JP2006216956A - 配線構造を有するメモリモジュール - Google Patents

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Abstract

【課題】配線の長さを最小化し、配線間のインピーダンスの不一致を解決するためのメモリモジュールを提供する。
【解決手段】本発明のメモリモジュールは、印刷回路基板と、前記印刷回路基板の第1面上に配置される第1列のメモリ素子と、前記印刷回路基板の第2面上に配置される第2列のメモリ素子と、多数のビアとを備え、前記第1列のメモリ素子は、前記印刷回路基板の基準軸に対して前記第2列の位置対をなすメモリ素子に各々オーバーラップされるように配置され、前記それぞれのビアは、前記第1列の第1メモリ素子の入出力端子を前記第2列の第2メモリ素子の入出力端子に連結させる経路の一部となり、前記第2列の第2メモリ素子は、前記第1メモリ素子に対応して位置対をなす第2列の第3メモリ素子に隣接することを特徴とする。
【選択図】図3

Description

本発明は、メモリモジュールに関し、より詳細には、メモリモジュールの形状に関する。
メモリモジュールの形状は、大きさ及びピンの構成により特徴付けられる。従来、メモリモジュールの形状には、SIMM(Single In-line Memory Module)タイプがある。また、最近に開発されたメモリモジュールには、DIMM(Dual In-line Memory Module)タイプがある。DIMMタイプであるメモリモジュールは、多様な方法により変形されたタイプを有する。
図1aは、従来技術により、図1b及び図1cにおけるIa−Ia’線 に沿ってDIMMタイプのメモリモジュールを切断した断面図である。
図1aを参照すれば、DIMMタイプのメモリモジュール100は、印刷回路基板102及びメモリ素子104_i(すなわち、104_1、104_2、104_3、104_4)を有する。前記メモリ素子は、パッケージ化される。例えば、パッケージ化したメモリ素子は、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、BGA(Ball Grid Array)またはWFP(Wafer-level Fabricated Package)であることができる。前記図1aでは、前記メモリ素子は、BGAタイプである。前記印刷回路基板102は、前面130と背面132とを有する。導電性部材(以下、「配線」という)は、印刷回路基板102の前面130及び背面132にプリントされる。より詳細には、配線116、118、124、126は、印刷回路基板102の前面130上に示され、他の配線114、120、122、128は、印刷回路基板102の背面132に示される。印刷回路基板102に形成されたビア108_6、110_7が前記図1aに示されている。また、導電性ボール106は、メモリ素子104_i内の回路から電気的信号を印刷回路基板102上に設けられた多様な配線に伝達する。
印刷回路基板102の基準軸、すなわち長手方向の軸に対してメモリ素子104_1、104_2は、互いにオーバーラップされるように、第1基準位置に配置される。また、メモリ素子104_3、104_4は、互いにオーバーラップされるように、第2基準位置に配置される。すなわち、メモリ素子104_1、104_2は、対で配置され、メモリ素子104_3、104_4は、対で配置される。
図1bは、従来技術により、メモリ素子104_1、104_2が実装される領域134を有する印刷回路基板102の印刷された配線及びビアを示す平面図であり、図1cは、従来技術により、メモリ素子104_3、104_4が実装される領域136を有する印刷回路基板102の印刷された配線及びビアを示す平面図である。
図1bに、ビア108_1、108_2、…、108_4が示されている。また、図1cに、ビア110_1、110_2、…、110_4が示されている。前記図1b及び図1cに、印刷回路基板102の前面130上に形成された配線及び背面132上に形成された配線が示されている。説明の便宜上、図1b及び図1cで、配線は、参照番号114、116、122、124で表される。前記図1b及び図1cの充分の理解は、図2a乃至図2cにより一層容易になるだろう。
図2aは、従来技術により、メモリ素子がオーバーラップされて実装されるDIMMタイプのメモリモジュールにおいて印刷回路基板の前面230上に形成された印刷された配線及びビアの平面図であり、図2bは、従来技術により、メモリ素子がオーバーラップされて実装されるDIMMタイプのメモリモジュールにおいて前記図2aと同じ印刷回路基板の背面232上に形成された印刷された配線及びビアを示す平面図である。また、図2cは、従来技術により、オーバーラップされ且つ対で配置されるメモリ素子が実装されるDIMMタイプのメモリモジュールにおいて印刷回路基板の印刷された配線及びビアを示す平面図である。前記図2a及び図2bにより、図1aと関連した図1b及び図1cの内容が一層明確になる。
図2cを参照すれば、中間軸24に対して前記図2bを180°回転させ、前記図2bの回転した面上に図2aを重畳すれば、図2cの構成が導き出される。また、回転軸26に対して図2aを左側方向に回転させ、図2bを回転軸26に対して右側方向に回転させ、且つ図2a及び図2bを、本や紙を折るように密着させた後、密着した本または折られた紙形状を右側方向に回転させ、且つ図2aの配線形状が上部に向かうまで回転させれば、図2cの構成を得ることができる。
図2cで、ビア11及び12は、各々配線16、20及び22、18に連結される。また、配線16及び22に各々連結されたパッド1a及び1b’は、互いに電気的に開放された状態であるが、これらは、互いにオーバーラップされる。したがって、前記図1cで、1つの円形で示されたパッドは、参照番号1a及び1b’により同時に称される。また、配線20及び18に各々連結されたパッド1a’及び1bは、互いに電気的に開放された状態であり、これらは、互いにオーバーラップされる。したがって、前記図1cに示された1つの円形は、参照番号1a及び1b’により同時に称される。
したがって、図1a及び図1bを参照すれば、メモリ素子のボール106は、それぞれのメモリ素子104_iにおいて互いに対向する側面に沿って並んで配置される。ボール106の配置とは異なって、ビア108_iは、それぞれのメモリ素子104_iの中心軸に沿って集合された形状で配置される。このようなビアの配置は、配線の長さを増加させ、不必要な伝送遅延を招く。また、中心軸に集合された形状で配置されたビアは、配線に電気的に連結される。前記配線は、互いに長さが異なるが(すなわち、La≠Lb)、これは、配線間にインピーダンスの不一致を発生させる原因となり、このため、所望しない反射波を形成し、信号の歪みを発生させるようになる。
本発明は、前述のような問題点を解決するためになされたもので、本発明の目的は、配線の長さを最小化し、配線間のインピーダンスの不一致を解決するためのメモリモジュールを提供することにある。
前記目的を達成するために、本発明の一態様に係るメモリモジュールは、印刷回路基板と、前記印刷回路基板の第1面上に配置される第1列のメモリ素子と、前記印刷回路基板の第2面上に配置される第2列のメモリ素子と、多数のビアとを備え、前記第1列のメモリ素子は、前記印刷回路基板の基準軸に対して前記第2列の位置対をなすメモリ素子に各々オーバーラップされるように配置され、前記それぞれのビアは、前記第1列の第1メモリ素子の入出力端子を前記第2列の第2メモリ素子の入出力端子に連結させる経路の一部となり、前記第2列の第2メモリ素子は、前記第1メモリ素子に対応して位置対をなす第2列の第3メモリ素子に隣接することを特徴とする。
また、本発明の他の態様に係るメモリモジュールは、印刷回路手段と、前記印刷回路手段の第1面上に配置される第1列のメモリ素子と、前記印刷回路手段の第2面上に配置される第2列のメモリ素子と、多数のビア手段とを備え、前記第1列のメモリ素子は、前記印刷回路手段の基準軸に対して前記第2列の位置対をなすメモリ素子に各々オーバーラップされるように配置され、前記ビア手段の一部は、前記第1列の第1メモリ素子を、対応する前記第2列の第2メモリ素子に連結させ、前記第2列の第2メモリ素子は、前記第1メモリ素子に対応して位置対をなす第2列の第3メモリ素子に隣接することを特徴とする。
本発明によれば、配線及びビアの適切な配置により、メモリ素子から、又はメモリ素子に伝達される信号の経路を最小化することができ、信号経路間の長さを実質的に同一にして、インピーダンスの不整合を改善することができる。
以下、添付の図面を参照して、本発明に係る好適な実施例を詳細に説明する。以下、開示される本発明の実施例は、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形及び変更が可能である。したがって、本発明の実施例は、例示的なものに過ぎず、本発明の範囲を限定するものではない。
特に、構造や領域の相対的な厚み及び位置は、本発明の明確な理解のために、縮小又は誇張されることができ、開示される図面は、大きさ及び配置において実際の製品と多少差異があり得る。また、基準構造上に他の構造が形成されることは、基準構造上に他の構造が直接形成されることができ、それらの間に第3の構造が介在されることができることを意味する。
また、多数の図面における参照番号の類似性は、少なくともこれらが類似の構成要素であることを意味する。
図3は、本発明の好ましい実施例に係るメモリモジュール300を示すブロック図である。前記メモリモジュール300は、サーバに使われるRegistered DIMM(RDIMM)、個人用コンピュータに使われるUnregistered DIMM(UDIMM)、Small Outline DIMM、MicroDIMM(MDIMM)またはDouble Data Rate DIMM(DDRDIMM)などであることができる。
図3を参照すれば、メモリモジュール300は、多数のメモリ素子301、302、…、317、318を有し、それぞれのメモリ素子は、互いに同じ仕様と性能を有する。また、前記メモリ素子301、302、…、317、318は、内部に集積回路チップが設けられ、パッケージ化されることができる。パッケージタイプは、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、BGA(Ball Grid Array)またはWFP(Wafer-level Fabricated Package)であることができる。
スタブ(stub)320_k(320_01_k、…、320_18_k)は、メモリ素子301−318を伝送ライン322及び324に各々連結し、スタブ326及び328は、伝送ライン322及び324をバスライン330に連結する。すなわち、メモリ素子301−310は、(k番目の入出力端子に対して)スタブ326、伝送ライン322及び多数のスタブ320_01_k−320_10_kを介してバスライン330に連結される。メモリ素子311−318は、(k番目の入出力端子に対して)スタブ328、伝送ライン324及び多数のスタブ320_11_k−320_18_kを介してバスライン330に連結されることができる。前記図3に示されていない他の群のメモリ素子もメモリモジュールに含まれることができる。この場合、別途に設けられたスタブ、伝送線路及び/またはバスラインが利用されることができる。
メモリ素子301−318のそれぞれの入出力端子は、共通連結されることができる。前記図3で、それぞれのメモリ素子301−318に含まれた多数の入出力端子のうち1つの入出力端子だけが示されている。すなわち、前記図3に示された配線であるスタブ、伝送ライン、スタブ及びバスラインは、説明の便宜上、メモリ素子301−318の共通端子中の1つだけを示したものに過ぎない。
メモリ素子303及び304は、第1基準位置に配置され(基準軸に対して、すなわち前記図3に示されていないが、印刷回路基板の長手方向に対して)、各々は、互いにオーバーラップされる。また、メモリ素子307及び308は、第2基準位置に配置され、各々は、互いにオーバーラップされる。説明の便宜上、メモリ素子304及び304は、位置対332_03&04と言い、メモリ素子307及び308は、位置対332_07&08と言う。
図4aは、本発明の好ましい実施例に係るメモリモジュール400を示す断面図である。
図4aを参照すれば、メモリモジュール400は、印刷回路基板419と、メモリ素子301−318とを有する。偶数メモリ素子302、304、…、318は、印刷回路基板419の第1面上に配置された第1列のメモリ素子を示す。また、奇数メモリ素子301、303、…、311は、印刷回路基板419の第2面上に配置された第2列のメモリ素子を示す。導電性ボール406は、メモリ素子301−318内に設けられた回路を印刷回路基板419上の多様な配線に電気的に連結する。また、メモリモジュール400は、集積回路素子434a及び434bをさらに含むことができる。前記集積回路素子434a及び434bは、バッファまたはレジスト素子であることができる。
基準軸、すなわち印刷回路基板419の長手方向に対して、第1列のメモリ素子は、第2列のメモリ素子にオーバーラップされる。すなわち、メモリ素子303及び304は、第1基準位置に配置され、互いにオーバーラップされる。また、メモリ素子307及び308は、第2基準位置に配置され、互いにオーバーラップされる。 説明の便宜上、前記図4aに示された多数の位置対のうち2つの位置対432_03&04及び432_07&08だけが言及された。メモリ素子301−318のボール406のうち一部は、それぞれのメモリ素子の対向する側面に沿って集合されることができる。これは、前記図1b及び図1cに示されたものと類似している。
また、図4aに示された断面は、メモリ素子301−318の入出力端子の一部だけを示すものである。したがって、前記図4aに示された配線、すなわちスタブ420_i_k及び伝送ライン422及び424は、メモリ素子301−318の共通端子のうち1つの端子及びこれに連結した配線関係を示すものである。
前記図4aに示されたスタブのうち一部のスタブにのみ参照番号が付与されているが、これは、説明の便宜のためのものである。これは、偶数で参照番号が付与されたスタブ及び奇数で参照番号が付与されたスタブに同一に適用される。
図4bは、メモリモジュールの平面図である。
図4bを参照すれば、偶数スタブ420_08_k及び420_08_kが示されており、2つの偶数スタブにのみ参照番号が付与されたことは、説明の便宜のためのものである。ビアに対する参照番号の付与は、メモリ素子が実装される部分にビアが位置することを示す。例えば、ビア408_08&10kは、印刷回路基板419の前面に配置されるメモリ素子308及び310の端子406間の領域に配置される。偶数スタブ420_08_k及び420_14_kは、ビア408_m&(m+2)_kを介して偶数メモリ素子302、304、…、312に連結され、参照番号「m」は、印刷回路基板419の前面430(図4cを参照)に配置されるメモリ素子を示し、「m+2」は、メモリ素子mに隣接するメモリ素子を示す。また、「k」は、メモリ素子のボール間の領域に配置される多数のビアを示す。例えば、スタブ420_08_k及び420_16_kは、ビア408_08&10_k及び408_14&16_kをメモリ素子308及び314に各々連結させる。
また、前記図4bに奇数スタブが示される。前記図4bでは、説明の便宜上、2つの奇数スタブ420_09_k及び420_15_kにのみ参照番号が付与される。奇数スタブは、偶数スタブに比べて印刷回路基板419の他の側面に配置される。前記奇数スタブ(420_09_k、420_15_kなど)は、ビア408_m&(m+2)_kを印刷回路基板419の他の側面上に配置された奇数メモリ素子に連結する。ここで、「m」は、印刷回路基板419の前面439上に配置され、対をなすメモリ素子を称し、「m−1」は、印刷回路基板419の背面432上に位置し、前記「m」番目のメモリ素子に対して位置対をなすメモリ素子を示す。また、「m−3」は、前記位置対をなすメモリ素子に隣接する背面432に位置するメモリ素子を示す。例えば、スタブ420_09_k及び420_15_kは、ビア408_8&10_k及び408_16&14_kをメモリ素子309及び315に連結させる。
図4cは、本発明の好ましい実施例により、メモリモジュール400においてi番目及びi+1番目の素子を示す部分拡大図である。
図4cを参照すれば、印刷回路基板419は、前面430及び背面432を有する。メモリ素子404_i_f及び404_i+1_fは、印刷回路基板419の前面430に搭載され、メモリ素子404_i_r及び404_i+1_rは、印刷回路基板419の背面432に搭載される。導電性部材である配線は、印刷回路基板419の前面430及び背面432に印刷される。特に、配線416_k、418_k、424_k及び426_kは、印刷回路基板419の前面430上に形成され、配線414_k、421_k、422_k及び428_kは、印刷回路基板419の背面432上に形成される。ビア408_kは、印刷回路基板419内に形成される。
ビア408_kは、メモリ素子404_i_rに接触する配線421_kを、メモリ素子404_i+1_fに接触する配線426_kに電気的に連結する。メモリ素子404_i+1_rは、メモリ素子404_i_rに隣接し、メモリ素子404_i+1_rは、前記メモリ素子404_i+1_fと対をなして配置される。前述のように、ビア408_kは、互いに隣接するメモリ素子404_i_r及び404_i+1_rの端子406間に画定された領域に配置される。また、ビアが配置される領域は、隣接するメモリ素子404_i_f及び404_i+1_f間に画定されることができることが分かる。
図4cで、電気的に連結した配線420_k及び426_kの長さの合計La+Lbは、前記図1aに示されたものに比べて非常に短くなることが分かる。これは、ビア408_kがメモリ素子404_i_rまたは404_i+1_fの中央軸の部位に位置せず、メモリ素子404_i_r及び404_i+1_f間の領域に位置するからである。すなわち、ビア408_kは、いずれか一側のメモリ素子に偏って配置されるものでなく、メモリ素子404_i_r及び404_i+1_fの両方の導電性端子に適切に接近されて配置されるからである。
また、前記図4a及び図4cについての理解は、図5a乃至図5cにより一層明確になる。
図5aは、本発明の好ましい実施例により、メモリ素子404_i_f及び404_i+1_fが実装されるメモリモジュール400の印刷回路基板419の前面430上に形成された配線及びビアを示す平面図である。図5bは、本発明の好ましい実施例により、メモリ素子404_i_r及び404_i+1_rが実装されるメモリモジュール400の印刷回路基板419の背面432上に形成された配線及びビアを示す平面図である。図5cは、前記図5bを180°回転し、回転した背面上に図5aを重なるように配置した場合の部分図である。前記図5cで、メモリモジュール400の印刷回路基板419の配線及びビアは、位置対332_i_f&r(メモリ素子404_i_f及び404_i_rを含む)及び332_i+1_f&r(メモリ素子404_i+1_f及び404_i+1_rを含む)がオーバーラップされる領域に設けられる。
図5cで、ビア501及び503は、配線(520、524)及び(522、526)に各々連結される。配線522及び524のパッド1a及び1b’は、互いに電気的に開放された状態を維持し、互いにオーバーラップされるように配置される。したがって、前記図5cで、1つの円形は、2つの参照番号1a及び1b’により称される。同様に、配線526及び520のパッド1a’及び1bは、互いに電気的に開放された状態であり、互いにオーバーラップされるように配置される。したがって、1つの円形は、2つの参照番号1a’及び1bにより称される。
上述した連結関係は、残りのメモリ素子301−318に対して同一に適用される。しかし、印刷回路基板の最外側に配置されるメモリ素子(309、310)、(311、312)及び最も内側に配置されるメモリ素子(301、302)、(317、318)に対しては、連結関係の例外があり得る。対で配置されるスタブ(420_12_k及び420_13_k)、(420_14_k及び420_15_k)、(420_16_k及び420_17_k)、(420_02_k及び420_03_k)、(420_04_k及び420_05_k)、(420_06_k及び420_07_k)及び(420_08_k及び420_09_k)に対しても同一であるが、スタブ420_11_k、420_18_k、420_01_k及び420_10_kは、対で配置されなくてもよい。
図4dは、本発明の好ましい実施例に係るメモリモジュール400’の断面図である。前記図4dは、前記図4aに示された両面実装メモリモジュール400に比べて異なる構成を有する。
図4dを参照すれば、対をなさないスタブ420_11’_k、420_18’_k、420_01’_k及び420_10’_kの位置は、前記図4aに示された対をなさないスタブ420_11_k、420_18_k、420_01_k及び420_10_kと異なる位置に配置される。具体的には、ビアは、メモリ素子311、318、301及び310のパッドから内部に移動した位置に形成される。このような内部に移動した位置は、対をなさないスタブの長さを減少させる。
対をなすスタブに対するビアの位置に関する他の変形実施例は、図6aに示される。
図6aは、本発明の好ましい実施例により、メモリモジュール600の他の構成を示す断面図である。
図6aを参照すれば、メモリモジュール600は、印刷回路基板619及びメモリ素子301−318を有する。偶数メモリ素子302−318は、印刷回路基板619の第1面上の第1列に配置されたメモリ素子を示し、奇数メモリ素子301−311は、印刷回路基板619の第2面上の第2列に配置されたメモリ素子を示す。導電性端子406である導電性ボールは、メモリ素子301−318内の回路を印刷回路基板619上の多様な配線に電気的に連結する。前記メモリモジュール600は、バッファまたはレジスト素子434a及び434bをさらに含むことができる。
印刷回路基板619の基準軸に対して、すなわち長手方向に、第1列のメモリ素子は、第2列のメモリ素子にオーバーラップされるように配置される。すなわち、メモリモジュール600のメモリ素子303及び304は、互いにオーバーラップされるように、第1基準位置に配置され、メモリモジュール600のメモリ素子307及び308は、互いにオーバーラップされるように、第2基準位置に配置される。 説明の便宜上、前記図6aに示された多数の位置対のうち2つの位置対632_03&04及び632_07&08にのみ参照番号が付与される。メモリ素子301−318の端子406のうち一部は、それぞれのメモリ素子の対向する側面に沿って集合されることができる。これは、前記図1b及び図1cに示されたものと類似している。
また、図6aに示された断面は、メモリ素子301−318の入出力端子の一部だけを示す図である。したがって、前記図6aに示された配線、すなわちスタブ620_i_k及び伝送ライン622及び626は、メモリ素子301−318の1つの共通端子に連結された配線関係を示すものである。
また、前記図6aには、偶数スタブ及び奇数スタブが示され、説明の便宜上、偶数スタブのうち2つのスタブ620_12_k及び620_14_kのみが言及され、奇数スタブのうち2つのスタブ620_13_k及び620_15_kのみが言及される。
図6bは、メモリモジュール600の平面図である。
図6bを参照すれば、偶数スタブが示され、説明の便宜上、偶数スタブのうち2つのスタブ620_08_k及び620_16_kのみが言及される。ビアに対する参照番号の付与は、メモリ素子が実装される部分にビアが位置することを示す。例えば、ビア608_10_kは、メモリ素子310が実装される領域の内部に形成される。偶数スタブは、ビア608_m_kを偶数メモリ素子に電気的に連結させ、ここで、参照番号「m」は、印刷回路基板の一面上に配置されるメモリ素子を示す。例えば、スタブ620_08_k及び620_16_kは、ビア608_10_k及び608_16_kをメモリ素子308及び314に電気的に連結させる。
また、図6bで、奇数スタブが示され、説明の便宜上、奇数スタブのうち2つのスタブ620_09_k及び620_15_kだけが言及される。奇数スタブは、偶数スタブに比べて印刷回路基板619の他の側面に配置される。前記奇数スタブは、ビア608_m_kを印刷回路基板619の他の側面上に配置された奇数メモリ素子に連結させる。ここで、「m」は、印刷回路基板619の第1面630に対して位置対をなすメモリ素子を称する。例えば、スタブ620_09_k及び620_15_kは、ビア608_10_k及び608_16_kをメモリ素子309及び315に連結させる。
図6cは、本発明の好ましい実施例により、メモリモジュール600に互いに隣接して実装されるメモリ素子を示す部分拡大図である。
図6cを参照すれば、印刷回路基板619は、前面630と背面632とを有する。メモリ素子604_i_f及び604_i+1_fは、印刷回路基板619の前面630に実装され、メモリ素子604_i_r及び604_i+1_rは、印刷回路基板619の背面632に実装される。導電性部材である配線は、印刷回路基板619の前面630及び背面632に印刷される。特に、配線618_k、624_k及び626_kは、印刷回路基板619の前面630上に形成され、配線614_k、620_k、622_k及び628_kは、印刷回路基板619の背面632上に形成される。ビアは、印刷回路基板619内に形成される。
ビア608_i_kは、メモリ素子604_i_rに接触する配線620_kをメモリ素子604_i+1_fに接触する配線626_kに電気的に連結する。メモリ素子604_i_fは、メモリ素子604_i+1_fに隣接し、メモリ素子604_i_fは、前記メモリ素子604_i_rと位置対をなして配置される。前述のように、ビア608_i_kは、それぞれの位置対をなすメモリ素子604_i_f及び604_i_rの端子406から内部に向かって配置される。
図6cで、電気的に連結した配線620_k及び626_kの長さの合計La+Lbは、前記図1aに示されたものより短くなる。これは、配線626_kの配置に起因したものである。
また、前記図6a及び図6cについての理解は、図7a乃至図7cにより明確になる。
図7aは、本発明の好ましい実施例により、メモリ素子604_i_f及び604_i+1_fが実装されるメモリモジュール600の印刷回路基板619の前面630上に形成された配線及びビアを示す平面図である。図7bは、本発明の好ましい実施例により、メモリ素子604_i_r及び604_i+1_rが実装されるメモリモジュール600の印刷回路基板619の背面632上に形成された配線及びビアを示す平面図である。
図7cは、前記図7bを180°回転し、回転した背面上に図7aを重なるように配置した場合の部分図である。前記図7cで、メモリモジュール600の印刷回路基板619の配線及びビアは、位置対604_i_f&r(メモリ素子604_i_f及び604_i_rを含む)及び604_i+1_f&r(メモリ素子604_i+1_f及び604_i+1_rを含む)がオーバーラップされる領域に設けられる。
前記図7cで、ビア701及び702は、各々配線(720、724)及び(722、726)に連結される。配線726及び724のパッド1a及び1b’の各々は、互いに電気的に開放された状態を維持し、互いにオーバーラップされる。したがって、1つの円形で示されたパッドは、参照番号1a及び1b’により称される。同様に、配線722及び720のパッド1a’ 及び1bの各々は、電気的に開放され、互いにオーバーラップされる。したがって、1つの円形で示されたパッドは、参照番号1a’及び1bにより称される。
前記図6a乃至図6c及び前記図7a乃至7cに開示された内容は、大部分のメモリ素子301−318に適用されるが、対をなさないスタブに対しては、その適用が異なることができる。
前記図6bに示されたビア608_m_k以外に、前記図6bは、メモリ素子310が実装される領域内に位置したビアのコラム640と、メモリ素子318が実装される領域内に位置したビアのコラム642とを開示する。コラム640は、ビア608_10’_kを含み、コラム642は、ビア608_18’_kを含む。詳細には、コラム640及び642内のビアは、メモリ素子310及び318の各々のパッドから内部方向に移動した位置に配置される。また、ビアは、メモリ素子302−308及び312−316に対応して形成された連続パターンで形成され、隣接しながら、互いに対向するように形成される。前述したビアの内部位置は、対をなさないスタブEI長さを短縮させる効果をもたらす。
印刷回路基板の他面上に配置されたメモリ素子の第1列と第2列間の他の配置も考慮できる。例えば、図8の配置も考慮できる。
図8は、本発明の一実施例に係るメモリモジュール800の断面図である。
図8を参照すれば、メモリモジュールは、両面実装形態を有し、前記メモリモジュール800は、メモリモジュール300の1つの実施例になることができる。前記図8で、メモリモジュール800は、印刷回路基板819及びメモリ素子301−311を有する。偶数メモリ素子302−318は、印刷回路基板819の第1面上の第1列に配置されたメモリ素子を指す。奇数メモリ素子301−311は、印刷回路基板819の第2面上の第2列に配置されたメモリ素子を指す。導電性端子406である導電性ボール、すなわちメモリ素子の入出力端子は、メモリ素子301−318の回路を印刷回路基板819上の多様な配線に電気的に連結する。また、前記メモリモジュール800は、バッファまたはレジスト素子434a及び434bをさらに含むことができる。
基準軸である印刷回路基板819の長手方向に対して、第1列のメモリ素子は、参照番号850で示される点線矢印のように第2列のメモリ素子に比べて若干移動した位置に配置されることができる。しかし、このような位置の移動にもかかわらず、第1列に配置されたメモリ素子は、第2列に配置されたメモリ素子にオーバーラップされるものと述べられることができる。すなわち、メモリモジュール800のメモリ素子303及び304は、実質的に第1基準位置上に配置され、メモリ素子304は、第1基準位置から若干移動した位置に配置される。同様に、メモリモジュール800のメモリ素子307及び308は、実質的に第2基準位置上に配置され、メモリ素子308は、第2基準位置から若干移動した位置に配置される。
説明の便宜上、前記図8に示された多数の位置対のうち2つの位置対832_03&04及び832_07&08にのみ参照番号が付与される。位置対832_07&08は、メモリ素子307及び308を含み、位置対832_03&04は、メモリ素子303及び304を含む。前記図8で、メモリ素子301−318の端子406のうち一部は、それぞれのメモリ素子において対向する位置に集合される。
また、前記図8に示された断面は、メモリ素子301−318の入出力端子の一部だけを示すものである。したがって、前記図8に示された配線、すなわちスタブ820_12_k及び伝送ライン822及び824は、メモリ素子301−318の入出力端子のうち1つの端子及びこれに連結した配線関係を示すものである。
また、前記図8には、偶数スタブ及び奇数スタブが示され、説明の便宜上、偶数スタブのうち2つのスタブ820_12_k及び820_14_kだけが言及され、奇数スタブのうち2つのスタブ820_13_k及び820_15_kだけが言及される。
ビア852_m&m+1_kは、m番目のメモリ素子に対応する配線を、m+1番目のメモリ素子に対応する配線に連結する経路の一部になることができる。図8で、ビアに対する参照番号の付与は、前記ビアがm番目のメモリ素子とm+1番目のメモリ素子間の経路の一部になることができることを意味する。
例えば、ビア852_6&7_kは、メモリ素子306に対応する配線とメモリ素子307に対応する配線を連結する経路の一部となる。また、メモリ素子305は、メモリ素子307に隣接して配置される。ビア852_6&7_kの位置は、基準軸に対して互いに隣接するメモリ素子307及び305の端子406間に画定された領域に配置される。前記図8に示されたビアが位置する領域は、メモリ素子308の端子406から内部方向に配置され、メモリ素子307の端子406から外部方向に配置される。また、メモリ素子308は、メモリ素子307と位置対をなす。同様に、ビア852_17&16_kは、メモリ素子317に対応する配線とメモリ素子316に対応する配線を連結する経路の一部になることができる。
また、図8に示された対をなさないスタブに割り当てられたビアの位置は、前記図4dに示されたような方式で再配置されることができる。
図9は、本発明の一実施例に係るメモリモジュール900の断面図である。
図9を参照すれば、メモリモジュール900は、両面実装形態を有し、前記メモリモジュール900は、メモリモジュール300の1つの実施例になることができる。
図9で、メモリモジュールは、印刷回路基板919及びメモリ素子301−318を含む。偶数メモリ素子302−318は、印刷回路基板919の第1面上に配置された第1列のメモリ素子を示す。奇数メモリ素子301−311は、印刷回路基板919の第2面上に配置された第2列のメモリ素子を示す。導電性端子406である導電性ボール、すなわちメモリ素子の入出力端子は、メモリ素子301−318に設けられた回路を配線に電気的に連結させる。また、メモリモジュール900は、バッファまたはレジスト素子434a及び434bをさらに含むことができる。
基準軸である印刷回路基板919の長手方向に対して、第1列のメモリ素子は、参照番号950で示される点線矢印のように第2列のメモリ素子に比べて若干移動した位置に配置されることができる。しかし、このような位置の移動にもかかわらず、第1列に配置されたメモリ素子は、第2列に配置されたメモリ素子にオーバーラップされる。すなわち、メモリモジュール900のメモリ素子303及び304は、実質的に第1基準位置上に配置され、メモリ素子304は、第1基準位置から若干移動した位置に配置される。同様に、メモリモジュール900のメモリ素子307及び308は、実質的に第2基準位置上に配置され、メモリ素子308は、第2基準位置から若干移動した位置に配置される。
説明の便宜上、前記図9に示された多数の位置対のうち2つの位置対932_03&04及び932_07&08にのみ参照番号が付与される。位置対932_07&08は、メモリ素子307及び308を含み、位置対932_03&04は、メモリ素子303及び304を含む。前記図9で、メモリ素子301−318の端子406のうち一部は、それぞれのメモリ素子において対向する位置に集合される。
また、前記図9に示された断面は、メモリ素子の入出力端子の一部だけを示すものである。したがって、前記図9に示された配線、すなわちスタブ920_i_k及び伝送ライン922及び924は、メモリ素子301−318の1つの端子及びこれに連結した配線関係を示すものである。
また、前記図9には、偶数スタブ及び奇数スタブが示され、説明の便宜上、偶数スタブのうち2つのスタブ920_12_k及び920_14_kだけが言及され、奇数スタブのうち2つのスタブ920_13_k及び920_15_kだけが言及される。
ビア952_m&m+1_kは、m番目のメモリ素子に対応する配線をm+1番目のメモリ素子に対応する配線に連結する経路の一部になることができる。図9で、ビアに対する参照番号の付与は、前記ビアがm番目のメモリ素子とm+1番目のメモリ素子間の経路の一部になることができることを意味する。
例えば、ビア952_6&7_kは、メモリ素子306に対応する配線とメモリ素子307に対応する配線を連結する経路の一部となる。また、メモリ素子305は、メモリ素子307に隣接して配置される。また、メモリ素子308は、メモリ素子307と位置対をなして配置される。同様に、ビア952_17&16_kは、メモリ素子317に対応する配線とメモリ素子316に対応する配線を電気的に連結する経路の一部である。
前記図9に示されたビア952_6&7_kが位置する領域は、メモリ素子307の端子406から内部方向に配置される。また、ビア952_6&7_kが位置する領域は、互いに隣接するメモリ素子306及び308の端子406間に画定された領域に配置されることができる。
以上において説明した本発明は、本発明が属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形及び変更が可能であるので、上述した実施例及び添付された図面に限定されるものではない。
従来技術により、図1(b)及び図1(c)におけるIa−Ia’線に沿ってDIMMタイプのメモリモジュールを切断した断面図である。 従来技術により、第1位置対をなすメモリ素子が実装される領域を有する印刷回路基板の印刷された配線及びビアを示す平面図である。 従来技術により、第2位置対をなすメモリ素子が実装される領域を有する印刷回路基板の印刷された配線及びビアを示す平面図である。 (a)従来技術により、メモリ素子がオーバーラップされて実装されるDIMMタイプのメモリモジュールにおいて印刷回路基板の前面上に形成された印刷された配線及びビアの平面図である。(b)従来技術により、メモリ素子がオーバーラップされて実装されるDIMMタイプのメモリモジュールにおいて前記図2(a)と同じ印刷回路基板の背面上に形成された印刷された配線及びビアを示す平面図である。(c)従来技術により、オーバーラップされ且つ対で配置されるメモリ素子が実装されるDIMMタイプのメモリモジュールにおいて印刷回路基板の印刷された配線及びビアを示す平面図である。 本発明の好ましい実施例に係るメモリモジュールを示すブロック図である。 本発明の好ましい実施例に係るメモリモジュールを示す断面図である。 本発明の好ましい実施例に係る前記図4(a)のメモリモジュールの平面図である。 本発明の好ましい実施例に係る前記図4(a)のメモリモジュールにおいてi番目及びi+1番目の素子を示す部分拡大図である。 本発明の好ましい実施例に係る前記図4(a)のメモリモジュールの他の配置を示す断面図である。 (a)本発明の好ましい実施例により、メモリ素子404_i_f及び404_i+1_fが実装されるメモリモジュールの印刷回路基板の前面上に形成された配線及びビアを示す平面図である。(b)本発明の好ましい実施例により、メモリ素子404_i_r及び404_i+1_rが実装されるメモリモジュールの印刷回路基板の背面上に形成された配線及びビアを示す平面図である。(c)前記図5(b)を180°回転し、回転した背面上に図5(a)を重なるように配置した場合の部分図である。 本発明の好ましい実施例に係るメモリモジュールの他の構成を示す断面図である。 前記図6aに示されたメモリモジュールの平面図である。 本発明の好ましい実施例により、前記図6aのメモリモジュールの隣接するi番目のメモリ及びi+1番目のメモリを示す部分拡大図である。 本発明の好ましい実施例により、メモリ素子604_i_f及び604_i+1_fが実装されるメモリモジュール600の印刷回路基板619の前面630上に形成された配線及びビアを示す平面図である。 本発明の好ましい実施例により、メモリ素子604_i_r及び604_i+1_rが実装されるメモリモジュール600の印刷回路基板619の背面632上に形成された配線及びビアを示す平面図である。 前記図7bを180°回転し、回転した背面上に図7aを重なるように配置した場合の部分図である。 本発明の他の実施例に係るメモリモジュールの断面図である。 本発明の他の実施例に係るメモリモジュールの断面図である。
符号の説明
301、302、…、318 メモリ素子
406 導電性ボール、端子
322、324 伝送ライン
330 バスライン
400 メモリモジュール

Claims (20)

  1. 印刷回路基板と、
    前記印刷回路基板の第1面上に配置される第1列のメモリ素子と、
    前記印刷回路基板の第2面上に配置される第2列のメモリ素子と、
    多数のビアとを備え、
    前記第1列のメモリ素子は、前記印刷回路基板の基準軸に対して前記第2列の位置対をなすメモリ素子に各々オーバーラップされるように配置され、
    前記それぞれのビアは、前記第1列の第1メモリ素子の入出力端子を前記第2列の第2メモリ素子の入出力端子に連結させる経路の一部となり、前記第2列の第2メモリ素子は、前記第1メモリ素子に対応して位置対をなす第2列の第3メモリ素子に隣接することを特徴とするメモリモジュール。
  2. 前記それぞれのメモリ素子の入出力端子は、前記メモリ素子の対向する側面に沿って集合され、
    前記ビアの多数が配置される位置は、前記第1列の隣接するメモリ素子の側面に設けられた入出力端子間に画定された領域であることを特徴とする請求項1に記載のメモリモジュール。
  3. 前記ビアが配置される領域は、前記第2列の隣接するメモリ素子の側面に形成されたパッド間に画定されることを特徴とする請求項2に記載のメモリモジュール。
  4. 前記ビアの多数は、前記第2列の前記第2メモリ素子が実装される領域に形成されたパッドの内部の領域に配置されることを特徴とする請求項2に記載のメモリモジュール。
  5. 前記互いに隣接するメモリ素子は、前記基準軸に対して隣接することを特徴とする請求項2に記載のメモリモジュール。
  6. 前記基準軸は、前記印刷回路基板の長手方向であることを特徴とする請求項5に記載のメモリモジュール。
  7. 前記メモリモジュールは、
    前記メモリ素子の対向する側面に沿って集合された多数のパッドをさらに含み、
    前記第1列のメモリ素子は、前記基準軸に対して前記第2列のメモリ素子に対応して配置され、前記第1列の第4メモリ素子は、これに対応して位置対をなす第2列の第5メモリ素子から移動した位置に配置され、且つ前記第5メモリ素子の一面上に形成されたパッドが、前記第4メモリ素子の一面に配置されたパッドが形成された領域以外の領域に配置されるように、前記第4メモリ素子が配置されることを特徴とする請求項1に記載のメモリモジュール。
  8. 前記ビアの多数が配置される領域は、前記第4メモリ素子の一側面上に形成されたパッドと、前記第4メモリ素子に隣接する前記第1列の第6メモリ素子の一側面上に形成されたパッドとの間であることを特徴とする請求項7に記載のメモリモジュール。
  9. 前記第1列のメモリ素子は、前記第2列のメモリ素子に対応して実装され、前記第1列の第4メモリ素子は、位置対をなす前記第2列の第5メモリ素子から前記基準軸に対して移動した領域に配置され、前記第5メモリ素子は、前記第4メモリ素子に隣接する前記第1列の第6メモリ素子に部分的にオーバーラップされることを特徴とする請求項1に記載のメモリモジュール。
  10. 前記ビアの多数は、前記第1列のメモリ素子が配置される領域のパッドから基準軸に対して内部領域に配置されることを特徴とする請求項1に記載のメモリモジュール。
  11. 前記第1列のメモリ素子は、前記第2列のメモリ素子に対応して配置され、前記第1列の第4メモリ素子は、位置対をなす前記第2列の第5メモリ素子から前記基準軸に対して移動した領域に配置され、前記第5メモリ素子に隣接する前記第2列の第6メモリ素子は、前記第1列の第4メモリ素子に部分的にオーバーラップされることを特徴とする請求項10に記載のメモリモジュール。
  12. 前記ビアの多数は、前記基準軸に対して前記第2列のメモリ素子が配置される領域のパッドから内部領域に配置されることを特徴とする請求項10に記載のメモリモジュール。
  13. 前記ビアの多数は、前記第2列の第2メモリ素子及び第3メモリ素子の側面に形成されたパッド間の領域に配置されることを特徴とする請求項10に記載のメモリモジュール。
  14. 前記メモリモジュールは、両面実装タイプであることを特徴とする請求項1に記載のメモリモジュール。
  15. 前記第1メモリ素子のビアのうち多数を含む信号経路の長さは、前記第2メモリ素子の信号経路の長さと実質的に同一であることを特徴とする請求項1に記載のメモリモジュール。
  16. 印刷回路手段と、
    前記印刷回路手段の第1面上に配置される第1列のメモリ素子と、
    前記印刷回路手段の第2面上に配置される第2列のメモリ素子と、
    多数のビア手段とを備え、
    前記第1列のメモリ素子は、前記印刷回路手段の基準軸に対して前記第2列の位置対をなすメモリ素子に各々オーバーラップされるように配置され、
    前記ビア手段の一部は、前記第1列の第1メモリ素子を、対応する前記第2列の第2メモリ素子に連結させ、前記第2列の第2メモリ素子は、前記第1メモリ素子に対応して位置対をなす第2列の第3メモリ素子に隣接することを特徴とするメモリモジュール。
  17. 前記メモリ素子のパッドは、前記メモリ素子の対向する側面に沿って集合され、
    前記ビア手段の多数が配置される位置は、前記第1列の隣接するメモリ素子の側面に形成された前記パッド間に画定された領域であることを特徴とする請求項16に記載のメモリモジュール。
  18. 前記隣接するメモリ素子は、前記印刷回路手段の長手方向に対して隣接することを特徴とする請求項16に記載のメモリモジュール。
  19. 前記メモリ素子のパッドは、前記メモリ素子の対向する側面に沿って集合され、
    前記第1列のメモリ素子は、前記基準軸に対して前記第2列のメモリ素子に対応して配置され、前記第1列の第4メモリ素子は、これに対応して位置対をなす第2列の第5メモリ素子から基準軸に対して移動した位置に配置され、且つ前記第5メモリ素子の一側面上に形成されたパッドが前記第4メモリ素子の一側面に配置されたパッドが形成された領域以外の領域に配置されるように、前記第4メモリ素子が配置されることを特徴とする請求項16に記載のメモリモジュール。
  20. 前記第1列のメモリ素子の多数は、前記第2列のメモリ素子の多数に対応して実装され、前記第1列の第4メモリ素子は、位置対をなす前記第2列の第5メモリ素子から前記基準軸に対して移動した領域に配置され、前記第5メモリ素子は、前記第4メモリ素子に隣接する前記第1列の第6メモリ素子に部分的にオーバーラップされることを特徴とする請求項16に記載のメモリモジュール。
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