JP2006080165A - 発光装置 - Google Patents

発光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006080165A
JP2006080165A JP2004260163A JP2004260163A JP2006080165A JP 2006080165 A JP2006080165 A JP 2006080165A JP 2004260163 A JP2004260163 A JP 2004260163A JP 2004260163 A JP2004260163 A JP 2004260163A JP 2006080165 A JP2006080165 A JP 2006080165A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light emitting
emitting device
sealing portion
led element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004260163A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4254669B2 (ja
Inventor
Yoshinobu Suehiro
好伸 末広
Seiji Yamaguchi
誠治 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyoda Gosei Co Ltd
Original Assignee
Toyoda Gosei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyoda Gosei Co Ltd filed Critical Toyoda Gosei Co Ltd
Priority to JP2004260163A priority Critical patent/JP4254669B2/ja
Priority to US11/218,530 priority patent/US7491981B2/en
Publication of JP2006080165A publication Critical patent/JP2006080165A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4254669B2 publication Critical patent/JP4254669B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/64Heat extraction or cooling elements
    • H01L33/642Heat extraction or cooling elements characterized by the shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/0557Disposition the external layer being disposed on a via connection of the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/05571Disposition the external layer being disposed in a recess of the surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05573Single external layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12041LED
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

【課題】 信頼性に優れ、加工性が良好で耐光性、耐湿性、耐熱性、および放熱性に優れる発光装置を提供する。
【解決手段】放熱基部3上に無機材料として低融点ガラスからなる封止部を設け、給電部7を放熱基部3に対して絶縁するとともにLED素子2を封止するようにしたので、LED素子2およびワイヤ8を熱によって損傷することがなく、光劣化に対する耐久性と防湿性を付与でき、LED素子2の発光に伴って生じる熱を速やかに外部放散させることができる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、発光ダイオードを光源とする発光装置に関し、特に、耐光性、耐湿性、耐熱性、および放熱性に優れるとともに生産性に優れる発光装置に関する。
従来、発光ダイオード(LED:Light-Emitting Diode)素子を光源とする発光装置の代表的な構造として、LED素子及び給電部材であるリードの所定範囲を光透過性を有する封止材料で一体的に封止したものがある。このような封止材料として、成形性、量産性、及びコストの面から、一般にエポキシやシリコーン等の樹脂封止材料が用いられている。
近年、赤色や緑色のLEDと同等の高輝度の青色LEDが開発されたことにより、LED信号機、或いは白色発光のLED等の用途に供されるようになった。また、より高輝度を得るために高出力のLEDの開発も進められており、すでに数ワットの高出力タイプも製品化されている。高出力タイプのLED素子では、大電流が流れるため、発光特性や耐久性の点から無視できないレベルの発熱が生じる。
かかるLEDにおいて、樹脂封止材料は熱膨張率が大であることから、LED素子の高出力化、大光量化に伴って発熱量が大になると熱膨張による内部応力が増大し、パッケージのクラックや各部材間の熱膨脹差に起因する剥離を生じることがある。また、樹脂封止材料に黄変等の光劣化が早期に生じるといった不都合もある。特に、高出力タイプのLEDでは、上記した傾向が顕著に現れることから耐久性に優れるLEDが切望されている。
このようなLEDの光劣化、耐熱性、及び耐久性を改善するものとして、例えば、封止材料にガラス材を用いたものがある(例えば、特許文献1参照。)。
特開平11−204838号公報(図1)
しかし、従来の発光装置によると、ガラスによってLED素子等の封止を行う場合には、一般にガラス材を軟化させて圧着加工するか、溶融ガラスを成形してLED素子等と一体化する必要があることから、加工時の熱に晒されることによって封止対象が熱膨張する。そして、この状態で一体化し、応力のないものとして形成され、常温へ戻される。このとき、LED素子と接合基板等の熱膨張率との差が大であると、接合界面に熱収縮差に伴う熱応力に起因する剥離や、封止材であるガラスにクラックが生じ、信頼性が低下するといった問題がある。
従って、本発明の目的は、信頼性に優れ、加工性が良好で耐光性、耐湿性、耐熱性、および放熱性に優れる発光装置を提供することにある。
本発明は、上記した目的を達成するため、発光素子を備える発光部と、前記発光部を搭載するとともに前記発光部の発光に基づいて生じる熱を放熱する外部露出された放熱基部と、前記発光部に電力を供給する給電部と、前記放熱基部に対して前記給電部を絶縁するとともに前記放熱基部と一体化されるガラス材料からなる封止部とを有することを特徴とする発光装置を提供する。
本発明の発光装置によれば、信頼性に優れ、加工性が良好で耐光性、耐湿性、耐熱性、および放熱性に優れる発光装置が得られる。
(第1の実施の形態)
(発光装置1の構成)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図であり、図2は、図1のA−A部における切断図である。この発光装置1は、発光部として発光に基づいて光を放射するLED素子2と、発光装置1の底部に放熱面が露出するように設けられてLED素子2を素子搭載部31に搭載する放熱基部3と、放熱基部3の凸状部30に嵌合するように設けられて光透過性の透明なガラス材料からなる下封止部4と、下封止部4の上部に熱圧着に基づいて一体化されてLED素子2から放射される光を光学形状面50から外部放射させる光透過性の透明なガラス材料からなる上封止部5と、LED素子2の近傍における下封止部4と上封止部5との間に形成される空間をシリコン樹脂で封止してなり、LED素子2へ付加される応力を緩衝する緩衝部6と、下封止部4と上封止部5との間に介在してLED素子2に電力を供給する薄膜状の給電部7と、給電部7とLED素子2の電極との間を電気的に接続するAuからなるワイヤ8とを有する。
(発光装置1の各部の構成)
LED素子2は、下地基板としてのサファイア基板上にIII族窒化物系化合物半導体層を結晶成長させることによって形成したGaN系LED素子であり、熱膨張率は4.5〜6×10-6/℃である。このLED素子2は、放熱基部3の素子搭載部31に図示しない接着剤によって固定されており、発光層から放射される光の発光波長は460nmである。
III族窒化物系化合物半導体層の形成方法は、特に限定されないが、周知の有機金属気相成長法(MOCVD法)、分子線結晶成長法(MBE法)、ハライド系気相成長法(HVPE法)、スパッタ法、イオンプレーティング法、電子シャワー法等によって形成することができる。なお、LED素子の構成としては、ホモ構造、ヘテロ構造若しくはダブルへテロ構造のものを用いることができる。さらに、量子井戸構造(単一量子井戸構造若しくは多重量子井戸構造)を採用することもできる。
放熱基部3は、放熱性に優れる純銅に近い銅合金(熱伝導率:400W/(m・k))によって円形状に形成されており、凸状部30の上部に窪み状に設けられる素子搭載部31と、素子搭載部31の周辺に設けられる傾斜面32とを有し、LED素子2の発熱に基づいて生じた熱を熱伝導に基づいて底面および側面から外部に放熱する。なお、放熱基部3は、表面をAg等で光沢めっきされていても良く、更に熱伝導性および放熱性に優れるもの(熱伝導率100W/(m・k)以上、好ましくは200W/(m・k)以上)であれば他の金属材料(例えば、Al)、あるいは金属材料以外の材料によって形成されても良い。
傾斜面32は、LED素子2から横方向に放射された光を反射させることにより、上封止部5の光学形状面50に入射させるように構成されている。
下封止部4は、P−F系ガラス(熱膨張率:16.5×10−6/℃、転移点Tg:325℃、屈折率n:1.5)からなる低融点ガラスで構成されて放熱基部3と同一外径の円筒状に形成されており、中央部分に開口された穴によって放熱基部3の凸状部30に嵌合している。また、上封止部5との熱圧着時に緩衝部6から漏れ出たシリコン樹脂を堰き止める凹部40と、放熱基部3の素子搭載部31の周囲に上封止部5との接合界面より一段低く形成された段部41と、段部41に周辺に設けられる傾斜部42とを有する。この下封止部4は、熱圧着に基づいて上封止部5および放熱基部3と一体化されている。
凹部40は、図2に示すように、放熱基部3の周囲に環状に形成されており、緩衝部6から外部方向に漏れたシリコン樹脂がこの部分より外側に漏れることを防いで、下封止部4、上封止部5、および給電部7の接着強度低下を防止する。
上封止部5は、下封止部4と同じP−F系ガラスで形成されており、予め半球状に形状加工された光学形状面50と、光学形状面50の周縁に環状に設けられる圧着部51とを有し、圧着部51を後述する金型で熱圧着することによって下封止部4と一体化されている。なお、光学形状面50は、半球状の集光光学系としているが、他の集光形状を有していても良く、あるいは拡散光学系であっても良い。
緩衝部6は、シリコン樹脂によって形成されて下封止部4と上封止部5との間に設けられるLED素子2およびワイヤ8を保護している。なお、シリコン樹脂にLED素子2から放射される光によって励起される蛍光体を含有させても良い。
給電部7は、厚さ50μm以下の薄膜状のCuからなり、下封止部4に対して金型で熱圧着されることによって凹部40、段部41、および傾斜部42に応じた形状に成形されている。
ワイヤ8は、LED素子2の電極と下封止部4の段部41に位置する給電部7のワイヤ接合部70に接合されている。
(発光装置1の製造方法)
以下に、第1の実施の形態の発光装置1の製造方法について説明する。
図3(a)から(c)は、発光装置の放熱基部および下封止部の加工工程を示す説明図である。まず、図3(a)に示すように、下金型10に放熱基部3および下封止部4の順にセットする。次に、下封止部4の表面に給電部7となる銅箔を位置決めして配置する。次に、上金型11を用意する。上金型11は、プレス形状面110に凸部111と、凹部112と、傾斜部113とを有する。
次に、図3(b)に示すように、上金型11を約325℃に加熱し、下封止部4および銅箔の上方から上金型11を降下させてプレス形状面110を下封止部4および銅箔に密着させながら一定時間、所定の荷重でプレスする。この加熱プレスによって放熱基部3および下封止部4の熱圧着と、下封止部4の表面に対してプレス形状面110の形状に応じたパターンの圧痕成形と、銅箔の圧着による給電部7の形成とが同時に行われる。
次に、図3(c)に示すように、上金型11を分離し、下金型10から放熱基部3および下封止部4を取り出す。
図4は、加熱プレスによって一体化された放熱基部および下封止部を示す断面図である。図4(a)に示す下封止部4には、図3で説明した上金型11のプレス形状面110に応じた凹部40と、段部41と、傾斜部42とが給電部7とともに形成されている。
図4(b)は、放熱基部の素子搭載部にLED素子を搭載する素子搭載工程を示す説明図である。この素子搭載工程では、放熱基部3の素子搭載部31にエポキシ系接着剤によってLED素子2を接着する。接着剤として、例えば、Agペースト等の他の接着剤を用いても良い。次に、LED素子2の電極と段部41に設けられる給電部7のワイヤ接合部70とをAuワイヤ8で電気的に接続する。このとき、Auワイヤ8が下封止部4の上面から突出しないようにする。
次に、LED素子2およびAuワイヤ8の部分に対して上方から緩衝部6を構成するシリコン樹脂を滴下する。なお、上記した素子搭載工程は、下金型10から放熱基部3および下封止部4を取り出して行っているが、下金型10に収容した状態で行っても良い。
図5は、放熱基部および下封止部と、上封止部とを圧着する圧着工程を示す説明図である。この圧着工程では、まず、放熱基部3および下封止部4を再び下金型10に収容し、更に予め光学形状面50を有するように成形された上封止部5を下封止部4上に搭載する。次に、圧着金型12を用意し、上金型11を360℃、下金型10を300℃として、そのプレス形状面110を約350℃に加熱して上封止部5の周縁部に設けられる圧着部51に位置決めした後に降下させて圧着部51を一定時間、所定の荷重でプレスする。この加熱プレスによって上封止部5が圧着部51の形状に応じて下封止部4に環状に熱圧着される。
このとき、仮に緩衝部6からシリコン樹脂が漏れ出して下封止部4と上封止部5との間に流出しても、漏れたシリコン樹脂は緩衝部6を環状に包囲して設けられている凹部40に受容されることにより圧着部51近傍への拡散は抑止される。
なお、加熱プレス時に、下金型10および上金型11を同じ温度にして加工を行っても良い。
(発光装置1の動作)
以下に、第1の実施の形態の動作について説明する。
給電部7を図示しない電源部に接続して通電することにより、ワイヤ接合部70からLED素子2の電極を介して発光層に通電される。発光層は、通電に基づいて発光して青色光を生じる。この青色光は、電極形成面から緩衝部6を介して上封止部5に入射し、上封止部5から光学形状面50を介して外部放射される。
(第1の実施の形態の効果)
第1の実施の形態によると、以下の効果が得られる。
(1)放熱基部3上に無機材料として低融点ガラスからなる封止部を設け、給電部7を放熱基部3に対して絶縁するとともにLED素子2を封止するようにしたので、LED素子2およびワイヤ8を熱によって損傷することがなく、光劣化に対する耐久性と防湿性を付与できる。また、放熱基部3は、高熱伝導部材を用い、LED素子2からの放熱方向に対し、放熱経路の面積が広がる形状とされ、さらに側面の一部と底面とが外部露出していることにより、LED素子2の発光に伴って生じる熱を速やかに外部放散させることができる。特に、GaN系のLED素子2では、発光出力低下要因は、主として封止部の劣化によるものであることから、ガラス封止とすることで極めて出力劣化の小なる発光装置1が得られる。
(2)LED素子2の周囲をシリコン樹脂からなる緩衝部6で封止して下封止部4と上封止部5の圧着を行うことにより一体化しているので、ガラス封止に伴う熱および外力がLED素子2に直接的に及ぶことを防ぐことができ、加工時にLED素子2の損傷が生じにくい構成とすることができる。また、極力低温で高粘度ガラス(10〜10ポアズ)の状態にあるものを用いて熱圧着によりLED素子2を封止したことにより、これまでガラス封止LEDのコンセプトがありながらも具現化できていなかった問題を解消した。なお、用いられているシリコン樹脂は、素子周辺のわずかな部位のみで、密閉空間に充填されている。このため、熱膨張率の大きなシリコン樹脂の内部応力は問題にならない程度である。
(3)給電部7を銅箔で形成しているので、下封止部4の加工時に同時に形状加工を施すことができ、製造工程の簡略化を図ることができる。また、高粘度状態のガラス加工において、電極側面に生じ易いガラスとの未接着箇所が生じにくいものとできる。さらに、薄膜状の給電部7とすることで、ガラス材料との付着性に優れるとともに熱膨張収縮に対する剥離が生じにくく、信頼性に優れるとともに複雑な配線パターンでも柔軟に対応でき、設計上の自由度に優れる。
(4)下封止部4と上封止部5との熱圧着時に界面に流出したシリコン樹脂が凹部40によって受容されるので、凹部40より外側にはシリコン樹脂が漏れ出ることがない。このことによりガラス接着性が確保される。
(5)P−F系ガラスを用いることで、フッ素の撥水効果によってP系ガラスでも極めて高い耐久性、対候性のあるものとできる。
(6)LED素子2およびその周囲は、ガラスと金属材料で封止されていることにより、水分の影響を受けないものとできる。
(7)耐熱性の高い部材のみで構成されているので、鉛フリーのリフロー炉で加熱処理される場合でも余裕をもって対応することができる。
(8)放熱基部3、下封止部4、給電部7と下封止部4との一体化、LED素子2搭載、緩衝部6の形成、そして上封止部5の熱圧着というように部材単位で製造工程を管理できるので、製造管理が容易で、かつ高精度の発光装置製造を実現することができる。
(9)上封止部5の周縁部を熱圧着して下封止部4と一体化しているので、上封止部5の熱圧着に伴う熱がLED素子2に伝わりにくく、封止加工時におけるLED素子2の熱破壊を防ぐことができる。
なお、下封止部4および上封止部5に用いられるガラス材料は、LED素子2を破壊することなく、かつ、緩衝部6のシリコン樹脂が熱分解することのない400℃以下の温度で加工できるものであれば、他のガラス材料であっても良い。このようなガラス材料として、例えば、珪酸系ガラスがある。軟金属との接合は、熱膨張率差が大きくても塑性変形により、広い範囲で熱衝撃試験にも耐える良好な接合ができる。
また、第1の実施の形態では、下封止部4と上封止部5とを透明なガラス材料で形成したが、例えば、下封止部4を白色のガラス材料で形成するようにしても良い。この場合、上封止部5の光学形状面50で全反射されて下封止部4に至った光が白色のガラスによって散乱されることにより外部放射される。
また、発光装置1の用途に応じて、下封止部4を黒色のガラス材料で形成し、上封止部5を透明なガラス材料で形成するようにしても良い。例えば、信号等の用途で発光装置1を点灯、消灯させるような場合、非点灯時にはLED素子2の周囲の黒色が視認され、点灯時には発光色である青色が視認されることとなり、点灯時と非点灯時とで明確なコントラストが付与されて視認性が向上する。
また、上封止部5にLED素子2の発光波長によって励起される蛍光体を含有させても良い。この場合には波長変換型の発光装置1とすることができる。また、蛍光体は、上封止部5に含有せずに光学形状面50に薄膜状に設けられるものであっても良い。
また、第1の実施の形態では、GaN系LED素子2を用いた発光装置1を説明したが、LED素子2はGaN系にものに限定されず、GaP系、GaAs系等の他のLED素子2を用いることもできる。
(第2の実施の形態)
(発光装置1の構成)
図6は、第2の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図である。この発光装置1は、第1の実施の形態で説明した発光装置1の下封止部4に設けられる凹部40に代えて溝44を有する波状凸部43を設けた構成において第1の実施の形態と相違している。以下の説明では、第1の実施の形態と同一の構成および機能を有する部分に共通の引用数字を付して説明する。
波状凸部43は、第1の実施の形態と同様に金型による加熱プレスによって給電部7の圧着と同時に形成される。溝44は、下封止部4と上封止部5との熱圧着時に界面に流出したシリコン樹脂の周縁方向への拡散を抑止する。
(第2の実施の形態の効果)
第2の実施の形態によると、加熱プレスによって給電部7の圧着と同時に下封止部4に波状凸部43を形成することにより、下封止部4に予め溝加工を施さなくてもシリコン樹脂の拡散防止構造を給電部7の熱圧着時に形成することが可能になり、第1の実施の形態の好ましい効果に加えて製造工程の簡略化が可能になる。
(第3の実施の形態)
(発光装置1の構成)
図7は、第3の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図である。この発光装置1は、第1の実施の形態で説明した発光装置1の上封止部5に三角断面形状の溝52を有しており、更に、LED素子2がAlNからなるサブマウント20を介してフリップチップ実装されることにより発光部を構成している点において第1の実施の形態と相違している。
溝52は、上封止部5の接合面に予め形成されており、上封止部5を下封止部4に圧着することによって凹部40よりLED素子2側に環状に設けられる。この溝52は、凹部40と同様に緩衝部6から漏れ出たシリコン樹脂を受容するが、シリコン樹脂が満たされなくとも内部に形成される空気層界面との屈折率差に基づいてLED素子2から緩衝部6を介して入射した光を光学形状面50の方向に全反射する。
LED素子2は、サブマウント20を介してフリップチップ実装されることにより、ラージサイズのLED素子2を実装することも可能である。
サブマウント20は、図示しない層内配線パターンが形成されており、LED素子2のn側およびp側の電極と電気的に接続される端子部と、給電部7に接続されるワイヤ8をボンディングする外部接続端子部とを有している。
(第3の実施の形態の効果)
第3の実施の形態によると、上封止部5に三角断面形状の溝52を形成したので、第1の実施の形態の好ましい効果に加えてシリコン樹脂の拡散防止性をより向上させることができる。また、溝52に入射する光を全反射させて光学形状面50に至らせることから、外部放射効率の向上に有効である。
(第4の実施の形態)
(発光装置1の構成)
図8は、第4の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図である。この発光装置1は、第1の実施の形態で説明した発光装置1の素子搭載部31にラージサイズのLED素子2をフリップチップ実装しており、フリップチップ実装に伴って素子搭載部31を含む凸状部30の上面全体にSiOからなる絶縁層33を設けている構成において、第1の実施の形態と相違している。給電部7は、放熱基部3と下封止部4との熱圧着時に素子搭載部31に及ぶように配置されて圧着されている。なお、絶縁層33はSiOに限定されず、耐熱性絶縁フィルム、シート、Alベースとアルマイトの組み合わせ等であっても良い。
(第4の実施の形態の効果)
第4の実施の形態によると、絶縁層33を設けられた素子搭載部31に給電部7を設け、ラージサイズのLED素子2をフリップチップ実装しているので、第1の実施の形態の好ましい効果に加えてワイヤボンディングが不要になり、製造工程の簡素化およびコストダウンを実現できる。
また、フリップチップ実装されるLED素子2の光取り出し面に蛍光体層を設けることで、波長変換型発光装置1とすることができる。具体的には、LED素子2のサファイア基板表面にCe:YAG(Yttrium Aluminum Garnet)からなる蛍光体をバインダに溶解してスクリーン印刷し、これを約150℃で加熱処理してバインダを除去することにより蛍光体層が得られる。
(第5の実施の形態)
(LED素子2の構成)
図9は、第5の実施の形態に係るLED素子の構成を示す部分断面図である。このLED素子2は、GaN系半導体層200と、このGaN系半導体層200の光取り出し側に屈折率n=1.8の低融点ガラスからなるガラス層201を一体化して構成されており、Auバンプ13を介して給電部7にフリップチップ実装されている。また、GaN系半導体層200とガラス層201との界面にGaN系半導体層200からの光取り出し形状として凹凸形状面200Aが設けられている。その他、発光装置1の構成については第4の実施の形態と同一である。
凹凸形状面200Aは、GaN系半導体層200から外部放射されずに層内閉込光となっている光を外部放射させるものであり、LED素子2のサファイア基板側からレーザ光を照射することによってサファイア基板をリフトオフし、露出したGaN系半導体層200の表面にレーザ光によって所定の深さおよび間隔で垂直側面を有する凹凸形状面200Aを設けている。
(第5の実施の形態の効果)
第5の実施の形態によると、サファイア基板をリフトオフして露出したGaN系半導体層200に凹凸形状面200Aを設け、ガラス層201を一体化したので、GaN系半導体層200から外部放射されない層内閉込光を効率良く取り出すことが可能になり、そのことによって外部放射効率を向上させることができる。
(第6の実施の形態)
(発光装置1の構成)
図10は、第6の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図である。この発光装置1は、第1の実施の形態で説明した発光装置1の素子搭載部31にサブマウント20を介して複数のLED素子2(2R、2G、2B)をフリップチップ実装した構成において第1の実施の形態と相違している。
LED素子2は、赤色光、緑色光、および青色光を放射するものを組み合わせて実装されている。サブマウント20と給電部7はワイヤ8を介して電気的に接続されており、その接続構造は第3の実施の形態で説明した発光装置1と同様である。
(第6の実施の形態の効果)
第6の実施の形態によると、サブマウント20を介して複数のLED素子2を実装するようにしたので、光量の大なる発光装置1とすることができる。また、放熱基部3を介して発光に伴う熱を放散させることができ、複数のLED素子2を有していても大出力化に余裕を持って対応することができる。
また、発光色の異なる複数のLED素子2を組み合わせて搭載できることにより、フルカラーを出力することができる。また、蛍光体を用いることなく白色光を放射することもできる。
(第7の実施の形態)
(発光装置1の構成)
図11は、第7の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図である。この発光装置1は、第1の実施の形態で説明した発光装置1の素子搭載部31にサブマウント20を介してLED素子2をフリップチップ実装しており、サブマウント20に形成される外部接続端子部と給電部7とが電気的に接続された構成において第1の実施の形態と相違している。なお、サブマウント20についての構成は第3の実施の形態で説明したものと同様である。
放熱基部3は、給電部7との短絡を避けるために給電部7が設けられる部分の傾斜面32を切り欠いた切欠部32Aを有する。なお、第7の実施の形態では、予め放熱基部3の素子搭載部31にサブマウント20およびLED素子2を接着剤により固定しておき、次に、サブマウント20の外部接続端子部に導電性接着剤を塗布して加熱プレスによる下封止部4と給電部7との一体化を行うことにより、サブマウント20の外部接続端子部と給電部7とが導電性接着剤を介して電気的に接続される。
導電性接着剤として、例えば、Agペースト、あるいは導電性フィラーを含有したエポキシ系接着剤を用いることができる。この導電性接着剤は、光透過性を有していても良い。
(第7の実施の形態の効果)
第7の実施の形態によると、LED素子2を搭載された放熱基部3に対して下封止部4と給電部7との一体化を行うことにより、LED素子2と給電部7との電気的接続も同時に行うことができるので、製造工程の簡素化およびコストダウンを実現できる。
(第8の実施の形態)
(LED素子2およびサブマウント20の構成)
図12(a)および(b)は、第8の実施の形態に係る発光装置のLED素子およびサブマウントの実装を示す説明図であり、(a)は、LED素子を搭載したサブマウントの平面図、(b)は、(a)のLED素子およびサブマウントの実装状態を示す部分断面図である。この発光装置1では、平坦状に形成された放熱基部3の上部に複数のLED素子2を有するサブマウント20が搭載されている。
第8の実施の形態では、まず、第1の実施の形態で説明したように下封止部4と給電部7とを放熱基部3に対して熱圧着する。次に、予め9個のLED素子2をフリップチップ実装したサブマウント20の外部接続端子部に導電性接着剤14を塗布する。次に、サブマウント20を給電部7に対して位置決めし、エポキシ系の接着剤34を介して放熱基部3の上部に接着する。このサブマウント20の接着時に外部接続端子部が導電性接着剤14によって給電部7に接着されることにより、電気的に接続される。
(第8の実施の形態の効果)
第8の実施の形態によると、サブマウント20を放熱基部3の上部に固定する際に給電部7に対する電気的接続も同時に行うことができ、より製造工程の簡略化を図ることができる。
(第9の実施の形態)
(発光装置1の構成)
図13(a)および(b)は、第9の実施の形態に係る発光装置を示し、(a)は、縦断面図、(b)は、(a)のB−B部における切断図である。この発光装置1は、図3(a)に示すように第1の実施の形態から第8の実施の形態で給電部7として用いた薄膜状のCuに代えて、銅合金からなるリード状の給電部7を用いた構成と、上封止部5の圧着部51を省いた構成と、上封止部5に第3の実施の形態で説明した溝52を設けた構成において第1の実施の形態と相違している。
リード状の給電部7は、厚さ0.3mmの銅合金によって形成されており、図3(b)に示すようにプレス加工によってガラス封止側に弧状部71が設けられている。この弧状部71は、ワイヤによるLED素子2との電気的接続を行うためのワイヤ接合部70を有する。ワイヤ接合部70は、給電部7の表面をエッチングすることによって厚さ0.15mmに形成されている。
下封止部4は、給電部7を収容するための段部41が弧状部71の形状に応じて設けられており、段部41に弧状部71を収容することによってワイヤ接合部70が素子搭載部31に対して位置決めされる。
(第9の実施の形態の効果)
第9の実施の形態によると、銅合金からなるリードで給電部7を形成し、下封止部4の段部41に収容するようにしたので、製造時に素子搭載部31に対する位置決め精度が向上する。また、薄膜状のCuを用いる給電部7で行っていた下封止部4に対する熱圧着が不要となることにより、下封止部4と上封止部5との熱圧着を容易に行うことができる。
また、給電部7が軟金属である銅合金で形成されているので、熱膨張収縮に伴って生じる応力が変形に基づいて吸収されることにより、剥離等の発生が抑制される。
なお、第9の実施の形態では、上封止部5に第1の実施の形態等で説明した圧着部51を設けない構成としたが、光学形状面50を包囲するように金型で保持して加熱プレスを行うことにより、下封止部4との接合強度の低下を生じることなく熱圧着させることができる。
本発明の第1の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図であり、図2は、図1のA−A部における切断図である。 図1のA−A部における切断図である。 図3(a)から(c)は、発光装置の放熱基部および下封止部の加工工程を示す説明図である。 加熱プレスによって一体化された放熱基部および下封止部を示す断面図である。 放熱基部および下封止部と、上封止部とを圧着する圧着工程を示す説明図である。 第2の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図である。 第3の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図である。 第4の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図である。 第5の実施の形態に係るLED素子の構成を示す部分断面図である。 第6の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図である。 第7の実施の形態に係る発光装置の構成を示す縦断面図である。 (a)および(b)は、第8の実施の形態に係る発光装置のLED素子およびサブマウントの実装を示す説明図であり、(a)は、LED素子を搭載したサブマウントの平面図、(b)は、(a)のLED素子およびサブマウントの実装状態を示す部分断面図である。 (a)および(b)は、第9の実施の形態に係る発光装置を示し、(a)は、縦断面図、(b)は、(a)のB−B部における切断図である。
符号の説明
1…発光装置、2…LED素子、3…放熱基部、4…下封止部、5…上封止部、6…緩衝部、7…給電部、8…ワイヤ、10…下金型、11…上金型、12…圧着金型、13…Auバンプ、14…導電性接着剤、20…サブマウント、30…凸状部、31…素子搭載部、32…傾斜面、32A…切欠部32A…絶縁層、34…接着剤、40…凹部、41…段部、42…傾斜部、43…波状凸部、44…溝、50…光学形状面、51…圧着部、52…溝、70…ワイヤ接合部、71…弧状部、110…プレス形状面、111…凸部、112…凹部、113…傾斜部、200A…凹凸形状面、200…GaN系半導体層、201…ガラス層

Claims (10)

  1. 発光素子を備える発光部と、
    前記発光部を搭載するとともに前記発光部の発光に基づいて生じる熱を放熱する外部露出された放熱基部と、
    前記発光部に電力を供給する給電部と、
    前記放熱基部に対して前記給電部を絶縁するとともに前記放熱基部と一体化されるガラス材料からなる封止部とを有することを特徴とする発光装置。
  2. 前記封止部は、前記放熱基部と前記給電部とを絶縁するガラス材料からなる第1の封止部と、
    前記第1の封止部との間に前記給電部を一体化されるとともに前記発光部から発せられる光を外部放射させる光透過性を有するガラス材料からなる第2の封止部と、
    前記発光部およびその周囲を保護する応力緩衝部とを有することを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
  3. 前記発光部は、サブマウント上に搭載された発光素子であることを特徴とする請求項1または2に記載の発光装置。
  4. 前記給電部は、導電性薄膜であることを特徴とする請求項1又は2に記載の発光装置。
  5. 前記封止部は、前記応力緩衝部から前記第1および前記第2の封止部の界面に流出した緩衝材の拡散を抑止する抑止部を有することを特徴とする請求項2に記載の発光装置。
  6. 前記第1の封止部は、予め成形された前記ガラス材料を用いることを特徴とする請求項2に記載の発光装置。
  7. 前記放熱基部、前記給電部、および前記封止部は、略同等の熱膨張率を有して構成されることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の発光装置。
  8. 前記給電部は、軟金属からなることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の発光装置。
  9. 前記放熱基部は、熱伝導率が100W/(m・k)以上の材料からなることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の発光装置。
  10. 前記放熱基部は、銅合金からなることを特徴とする請求項9項に記載の発光装置。
JP2004260163A 2004-09-07 2004-09-07 発光装置 Expired - Fee Related JP4254669B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004260163A JP4254669B2 (ja) 2004-09-07 2004-09-07 発光装置
US11/218,530 US7491981B2 (en) 2004-09-07 2005-09-06 Light-emitting device and glass seal member therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004260163A JP4254669B2 (ja) 2004-09-07 2004-09-07 発光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006080165A true JP2006080165A (ja) 2006-03-23
JP4254669B2 JP4254669B2 (ja) 2009-04-15

Family

ID=35995313

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004260163A Expired - Fee Related JP4254669B2 (ja) 2004-09-07 2004-09-07 発光装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7491981B2 (ja)
JP (1) JP4254669B2 (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008010791A (ja) * 2006-06-30 2008-01-17 Matsushita Electric Works Ltd 発光装置
JP2008147203A (ja) * 2006-12-05 2008-06-26 Sanken Electric Co Ltd 半導体発光装置
JP2009037995A (ja) * 2007-07-06 2009-02-19 Toshiba Lighting & Technology Corp 電球形ledランプおよび照明装置
WO2009130743A1 (ja) * 2008-04-25 2009-10-29 パナソニック株式会社 光素子用パッケージ、半導体発光装置および照明装置
JP2010186887A (ja) * 2009-02-12 2010-08-26 Sumita Optical Glass Inc 発光装置の製造方法
JP2011097020A (ja) * 2009-09-29 2011-05-12 Sumita Optical Glass Inc 発光装置の製造方法
KR101038213B1 (ko) * 2009-04-02 2011-05-31 이춘희 고휘도 엘이디용 쾌속 방열장치
JP2011210963A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Toyoda Gosei Co Ltd 発光装置の製造方法
JP2012064787A (ja) * 2010-09-16 2012-03-29 Toyoda Gosei Co Ltd 発光装置の製造方法
WO2012049853A1 (ja) * 2010-10-14 2012-04-19 パナソニック株式会社 発光装置及びこれを用いた面光源装置
JP2014508419A (ja) * 2011-03-07 2014-04-03 ショット アクチエンゲゼルシャフト 高出力発光ダイオード用のハウジング
JP2015103805A (ja) * 2013-11-20 2015-06-04 隆達電子股▲ふん▼有限公司 発光装置
US9368697B2 (en) 2007-07-06 2016-06-14 Lg Innotek Co., Ltd. Light emitting device package

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2596948B1 (en) * 2003-03-10 2020-02-26 Toyoda Gosei Co., Ltd. Method of making a semiconductor device
FR2862424B1 (fr) * 2003-11-18 2006-10-20 Valeo Electronique Sys Liaison Dispositif de refroidissement d'un composant electrique et procede de fabrication de ce dispositif
DE102005055293A1 (de) * 2005-08-05 2007-02-15 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zur Herstellung von Halbleiterchips und Dünnfilm-Halbleiterchip
JP2007157940A (ja) * 2005-12-02 2007-06-21 Nichia Chem Ind Ltd 発光装置および発光装置の製造方法
DE102007004303A1 (de) * 2006-08-04 2008-02-07 Osram Opto Semiconductors Gmbh Dünnfilm-Halbleiterbauelement und Bauelement-Verbund
US7687823B2 (en) * 2006-12-26 2010-03-30 Nichia Corporation Light-emitting apparatus and method of producing the same
DE102007004304A1 (de) * 2007-01-29 2008-07-31 Osram Opto Semiconductors Gmbh Dünnfilm-Leuchtdioden-Chip und Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilm-Leuchtdioden-Chips
US7675131B2 (en) * 2007-04-05 2010-03-09 Micron Technology, Inc. Flip-chip image sensor packages and methods of fabricating the same
KR101283282B1 (ko) * 2007-07-25 2013-07-11 엘지이노텍 주식회사 발광 소자 패키지 및 그 제조방법
WO2009023602A1 (en) * 2007-08-10 2009-02-19 Dialight Corporation Silicone based circuit board indicator led lens
JP5587296B2 (ja) * 2008-05-05 2014-09-10 ダイアライト・コーポレーション 表面実装型の回路基板インジケータ
KR100992778B1 (ko) * 2008-05-23 2010-11-05 엘지이노텍 주식회사 발광소자 패키지 및 그 제조방법
JP5623062B2 (ja) 2009-11-13 2014-11-12 シャープ株式会社 発光装置およびその製造方法
JP2011151268A (ja) 2010-01-22 2011-08-04 Sharp Corp 発光装置
US8525213B2 (en) * 2010-03-30 2013-09-03 Lg Innotek Co., Ltd. Light emitting device having multiple cavities and light unit having the same
JP6199601B2 (ja) * 2013-05-01 2017-09-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
CN110546751A (zh) * 2018-06-11 2019-12-06 厦门三安光电有限公司 发光组件

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0620698B2 (ja) 1985-10-07 1994-03-23 日立精機株式会社 工作機械
TW332348B (en) * 1992-06-23 1998-05-21 Sony Co Ltd Manufacturing method for solid state motion picture device provides a highly accurate and low cost solid state motion picture device by use of empty package made of resin.
JP2924961B1 (ja) 1998-01-16 1999-07-26 サンケン電気株式会社 半導体発光装置及びその製法
US6274927B1 (en) * 1999-06-03 2001-08-14 Amkor Technology, Inc. Plastic package for an optical integrated circuit device and method of making
US6614358B1 (en) * 2000-08-29 2003-09-02 Power Signal Technologies, Inc. Solid state light with controlled light output
US6841857B2 (en) * 2001-07-18 2005-01-11 Infineon Technologies Ag Electronic component having a semiconductor chip, system carrier, and methods for producing the electronic component and the semiconductor chip
EP1437776B1 (en) * 2001-10-12 2011-09-21 Nichia Corporation Light emitting device and method for manufacture thereof
TW518775B (en) * 2002-01-29 2003-01-21 Chi-Hsing Hsu Immersion cooling type light emitting diode and its packaging method
US6924514B2 (en) * 2002-02-19 2005-08-02 Nichia Corporation Light-emitting device and process for producing thereof
JP4269709B2 (ja) * 2002-02-19 2009-05-27 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法
US7244965B2 (en) * 2002-09-04 2007-07-17 Cree Inc, Power surface mount light emitting die package
JP2004207367A (ja) 2002-12-24 2004-07-22 Toyoda Gosei Co Ltd 発光ダイオード及び発光ダイオード配列板
US6998777B2 (en) * 2002-12-24 2006-02-14 Toyoda Gosei Co., Ltd. Light emitting diode and light emitting diode array

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008010791A (ja) * 2006-06-30 2008-01-17 Matsushita Electric Works Ltd 発光装置
JP2008147203A (ja) * 2006-12-05 2008-06-26 Sanken Electric Co Ltd 半導体発光装置
JP2009037995A (ja) * 2007-07-06 2009-02-19 Toshiba Lighting & Technology Corp 電球形ledランプおよび照明装置
US9368697B2 (en) 2007-07-06 2016-06-14 Lg Innotek Co., Ltd. Light emitting device package
JPWO2009130743A1 (ja) * 2008-04-25 2011-08-04 パナソニック株式会社 光素子用パッケージ、半導体発光装置および照明装置
WO2009130743A1 (ja) * 2008-04-25 2009-10-29 パナソニック株式会社 光素子用パッケージ、半導体発光装置および照明装置
JP2010186887A (ja) * 2009-02-12 2010-08-26 Sumita Optical Glass Inc 発光装置の製造方法
KR101038213B1 (ko) * 2009-04-02 2011-05-31 이춘희 고휘도 엘이디용 쾌속 방열장치
JP2011097020A (ja) * 2009-09-29 2011-05-12 Sumita Optical Glass Inc 発光装置の製造方法
JP2011210963A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Toyoda Gosei Co Ltd 発光装置の製造方法
JP2012064787A (ja) * 2010-09-16 2012-03-29 Toyoda Gosei Co Ltd 発光装置の製造方法
WO2012049853A1 (ja) * 2010-10-14 2012-04-19 パナソニック株式会社 発光装置及びこれを用いた面光源装置
JP2014508419A (ja) * 2011-03-07 2014-04-03 ショット アクチエンゲゼルシャフト 高出力発光ダイオード用のハウジング
JP2015103805A (ja) * 2013-11-20 2015-06-04 隆達電子股▲ふん▼有限公司 発光装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20060049423A1 (en) 2006-03-09
US7491981B2 (en) 2009-02-17
JP4254669B2 (ja) 2009-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4254669B2 (ja) 発光装置
US9634213B2 (en) Light emitting device having dual sealing resins
EP2264797B1 (en) Light-emitting device
US8154047B2 (en) Solid element device and method for manufacturing the same
JP4029843B2 (ja) 発光装置
JP4142080B2 (ja) 発光素子デバイス
JP2006054209A (ja) 発光装置
JP2007250979A (ja) 半導体パッケージ
JP2005109282A (ja) 発光装置
US8227829B2 (en) Semiconductor light-emitting device
JP2009135306A (ja) 発光装置
JP5407116B2 (ja) 発光装置
JP5126127B2 (ja) 発光装置の製造方法
JP5206204B2 (ja) 発光装置
JP5055837B2 (ja) 発光装置
JP4016925B2 (ja) 発光装置
JP4775403B2 (ja) 発光装置の製造方法
JPWO2004082036A1 (ja) 固体素子デバイスおよびその製造方法
JP2010087051A (ja) 発光装置
JP4742761B2 (ja) 発光装置
JP4678392B2 (ja) 発光装置およびその製造方法
JP5457325B6 (ja) 固体素子デバイス
JP4737218B2 (ja) 発光装置の製造方法
JP2007306036A (ja) 発光装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061122

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080811

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080826

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20081010

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081027

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090106

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090119

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120206

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120206

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130206

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140206

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees