JP2006203145A - 基板処理装置の復旧処理方法,基板処理装置,プログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 少なくともカセット容器から搬送されたウエハWを処理する処理室を含む複数の室からなる基板処理装置においてその基板処理装置の稼働中に異常が発生したことにより稼働が停止された際,その異常解消後に基板処理装置の状態を復旧させる基板処理装置の復旧処理方法であって,基板処理装置の各室内に残留しているウエハWに対して稼働停止時までに実行された処理の段階に応じた基板救済処理を行って被処理基板をカセット容器へ回収させる基板回収工程(ステップS110〜ステップS150)と,基板処理装置の各室内の状態を復旧させる装置内状態復旧工程(ステップS160等)とを有する。
【選択図】 図5
Description
先ず,本発明の実施形態にかかる基板処理装置について図面を参照しながら説明する。図1は本発明の実施形態にかかる基板処理装置の概略構成を示す図である。この基板処理装置100は,被処理基板例えば半導体ウエハ(以下,単に「ウエハ」ともいう。)Wに対して成膜処理,エッチング処理等の各種の処理を行う複数の処理ユニット110と,この処理ユニット110に対してウエハWを搬出入させる搬送ユニット120とを備える。
ここで,上記制御部200の具体的な構成例について図面を参照しながら説明する。図2は,制御部200の具体的な構成例を示すブロック図である。図2に示すように,制御部200は制御部本体を構成するCPU(中央処理装置)210,CPU210が各部を制御するためのプログラムデータ(例えばウエハWの処理や後述する復旧処理のプログラムデータ)等を格納したROM(リード・オンリ・メモリ)220,CPU210が行う各種データ処理のために使用されるメモリエリア等を設けたRAM(ランダム・アクセス・メモリ)230,時間を計時するカウンタなどで構成される計時手段240,操作画面や選択画面などを表示する液晶ディスプレイなどで構成される表示手段250,オペレータによるプロセス・レシピの入力や編集など種々のデータの入力及び所定の記憶媒体へのプロセス・レシピやプロセス・ログの出力など種々のデータの出力などを行うことができる入出力手段260,基板処理装置100に漏電等の異常が発生した際に報知する警報器(例えばブザー)などの報知手段270,基板処理装置100の各部を制御するための各種コントローラ280,ハードディスク(HDD)などの記憶手段290を備える。
次に,上記のように構成された基板処理装置の動作について説明する。基板処理装置100,上述したような制御部200のCPU210のプログラムに基づいて稼働し,各ウエハWの処理段階ごとにウエハ処理履歴情報(例えばプロセス・ログ)294が作成され,記憶手段290に記憶される。
ここで,基板処理装置100の復旧処理について説明する。基板処理装置100の復旧処理は例えば制御部200のCPU210によりROM220又は記憶手段290などに記憶されたプログラムに基づいて実行される。
先ず,基板回収処理について説明する。基板回収処理においては,基板処理装置100の各室に残留しているウエハWに対して基板処理装置100の稼働停止時(以下,単に稼働停止時ともいう)までに実行された処理の段階に応じたウエハ救済処理(基板救済処理)を行ってそのウエハWを搬送元のカセット容器132へ回収させる。例えば基板処理装置100内のウエハWに対して,稼働停止時にそのウエハWが残留している室に応じた救済処理を行う。大局的な観点によれば,ウエハWが残留している室によってそのウエハWに対して稼働停止までにどの段階まで処理されたかというウエハWの処理段階が異なる。例えば搬送ユニット120内に残留しているウエハWはカセット容器132から取出されてこれから処理ユニットへ搬送されようとしている未処理段階のものであるか,又は既に必要な処理がすべて完了して処理ユニット110から戻ってきた処理完了段階のものである。これに対して,共通搬送室150内に残留しているウエハWには,未処理段階のものや処理完了段階のものの他に,未だ他の処理室での処理が残っている処理未完了段階のものも存在する可能性がある。従って,このようにウエハWが残留している室に応じた救済処理を行うことによって,ウエハWの処理段階に応じた適切な救済処理を行うことができる。
次に,上記復旧処理のうちの装置内状態復旧処理について説明する。ここでの装置内状態復旧処理は,例えば搬送ユニット120内,共通搬送室150内,ロードロック室160M,160N内,各処理室140A〜140F内などの各室に対してクリーニング処理を実行することにより,各室内をウエハWの処理を実行可能な状態にするものである。各室に対するクリーニング処理としては例えばN2ガスなどのパージガスを導入しつつ,真空引きと大気開放を所定回数繰返すクリーニング処理(例えばNPPC:Non-Plasma Particle Cleaning)を行う。ここでのクリーニング処理では大気開放のときのみならず,真空引きのときにもパージガスを導入し続ける。このようなクリーニング処理によれば,各室内に浮遊するパーティクル(例えば付着物,塵,ゴミなど)を除去することができる。また,真空引きと大気開放を繰返すことにより,各室の壁面や各室内に配設されている部品などに付着しているパーティクルも剥がれて強制的に浮遊させることができるので,これらも除去することができる。
以下,上述したような復旧処理について具体例を挙げながらより詳細に説明する。図5は,本実施形態にかかる基板処理装置における復旧処理の具体例を示すメインルーチンのフローチャートである。
先ず,搬送ユニット内のウエハ救済処理(ステップS200)の具体例について図6を参照しながら説明する。図6は搬送ユニット内のウエハ救済処理を示すサブルーチンのフローチャートである。搬送ユニット120内のウエハWとしては,例えば搬送室130内で搬送ユニット側搬送機構170に把持された状態で残留しているウエハWの他,オリエンタ136内やパーティクル測定室134内に残留しているウエハWが考えられるので,これらのウエハWが搬送ユニット120内のウエハ救済処理の対象となる。
次に,ロードロック室160内のウエハ救済処理(ステップS300)の具体例について図7を参照しながら説明する。図7はロードロック室160内のウエハ救済処理を示すサブルーチンのフローチャートである。図1に示すような基板処理装置100では2つのロードロック室160M,160Nを備えているので,このような基板処理装置100に適用される図7に示す処理は,これらロードロック室160M,160Nのうち,ウエハWが残留しているロードロック室160の処理を示す。
次に,共通搬送室150内のウエハ救済処理(ステップS400)の具体例について図8を参照しながら説明する。図8は共通搬送室150内のウエハ救済処理を示すサブルーチンのフローチャートである。共通搬送室150内には,未だいずれの処理室140でも処理されていない未処理ウエハWの他,1以上の処理室140で既に処理が終了している処理済ウエハWが残留している可能性がある。さらに,上記処理済ウエハWの中には,必要なすべての処理室140での処理が完了した処理完了ウエハのみならず,連続して複数の処理室140での処理が必要なウエハWであって,未だ他の処理室140での処理が完了していない処理未完了ウエハWも含まれる。従って,共通搬送室150内のウエハ救済処理では,このようなウエハWの処理段階を検出して,その処理段階に応じたウエハ救済処理を行う。
ここで,図8に示すステップS420の処理未完了ウエハWに対する処理の具体例について図9を参照しながら説明する。図9は,処理未完了ウエハWに対する処理を示すサブルーチンのフローチャートである。
次に,処理室140内のウエハ救済処理の具体例について図10を参照しながら説明する。図10は処理室140内のウエハ救済処理を示すサブルーチンのフローチャートである。図1に示すような基板処理装置100では6つの処理室140A〜140Fを備えているので,このような基板処理装置100に適用される図10に示す処理は,これら処理室140A〜140Fのうち,ウエハWが残留している処理室140の処理を示す。
ここで,図10に示すステップS520の処理途中ウエハWに対する処理の具体例について図11を参照しながら説明する。図11は,処理途中ウエハWに対する処理を示すサブルーチンのフローチャートである。図11に示す処理途中ウエハWに対する処理は,基板処理装置100の異常による稼働停止時に中断されたウエハの処理段階に応じた救済処理を行うものである。すなわち,通常,処理室140でのウエハWの処理は複数の処理工程(プロセス・レシピ)を経て段階的に行われるので,どの処理工程の段階で中断されたかに応じた残処理を行うことによって,ウエハWの処理段階に応じた適切なウエハ救済処理を行うものである。
図5に示す復旧処理では,装置内状態復旧処理として例えばステップS160にて基板処理装置100の各室内のクリーニング処理を実行する。すなわち,例えば搬送ユニット120内,共通搬送室150内,ロードロック室160M,160N内,各処理室140A〜140F内などの各室に対してクリーニング処理を実行する。各室に対するクリーニング処理としては上述したように例えばパージガス(例えばN2ガス)を流したまま,真空引きと大気開放を所定回数繰返す処理(例えばNPPC:Non-Plasma Particle Cleaning)を行う。これら各室内のパーティクルを除去して,各室内をウエハ処理が可能な状態に整えるためである。なお,クリーニング処理としては,上記のような処理に限られるものではなく,基板処理装置によって自動的に行われる公知のクリーニング処理を適用してもよい。
110 処理ユニット
120 搬送ユニット
130 搬送室
131(131A〜131C) カセット台
132(132A〜132C) カセット容器
133(133A〜133C) ゲートバルブ
134 パーティクル測定室
135 載置台
135a ウエハセンサ
136 オリエンタ
138 回転載置台
138a ウエハセンサ
139 光学センサ
140(140A〜140F) 処理室
142(142A〜142F) 載置台
144(144A〜144F) ゲートバルブ
150 共通搬送室
164M,164N 受渡台
165M,165N ウエハセンサ
170 搬送ユニット側搬送機構
172 基台
173a,173b ウエハセンサ
173A,173B ピック
174 案内レール
176 リニアモータ駆動機構
180 処理ユニット側搬送機構
182 基台
183a,183b ウエハセンサ
183A,183B ピック
184 案内レール
186 アーム機構
188(188A〜188F) ウエハセンサ
189 位置センサ
200 制御部
210 CPU
220 ROM
230 RAM
240 計時手段
250 表示手段
260 入出力手段
270 報知手段
280 各種コントローラ
290 記憶手段
292 ウエハ収容情報
294 ウエハ処理履歴情報
Claims (31)
- 基板収納容器から搬送された被処理基板を処理する処理室を少なくとも含む複数の室からなる基板処理装置においてその基板処理装置の稼働中に異常が発生したことにより稼働が停止された際,その異常解消後に前記基板処理装置の状態を復旧させる基板処理装置の復旧処理方法であって,
前記基板処理装置の各室内に残留している前記被処理基板に対して前記稼働停止時までに実行された処理の段階に応じた基板救済処理を行って前記被処理基板を前記基板収納容器へ回収させる基板回収工程と,
前記基板処理装置の各室内の状態を復旧させる装置内状態復旧工程と,
を有することを特徴とする基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記基板救済処理は,
前記基板処理装置内に残留している前記被処理基板を検出する基板検出工程と,
前記基板検出工程により検出された被処理基板について,前記稼働停止時までに実行された処理の段階を検出する処理段階検出工程と,
前記基板検出工程により検出された被処理基板に対して,前記処理段階検出工程により検出された処理段階に応じた基板救済処理を実行する基板救済工程と,
を有することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記基板救済工程は,前記基板検出工程によって前記処理室内に被処理基板が検出され,前記処理段階検出工程によってその被処理基板の処理段階がその処理室での処理が残っている処理途中段階であると検出された場合には,その処理室内でその被処理基板に対して残りの処理を実行することを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置の復旧処理方法。
- 前記基板処理装置は,その基板処理装置の稼働中に被処理基板の処理履歴情報を記憶する記憶手段を備え,
前記基板救済工程は,前記基板検出工程によって前記処理室内に被処理基板が検出され,前記処理段階検出工程によってその被処理基板の処理段階がその処理室での処理が残っている処理途中段階であると検出された場合には,前記記憶手段に記憶された被処理基板の処理履歴情報に基づいてその被処理基板の残処理時間を設定し,その残処理時間だけその被処理基板に対して残りの処理を実行することを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記基板処理装置は,前記被処理基板の処理状態を検出して欠陥検査を行う欠陥検査室を備え,
前記基板救済工程は,前記基板検出工程によって前記処理室内に被処理基板が検出され,前記処理段階検出工程によってその被処理基板の処理段階がその処理室での処理が残っている処理途中段階であると検出された場合には,その被処理基板を前記欠陥検査室へ搬送し,その欠陥検査室において検出された被処理基板の処理状態に基づいてその被処理基板の残処理時間を設定し,その残処理時間だけその被処理基板に対して残りの処理を実行することを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記基板救済工程は,前記基板検出工程によってある処理室から他の処理室へ搬送される途中の被処理基板が検出され,前記処理段階検出工程によってその被処理基板の処理段階が他の処理室での必要な処理が残っている処理未完了段階であると検出された場合には,その被処理基板に対して残りの処理室での処理を実行することを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。
- 前記基板救済工程は,前記基板検出工程によってある室内で被処理基板が検出され,前記処理段階検出工程によってその被処理基板の処理段階が未処理段階又は処理完了段階であると検出された場合には,その被処理基板を前記基板収納容器へ回収させることを特徴とする請求項2〜6のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。
- 前記装置内状態復旧工程は,前記基板処理装置の各室内のクリーニング処理を実行することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。
- 前記基板処理装置の各室は,少なくともパージガスを導入可能なガス導入系と,真空引き及び大気開放による圧力調整が可能な排気系とを備え,
前記クリーニング処理は,前記基板処理装置の各室内に前記ガス導入系によりパージガスを導入したまま,前記排気系により真空引きと大気開放を所定回数繰返す処理であることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - さらに,前記基板収納容器に回収された被処理基板が未処理段階であるか否かを検出し,未処理段階であることが検出されると,その被処理基板に再処理を実行する再処理工程を有することを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。
- 前記基板処理装置は,パーティクル測定室を備え,
前記基板回収工程は,前記被処理基板を前記基板収納容器に回収させる前に,前記パーティクル測定室に搬送し,このパーティクル測定室にて前記被処理基板上のパーティクル量の測定を行って,その測定結果を前記被処理基板に関連づけて記憶手段に記憶しておくことを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 被処理基板を処理する複数の処理室を少なくとも含む複数の室からなる処理ユニットと,前記処理ユニットに接続され,前記被処理基板を収納する基板収納容器との間で前記被処理基板の受渡しを行う搬送室を有する搬送ユニットと,前記搬送ユニット内に設けられ,前記処理ユニットに前記被処理基板を搬出入させる搬送ユニット側搬送機構と,前記処理ユニット内に設けられ,前記処理室に前記被処理基板を搬出入させる処理ユニット側搬送機構とを備える基板処理装置においてその基板処理装置の稼働中に異常が発生したことにより稼働が停止された際,その異常解消後に前記基板処理装置の状態を復旧させる基板処理装置の復旧処理方法であって,
前記基板処理装置の前記処理ユニット内および/または前記搬送ユニット内に残留している前記被処理基板に対して前記稼働停止時までに実行された処理の段階に応じた基板救済処理を行って前記被処理基板を前記処理ユニット側搬送機構および/または前記搬送ユニット側搬送機構によって前記基板収納容器へ回収させる基板回収工程と,
前記基板処理装置の前記処理ユニット内及び前記搬送ユニット内の状態を復旧させる装置内状態復旧工程と,
を有することを特徴とする基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記基板回収工程は,
前記処理ユニット内に残留している被処理基板に対しては,その被処理基板の処理段階がその被処理基板に必要な処理が残っている処理段階か否かを検出し,必要な処理が残っている処理段階の場合は残りの処理を実行して,前記処理ユニット側搬送機構および前記搬送ユニット側搬送機構によって前記基板収納容器へ回収させ,必要な処理が残っている処理段階でない場合は前記処理ユニット側搬送機構および前記搬送ユニット側搬送機構によって前記基板収納容器へ回収させる処理ユニット内基板救済処理を実行し,
前記搬送ユニット内に残留している被処理基板に対しては,前記搬送ユニット側搬送機構によって前記基板収納容器へ回収させる搬送ユニット内基板救済処理を実行することを特徴とする請求項12に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記基板処理装置は,その基板処理装置の稼働中に被処理基板の処理履歴情報を記憶する記憶手段を備え,
前記処理ユニット内基板救済処理は,前記記憶手段に記憶された被処理基板の処理履歴情報に基づいて,前記処理ユニット内に残留している被処理基板の処理段階がその被処理基板に必要な処理が残っている処理段階か否かを検出し,その検出結果に基づいて残りの処理を実行することを特徴とする請求項13に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記基板処理装置は,前記被処理基板の処理状態を検出して欠陥検査を行う欠陥検査室を備え,
前記処理ユニット内基板救済処理は,前記欠陥検査室において検出された被処理基板の処理状態に基づいて,前記処理ユニット内に残留している被処理基板の処理段階がその被処理基板に必要な処理が残っている処理段階か否かを検出し,その検出結果に基づいて残りの処理を実行することを特徴とする請求項13に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記装置内状態復旧工程は,前記基板処理装置の前記処理ユニット内及び前記搬送ユニットの各室内のクリーニング処理を実行することを特徴とする請求項12〜15のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。
- 前記基板処理装置の前記処理ユニットおよび前記搬送ユニットの各室は,少なくともパージガスを導入可能なガス導入系と,真空引き及び大気開放による圧力調整が可能な排気系とを備え,
前記クリーニング処理は,前記処理ユニットおよび前記搬送ユニットの各室内に前記ガス導入系によりパージガスを導入したまま,前記排気系により真空引きと大気開放を所定回数繰返す処理であることを特徴とする請求項16に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - さらに,前記基板収納容器に回収された被処理基板が未処理段階であるか否かを検出し,未処理段階であることが検出されると,その被処理基板に再処理を実行する再処理工程を有することを特徴とする請求項12〜17のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。
- 前記基板処理装置は,パーティクル測定室を備え,
前記基板回収工程は,前記被処理基板を前記基板収納容器に回収させる前に,前記パーティクル測定室に搬送し,このパーティクル測定室にて前記被処理基板上のパーティクル量の測定を行って,その測定結果を前記被処理基板に関連づけて記憶手段に記憶しておくことを特徴とする請求項12〜18のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 被処理基板を収納する基板収納容器との間で前記被処理基板の受渡しを行う搬送室を有する搬送ユニットと,前記被処理基板を処理する複数の処理室を周囲に接続する共通搬送室及びこの共通搬送室と前記搬送ユニットの搬送室とを接続するロードロック室を有する処理ユニットと,前記搬送ユニットの搬送室内に設けられ,前記ロードロック室に前記被処理基板を搬出入させる搬送ユニット側搬送機構と,前記処理ユニットの共通搬送室内に設けられ,前記ロードロック室と前記各処理室との各室間で前記被処理基板を搬出入させる処理ユニット側搬送機構とを備える基板処理装置においてその基板処理装置の稼働中に異常が発生したことにより稼働が停止された際,その異常解消後に前記基板処理装置の状態を復旧させる基板処理装置の復旧処理方法であって,
前記基板処理装置の前記処理ユニットおよび/または前記搬送ユニットの各室内に残留している前記被処理基板に対して前記稼働停止時までに実行された処理の段階に応じた基板救済処理を行って前記被処理基板を前記処理ユニット側搬送機構および/または前記搬送ユニット側搬送機構によって前記基板収納容器へ回収させる基板回収工程と,
前記基板処理装置の各室内の状態を復旧させる装置内状態復旧工程と,
を有することを特徴とする基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記基板回収工程は,
前記搬送ユニット内に被処理基板が検出されると,前記基板収納容器へ回収する搬送ユニット内基板救済処理を実行し,
前記ロードロック室内に被処理基板が検出されると,そのロードロック室内の排気処理を行った上でその被処理基板を基板収納容器へ回収するロードロック室内基板救済処理を実行し,
前記共通搬送室内に被処理基板が検出されると,その被処理基板の処理段階が処理未完了段階であるかを判断し,処理未完了段階であれば残りの処理室での処理を実行した上で前記基板収納容器へ回収し,処理未完了段階でなければ前記基板収納容器へ回収する共通搬送室内基板救済処理を実行し,
前記処理室内に被処理基板が検出されると,その被処理基板の処理段階が処理途中段階であるかを判断し,処理途中段階であればその処理室での残りの処理を実行した上で前記基板収納容器へ回収し,処理途中段階でなければ前記基板収納容器へ回収する処理室内基板救済処理を実行することを特徴とする請求項20に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記基板処理装置は,その基板処理装置の稼働中に被処理基板の処理履歴情報を記憶する記憶手段を備え,
前記処理室内基板救済処理は,前記処理室内の被処理基板の処理段階が処理途中段階であると判断した場合には,前記記憶手段に記憶された被処理基板の処理履歴情報に基づいてその被処理基板の残処理時間を設定し,その残処理時間だけその被処理基板に対して残りの処理を実行することを特徴とする請求項21に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記基板処理装置は,前記被処理基板の処理状態を検出して欠陥検査を行う欠陥検査室を備え,
前記処理室内基板救済処理は,前記処理室内の被処理基板の処理段階が処理途中段階であると判断した場合には,その被処理基板を前記欠陥検査室へ搬送し,その欠陥検査室において検出された被処理基板の処理状態に基づいてその被処理基板の残処理時間を設定し,その残処理時間だけその被処理基板に対して残りの処理を実行することを特徴とする請求項21に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 前記装置内状態復旧工程は,前記基板処理装置の前記処理ユニット内及び前記搬送ユニットの各室内のクリーニング処理を実行することを特徴とする請求項20〜23のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。
- 前記基板処理装置の前記処理ユニットおよび前記搬送ユニットの各室は,少なくともパージガスを導入可能なガス導入系と,真空引き及び大気開放による圧力調整が可能な排気系とを備え,
前記クリーニング処理は,前記処理ユニットおよび前記搬送ユニットの各室内に前記ガス導入系によりパージガスを導入したまま,前記排気系により真空引きと大気開放を所定回数繰返す処理であることを特徴とする請求項24に記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - さらに,前記基板収納容器に回収された被処理基板が未処理段階であるか否かを検出し,未処理段階であることが検出されると,その被処理基板に再処理を実行する再処理工程を有することを特徴とする請求項20〜25のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。
- 前記基板処理装置は,パーティクル測定室を備え,
前記基板回収工程は,前記被処理基板を前記基板収納容器に回収させる前に,前記パーティクル測定室に搬送し,このパーティクル測定室にて前記被処理基板上のパーティクル量の測定を行って,その測定結果を前記被処理基板に関連づけて記憶手段に記憶しておくことを特徴とする請求項20〜26のいずれかに記載の基板処理装置の復旧処理方法。 - 被処理基板を処理する基板処理装置であって,
前記被処理基板を処理する複数の処理室を少なくとも含む複数の室からなる処理ユニットと,
前記処理ユニットに接続され,前記被処理基板を収納する基板収納容器との間で前記被処理基板の受渡しを行う搬送室を有する搬送ユニットと,
前記搬送ユニット内に設けられ,前記処理ユニットに前記被処理基板を搬出入させる搬送ユニット側搬送機構と,
前記処理ユニット内に設けられ,前記処理室に前記被処理基板を搬出入させる処理ユニット側搬送機構と,
前記基板処理装置の稼働中に異常が発生したことにより稼働が停止された際,その異常解消後に前記基板処理装置の状態を復旧させる制御手段とを備え,
前記制御手段は,前記基板処理装置の前記処理ユニット内および/または前記搬送ユニット内に残留している前記被処理基板に対して前記稼働停止時までに実行された処理の段階に応じた基板救済処理を行って前記被処理基板を前記処理ユニット側搬送機構および/または前記搬送ユニット側搬送機構によって前記基板収納容器へ回収させる基板回収手段と,前記基板処理装置の前記処理ユニット内及び前記搬送ユニット内の状態を復旧させる装置内状態復旧手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。 - 被処理基板を処理する基板処理装置であって,
前記被処理基板を収納する基板収納容器との間で前記被処理基板の受渡しを行う搬送室を有する搬送ユニットと,
前記被処理基板を処理する複数の処理室を周囲に接続する共通搬送室及びこの共通搬送室と前記搬送ユニットの搬送室とを接続するロードロック室を有する処理ユニットと,
前記搬送ユニットの搬送室内に設けられ,前記ロードロック室に前記被処理基板を搬出入させる搬送ユニット側搬送機構と,
前記処理ユニットの共通搬送室内に設けられ,前記ロードロック室と前記各処理室との各室間で前記被処理基板を搬出入させる処理ユニット側搬送機構と,
前記基板処理装置の稼働中に異常が発生したことにより稼働が停止された際,その異常解消後に前記基板処理装置の状態を復旧させる制御手段とを備え,
前記制御手段は,前記基板処理装置の前記処理ユニットおよび/または前記搬送ユニットの各室内に残留している前記被処理基板に対して前記稼働停止時までに実行された処理の段階に応じた基板救済処理を行って前記被処理基板を前記処理ユニット側搬送機構および/または前記搬送ユニット側搬送機構によって前記基板収納容器へ回収させる基板回収手段と,前記基板処理装置の各室内の状態を復旧させる装置内状態復旧手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。 - 基板収納容器から搬送された被処理基板を処理する処理室を少なくとも含む複数の室からなる基板処理装置においてその基板処理装置の稼働中に異常が発生したことにより稼働が停止された際,その異常解消後に前記基板処理装置の状態を復旧させる基板処理装置の復旧処理を行うプログラムであって,
コンピュータに,
前記基板処理装置の各室内に残留している前記被処理基板に対して前記稼働停止時までに実行された処理の段階に応じた基板救済処理を行って前記被処理基板を前記基板収納容器へ回収させる基板回収処理と,
前記基板処理装置の各室内の状態を復旧させる装置内状態復旧処理と,
を実行させるためのプログラム。 - 前記基板救済処理は,
前記基板処理装置内に残留している前記被処理基板を検出する基板検出処理と,
前記基板検出処理により検出された被処理基板について,前記稼働停止時までに実行された処理の段階を検出する処理段階検出処理と,
前記基板検出処理により検出された被処理基板に対して,前記処理段階検出処理により検出された処理段階に応じた基板救済処理を実行する基板救済処理と,
を有することを特徴とする請求項30に記載のプログラム。
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