ガラス基板２４との間隔を充分に確保されるので、ガラス基板２４に生じている大きな反りを矯正するためにエアー吸引孔１７から排気するエアー負圧力Ｐ₂を大きくしても、ガラス基板２４は吹上げられたエアー層により各浮上ブロック２、３の上面に接触することなく、かつ吸引パッド１４に吸着されることなく、エアーの吐出し力（正圧力）と吸引力（負圧力）とによりガラス基板２４の浮上高さを高精度に制御できる。

又、各浮上ブロック２、３へのエアーの供給系統と吸引ブロック４からのエアーの吸引系統とをそれぞれ独立させているので、ガラス基板２４の反りを矯正するために、エアー吹き出し圧力とエアー吸引力とをそれぞれ別々にバランス良く調整でき、これらエアー吹き出し圧力とエアー吸引力との調整によりガラス基板２４の浮上高さを制御できる。

又、ガラス基板２４の剛性に応じてエアー吹き出しとエアー吸引との各圧力やそのバランスを調整することによって反りを矯正できる。さらに、各浮上ブロック２、３及び吸引パッド１４を別々に設計することができるので、これら各浮上ブロック２、３の形状や吸引パッド１４の径などの設計自由度が高くなる。

各浮上ブロック２、３と吸引ブロック４との各間に各隙間２０、２１を設けたので、ガラス基板２４に生じている大きな反りを矯正するために吸引パッド１４からのエアー吸引力を大きくしても、各隙間２０、２１を通してエアーを吸引パッド１４に流すことができ、ガラス基板２４の大きな反りを確実に矯正できる。

又、吸引パッド１４のパッド溝の長手方向は、ガラス基板２４の搬送方向と同一方向に設けるので、搬送中にガラス基板２４の端面が通り過ぎる途中であっても、浮上ユニット上方における吹き出しと吸引とのエアー圧力分布には変化が無く、ガラス基板２４を上下方向に振らすことなく安定して搬送できる。

次に、本発明の第２の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、図１及び図２と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。

図４及び図５は浮上ユニットの構成図であって、図４は外観構成図、図５は断面構成図である。本実施の形態は、各浮上ブロック２、３と吸引ブロック４とを面接触させて各隙間２０、２１を無くし、各浮上ブロック２、３と吸引ブロック４との間に段差Ｌを直接設けたものである。

このような構成であれば、各エアー吹上げ孔７、８と９、１０から吹上げられるエアー圧力によりガラス基板２４は、各浮上プレート７、８の上方に浮上する。これと共にガラス基板２４は、吸引パッド１４のパッド溝の全面からエアー吸引孔１７を通して吸引されるエアー負圧力により吸引パッド１４側に引き寄せられる。

このときのエアーの流れは、図５に示すように各エアー吹上げ孔７、８と９、
１０から吹上げられたエアーがガラス基板２４に吹き付けられ吸引パッド１４に流れ、エアー吸引孔１７、１８を通して吸引される。

このような構成の場合、各浮上ブロック２、３と吸引ブロック４との間の各隙間２０、２１を無くした分だけ吸引パッド１４に流れ込むエアー量が少なくなることから吸引パッド１４のエアー負圧力を大きくできないが、ガラス基板２４が薄くかつガラス基板２４に生じている反り量が少なければ、充分に反りを矯正するだけのエアー負圧力を得ることはできる。

なお、上記各実施の形態では、２つの浮上ブロック２、３の間に吸引ブロック４を設けたが、１つの浮上ブロックに１つの吸引ブロックを隣接して設けてもよい。又、ガラス基板２４の浮上手段としてエアー浮上方式を用いているが、これに限らず、静電浮上方式を用いてもよい。又、各エアー吹上げ孔７、８、９、１０からエアーを吹上げる方式に限らず、各浮上プレート７、８を多孔質部材からなるプレートに取り替え、この多孔質プレートの全面から均一な圧力のエアーを吹き上げてガラス基板２４を浮上させてもよい。

又、吸引パッド１４の形状は、長方形状に限らず、楕円形状でもよく、ガラス基板２４が浮上装置上を搬送するときに、ガラス基板２４に対するエアー吹上げの面積とエアー吸引の面積との割合が大きく変化しない形状であればよい。このようにガラス基板２４に対するエアー吹上げの面積とエアー吸引の面積との割合が大きく変化しなければ、ガラス基板４の端面が搬送方向に通り過ぎる途中であってもエアー圧力分布に変化がなく、ガラス基板２４を上下方向に振らすことなく安定して搬送できる。

次に、本発明の第３の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、図１及び図２と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。

図６は上記各実施の形態の浮上ユニットを用いた基板検査装置の概略構成図である。搬送ステージ３０は、上面に複数のエアー吹上げ孔３１と複数のエアー吸引孔３２とが所定の間隔で設けられている。ガラス基板２４は、各エアー吹上げ孔３１からのエアー吹上げと各エアー吸引孔３２からのエアー吸引とにより安定して搬送ステージ３０の上方に浮上し、図示されない各吸着保持機構によってガラス基板２４の両端部が引っ張られて矢印イ方向に搬送される。なお、搬送ステージ３０は、各エアー吹上げ孔３１及びエアー吸引孔３２を設けるに限らず、エアー吹き上げ孔３１のみを設けてもよく、多孔質部材の全面から均一な圧力のエアーを吹き上げてガラス基板２４を浮上させてもよい。

顕微鏡本体３３は、図示しない門型アームに設けられ、搬送ステージ３０の上方をガラス基板２４のエアー搬送方向（イ）に対して垂直な矢印ロ方向に移動可能になっている。この顕微鏡本体３３の移動により観察される部分がガラス基板２４に対する検査領域になる。

この検査領域に対応する搬送ステージ３０の上面には、上記第１又は第２の実施の形態で説明した浮上ブロック２、３と吸引ブロック４とからなる浮上ユニット３４が複数配列されている。これら浮上ユニット３４は、吸引ブロック４の各吸引パッド１４の各パッド溝の長手方向がガラス基板２４のエアー搬送方向（イ）に対して平行になるように設けられている。

このような構成であれば、ガラス基板２４は、搬送ステージ３０の各エアー吹上げ孔３１からのエアー吹上げと各エアー吸引孔３２からのエアー吸引とにより搬送ステージ３０の上方に安定して浮上し、各吸着保持機構によって両端部が引っ張られて矢印イ方向に所定ピッチ毎に搬送される。

一方、顕微鏡本体３３の検査領域に浮上ユニット３４を配置することにより、
エアーの吹き上げと吸引によりガラス基板２４の浮上高さを高精度に位置制御でき、検査領域上においてガラス基板２４の水平度を高精度に維持することができる。

ガラス基板２４の検査では、顕微鏡本体３３の拡大像を観察して欠陥部を検出するので、顕微鏡本体３３の倍率が高くなるに従って焦点深度が浅くなる。このため、ガラス基板２４の水平度が出ていないと、顕微鏡本体３３の焦点が合わず、ガラス基板２４の拡大像がぼけてしまうが、顕微鏡本体３３の検査領域に設けられた各浮上ユニット３４によりガラス基板２４の反りが矯正され、ガラス基板２４は検査領域上で水平かつ一定の高さに正確に保持されるので、顕微鏡本体３３により検査領域全面に亘って焦点の合ったガラス基板２４の拡大像を得ることができ、ガラス基板２４の検査精度を高くできる。

なお、上記第３の実施の形態では、搬送ステージ３０の上面に複数の浮上ユニット３４を配置したが、これら浮上ユニット３４は、図７及び図８に示す配置にしてもよい。図７に示すエアー搬送ステージ３０には、複数のエアー吹上げ孔３１が適宜な間隔で設けられると共に、ガラス基板２４の搬送方向（イ）に沿って複数の溝３５が並設されている。又、搬送ステージ３０は、多孔質部材により形成されてもよい。この搬送ステージ３０の各溝３５で分かれた各上面における顕微鏡本体３３の観察領域には、それぞれ各設置用穴３６が設けられ、これら設置用穴３６内に各浮上ユニット３４が設けられている。

図８に示すエアー搬送ステージ３０では、各溝３５の各底面における顕微鏡本体３３の観察領域にそれぞれ浮上ユニット３４が設けられている。

浮上ユニット３４の配置であっても、第３の実施の形態と同様の作用効果が得られる。

なお、この発明は、上記各実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。

上記各実施形態で説明した浮上ユニットは、ＦＤＰのガラス板の基板検査装置に限らず、半導体製造ラインなどの各種基板の搬送ラインに適用することが可能であり、又はカラー液晶ディスプレイのフィルタの検査装置での搬送ラインにも適用可能である。又、ステッパにおいて上記各実施形態で説明した浮上装置を適用すれば、非接触状態で半導体基板をステージ上に浮上保持して露光処理ができる。

本発明に係わる浮上ユニットの第１の実施の形態を示す外観構成図。同ユニットの断面構成図。同ユニットにおける吸引パッドによるエアー負圧力を大きくしたときのガラス基板と浮上プレートとの隙間を示す図。本発明に係わる浮上ユニットの第２の実施の形態を示す外観構成図。同ユニットの断面構成図。本発明に係わる浮上ユニットを用いた基板検査装置の第３の実施の形態を示す概略構成図。本発明に係わる浮上ユニットの基板検査装置における配置の変形例を示す図。本発明に係わる浮上ユニットの基板検査装置における配置の変形例を示す図。

１：ベース、２，３：浮上ブロック、４：吸引ブロック、５，６：バッファ空間、７，８：浮上プレート、９ａ，９ｂ，１０ａ，１０ｂ：エアー吹上げ孔、１１，１２：エアー供給孔、１３：圧搾空気供給源、１４：吸引パッド、１５：溝底部、１６：パッド壁、１７，１８：エアー吸引孔、１９：負圧空気供給源、２０，２１：隙間、２２，２３：通気孔、２４：ガラス基板、３０：搬送ステージ、３１：エアー吹上げ孔、３２：エアー吸引孔、３３：顕微鏡本体、３４：浮上ユニット、３５：溝、４０：べース、４１：多孔質部材、４２：溝、４３：エアー吸引部、４４：底部、４５：壁、４６：エアー吸引孔、４７：半導体ウエハ。

Claims

基板を搬送する基板搬送ステージにおいて、
前記基板の搬送方向に対して垂直な方向にライン状に配置された一部領域と、
前記一部領域の長手方向に亘って配列され、前記基板に対してエアーを吹出して浮上させる複数の浮上ブロックと、
これら浮上ブロックの間に配置され、エアーの吸引により前記基板を非接触で引き込む複数の吸引ブロックと、
を備えたことを特徴とする基板搬送ステージ。
前記浮上ブロックと前記吸引ブロックは、２つの浮上ブロックの間に１つの吸引ブロックを配置した浮上ユニットに構成し、この浮上ユニットを前記一部領域に複数配列したことを特徴とする請求項１記載の基板搬送ステージ。
前記浮上ブロックと前記吸引ブロックは、前記一部領域に亘って交互に配列されることを特徴とする請求項１記載の基板搬送ステージ。
前記吸引ブロックは、上部に凹形のパッド窪を有する長方形に形成され、この吸引ブロックの長手方向を前記基板の搬送方向と同一方向となるように配置されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板搬送ステージ。
前記吸引ブロックは、その上面の高さが前記浮上ブロックの上面の高さよりも低い位置に配置されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板搬送ステージ。
前記吸引ブロックは、エアー負圧力を調整可能な負圧空気供給源に接続され、前記負圧空気供給源は、前記エアー負圧力を調整することにより前記各浮上ブロックにより浮上した基板の浮上高さを制御することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の基板搬送ステージ。
基板を搬送する基板搬送ステージと、
前記基板の搬送方向に対して垂直な方向に設けられた一部領域を検査する検査部と、
前記一部領域に亘って配列され、前記基板に対してエアーを吹出して浮上させる複数の浮上ブロックと、
これら浮上ブロックの間に配置され、エアーの吸引により前記基板を非接触で引き込む複数の吸引ブロックとを備え、
前記浮上ブロックからのエアー吹き上げと前記吸引ブロックのエアー吸引により前記一部領域上における基板を水平に維持し、前記検査部により前記一部領域全面に亘って検査することを特徴とする基板検査装置。
前記基板搬送ステージは、前記一部領域を除く両側に前記基板にエアーを吹き上げて浮上させるエアー吹き上げ孔を多数設け、更に、前記基板を浮上させた状態で前記搬送方向に搬送する吸着保持機構を備えたことを特徴とする請求項７記載の基板検査装置。
前記吸引ブロックは、エアー負圧力を調整可能な負圧空気供給源に接続され、前記負圧空気供給源は、前記エアー負圧力を調整することにより前記一部領域上に浮上した基板の浮上高さを制御することを特徴とする請求項７記載の基板検査装置。
前記浮上ブロックは、圧搾空気のエアー圧力を調整可能な圧搾空気供給源に接続され、前記吸引ブロックは、エアー負圧力を調整可能な負圧空気供給源に接続され、前記圧搾空気供給源または負圧空気供給源によりエアー吹き出し圧またはエアー吸引力を調整することにより前記検査領域上に浮上した前記基板の浮上高さを制御することを特徴とする請求項７記載の基板検査装置。
前記基板の浮上高さは、前記検査部の検査領域全面に亘って焦点が合うように前記基板を水平かつ一定の浮上高さに制御されることを特徴とする請求項９又は１０に記載の基板検査装置。