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  1. 光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系において、
    前記光源からの光束を、第１の回折光学素子に入射する光束と第２の回折光学素子に入射する光束とに分割する分割光学系と、
    前記第１の回折光学素子からの光束の偏光状態を調節する第１の偏光ユニットと、
    前記第２の回折光学素子からの光束の偏光状態を調節する第２の偏光ユニットと、
    前記第１の回折光学素子からの光束と前記第２の回折光学素子からの光束とを統合して前記被照射面へと導く統合光学系と、を有することを特徴とする照明光学系。
  2. 前記第１の回折光学素子からの光束の光量を調節する手段及び／又は前記第２の回折光学素子からの光束の光量を調節する手段を有することを特徴とする請求項１記載の照明光学系。
  3. 前記第１及び／又は第２の回折光学素子に入射する光束の光路に遮光手段が設けられていることを特徴とする請求項２記載の照明光学系。
  4. 前記第１の回折光学素子からの光束の光量と前記第２の回折光学素子からの光束の光量とを検出する検出器を有し、
    前記第１の回折光学素子からの光束の光量と前記第２の回折光学素子からの光束の光量との比を前記手段により調整することを特徴とする請求項２記載の照明光学系。
  5. 前記光源からの光束で複数の２次光源を形成するインテグレータを有し、
    前記統合光学系は、該インテグレータの入射面で前記第１，第２の回折光学素子からの光束を統合することを特徴とする請求項１記載の照明光学系。
  6. 前記統合光学系はズーム光学系を有することを特徴とする請求項１記載の照明光学系。
  7. 前記第１又は第２の偏光ユニットは、回転可能なλ／２板を有することを特徴とする請求項１記載の照明光学系。
  8. 前記第１又は前記第２の回折光学素子は、回転可能であることを特徴とする請求項１記載の照明光学系。
  9. 光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系において、
    前記光源からの光束が入射する第１，第２の回折光学素子を有し、
    前記被照射面と実質的にフーリエ変換の関係となる面における照度分布のうち第１の部分を前記第１の回折光学素子からの光束が形成し、該照度分布のうち第２の部分を前記第２の回折光学素子からの光束が形成することを特徴とする照明光学系。
  10. 前記光源からの光束が入射する第３，第４の回折光学素子を有し、
    前記照度分布のうち第３の部分を前記第３の回折光学素子からの光束が形成し、前記照度分布のうち第４の部分を前記第４の回折光学素子からの光束が形成することを特徴とする請求項９記載の照明光学系。
  11. 前記第１の部分を照明する光束の偏光状態と、前記第２の部分を照明する光束の偏光状態とは互いに直交する直線偏光であることを特徴とする請求項１３記載の照明光学系。
  12. 複数の光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系において、
    前記複数の光源のうち第１の光源からの光束が入射する第１の回折光学素子と、
    前記複数の光源のうち第２の光源からの光束が入射する第２の回折光学素子と、
    前記第１の回折光学素子からの光束の偏光状態を調節する第１の偏光ユニットと、
    前記第２の回折光学素子からの光束の偏光状態を調節する第２の偏光ユニットと、
    前記第１の回折光学素子からの光束と前記第２の回折光学素子からの光束とを統合して前記被照射面へと導く統合光学系と、を有することを特徴とする照明光学系。
  13. 光源からの光束で被照明面を照明する照明光学系において、
    回折光学素子と偏光ユニットを有する第１，第２の光学系と、
    前記第１の光学系からの光束と前記第２の光学系からの光束とを統合して前記被照射面へと導く統合光学系と、を有することを特徴とする照明光学系。
  14. レチクルを照明する請求項１〜１３のいずれか一項記載の照明光学系と、該レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系とを有することを特徴とする露光装置。
  15. 前記第１の回折光学素子からの光束の光量と前記第２の回折光学素子からの光束の光量とを検出する検出器を有し、
    前記第１の回折光学素子からの光束の光量と前記第２の回折光学素子からの光束の光量との比を調整することを特徴とする請求項１４記載の露光装置。
  16. 前記照明光学系は、前記レチクル面に相当する位置における光量をモニタするモニタ部を有し、
    前記バランスの調整に応じて、該モニタのキャリブレーションを行うことを特徴とする請求項１５記載の露光装置。
  17. 前記検出器は、前記レチクル面又は前記基板面に相当する位置における光量を検出することを特徴とする請求項１５記載の露光装置。
  18. 請求項１４〜１７のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、該基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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