JP2006169097A - 電気泳動法を利用した炭素ナノチューブの垂直整列方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】炭素ナノチューブの垂直整列方法を提供する。
【解決手段】触媒金属層が形成された基板上に炭素ナノチューブ(120)を成長させるステップと、成長した炭素ナノチューブを基板から束状に分離するステップと、束状に分離された炭素ナノチューブ束(130)を帯電剤が含まれている電解液(160)に入れ、炭素ナノチューブ束(130)を帯電剤と混合させて帯電させるステップと、帯電された炭素ナノチューブ束(130)を、電気泳動法を利用して電極(170、180)の表面に垂直に付着させるステップと、を含む。
【選択図】図5

Description

本発明は、炭素ナノチューブの整列方法に係り、より詳細には、電気泳動法を利用して炭素ナノチューブを垂直に整列させる方法に関する。
炭素ナノチューブ(Carbon Nanotubes:以下、CNT)は、独特の構造的、電気的特性が知られて以来、電界放出表示素子(Field Emission Display:以下、FED)、液晶表示素子(Liquid Crystal Display:以下、LCD)用のバックライト、ナノ電子素子、アクチュエータ、バッテリーなどの数多くの素子に応用されている。
FEDは、カソード電極上に形成されたエミッタから電子を放出させ、この電子をアノード電極上に形成された蛍光体層と衝突させて発光させる表示装置である。このようなFEDのエミッタとして、最近では、電子放出特性に優れたCNTが主に使用されている。このようなCNTをエミッタとして使用するFEDは、広い視野角、高い解像度、低消費電力、及び温度安定性などにおいて利点があるため、自動車航法装置、電子的な映像装置のビューファインダーなどの多様な分野に利用可能である。特に、個人用コンピュータ、PDA(Personal Data Assistants)端末機、医療機器、HDTV(High Definition Television)等において、代替ディスプレイ装置として期待されている。
一方、より優れたFEDを製造するには、エミッタとして使われるCNTが低い駆動電圧と、高い放出電流とを有していなければならない。そのためには、CNTがカソード電極上に垂直に整列される必要がある。すなわち、放出電流は、同じ組成を有するCNTであるとしても、その整列状態によって差があるため、放出電流を増加させるには、なるべく多くのCNTをカソード電極上に垂直に整列させることが好ましい。
本発明は、高温で垂直成長したCNTを、電気泳動法を利用して低温で垂直整列させる方法を提供するところにその目的がある。
前記目的を達成するために、本発明によるCNTの垂直整列方法は、触媒金属層が形成された基板上にCNTを成長させるステップと、成長した前記CNTを前記基板から束状に分離するステップと、束状に分離されたCNT束を、帯電剤を含む電解液に入れ、前記CNT束を前記帯電剤と混合させて帯電させるステップと、帯電された前記CNT束を、電気泳動法を利用して電極の表面に垂直に付着させるステップと、を含むことを特徴とする。
ここで、成長した前記CNTの両端には、触媒金属粒子が固着されることが好ましい。そして、前記帯電剤は、前記CNTの両端に固着された触媒金属粒子と混合して、前記CNT束の両端を正(+)に帯電させることが好ましい。
正に帯電された前記CNT束の一端は、前記電解液の内部に設けられた一対の電極間に所定の電圧が印加されることによって、前記一対の電極のうち、カソード側の電極表面に付着されることができる。この時、前記一対の電極間には、直流、または、交流電圧が印加されることができる。
前記触媒金属層は、前記基板上に所定の触媒金属を蒸着することで形成されることができる。また、前記触媒金属層は、前記基板上に所定の触媒金属を蒸着し、これを所定形態にパターニングすることで形成されることもできる。
前記触媒金属層は、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)及びコバルト(Co)からなる群から選択された少なくとも一つの金属からなることができる。
前記CNTは、化学気相蒸着(Chemical Vapor Deposition:以下、CVD)法によって、前記触媒金属層上に垂直成長させることが好ましい。 前記基板上に成長したCNTの上端には、金属薄膜が蒸着されることができる。
前記触媒金属層上に成長した前記CNTは、超音波によって前記基板から束状に分離されることができる。
前記電解液に含まれている前記CNT束は、超音波によって前記帯電剤と混合させることができる。
本発明に係るCNTの垂直整列方法によれば、高温で垂直成長したCNT束を、電気泳動法を利用して低温で電極表面に自己整列させることにより、CNT束を電極上に垂直に整列させることができ、高品位のCNT束を製作できる。
以下、添付された図面を参照して本発明に係る好ましい実施形態を詳細に説明する。
図1から図6は、本発明の実施形態に係るCNTの垂直整列方法を説明するための図面である。
図1を参照すれば、基板100上に触媒金属層110を形成する。具体的には、基板100上に、マグネトロンスパッタリングや電子ビーム蒸着によって所定の触媒金属を蒸着し、CNTを成長させるための触媒金属層110を形成する。ここで、前記触媒金属は、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)及びコバルト(Co)からなる群から選択された少なくとも一つの金属からなることができる。
次に、図2を参照すれば、触媒金属層110上に、CNT120をCVD法によって垂直に成長させる。CVD法によって、基板100上に形成された触媒金属層110上に、CNT120を垂直に成長させれば、成長したCNT120の両端には、それぞれ触媒金属粒子111が固着される。
ここで、CNT120の成長は、熱CVD法、プラズマCVD(Plasma Enhanced CVD:以下、PECVD)法などによって成長させることができる。具体的には、例えば、熱CVD法を利用したCNT成長法は、CNTの成長均一度が非常に優れているので、PECVD法に比べて小さな直径を有するCNTを成長させることができ、電子放出開始電圧の低いCNTを形成できるという利点がある。また、PECVD法を利用したCNT成長法は、熱CVD法よりCNTを基板に垂直な方向に成長させることができ、相対的に低い温度で合成が可能であるという利点がある。PECVD法におけるCNTの垂直成長は、PECVD法システムでのアノード電極とカソード電極との間に印加される電界の方向に依存する。したがって、電界の方向によってカーボンナノチューブの成長方向の調節が可能である。また、CNTの成長方向が一定であるため、密度調節が容易であり電界による電子放出が容易であるという利点がある。
図7には、基板100上に形成された触媒金属層110上にCNT120が垂直に成長したものを撮影した写真を示す図である。そして、図8及び図9は、それぞれ図7に示すCNT120の平面及び断面を部分的に拡大した写真を示す図である。図8及び図9を参照すれば、基板100上に形成された触媒金属層110上に垂直に成長したCNT120の両端には、触媒金属粒子(黒色部分)111が固着されていることが分かる。また、後述する電解液160(図5参照)内で印加される電界によって、CNT120がカソード電極180に容易に付着されるようにCNT120の端部に金属薄膜(図示せず)が蒸着されてもよい。
このように、基板100上に垂直成長したCNT120は、超音波によって基板100から束状に分離される。ここで、CNT120と基板100とに超音波を約2から3分間加えれば、CNT120が基板100から束状に分離される。
また、CNT120は、基板100上にパターニングされた触媒金属層110上に束状に形成されてもよい。具体的には、まず、図3を参照すれば、基板100上に所定の形態にパターニングされた触媒金属層110を形成する。ここで、前記パターニングされた触媒金属層110は、基板100の表面に所定の触媒金属を蒸着し、それを所定の形態、例えば、ドット状にパターニングすることで形成されることができる。
次に、図4を参照すれば、前記パターニングされた触媒金属層110上に、前記したCVD法によってCNT120を成長させる。この結果、前記パターニングされた触媒金属層110上には、それぞれCNT束130が垂直に成長する。そして、束状に成長したCNT130の両端にも、触媒金属粒子111が固着される。CNT束130の上端には、前記した金属薄膜が蒸着されてもよい。
図10は、基板100上にパターニングされた触媒金属層110上にCNT束130が成長したものを撮影した写真を示す図である。
図10を参照すれば、基板100上に形成された触媒金属層110上に垂直に成長したCNT束130の両端には、触媒金属粒子(黒色部分)111が固着されていることが分かる。
次に、基板100上にパターニングされた触媒金属層110上に形成されるCNT束130は、超音波によって基板100から分離される。このように、基板100上にパターニングされた触媒金属層110を形成し、その上にCNT束130形成して分離すれば、一定の数のCNT120からなるCNT束130が得ることができる。
図5を参照すれば、基板100から分離されたCNT束130を容器150内に満たされた電解液160に入れる。ここで、電解液160は、イソプロピルアルコール(isopropylalcohol:IPA)を含む。電解液160には、正電荷を有する帯電剤(図示せず)が含まれており、電解液160の内部の両側には、一対の電極170、180が設けられている。
次に、電解液160に含まれているCNT束130と帯電剤とを混合させることによって、CNT束130を正に帯電させる。具体的には、CNT束130と帯電剤とが含まれている電解液160に、超音波を所定時間加えれば、前記帯電剤は、CNT束130の両端に固着された触媒金属粒子111と混合して、CNT束130の両端を正に帯電させる。
次に、電気泳動法を利用して、CNT束130を一対の電極170、180のうち、何れか一つの電極180の表面に垂直に付着させる。具体的には、一対の電極170、180の間に所定の電圧、例えば、約25から35V、好ましくは、約30Vの電圧を印加すれば、一対の電極170、180の間には電界が形成され、この電界によって、カソード電極180とアノード電極170とからなる一対の電極170、180のうちのカソード電極180の表面に、正に帯電されたCNT束130の一端が付着される。この結果、CNT束130は、カソード電極180の表面に垂直に付着される。ここで、電解液160の内部の一対の電極170、180の間に流れる電流は、約5から10mAである。一対の電極170、180の間には、直流電圧だけでなく、交流電圧が印加されることもできる。
このように、電気泳動法を利用してCNT束130をカソード電極180の表面に付着させれば、図6に示すように、カソード電極180上に垂直に整列されたCNT束130が得ることができる。
図11及び図12は、電気泳動法によってCNT束がカソード電極の表面に付着されたものを撮影した写真を示す図である。図11及び図12を参照すれば、CNT束130がカソード電極の表面に対して垂直に整列されているが分かる。
以上のように、本発明に係る好ましい実施形態を説明したが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということが理解できる。したがって、本発明の真の技術的範囲は、特許請求の範囲によって決めなければならない。
本発明は、FED、LCD用などのバックライトのような素子に応用できるCNTに関連した技術分野に有用である。
本発明の実施形態に係るCNTの垂直整列方法を説明するための図である。 本発明の実施形態に係るCNTの垂直整列方法を説明するための図である。 本発明の実施形態に係るCNTの垂直整列方法を説明するための図である。 本発明の実施形態に係るCNTの垂直整列方法を説明するための図である。 本発明の実施形態に係るCNTの垂直整列方法を説明するための図である。 本発明の実施形態に係るCNTの垂直整列方法を説明するための図である。 CVD法によって、触媒金属層が形成された基板上にCNTを成長したものを撮影した写真を示す図である。 成長したCNTの両端に触媒金属粒子が固着されたものを撮影した写真を示す図である。 成長したCNTの両端に触媒金属粒子が固着されたものを撮影した写真を示す図である。 基板上にパターニングされた触媒金属層を形成し、その上にCNTを成長させたものを撮影した写真を示す図である。 カソード電極上に垂直に整列されたCNT束を撮影した写真を示す図である。 カソード電極上に垂直に整列されたCNT束を撮影した写真を示す図である。
符号の説明
111 触媒金属粒子、
120 CNT、
130 CNT束、
150 容器、
160 電解液、
180 カソード電極。

Claims (15)

  1. 触媒金属層が形成された基板上に炭素ナノチューブを成長させるステップと、
    成長した前記炭素ナノチューブを前記基板から束状に分離するステップと、
    前記束状に分離された炭素ナノチューブ束を、帯電剤を含む電解液に入れて前記炭素ナノチューブ束を前記帯電剤と混合させて帯電させるステップと、
    帯電された前記炭素ナノチューブ束を、電気泳動法を利用して電極の表面に垂直に付着させるステップと、
    を含むことを特徴とする炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  2. 前記成長させるステップでは、前記炭素ナノチューブの両端に触媒金属粒子が固着されることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  3. 前記帯電させるステップでは、前記帯電剤と前記炭素ナノチューブの両端に固着された触媒金属粒子とを混合して、前記炭素ナノチューブ束の両端を正に帯電させることを特徴とする請求項2に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  4. 前記付着させるステップでは、前記正に帯電された炭素ナノチューブ束の一端を、前記電解液の内部に設けられた一対の電極間に所定の電圧を印加することによって、前記一対の電極のうち、カソード側の電極表面に付着させることを特徴とする請求項3に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  5. 前記一対の電極間には、直流、または、交流電圧が印加されることを特徴とする請求項4に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  6. 前記一対の電極間には、25から35Vの電圧が印加されることを特徴とする請求項5に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  7. 前記一対の電極間に流れる電流は、5から10mAであることを特徴とする請求項6に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  8. 前記触媒金属層は、前記基板上に所定の触媒金属を蒸着することで形成されることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  9. 前記触媒金属層は、前記基板上に所定の触媒金属を蒸着し、蒸着された前記触媒金属を所定の形態にパターニングすることによって形成されることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  10. 前記触媒金属層は、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)及びコバルト(Co)からなる群からから選択された少なくとも一つの金属からなることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  11. 前記成長させるステップでは、化学気相蒸着法によって前記炭素ナノチューブを前記触媒金属層上で垂直に成長させることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  12. 前記成長させるステップの後に、前記基板上に成長した炭素ナノチューブの端部に、金属薄膜を蒸着させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  13. 前記分離するステップでは、前記触媒金属層上に成長した前記炭素ナノチューブを超音波によって前記基板から束状に分離させることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  14. 前記電解液は、イソプロピルアルコールを含むことを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
  15. 前記帯電させるステップでは、前記電解液に入れた前記炭素ナノチューブ束を超音波によって前記帯電剤と混合させることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブの垂直整列方法。
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