JP2006161095A - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 直列に接続された複数の真空槽1のそれぞれに複数のトレー4を順次に移送して、トレー4に保持したワーク6に各真空槽1内で成膜処理を施す成膜装置において、複数のトレー4はそれぞれ、各真空槽1内の所定の成膜位置に配置された時に槽両端の開口2aをトレー4自体の通過を許容する隙間を残して閉塞して、コンダクタンスにより真空槽1内に所定の雰囲気を保持する閉塞部としての突部10を少なくとも端部に有した構造とする。複数のトレー4の内の一部は、ワーク6を搬送しないダミートレー4bとし、ダミートレー4bが移送された真空槽1内でプリデポジション処理が行われるように構成する。トレー4自体を遮蔽手段として密封して各真空槽1に個別の雰囲気を保持できる。
【選択図】 図1
Description
ワークの種類および成膜条件に応じてダミートレーを増減すればよい。ダミートレー数によってプリデポジション処理回数が設定されるからである。
図1は、本発明の第1の実施形態における成膜装置の概略構成を示す断面図である。
この成膜装置は、スパッタ装置として構成されており、複数種の異なる成膜処理を順次に行うことを目的として、複数の真空槽1が直列に接続されている。
図1においては、最も下流側の真空槽1内にダミートレー4bが配置され、上流側の2つの真空槽1に、ワーク6を保持した搬送用トレー4aが配置されている。
この成膜装置では、搬送用トレー4aとダミートレー4bとを交互に配置している。プリスパッタ処理は、1回の成膜を終了する毎に行うのが望ましく、現状でもそのような頻度で行うことが多いため、このような構成が実用的である。
この成膜装置では、トレー4を真空槽1の2つ分の大きさとし、トレー4の進行方向に向かって後ろ側半分にワーク3を保持することにより、トレー4の前半分に上記したダミートレー4bと同様の機能を持たせている。
2 隔壁
2a 開口
3 カソード
4 トレー
4a 搬送用トレー
4b ダミートレー
6 ワーク
10 突部(閉塞部)
P1 プラズマ放電
P2 プリスパッタ放電
Claims (5)
- 直列に接続された複数の真空槽のそれぞれに複数のトレーを順次に移送して、トレーに保持したワークに各真空槽内で成膜処理を施す成膜装置において、
前記複数のトレーはそれぞれ、各真空槽内の所定の成膜位置に配置された時に槽両端の開口部をトレー自体の通過を許容する隙間を残して閉塞して、コンダクタンスにより真空槽内に所定の雰囲気を保持する閉塞部を少なくとも端部に有し、前記複数のトレーの内の一部は、ワークを搬送しないダミートレーとし、ダミートレーが移送された真空槽内でプリデポジション処理を行うように構成された成膜装置。 - プリデポジション処理が、スパッタリングによる成膜前にターゲット表面の酸化物及び不純物を取り除くプリスパッタ処理である請求項1記載の成膜装置。
- ワークの種類および成膜条件に応じてダミートレーが増減される請求項1記載の成膜装置。
- 搬送トレーとダミートレーとが交互に移送される請求項3記載の成膜装置。
- 直列に接続された複数の真空槽のそれぞれに複数のトレーを順次に移送して、トレーに保持したワークに各真空槽内で成膜処理を施す成膜方法において、
前記複数のトレーとして、各真空槽内の所定の成膜位置に配置された時に槽両端の開口部をトレー自体の通過を許容する隙間を残して閉塞して、コンダクタンスにより真空槽内に所定の雰囲気を保持する閉塞部を少なくとも端部に有したトレーを、ワークを搬送しないダミートレーを含めて移送し、前記ダミートレーが移送された真空槽内でプリデポジション処理を行う成膜方法。
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Cited By (2)
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WO2016148327A1 (ko) * | 2015-03-13 | 2016-09-22 | (주)씨앤아이테크놀로지 | 복수의 회전형 트레이 홀더를 구비한 인라인 스퍼터링 시스템 및 이를 이용한 패키지 쉴딩 제조방법 |
CN112359340A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-02-12 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 应用于板式工件的镀膜*** |
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JPH04228573A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ化学気相堆積装置における微粒子汚染減少方法 |
JPH0574739A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-03-26 | Hitachi Ltd | 真空処理装置およびその運転方法 |
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2004
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