JP2006173305A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有し、前記パターンを前記被処理体に露光する露光装置であって、
   前記レチクルを照明する光の偏光を第１の偏光状態から前記第１の偏光状態とは異なる第２の偏光状態に変更する変更手段と、
   前記変更手段が前記光の偏光を前記第１の偏光状態から前記第２の偏光状態に変更した際に、前記投影光学系の収差を調整する調整手段とを有し、
   前記調整手段は、前記投影光学系の前記レチクルからの回折光が通過する特定部分のみの収差を調整することを特徴とする露光装置。
2. レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有し、前記パターンを前記被処理体に露光する露光装置であって、
   前記レチクルのパターンの変更を検出する検出手段と、
   前記検出手段が前記レチクルのパターンを検出した際に、前記投影光学系の収差を調整する調整手段とを有し、
   前記調整手段は、前記投影光学系の前記レチクルからの回折光が通過する特定部分のみの収差を調整することを特徴とする露光装置。
3. 前記調整手段は、前記レチクルのパターンの周期構造または有効光源分布に基づいて特定される前記特定部分のみの収差を調整することを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
4. 前記調整手段は、前記投影光学系の瞳面上の前記レチクルからの回折光が通過する特定部分のみの収差を調整することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一項記載の露光装置。
5. 前記投影光学系の収差を測定する測定手段と、
   前記測定手段の測定結果に基づいて、前記調整手段を制御する制御部とを更に有することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の露光装置。
6. 前記レチクルを照明する光の偏光状態と前記投影光学系の収差との相関関係を示す収差テーブルを格納するメモリと、
   前記メモリに格納された前記収差テーブルを基に、前記調整手段を制御する制御部とを更に有することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の露光装置。
7. レチクルのパターンを、投影光学系を介して被処理体に露光する露光方法であって、
   前記レチクルのパターンを照明する光の偏光状態が変更されたことを検知するステップと、
   前記光の偏光状態の変更による前記投影光学系の収差の変動を取得するステップと、
   前記取得ステップで取得した取得結果を基に、前記投影光学系の収差を調整するステップとを有し、
   前記調整するステップでは、前記投影光学系の前記レチクルからの回折光が通過する特定部分のみの収差を調整することを特徴とする露光方法。
8. レチクルのパターンを、投影光学系を介して被処理体に露光する露光方法であって、
   前記レチクルのパターンが変更されたことを検知するステップと、
   前記レチクルのパターンの変更による前記投影光学系の収差の変動を取得するステップと、
   前記取得ステップで取得した取得結果を基に、前記投影光学系の収差を調整するステップとを有し、
   前記調整するステップでは、前記投影光学系の前記レチクルからの回折光が通過する特定部分のみの収差を調整することを特徴とする露光方法。
9. 請求項１乃至６のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
   露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。