JP2005502077A - 反射防止膜とその関連方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】光学薄膜および基板に成膜する方法を規定するものである。
【解決手段】基板に隣接して、第一の層を成膜する。この第一の層は、約0.27λ0 から0.31λ0 までの光学的厚さを有し、その際λ0 は、可視スペクトルによって境界を規定されたスペクトル領域、または可視スペクトル内のスペクトル領域に対応する基準波長である。約0.1λ0 から0.125λ0 までの光学的厚さと約2.2から約2.6までの屈折率を有する第二の層を成膜する。約1.46から約1.52までの屈折率を有する第三の層を成膜する。この光学薄膜は、広帯域反射防止性能を備えており、この薄い第二の層により、この光学薄膜を高能率に製造することが容易となっている。
【解決手段】基板に隣接して、第一の層を成膜する。この第一の層は、約0.27λ0 から0.31λ0 までの光学的厚さを有し、その際λ0 は、可視スペクトルによって境界を規定されたスペクトル領域、または可視スペクトル内のスペクトル領域に対応する基準波長である。約0.1λ0 から0.125λ0 までの光学的厚さと約2.2から約2.6までの屈折率を有する第二の層を成膜する。約1.46から約1.52までの屈折率を有する第三の層を成膜する。この光学薄膜は、広帯域反射防止性能を備えており、この薄い第二の層により、この光学薄膜を高能率に製造することが容易となっている。
Description
【背景技術】
【0001】
単純な広帯域反射防止(AR)膜は、三つの層から構成される。AR膜は、あるスペクトル領域内の波長を持つ光の反射率を低減するものである。ガラス基板上に成膜された三層のAR膜の中の第一層は、一般的には、特にこの基板の屈折率より大きい中位の屈折率と、スペクトル領域の基準波長の約1/4の光学的厚さを有する。可視光に関して、この基準波長は、典型的には約500nmから約550nmまでの範囲にあり、多くの場合約550nmである。第二層は、特に第一層より大きい、高い屈折率と、基準波長の約1/2の光学的厚さを有する。第三層は、特に第一層より小さく、かつ一般的に基板の屈折率より小さい、低い屈折率と、基準波長の1/4の光学的厚さを有する。この三層型薄膜は、ガイザー(Gaiser)の特許文献1、テレン(Thelen)の特許文献2、ならびに非特許文献1に記載されている。この三層のAR膜は、しばしば1/4λ・1/2λ・1/4λ(QHQ)型薄膜と呼ばれている。
【0002】
この三層型薄膜の欠点は、最適な性能を生み出すためには、三層の屈折率が特別な値を持たなければならないことである。第一層の屈折率の選択と制御が、特に重要である。特別な屈折率値からのずれは、これらの層の物理的厚さを変えることによって補償することはできない。
【0003】
初期のAR膜における大きな改善点は、ロック(Rock)により特許文献3で紹介された。このロックのAR膜は、二つの成膜材料から構成されており、一方の材料は、一般的に2より大きい、高い屈折率を有し、他方の材料は、一般的に基板の屈折率より小さい、低い屈折率を有する。このロックのAR膜は、四つの層より構成されている。基板に隣接する第一層は、高屈折率の材料から成り、基板から二番目の層は、低屈折率の材料から成る。これらの第一と第二層は、基準波長の約1/4の実効光学的厚さを有する。基板から三番目の層は、高屈折率の材料から成り、基準波長の約1/2の光学的厚さを有する。基板から四番目の層は、低屈折率の材料から成り、基準波長の約1/4の光学的厚さを有する。このロックのAR膜の利点は、特別な屈折率値を持つ材料を必要としないことである。これらの層の物理的厚さは、利用可能な原料指数の範囲において、可視光のスペクトルに対して低い反射率値を示すように調整することができる。
【0004】
しかし、スパッタ法によってAR膜を経済的に作るには、問題がある。第一に、高屈折率の第三層に対する好ましい材料である、酸化チタンは、成膜速度が遅い。この遅い速度は、TiO2 を成膜するために用いるスパッタリング機器を、ずっと高いパワーで動作させることによって、部分的にだけ補償される。このため、多くの時間と多数のスパッタカソードを、第三層のスパッタリングに充てなければならない。第二に、約60°C以上の温度に耐えることができないプラスチックフィルムのような温度に敏感な材料、またはおよそ150°C以上の温度に曝すことができない陰極線管(CRT)は、TiO2 のスパッタ源の高いパワーによって、容易に過熱する可能性がある。過熱を防止するには、TiO2 ターゲットを低いパワーで動作させることができるが、ただし成膜処理がずっと遅くなること、またはずっと多くのTiO2 ターゲットを必要とすることの犠牲を払うことになる。
【特許文献1】
米国特許第2,458,385号明細書
【特許文献2】
米国特許第3,185,020号明細書
【特許文献3】
米国特許第3,432,225号明細書
【非特許文献1】
Lockhart et al., "Three-Layered Reflection Reducing Coatings", J. Opt. Soc. Am. 37, pp.689-694 (1947)
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【0005】
光学薄膜と基板に成膜する方法を規定する。基質に隣接して、第一層を成膜する。この第一層は、約0.27λ0 から約0.31λ0 までの光学的厚さを有する。λ0 は、可視スペクトルによって境界を規定されたスペクトル領域、または可視スペクトル内のスペクトル領域に対応する基準波長である。約0.1λ0 から約0.125λ0 までの光学的厚さと約2.2から約2.6までの屈折率を有する第二層を成膜する。約1.46から約1.52までの屈折率を有する第三層を成膜する。
【0006】
この発明の光学薄膜の利点は、広い範囲の波長に対して反射率が非常に低いことである。この発明の光学薄膜は、広い帯域の波長に渡って、1/4λ・1/2λ・1/4λ(QHQ)型薄膜と同等の性能を有する。
【0007】
この発明の光学薄膜の別の利点は、第二層が薄く高屈折率なことである。高屈折率の材料は、典型的にはスパッタリング速度が遅い。この発明の高屈折率の第二層は、QHQ型薄膜における高屈折率の第二層およびロックのAR膜の高屈折率の第三層よりも、1/4から1/5の薄さである。例えば、550nmの基準波長に対して、この第二層の物理的厚さは、約20nmから約35nmである。この発明の薄い第二層により、この光学薄膜を高能率に製造することが容易となっている。このため、この光学薄膜は、スパッタ法により経済的に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
この発明の上述した特徴およびその他の特徴は、図面と関連した、以下の詳細な記述を読むことにより、より明らかとなる。
【0009】
図面においては、同じまたは同様の部分には、同じ符号を使用している。
【0010】
図1は、この発明の実施形態にもとづく、基礎を成す基板上にある反射防止膜の断面図である。光学薄膜41は、透明または光を吸収する基板43上に成膜されている。この基板43は、ガラスまたはプラスチックである。この薄膜41は、第一層45、第二層47、および第三層49を有する。第一層45は、基板43に隣接して成膜され、第二層47は、第一層45の上に成膜され、そして第三層49は、第二層47の上に成膜されている。この成膜は、スパッタ法、加熱蒸発法、またはその他の従来技術の方法で行われる。
【0011】
第一層45は、約0.27λ0 から約0.31λ0 までのような、λ0 /4より少し大きい光学的厚さを有する。λ0 は、可視スペクトルによって境界を規定されたスペクトル領域、または可視スペクトル内のスペクトル領域に対応する基準波長である。この可視スペクトルは、約380nmから約780nmまでである。λ0 は、約500nmから約550nmまでであり、典型的には約550nmである。第一層45は、約1.7から約2.1までの屈折率のような、中位の屈折率を有する。第二層47は、約0.1λ0 から約0.125λ0 までの光学的厚さと約2.2から約2.6までの屈折率のような、高い屈折率を有する。第三層49は、約1.46から約1.52までの屈折率のような、低い屈折率を有するとともに、約0.2λ0 から約0.25λ0 までの光学的厚さを有する。
【0012】
誘電体の薄膜の物理的厚さdは、以下の式(1)のとおり、光学的厚さと関係している。
【0013】
【数1】
【0014】
この場合、OTは、光学的厚さであり、nは、屈折率である。光学的厚さと屈折率は、波長に依存する。層の物理的厚さは、基準波長において、相応の光学的厚さとなるように選択される。例えば、550nmの波長に対しては、第一層45、第二層47および第三層49の物理的厚さは、それぞれ約70nmから約100nmまで、約20nmから約35nmまで、および約70nmから約95nmまでである。
【0015】
高屈折率の第二層47は、QHQ型薄膜の高屈折率の第二層およびロックのAR膜の高屈折率の第三層よりも、1/4から1/5の薄さである。QHQ型薄膜またはロックのAR膜の高屈折率の層の光学的厚さを低減することは、一般的に薄膜の性能を劣化させる。この発明の光学薄膜は、薄い高屈折率の層を提供する一方、QHQ型薄膜およびロックのAR膜と同等の性能を達成している。約2.3より大きい屈折率を持つ高屈折率の材料は、より低い屈折率を持つ材料よりも著しく低速にしかスパッタリングできないので、この薄い第二層47は、特に有利である。この薄い第二層47により、建築用ガラスおよびCRTディスプレイのような用途のために、スパッタ法によって、AR膜41を経済的に、高能率に製造することが容易となっている。
【0016】
第一層45は、窒化ケイ素、酸化亜鉛、インジウム酸化第一錫(ITO)、酸化ビスマス、酸化第二錫、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化アンチモン、または酸化ガドリニウムなどの誘電体である。1/4波長より少し大きなITOを含む第一層45用には、多くの材料を用いることができ、帯電防止と反射防止(ASAR)市場に相応しい薄膜41を成している。第二層47は、酸化チタン、酸化ニオブ、または酸化タンタルである。酸化チタンは、約2.4以上の屈折率を有する。酸化チタンで構成される第二層47は、アドミッタンス図を用いて、約λ0 /10の光学的厚さを有するものと決定される。酸化ニオブは、約2.28の屈折率を有し、酸化タンタルは、約2.2の屈折率を有する。酸化ニオブまたは酸化タンタルで構成される第二層47は、アドミッタンス図を用いて、約λ0 /8の光学的厚さを有するものと決定される。第三層49は、酸化ケイ素またはフッ化マグネシウムである。
【0017】
図2は、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜の用途を示す模式図である。薄膜41は、陰極線管、フラットパネルディスプレイ51、ウェブ、またはロールなどの基板43に成膜される。光線53が基板の表面上に衝突すると、この光線53のほんの僅かな部分が光線55として反射される。このようにして、薄膜41は、スペクトル領域内の光の反射を低減する。
【0018】
理想的な反射防止膜は、基準波長において、0の反射率を有する。広帯域反射防止膜は、可視スペクトルのようなスペクトル領域内の一定の範囲の波長に対して、0の反射率を与える。0の反射率は、1のアドミッタンスに等しい。成膜した表面のアドミッタンスYは、成膜した表面の実効屈折率を表しており、薄膜の層の屈折率が波長に依存するので、波長の関数である。図3に示されるとおり、アドミッタンス図は、薄膜の層の機能性を示すために利用することができる。水平軸および垂直軸は、アドミッタンスの実数部(「ReY」と表示している)と虚数部(「ImY」と表示している)を表している。アドミッタンス図は、基準波長と見なされる単一波長の光に適用される。この図は、薄膜の層が基板に成膜されていくに従って、アドミッタンスが変化する様子を示している。最初のアドミッタンスは、基板の屈折率11、例えばガラスに対しては1.5から始まり、最後の成膜された表面の最終的なアドミッタンスは、終点(すなわち、点23)の値である。層の光学的厚さが増加するに従い、アドミッタンスは、時計回りの方向に円を描いて行く。1/4波長の光学的厚さは、半円で表されており(例えば、弧13と21)、一方1/2波長の光学的厚さは、真円で表されている(例えば、弧17)。
【0019】
二つの層の境界は、点15と19で表されるとおり、尖点を形成している。異なる波長では、アドミッタンス図は、異なる終点を持ち、そのためアドミッタンスは、異なる値を持つ。しかし、一つの尖点が存在する場合、成膜した表面のアドミッタンス図の終点は、異なる波長において、同じ終点(すなわち、アドミッタンスに関して同じ値)の近傍に留まる。このようにして、尖点は、それが成膜した表面の終点を固定し、反射率を波長に対して一定とすることが利点である。広帯域の反射防止膜は、反射率を出来るだけ多くの波長に対して一定のままとなるようにするため、多くの尖点を有する。例えば、1/2波長の光学的厚さを持つ層は、二つの尖点(例えば、点15と19)を与え、そのため広帯域の性能を提供する。
【0020】
図3は、三層のQHQ型薄膜のアドミッタンス図である。水平軸は、アドミッタンスの実数部(「ReY」と表示している)を表し、垂直軸は、アドミッタンスの虚数部(「ImY」と表示している)を表している。弧13で示されるとおり、中位の屈折率の第一層は、基板と第一層の実効屈折率を与え、それは、基板だけの屈折率よりも高い。高屈折率の第二層は、基準波長において不活性な層であり(すなわち、成膜した表面の屈折率を変えない)、弧17によって示されるとおり、広帯域の性能を提供している。低屈折率の第三層は、弧21で示されるとおり、反射防止特性(すなわち、終点でのアドミッタンスは、1であり、0の反射率に等しい)を提供している。二つの鋭い尖点15と19の存在は、成膜された表面のアドミッタンスが広い範囲の波長に対してほぼ1のままであり、そのため、その反射率が広い範囲の波長に対してほぼ0であることを示している。
【0021】
図4は、ロックのAR膜のアドミッタンス図である。水平軸は、アドミッタンスの実数部(「ReY」と表示している)を表し、垂直軸は、アドミッタンスの虚数部(「ImY」と表示している)を表している。最初の二つの層は、基板と最初の二つの層の実効屈折率を与え、それは、基板だけの屈折率よりも高い。それぞれ弧25と29で示されるとおり、第一と第二層は、実効的に1/4波長の層を成し、これらの二つの層間の境界は、鈍い尖点27を形成している。アドミッタンス図におけるロックのAR膜の重要な特徴は、弧33で示されるとおり、第三層が、最終層の円弧の右に完全な形で存在する真円を生成していることであり、そのため、1/2波長の厚さの第三層は、広帯域性能を提供するものである。第四層は、点39で示されるとおり、アドミッタンスを1に持ってきており、そのため、反射防止特性を提供するものである。この記述は、三層のAR膜に対しても、ロックのAR膜の最初の二つの層が三層のAR膜の中位の屈折率の第一層の機能を果たすということ以外は、同じである。QHQ型薄膜とロックのAR膜における高屈折率の層の広帯域性能は、この高屈折率の層の光学的厚さが低減された場合、劣化してしまう。
【0022】
図5は、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関するアドミッタンス図である。水平軸は、アドミッタンスの実数部(「ReY」と表示している)を表し、垂直軸は、アドミッタンスの虚数部(「ImY」と表示している)を表している。第一層45は、弧63で示されるとおり、裸の基板の実行屈折率を上昇させると同時に、広帯域効果を緩和する。第一層45は、鋭い尖点65を与えているために、λ0 /4より少し厚い(すなわち、半円より少し大きい)。この発明の第二層47は、この発明の第二層47が決して不活性にならないという点で、QHQ型薄膜の第二層とは異なる。第二層47は、弧67に示されるとおり、(第一層45から)アドミッタンスの絶対値を低下し始め、そのため反射防止層として機能し始める。第二層47が、この反射防止機能を果たすようにするために、第一層45は、λ0 /4より少し厚い。第二層47は、第三層49が1のアドミッタンス値で終点73を持つようにするための誘導層(steering layer)としても機能する。第三層49は、弧71で示されるとおり、1のアドミッタンス値で終点73を持ち、より完全に反射を防止する。二つの尖点65と69が存在することは、この発明の光学薄膜がQHQ型薄膜とロックのAR膜と同等の広帯域反射防止性能を達成していることを示している。この発明の光学薄膜は、高能率に製造するために、薄く高屈折率の第二層47を有することが有利である。
【0023】
図6は、この発明の別の実施形態にもとづく反射防止膜のアドミッタンス図であり、以下の表1に示す光学薄膜の実施形態に関して、波長に対するアドミッタンスの変化を示している。
表1
水平軸は、アドミッタンスの実数部(「ReY」と表示している)を表し、垂直軸は、アドミッタンスの虚数部(「ImY」と表示している)を表している。異なる波長(すなわち、450nm,500nm,550nm,600nm,および650nm)において、成膜された表面のアドミッタンスは、ほぼ1である。二つの尖点65と69の存在は、波長の変化にともない、終点がぼぼ1のままであるとともに、反射率がほぼ0のままであることを示している。このようにして、この発明の光学薄膜によって、広帯域反射防止性能が達成される。
【0024】
図7は、表1で示した、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関する反射率と波長間の相関を示すグラフである。このグラフは、第一層45に対して、異なる材料(すなわち、Si3 N4 、ZnO、ITO、Bi2 O3 、SnO2 、ZrO2 、HfO2 、Sb2 O3 およびGd2 O3 )を用いた反射防止膜に関して、ナノメートルでの波長の関数としての反射率の百分率を示している。この反射率は、550nmの基準波長では、約0.5%以下である。広帯域性能は、約425nmと約625nmの間の波長に対して、約1%以下の低い反射率であることによって証明されている。図7の実施形態のすべてに関して、第一層45に対して、異なる材料が使用されているのに、第一層45に関する物理的厚さは同じである。この事実は、このシステムが第一層45に関する材料を置き換えることに対して柔軟性を持つことを明らかにしている。
【0025】
図8は、以下の表2に示した、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関する反射率と波長間の相関を示すグラフである。
表2
この実施形態は、表1に示したものとは、高屈折率の第二層47の材料が少し低い屈折率を持つ材料と置き換えられている点が異なっている。屈折率の変化に対応して調整するために、光学的厚さを増加している。このグラフは、第一層45に対して、異なる材料(すなわち、Si3 N4 、ZnO、ITO、Bi2 O3 、SnO2 、ZrO2 、HfO2 、Sb2 O3 およびGd2 O3 )を用いた反射防止膜に関して、ナノメートルでの波長の関数としての反射率の百分率を示している。この薄膜は、550nmの基準波長で、約0.5%以下の低い反射率を有する。約425nmと約600nmの間の波長に対して、約1%以下の低い反射率であることが、この薄膜の広帯域反射防止性能を明らかに示している。図8の実施形態のすべてに関して、第一層45に対して、異なる材料が使用されているのに、第一層45に関する物理的厚さは同じである。このため、この光学薄膜は、第一層45に対して、異なる材料を用いても、同等の広帯域反射防止性能を有する。
【0026】
図9は、成膜していないガラスとこの発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関する、反射率と波長間の相関を示すグラフである。水平軸は、ナノメートルでの光の波長を表し、垂直軸は、反射率の百分率を表している。成膜していないガラスの各側面は、約450nmから約750nmに対して、約4%の光を反射しており、その結果成膜していないガラスの二つの側面の全反射率は、線81で示されるとおり、約8%である。ここで用いる全反射率は、CIE(国際照明委員会)標準にもとづく、10度の観測視野角でのD65光源におけるY三刺激値である。
【0027】
約2.9mmの総厚みを持つフロートグラスの片側を、表1で示した光学薄膜で成膜した。線83と85は、それぞれこの成膜したガラスの反射率の理論値と実験値を表している。このガラスの両側の全反射率は、線83と85で表されるとおり、約450nmから約650nmに対して、約4.5%以下であり、成膜していないガラスの約8%の全反射率より著しく小さくなった。このように、この薄膜は、約450nmから約650nmまでのような広い範囲の波長に対して、ガラスの反射率を低減するものである。この成膜したガラスは、CIE標準における|a* |<3、|b* |<6の中間の反射色を有した。これらは、CRTディスプレイ市場、または建築用ガラスの用途に対して相応しい値であり、これらの用途は、安全性の理由から、人々がガラスのドアまたは窓(例えば、店舗の窓)の存在を検知することができるべきであるとする個所に対して、反射を防止することを望んでいる分野である。
【0028】
図10は、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関する、反射率と波長間の相関を示すグラフである。水平軸は、ナノメートルでの光の波長を表し、垂直軸は、反射率の百分率を表している。約5.8mmの総厚みを持つ接合されたフロートガラスは、その両側を表1に示された光学薄膜で成膜されている。線87と89は、それぞれこの成膜したガラスの反射率の理論値と実験値を表している。このガラスの両側の全反射率の理論値は、CIE標準では、線87で表されるとおり、約1%以下である一方、全反射率の実験値は、線89で表されるとおり、約2%以下であった。この実験値は、成膜していないガラスに対する約8%の全反射率よりも小さくなった。このように、この薄膜は、広い範囲の波長に対して、ガラスの反射率を低減するものである。この成膜し、接合したフロートガラスは、CIE標準における(a* ,b* )=(14,−22)の測定色を有し、これは、目に対しては紫色である。この反射された光の全体強度が低いことは、この色の発色を低下させるものである。
【0029】
図11は、QHQ薄膜と比較した、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関する、反射率と波長間の相関を示すグラフである。水平軸は、ナノメートルでの光の波長を表し、垂直軸は、反射率の百分率を表している。線91は、0.8半波長の高屈折率の第二層を持つ典型的なQHQ薄膜を表しており、一方線93は、表1に示した光学薄膜を表している。このQHQ薄膜は、線91で示されるとおり、約460nmと約600nmの間の波長において、線93で示した、この発明の光学薄膜よりも少し低い反射率を有する。この発明の反射防止膜は、QHQ型薄膜よりも少し低い性能を有するが、この反射防止膜が生産能力のために薄い第二層47を利用していることが有利である。
【0030】
この発明は、特定の実施形態と関連して上述したが、この記述と例は、説明することを意図したものであり、この発明を制限することを意図したものではないことを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【図1】この発明の実施形態にもとづく、基礎を成す基板上にある反射防止膜の縦方向の断面図
【図2】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜の用途を示す模式図
【図3】従来技術のAR膜のアドミッタンス図
【図4】従来技術のAR膜のアドミッタンス図
【図5】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜のアドミッタンス図
【図6】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜のアドミッタンス図
【図7】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜の反射率と波長間の相関を示すグラフ
【図8】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜の反射率と波長間の相関を示すグラフ
【図9】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜と成膜していないガラスの反射率と波長間の相関を示すグラフ
【図10】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜の反射率と波長間の相関を示すグラフ
【図11】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜と1/4λ・1/2λ・1/4λ(QHQ)型薄膜の反射率と波長間の相関を示すグラフ
【符号の説明】
【0032】
11 基板の屈折率
13 弧
15 尖点
17 弧
19 尖点
21 弧
23 点
25 弧
27 尖点
31 尖点
33 弧
35 尖点
37 弧
39 点
41 薄膜
43 基板
45 第一層
47 第二層
49 第三層
51 フラットパネルディスプレイ
53,55 光線
61 基板の屈折率
63 弧
65 尖点
67 弧
69 尖点
73 終点
【0001】
単純な広帯域反射防止(AR)膜は、三つの層から構成される。AR膜は、あるスペクトル領域内の波長を持つ光の反射率を低減するものである。ガラス基板上に成膜された三層のAR膜の中の第一層は、一般的には、特にこの基板の屈折率より大きい中位の屈折率と、スペクトル領域の基準波長の約1/4の光学的厚さを有する。可視光に関して、この基準波長は、典型的には約500nmから約550nmまでの範囲にあり、多くの場合約550nmである。第二層は、特に第一層より大きい、高い屈折率と、基準波長の約1/2の光学的厚さを有する。第三層は、特に第一層より小さく、かつ一般的に基板の屈折率より小さい、低い屈折率と、基準波長の1/4の光学的厚さを有する。この三層型薄膜は、ガイザー(Gaiser)の特許文献1、テレン(Thelen)の特許文献2、ならびに非特許文献1に記載されている。この三層のAR膜は、しばしば1/4λ・1/2λ・1/4λ(QHQ)型薄膜と呼ばれている。
【0002】
この三層型薄膜の欠点は、最適な性能を生み出すためには、三層の屈折率が特別な値を持たなければならないことである。第一層の屈折率の選択と制御が、特に重要である。特別な屈折率値からのずれは、これらの層の物理的厚さを変えることによって補償することはできない。
【0003】
初期のAR膜における大きな改善点は、ロック(Rock)により特許文献3で紹介された。このロックのAR膜は、二つの成膜材料から構成されており、一方の材料は、一般的に2より大きい、高い屈折率を有し、他方の材料は、一般的に基板の屈折率より小さい、低い屈折率を有する。このロックのAR膜は、四つの層より構成されている。基板に隣接する第一層は、高屈折率の材料から成り、基板から二番目の層は、低屈折率の材料から成る。これらの第一と第二層は、基準波長の約1/4の実効光学的厚さを有する。基板から三番目の層は、高屈折率の材料から成り、基準波長の約1/2の光学的厚さを有する。基板から四番目の層は、低屈折率の材料から成り、基準波長の約1/4の光学的厚さを有する。このロックのAR膜の利点は、特別な屈折率値を持つ材料を必要としないことである。これらの層の物理的厚さは、利用可能な原料指数の範囲において、可視光のスペクトルに対して低い反射率値を示すように調整することができる。
【0004】
しかし、スパッタ法によってAR膜を経済的に作るには、問題がある。第一に、高屈折率の第三層に対する好ましい材料である、酸化チタンは、成膜速度が遅い。この遅い速度は、TiO2 を成膜するために用いるスパッタリング機器を、ずっと高いパワーで動作させることによって、部分的にだけ補償される。このため、多くの時間と多数のスパッタカソードを、第三層のスパッタリングに充てなければならない。第二に、約60°C以上の温度に耐えることができないプラスチックフィルムのような温度に敏感な材料、またはおよそ150°C以上の温度に曝すことができない陰極線管(CRT)は、TiO2 のスパッタ源の高いパワーによって、容易に過熱する可能性がある。過熱を防止するには、TiO2 ターゲットを低いパワーで動作させることができるが、ただし成膜処理がずっと遅くなること、またはずっと多くのTiO2 ターゲットを必要とすることの犠牲を払うことになる。
【特許文献1】
米国特許第2,458,385号明細書
【特許文献2】
米国特許第3,185,020号明細書
【特許文献3】
米国特許第3,432,225号明細書
【非特許文献1】
Lockhart et al., "Three-Layered Reflection Reducing Coatings", J. Opt. Soc. Am. 37, pp.689-694 (1947)
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【0005】
光学薄膜と基板に成膜する方法を規定する。基質に隣接して、第一層を成膜する。この第一層は、約0.27λ0 から約0.31λ0 までの光学的厚さを有する。λ0 は、可視スペクトルによって境界を規定されたスペクトル領域、または可視スペクトル内のスペクトル領域に対応する基準波長である。約0.1λ0 から約0.125λ0 までの光学的厚さと約2.2から約2.6までの屈折率を有する第二層を成膜する。約1.46から約1.52までの屈折率を有する第三層を成膜する。
【0006】
この発明の光学薄膜の利点は、広い範囲の波長に対して反射率が非常に低いことである。この発明の光学薄膜は、広い帯域の波長に渡って、1/4λ・1/2λ・1/4λ(QHQ)型薄膜と同等の性能を有する。
【0007】
この発明の光学薄膜の別の利点は、第二層が薄く高屈折率なことである。高屈折率の材料は、典型的にはスパッタリング速度が遅い。この発明の高屈折率の第二層は、QHQ型薄膜における高屈折率の第二層およびロックのAR膜の高屈折率の第三層よりも、1/4から1/5の薄さである。例えば、550nmの基準波長に対して、この第二層の物理的厚さは、約20nmから約35nmである。この発明の薄い第二層により、この光学薄膜を高能率に製造することが容易となっている。このため、この光学薄膜は、スパッタ法により経済的に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
この発明の上述した特徴およびその他の特徴は、図面と関連した、以下の詳細な記述を読むことにより、より明らかとなる。
【0009】
図面においては、同じまたは同様の部分には、同じ符号を使用している。
【0010】
図1は、この発明の実施形態にもとづく、基礎を成す基板上にある反射防止膜の断面図である。光学薄膜41は、透明または光を吸収する基板43上に成膜されている。この基板43は、ガラスまたはプラスチックである。この薄膜41は、第一層45、第二層47、および第三層49を有する。第一層45は、基板43に隣接して成膜され、第二層47は、第一層45の上に成膜され、そして第三層49は、第二層47の上に成膜されている。この成膜は、スパッタ法、加熱蒸発法、またはその他の従来技術の方法で行われる。
【0011】
第一層45は、約0.27λ0 から約0.31λ0 までのような、λ0 /4より少し大きい光学的厚さを有する。λ0 は、可視スペクトルによって境界を規定されたスペクトル領域、または可視スペクトル内のスペクトル領域に対応する基準波長である。この可視スペクトルは、約380nmから約780nmまでである。λ0 は、約500nmから約550nmまでであり、典型的には約550nmである。第一層45は、約1.7から約2.1までの屈折率のような、中位の屈折率を有する。第二層47は、約0.1λ0 から約0.125λ0 までの光学的厚さと約2.2から約2.6までの屈折率のような、高い屈折率を有する。第三層49は、約1.46から約1.52までの屈折率のような、低い屈折率を有するとともに、約0.2λ0 から約0.25λ0 までの光学的厚さを有する。
【0012】
誘電体の薄膜の物理的厚さdは、以下の式(1)のとおり、光学的厚さと関係している。
【0013】
【数1】
【0014】
この場合、OTは、光学的厚さであり、nは、屈折率である。光学的厚さと屈折率は、波長に依存する。層の物理的厚さは、基準波長において、相応の光学的厚さとなるように選択される。例えば、550nmの波長に対しては、第一層45、第二層47および第三層49の物理的厚さは、それぞれ約70nmから約100nmまで、約20nmから約35nmまで、および約70nmから約95nmまでである。
【0015】
高屈折率の第二層47は、QHQ型薄膜の高屈折率の第二層およびロックのAR膜の高屈折率の第三層よりも、1/4から1/5の薄さである。QHQ型薄膜またはロックのAR膜の高屈折率の層の光学的厚さを低減することは、一般的に薄膜の性能を劣化させる。この発明の光学薄膜は、薄い高屈折率の層を提供する一方、QHQ型薄膜およびロックのAR膜と同等の性能を達成している。約2.3より大きい屈折率を持つ高屈折率の材料は、より低い屈折率を持つ材料よりも著しく低速にしかスパッタリングできないので、この薄い第二層47は、特に有利である。この薄い第二層47により、建築用ガラスおよびCRTディスプレイのような用途のために、スパッタ法によって、AR膜41を経済的に、高能率に製造することが容易となっている。
【0016】
第一層45は、窒化ケイ素、酸化亜鉛、インジウム酸化第一錫(ITO)、酸化ビスマス、酸化第二錫、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化アンチモン、または酸化ガドリニウムなどの誘電体である。1/4波長より少し大きなITOを含む第一層45用には、多くの材料を用いることができ、帯電防止と反射防止(ASAR)市場に相応しい薄膜41を成している。第二層47は、酸化チタン、酸化ニオブ、または酸化タンタルである。酸化チタンは、約2.4以上の屈折率を有する。酸化チタンで構成される第二層47は、アドミッタンス図を用いて、約λ0 /10の光学的厚さを有するものと決定される。酸化ニオブは、約2.28の屈折率を有し、酸化タンタルは、約2.2の屈折率を有する。酸化ニオブまたは酸化タンタルで構成される第二層47は、アドミッタンス図を用いて、約λ0 /8の光学的厚さを有するものと決定される。第三層49は、酸化ケイ素またはフッ化マグネシウムである。
【0017】
図2は、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜の用途を示す模式図である。薄膜41は、陰極線管、フラットパネルディスプレイ51、ウェブ、またはロールなどの基板43に成膜される。光線53が基板の表面上に衝突すると、この光線53のほんの僅かな部分が光線55として反射される。このようにして、薄膜41は、スペクトル領域内の光の反射を低減する。
【0018】
理想的な反射防止膜は、基準波長において、0の反射率を有する。広帯域反射防止膜は、可視スペクトルのようなスペクトル領域内の一定の範囲の波長に対して、0の反射率を与える。0の反射率は、1のアドミッタンスに等しい。成膜した表面のアドミッタンスYは、成膜した表面の実効屈折率を表しており、薄膜の層の屈折率が波長に依存するので、波長の関数である。図3に示されるとおり、アドミッタンス図は、薄膜の層の機能性を示すために利用することができる。水平軸および垂直軸は、アドミッタンスの実数部(「ReY」と表示している)と虚数部(「ImY」と表示している)を表している。アドミッタンス図は、基準波長と見なされる単一波長の光に適用される。この図は、薄膜の層が基板に成膜されていくに従って、アドミッタンスが変化する様子を示している。最初のアドミッタンスは、基板の屈折率11、例えばガラスに対しては1.5から始まり、最後の成膜された表面の最終的なアドミッタンスは、終点(すなわち、点23)の値である。層の光学的厚さが増加するに従い、アドミッタンスは、時計回りの方向に円を描いて行く。1/4波長の光学的厚さは、半円で表されており(例えば、弧13と21)、一方1/2波長の光学的厚さは、真円で表されている(例えば、弧17)。
【0019】
二つの層の境界は、点15と19で表されるとおり、尖点を形成している。異なる波長では、アドミッタンス図は、異なる終点を持ち、そのためアドミッタンスは、異なる値を持つ。しかし、一つの尖点が存在する場合、成膜した表面のアドミッタンス図の終点は、異なる波長において、同じ終点(すなわち、アドミッタンスに関して同じ値)の近傍に留まる。このようにして、尖点は、それが成膜した表面の終点を固定し、反射率を波長に対して一定とすることが利点である。広帯域の反射防止膜は、反射率を出来るだけ多くの波長に対して一定のままとなるようにするため、多くの尖点を有する。例えば、1/2波長の光学的厚さを持つ層は、二つの尖点(例えば、点15と19)を与え、そのため広帯域の性能を提供する。
【0020】
図3は、三層のQHQ型薄膜のアドミッタンス図である。水平軸は、アドミッタンスの実数部(「ReY」と表示している)を表し、垂直軸は、アドミッタンスの虚数部(「ImY」と表示している)を表している。弧13で示されるとおり、中位の屈折率の第一層は、基板と第一層の実効屈折率を与え、それは、基板だけの屈折率よりも高い。高屈折率の第二層は、基準波長において不活性な層であり(すなわち、成膜した表面の屈折率を変えない)、弧17によって示されるとおり、広帯域の性能を提供している。低屈折率の第三層は、弧21で示されるとおり、反射防止特性(すなわち、終点でのアドミッタンスは、1であり、0の反射率に等しい)を提供している。二つの鋭い尖点15と19の存在は、成膜された表面のアドミッタンスが広い範囲の波長に対してほぼ1のままであり、そのため、その反射率が広い範囲の波長に対してほぼ0であることを示している。
【0021】
図4は、ロックのAR膜のアドミッタンス図である。水平軸は、アドミッタンスの実数部(「ReY」と表示している)を表し、垂直軸は、アドミッタンスの虚数部(「ImY」と表示している)を表している。最初の二つの層は、基板と最初の二つの層の実効屈折率を与え、それは、基板だけの屈折率よりも高い。それぞれ弧25と29で示されるとおり、第一と第二層は、実効的に1/4波長の層を成し、これらの二つの層間の境界は、鈍い尖点27を形成している。アドミッタンス図におけるロックのAR膜の重要な特徴は、弧33で示されるとおり、第三層が、最終層の円弧の右に完全な形で存在する真円を生成していることであり、そのため、1/2波長の厚さの第三層は、広帯域性能を提供するものである。第四層は、点39で示されるとおり、アドミッタンスを1に持ってきており、そのため、反射防止特性を提供するものである。この記述は、三層のAR膜に対しても、ロックのAR膜の最初の二つの層が三層のAR膜の中位の屈折率の第一層の機能を果たすということ以外は、同じである。QHQ型薄膜とロックのAR膜における高屈折率の層の広帯域性能は、この高屈折率の層の光学的厚さが低減された場合、劣化してしまう。
【0022】
図5は、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関するアドミッタンス図である。水平軸は、アドミッタンスの実数部(「ReY」と表示している)を表し、垂直軸は、アドミッタンスの虚数部(「ImY」と表示している)を表している。第一層45は、弧63で示されるとおり、裸の基板の実行屈折率を上昇させると同時に、広帯域効果を緩和する。第一層45は、鋭い尖点65を与えているために、λ0 /4より少し厚い(すなわち、半円より少し大きい)。この発明の第二層47は、この発明の第二層47が決して不活性にならないという点で、QHQ型薄膜の第二層とは異なる。第二層47は、弧67に示されるとおり、(第一層45から)アドミッタンスの絶対値を低下し始め、そのため反射防止層として機能し始める。第二層47が、この反射防止機能を果たすようにするために、第一層45は、λ0 /4より少し厚い。第二層47は、第三層49が1のアドミッタンス値で終点73を持つようにするための誘導層(steering layer)としても機能する。第三層49は、弧71で示されるとおり、1のアドミッタンス値で終点73を持ち、より完全に反射を防止する。二つの尖点65と69が存在することは、この発明の光学薄膜がQHQ型薄膜とロックのAR膜と同等の広帯域反射防止性能を達成していることを示している。この発明の光学薄膜は、高能率に製造するために、薄く高屈折率の第二層47を有することが有利である。
【0023】
図6は、この発明の別の実施形態にもとづく反射防止膜のアドミッタンス図であり、以下の表1に示す光学薄膜の実施形態に関して、波長に対するアドミッタンスの変化を示している。
表1
水平軸は、アドミッタンスの実数部(「ReY」と表示している)を表し、垂直軸は、アドミッタンスの虚数部(「ImY」と表示している)を表している。異なる波長(すなわち、450nm,500nm,550nm,600nm,および650nm)において、成膜された表面のアドミッタンスは、ほぼ1である。二つの尖点65と69の存在は、波長の変化にともない、終点がぼぼ1のままであるとともに、反射率がほぼ0のままであることを示している。このようにして、この発明の光学薄膜によって、広帯域反射防止性能が達成される。
【0024】
図7は、表1で示した、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関する反射率と波長間の相関を示すグラフである。このグラフは、第一層45に対して、異なる材料(すなわち、Si3 N4 、ZnO、ITO、Bi2 O3 、SnO2 、ZrO2 、HfO2 、Sb2 O3 およびGd2 O3 )を用いた反射防止膜に関して、ナノメートルでの波長の関数としての反射率の百分率を示している。この反射率は、550nmの基準波長では、約0.5%以下である。広帯域性能は、約425nmと約625nmの間の波長に対して、約1%以下の低い反射率であることによって証明されている。図7の実施形態のすべてに関して、第一層45に対して、異なる材料が使用されているのに、第一層45に関する物理的厚さは同じである。この事実は、このシステムが第一層45に関する材料を置き換えることに対して柔軟性を持つことを明らかにしている。
【0025】
図8は、以下の表2に示した、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関する反射率と波長間の相関を示すグラフである。
表2
この実施形態は、表1に示したものとは、高屈折率の第二層47の材料が少し低い屈折率を持つ材料と置き換えられている点が異なっている。屈折率の変化に対応して調整するために、光学的厚さを増加している。このグラフは、第一層45に対して、異なる材料(すなわち、Si3 N4 、ZnO、ITO、Bi2 O3 、SnO2 、ZrO2 、HfO2 、Sb2 O3 およびGd2 O3 )を用いた反射防止膜に関して、ナノメートルでの波長の関数としての反射率の百分率を示している。この薄膜は、550nmの基準波長で、約0.5%以下の低い反射率を有する。約425nmと約600nmの間の波長に対して、約1%以下の低い反射率であることが、この薄膜の広帯域反射防止性能を明らかに示している。図8の実施形態のすべてに関して、第一層45に対して、異なる材料が使用されているのに、第一層45に関する物理的厚さは同じである。このため、この光学薄膜は、第一層45に対して、異なる材料を用いても、同等の広帯域反射防止性能を有する。
【0026】
図9は、成膜していないガラスとこの発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関する、反射率と波長間の相関を示すグラフである。水平軸は、ナノメートルでの光の波長を表し、垂直軸は、反射率の百分率を表している。成膜していないガラスの各側面は、約450nmから約750nmに対して、約4%の光を反射しており、その結果成膜していないガラスの二つの側面の全反射率は、線81で示されるとおり、約8%である。ここで用いる全反射率は、CIE(国際照明委員会)標準にもとづく、10度の観測視野角でのD65光源におけるY三刺激値である。
【0027】
約2.9mmの総厚みを持つフロートグラスの片側を、表1で示した光学薄膜で成膜した。線83と85は、それぞれこの成膜したガラスの反射率の理論値と実験値を表している。このガラスの両側の全反射率は、線83と85で表されるとおり、約450nmから約650nmに対して、約4.5%以下であり、成膜していないガラスの約8%の全反射率より著しく小さくなった。このように、この薄膜は、約450nmから約650nmまでのような広い範囲の波長に対して、ガラスの反射率を低減するものである。この成膜したガラスは、CIE標準における|a* |<3、|b* |<6の中間の反射色を有した。これらは、CRTディスプレイ市場、または建築用ガラスの用途に対して相応しい値であり、これらの用途は、安全性の理由から、人々がガラスのドアまたは窓(例えば、店舗の窓)の存在を検知することができるべきであるとする個所に対して、反射を防止することを望んでいる分野である。
【0028】
図10は、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関する、反射率と波長間の相関を示すグラフである。水平軸は、ナノメートルでの光の波長を表し、垂直軸は、反射率の百分率を表している。約5.8mmの総厚みを持つ接合されたフロートガラスは、その両側を表1に示された光学薄膜で成膜されている。線87と89は、それぞれこの成膜したガラスの反射率の理論値と実験値を表している。このガラスの両側の全反射率の理論値は、CIE標準では、線87で表されるとおり、約1%以下である一方、全反射率の実験値は、線89で表されるとおり、約2%以下であった。この実験値は、成膜していないガラスに対する約8%の全反射率よりも小さくなった。このように、この薄膜は、広い範囲の波長に対して、ガラスの反射率を低減するものである。この成膜し、接合したフロートガラスは、CIE標準における(a* ,b* )=(14,−22)の測定色を有し、これは、目に対しては紫色である。この反射された光の全体強度が低いことは、この色の発色を低下させるものである。
【0029】
図11は、QHQ薄膜と比較した、この発明の実施形態にもとづく反射防止膜に関する、反射率と波長間の相関を示すグラフである。水平軸は、ナノメートルでの光の波長を表し、垂直軸は、反射率の百分率を表している。線91は、0.8半波長の高屈折率の第二層を持つ典型的なQHQ薄膜を表しており、一方線93は、表1に示した光学薄膜を表している。このQHQ薄膜は、線91で示されるとおり、約460nmと約600nmの間の波長において、線93で示した、この発明の光学薄膜よりも少し低い反射率を有する。この発明の反射防止膜は、QHQ型薄膜よりも少し低い性能を有するが、この反射防止膜が生産能力のために薄い第二層47を利用していることが有利である。
【0030】
この発明は、特定の実施形態と関連して上述したが、この記述と例は、説明することを意図したものであり、この発明を制限することを意図したものではないことを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【図1】この発明の実施形態にもとづく、基礎を成す基板上にある反射防止膜の縦方向の断面図
【図2】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜の用途を示す模式図
【図3】従来技術のAR膜のアドミッタンス図
【図4】従来技術のAR膜のアドミッタンス図
【図5】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜のアドミッタンス図
【図6】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜のアドミッタンス図
【図7】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜の反射率と波長間の相関を示すグラフ
【図8】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜の反射率と波長間の相関を示すグラフ
【図9】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜と成膜していないガラスの反射率と波長間の相関を示すグラフ
【図10】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜の反射率と波長間の相関を示すグラフ
【図11】この発明の実施形態にもとづく反射防止膜と1/4λ・1/2λ・1/4λ(QHQ)型薄膜の反射率と波長間の相関を示すグラフ
【符号の説明】
【0032】
11 基板の屈折率
13 弧
15 尖点
17 弧
19 尖点
21 弧
23 点
25 弧
27 尖点
31 尖点
33 弧
35 尖点
37 弧
39 点
41 薄膜
43 基板
45 第一層
47 第二層
49 第三層
51 フラットパネルディスプレイ
53,55 光線
61 基板の屈折率
63 弧
65 尖点
67 弧
69 尖点
73 終点
Claims (26)
- λ0 が、可視スペクトルによって境界を規定されたスペクトル領域、または可視スペクトル内のスペクトル領域に対応する基準波長であって、
約0.27λ0 から約0.31λ0 までの光学的厚さを持つ、基板に隣接する第一層と、
約0.1λ0 から約0.125λ0 までの光学的厚さと約2.2から約2.6までの屈折率を持つ第二層と、
λ0 で測定した場合に、約1.46から約1.52までの屈折率を持つ第三層とを有する光学薄膜。 - 当該の第一層が、λ0 で測定した場合に、約1.7から約2.1までの屈折率を有する請求項1に記載の薄膜。
- 当該の第一層が、誘電体で構成される請求項1に記載の薄膜。
- 当該の第一層が、窒化ケイ素、酸化亜鉛、インジウム酸化第一錫、酸化ビスマス、酸化第二錫、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化アンチモン、および酸化ガドリニウムから成る群から選ばれた一つの材料で構成される請求項1に記載の薄膜。
- 当該の第一層が、約70nmから約100nmまでの物理的厚さを有する請求項1に記載の薄膜。
- 当該の第二層が、酸化チタン、酸化ニオブおよび酸化タンタルから成る群から選ばれた一つの材料で構成される請求項1に記載の薄膜。
- 当該の第二層が、約20nmから約35nmまでの物理的厚さを有する請求項1に記載の薄膜。
- 当該の第三層が、約0.2λ0 から約0.25λ0 までの光学的厚さを有する請求項1に記載の薄膜。
- 当該の第三層が、二酸化ケイ素とフッ化マグネシウムから成る群から選ばれた一つの材料で構成される請求項1に記載の薄膜。
- 当該の第三層が、約70nmから約95nmまでの物理的厚さを有する請求項1に記載の薄膜。
- 当該の薄膜が、基板に成膜される請求項1に記載の薄膜。
- 当該の成膜が、5未満の数の層を有する請求項1に記載の薄膜。
- λ0 が、可視スペクトルによって境界を規定されたスペクトル領域、または可視スペクトル内のスペクトル領域に対応する基準波長であって、
約0.27λ0 から約0.31λ0 までの光学的厚さを持つ、基板に隣接する第一層を成膜する措置と、
約0.1λ0 から約0.125λ0 までの光学的厚さと約2.2から約2.6までの屈折率を持つ第二層を成膜する措置と、
λ0 で測定した場合に、約1.46から約1.52までの屈折率を持つ第三層を成膜する措置とを有する、基板に成膜する方法。 - 当該の層を成膜する措置が、スパッタ法で構成される請求項13に記載の方法。
- 当該の第一層が、約1.7から約2.1までの屈折率を有する請求項13に記載の方法。
- 当該の第一層が、誘電体で構成される請求項13に記載の方法。
- 当該の第一層が、窒化ケイ素、酸化亜鉛、インジウム酸化第一錫、酸化ビスマス、酸化第二錫、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化アンチモン、および酸化ガドリニウムから成る群から選ばれた一つの材料で構成される請求項13に記載の方法。
- 当該の第一層が、約70nmから約100nmまでの物理的厚さを有する請求項13に記載の方法。
- 当該の第二層が、酸化チタン、酸化ニオブおよび酸化タンタルから成る群から選ばれた一つの材料で構成される請求項13に記載の方法。
- 当該の第二層が、約20nmから約35nmまでの物理的厚さを有する請求項13に記載の方法。
- 当該の第三層が、約0.2λ0 から約0.25λ0 までの光学的厚さを有する請求項13に記載の方法。
- 当該の第三層が、二酸化ケイ素とフッ化マグネシウムから成る群から選ばれた一つの材料で構成される請求項13に記載の方法。
- 当該の第三層が、約70nmから約95nmまでの物理的厚さを有する請求項13に記載の方法。
- 当該の基板が、ガラス、陰極線管、フラットパネルディスプレイ、ウェブまたはロールである請求項13に記載の方法。
- 約0.27λ0 から約0.31λ0 までの光学的厚さを持つ、基板に隣接する第一層と、
この第一層と隣接する、約0.1λ0 から約0.125λ0 までの光学的厚さを持つ第二層と、
約0.2λ0 から約0.25λ0 までの光学的厚さを持つ第三層とを有する光学薄膜であって、
その際、λ0 が、可視スペクトルによって境界を規定されたスペクトル領域、または可視スペクトル内のスペクトル領域に対応する基準波長であり、そして、この第一層の屈折率が、この第二層の屈折率より小さく、かつこの第三層の屈折率より大きい光学薄膜。 - 約0.27λ0 から約0.31λ0 までの光学的厚さを持つ、基板に隣接する第一層を成膜する措置と、
約0.1λ0 から約0.125λ0 までの光学的厚さを持つ第二層を成膜する措置と、
約0.2λ0 から約0.25λ0 までの光学的厚さを持つ第三層を成膜する措置とを有する、基板に成膜する方法であって、
その際、λ0 が、可視スペクトルによって境界を規定されたスペクトル領域、または可視スペクトル内のスペクトル領域に対応する基準波長であり、そして、この第一層の屈折率が、この第二層の屈折率より小さく、かつこの第三層の屈折率より大きい方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009521001A (ja) * | 2005-12-23 | 2009-05-28 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 帯電防止性、反射防止性の被覆層を有する光学製品およびその製造方法 |
US7880967B2 (en) | 2006-12-27 | 2011-02-01 | Sony Corporation | Optical element, optical device, and method of producing optical element |
JP2012008297A (ja) * | 2010-06-24 | 2012-01-12 | Nikon Corp | 光学素子および光学装置 |
JP2013542457A (ja) * | 2010-09-03 | 2013-11-21 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | 焼入れ可能な3層反射防止コーティング、焼入れ可能な3層反射防止コーティングを含む被覆物品及び/又はその製造方法 |
JP2014167620A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corp | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
JP2014167621A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corp | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
Families Citing this family (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4298374B2 (ja) * | 2002-11-18 | 2009-07-15 | シャープ株式会社 | 光情報記録媒体、並びに、それを用いた記録方法、再生方法、光情報記録装置、および光情報再生装置 |
JP2005018964A (ja) * | 2003-06-06 | 2005-01-20 | Sharp Corp | 光情報記録媒体、及びそれを用いた再生方法、光情報処理装置 |
JP3832659B2 (ja) * | 2003-06-06 | 2006-10-11 | シャープ株式会社 | 光情報記録媒体、それを用いた記録方法、再生方法、光情報記録装置、および光情報再生装置 |
WO2005116696A1 (ja) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Tamron Co., Ltd. | 反射防止膜 |
KR100536808B1 (ko) * | 2004-06-09 | 2005-12-14 | 동부아남반도체 주식회사 | 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
JP4384107B2 (ja) * | 2004-10-25 | 2009-12-16 | キヤノン株式会社 | 有機発光素子アレイ |
JP5478827B2 (ja) * | 2004-10-28 | 2014-04-23 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 硬化可能な伝導組成物 |
US20060260938A1 (en) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Petrach Philip M | Module for Coating System and Associated Technology |
US20060278164A1 (en) * | 2005-06-10 | 2006-12-14 | Petrach Philip M | Dual gate isolating maintenance slit valve chamber with pumping option |
US20070256934A1 (en) * | 2006-05-08 | 2007-11-08 | Perata Michael R | Apparatus and Method for Coating Substrates With Approximate Process Isolation |
KR100628033B1 (ko) * | 2006-06-23 | 2006-09-27 | (주)화인졸테크 | 중공 불화마그네슘 입자와 제조방법 그리고 이를 이용한반사방지용 코팅액 |
US7692855B2 (en) * | 2006-06-28 | 2010-04-06 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Optical article having a temperature-resistant anti-reflection coating with optimized thickness ratio of low index and high index layers |
US20080302414A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-12-11 | Den Boer Willem | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US8203073B2 (en) * | 2006-11-02 | 2012-06-19 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US20080178932A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-07-31 | Guardian Industries Corp. | Front electrode including transparent conductive coating on patterned glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same |
US20080105293A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US8076571B2 (en) * | 2006-11-02 | 2011-12-13 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US20080105299A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Guardian Industries Corp. | Front electrode with thin metal film layer and high work-function buffer layer for use in photovoltaic device and method of making same |
US20080105298A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US8012317B2 (en) * | 2006-11-02 | 2011-09-06 | Guardian Industries Corp. | Front electrode including transparent conductive coating on patterned glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same |
US7964788B2 (en) * | 2006-11-02 | 2011-06-21 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US8334452B2 (en) | 2007-01-08 | 2012-12-18 | Guardian Industries Corp. | Zinc oxide based front electrode doped with yttrium for use in photovoltaic device or the like |
US20080169021A1 (en) * | 2007-01-16 | 2008-07-17 | Guardian Industries Corp. | Method of making TCO front electrode for use in photovoltaic device or the like |
US20080223430A1 (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-18 | Guardian Industries Corp. | Buffer layer for front electrode structure in photovoltaic device or the like |
US20080308145A1 (en) * | 2007-06-12 | 2008-12-18 | Guardian Industries Corp | Front electrode including transparent conductive coating on etched glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same |
US20080308146A1 (en) * | 2007-06-14 | 2008-12-18 | Guardian Industries Corp. | Front electrode including pyrolytic transparent conductive coating on textured glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same |
US7888594B2 (en) * | 2007-11-20 | 2011-02-15 | Guardian Industries Corp. | Photovoltaic device including front electrode having titanium oxide inclusive layer with high refractive index |
US20090194157A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | Guardian Industries Corp. | Front electrode having etched surface for use in photovoltaic device and method of making same |
US20090194155A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | Guardian Industries Corp. | Front electrode having etched surface for use in photovoltaic device and method of making same |
US8022291B2 (en) * | 2008-10-15 | 2011-09-20 | Guardian Industries Corp. | Method of making front electrode of photovoltaic device having etched surface and corresponding photovoltaic device |
US20100163759A1 (en) * | 2008-12-31 | 2010-07-01 | Stmicroelectronics S.R.L. | Radiation sensor with photodiodes being integrated on a semiconductor substrate and corresponding integration process |
IT1392502B1 (it) * | 2008-12-31 | 2012-03-09 | St Microelectronics Srl | Sensore comprendente almeno un fotodiodo a doppia giunzione verticale integrato su substrato semiconduttore e relativo processo di integrazione |
US20110168252A1 (en) * | 2009-11-05 | 2011-07-14 | Guardian Industries Corp. | Textured coating with etching-blocking layer for thin-film solar cells and/or methods of making the same |
US8502066B2 (en) * | 2009-11-05 | 2013-08-06 | Guardian Industries Corp. | High haze transparent contact including insertion layer for solar cells, and/or method of making the same |
US20110186120A1 (en) * | 2009-11-05 | 2011-08-04 | Guardian Industries Corp. | Textured coating with various feature sizes made by using multiple-agent etchant for thin-film solar cells and/or methods of making the same |
US8939606B2 (en) | 2010-02-26 | 2015-01-27 | Guardian Industries Corp. | Heatable lens for luminaires, and/or methods of making the same |
US9796619B2 (en) | 2010-09-03 | 2017-10-24 | Guardian Glass, LLC | Temperable three layer antirefrlective coating, coated article including temperable three layer antirefrlective coating, and/or method of making the same |
US8445111B2 (en) * | 2010-10-14 | 2013-05-21 | Guardian Industries Corp. | Gadolinium oxide-doped zirconium oxide overcoat and/or method of making the same |
US8668990B2 (en) | 2011-01-27 | 2014-03-11 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable four layer anti-reflection coating |
US20120200816A1 (en) * | 2011-02-04 | 2012-08-09 | Guardian Industries Corp. | Electronic devices having reduced susceptibility to newton rings, and/or methods of making the same |
CN103148956B (zh) * | 2013-01-31 | 2015-10-28 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 一种基于涂覆微纳光纤进行温度测量的装置及方法 |
CN104280792A (zh) * | 2013-07-03 | 2015-01-14 | 上海舒曼光学有限公司 | 一种眼镜片减反射膜层及其制备方法 |
JP2022514523A (ja) * | 2018-12-17 | 2022-02-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 透明基板の裏面コーティング |
Family Cites Families (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2281474A (en) | 1939-03-20 | 1942-04-28 | Research Corp | Treating surfaces of light-transmitting articles, and the treated products |
US2478385A (en) | 1946-12-07 | 1949-08-09 | Libbey Owens Ford Glass Co | Multilayer low light reflecting film |
US2782676A (en) | 1952-03-01 | 1957-02-26 | American Optical Corp | Reflection reduction coatings and method for coating same |
AT221835B (de) | 1961-04-21 | 1962-06-25 | Reichert Optische Werke Ag | Entspiegelungsbelag |
US3185020A (en) | 1961-09-07 | 1965-05-25 | Optical Coating Laboratory Inc | Three layer anti-reflection coating |
US3432225A (en) | 1964-05-04 | 1969-03-11 | Optical Coating Laboratory Inc | Antireflection coating and assembly having synthesized layer of index of refraction |
US3463574A (en) | 1967-06-26 | 1969-08-26 | Perkin Elmer Corp | Multilayer antireflection coating for low index materials |
US3712711A (en) * | 1969-01-10 | 1973-01-23 | Itek Corp | Triple-layer anti-reflection coating design |
US3604784A (en) | 1969-01-21 | 1971-09-14 | Bausch & Lomb | Antireflection coatings |
US3761160A (en) | 1972-05-31 | 1973-09-25 | Optical Coating Laboratory Inc | Wide band anti-reflection coating and article coated therewith |
US3781090A (en) | 1972-11-06 | 1973-12-25 | Minolta Camera Kk | Four layer anti-reflection coating |
US4166018A (en) | 1974-01-31 | 1979-08-28 | Airco, Inc. | Sputtering process and apparatus |
US4046659A (en) | 1974-05-10 | 1977-09-06 | Airco, Inc. | Method for coating a substrate |
US4313647A (en) | 1975-12-23 | 1982-02-02 | Mamiya Koki Kabushiki Kaisha | Nonreflective coating |
US4128303A (en) | 1976-04-05 | 1978-12-05 | Kabushiki Kaisha Hoya Lens | Anti reflection coating with a composite middle layer |
US4422916A (en) | 1981-02-12 | 1983-12-27 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
US4356073A (en) | 1981-02-12 | 1982-10-26 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
DE3300589A1 (de) | 1983-01-11 | 1984-07-12 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Verfahren zur herstellung von indiumoxid-zinnoxid-schichten |
GB8621468D0 (en) | 1986-09-05 | 1986-10-15 | Philips Nv | Display device |
US4921760A (en) | 1986-09-26 | 1990-05-01 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Anti-reflection coating of optical part made of synthetic resin |
DE3906453A1 (de) | 1989-03-01 | 1990-09-06 | Leybold Ag | Verfahren zum beschichten von substraten aus durchscheinendem werkstoff, beispielsweise aus floatglas |
US5047131A (en) | 1989-11-08 | 1991-09-10 | The Boc Group, Inc. | Method for coating substrates with silicon based compounds |
US5407733A (en) | 1990-08-10 | 1995-04-18 | Viratec Thin Films, Inc. | Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating |
US5091244A (en) | 1990-08-10 | 1992-02-25 | Viratec Thin Films, Inc. | Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating |
JPH05502310A (ja) | 1990-08-30 | 1993-04-22 | バイラテック・シン・フィルムズ・インコーポレイテッド | 酸化ニオブを含むdc反応性スパッタリングされた光学被覆 |
US5105310A (en) | 1990-10-11 | 1992-04-14 | Viratec Thin Films, Inc. | Dc reactively sputtered antireflection coatings |
US5270858A (en) | 1990-10-11 | 1993-12-14 | Viratec Thin Films Inc | D.C. reactively sputtered antireflection coatings |
US5318830A (en) | 1991-05-29 | 1994-06-07 | Central Glass Company, Limited | Glass pane with reflectance reducing coating |
US5254392A (en) | 1991-06-24 | 1993-10-19 | Ford Motor Company | Anti-iridescence coatings |
US5194990A (en) | 1991-10-07 | 1993-03-16 | Ford Motor Company | Low color purity, anti-reflection coatings for transparent glazings oriented at high angles of incidence |
JPH05188202A (ja) | 1992-01-10 | 1993-07-30 | Canon Inc | 多層光学薄膜 |
US5667880A (en) | 1992-07-20 | 1997-09-16 | Fuji Photo Optical Co., Ltd. | Electroconductive antireflection film |
US5262633A (en) | 1992-08-21 | 1993-11-16 | Santa Barbara Research Center | Wideband anti-reflection coating for indium antimonide photodetector device and method of forming the same |
WO1994019709A1 (en) | 1993-02-19 | 1994-09-01 | Photran Corporation | A light attenuating anti-reflection coating including electrically conductive layers |
FR2704545B1 (fr) * | 1993-04-29 | 1995-06-09 | Saint Gobain Vitrage Int | Vitrage muni d'une couche fonctionnelle conductrice et/ou basse-émissive. |
JPH0781977A (ja) | 1993-07-29 | 1995-03-28 | Central Glass Co Ltd | 反射防止膜およびその製造方法 |
US5362552A (en) | 1993-09-23 | 1994-11-08 | Austin R Russel | Visible-spectrum anti-reflection coating including electrically-conductive metal oxide layers |
US5450238A (en) | 1993-12-10 | 1995-09-12 | Viratec Thin Films, Inc. | Four-layer antireflection coating for deposition in in-like DC sputtering apparatus |
US5579162A (en) | 1994-10-31 | 1996-11-26 | Viratec Thin Films, Inc. | Antireflection coating for a temperature sensitive substrate |
FR2730990B1 (fr) | 1995-02-23 | 1997-04-04 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent a revetement anti-reflets |
FR2738813B1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
JPH10300902A (ja) | 1997-01-20 | 1998-11-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
US6074730A (en) | 1997-12-31 | 2000-06-13 | The Boc Group, Inc. | Broad-band antireflection coating having four sputtered layers |
WO2001055752A1 (en) * | 2000-01-26 | 2001-08-02 | Sola International Holdings Limited | Anti-static, anti-reflection coating |
EP1176434B1 (en) * | 2000-07-27 | 2006-09-06 | Asahi Glass Company Ltd. | Substrate provided with antireflection films and its production method |
-
2001
- 2001-08-31 US US09/945,262 patent/US6589657B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009521001A (ja) * | 2005-12-23 | 2009-05-28 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 帯電防止性、反射防止性の被覆層を有する光学製品およびその製造方法 |
US7880967B2 (en) | 2006-12-27 | 2011-02-01 | Sony Corporation | Optical element, optical device, and method of producing optical element |
JP2012008297A (ja) * | 2010-06-24 | 2012-01-12 | Nikon Corp | 光学素子および光学装置 |
JP2013542457A (ja) * | 2010-09-03 | 2013-11-21 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | 焼入れ可能な3層反射防止コーティング、焼入れ可能な3層反射防止コーティングを含む被覆物品及び/又はその製造方法 |
JP2014167620A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corp | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
JP2014167621A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corp | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
KR20150112966A (ko) * | 2013-01-29 | 2015-10-07 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 반사 방지 필름 및 그 제조 방법 |
US9851473B2 (en) | 2013-01-29 | 2017-12-26 | Nitto Denko Corporation | Anti-reflection film and production method therefor |
JP2019012294A (ja) * | 2013-01-29 | 2019-01-24 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
JP2019148806A (ja) * | 2013-01-29 | 2019-09-05 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
KR102197745B1 (ko) * | 2013-01-29 | 2021-01-04 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 반사 방지 필름 및 그 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050826 |
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A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060706 |