JP2005353905A - 半導体装置およびそのレイアウト設計方法 - Google Patents
半導体装置およびそのレイアウト設計方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005353905A JP2005353905A JP2004174329A JP2004174329A JP2005353905A JP 2005353905 A JP2005353905 A JP 2005353905A JP 2004174329 A JP2004174329 A JP 2004174329A JP 2004174329 A JP2004174329 A JP 2004174329A JP 2005353905 A JP2005353905 A JP 2005353905A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- additional
- semiconductor device
- transistor
- gate electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 136
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 132
- 238000013461 design Methods 0.000 claims abstract description 167
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 52
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 42
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 42
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 31
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 30
- 230000008859 change Effects 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 101500022510 Lithobates catesbeianus GnRH-associated peptide 2 Proteins 0.000 description 3
- 101100223822 Dictyostelium discoideum zfaA gene Proteins 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0207—Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
- G06F30/392—Floor-planning or layout, e.g. partitioning or placement
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- Geometry (AREA)
- Architecture (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
トランジスタのゲート電極の形状ばらつき改善のため、ダミーゲートを配置する半導体装置のレイアウト設計において、レイアウト面積と設計工数を削減する半導体装置とそのレイアウト設計方法を提供する。
【解決手段】
トランジスタを配置する工程と、トランジスタの活性領域上のゲート長方向の両端に配置されたゲート電極からゲート電極、あるいはゲート電極とその活性領域からの突き出し部分を含めた形状と同一形状であるダミーゲートを平行かつ一定間隔離れた箇所に生成し、トランジスタが複数のゲート幅の異なるゲート電極を持つ場合、必要なだけ活性領域外への突き出し部分を延長するダミーゲート生成工程と、トランジスタのゲート電極へゲートパターンやコンタクト領域を接続する際に、ダミーゲートとの位置関係によって、ゲート電極とダミーゲートを接続するゲート接続工程と、メタル層を配線する配線工程からなり、従来よりも面積的に小さい半導体装置を、より少ない設計工数で設計することが可能となる。
【選択図】 図1
Description
また下記文献3には最大の長い活性領域を持つゲート電極にあわせて、全てのゲートパターンを形成することが記載されている。
ここでは課題点を端的に説明するため、点線で囲まれた範囲33(A)に限ってレイアウト構成を示し、説明を行う。
図34は図33中の33(A)で囲まれた範囲内のトランジスタがソース・ドレイン領域をできるだけ共有させた状態で配置し、さらにトランジスタが持つゲート電極のうち最も大きなゲート幅に合わせて、ダミーゲートを配置したレイアウトである。
NWはN-WELL領域を示し、その他はP-WELL領域であるとする。D−NW,D−PWはN-WELL,P-WELL上に配置され、基板内の各領域を電源電位あるいは接地電位に固定するための活性領域であり、DCはコンタクトである。
本発明は前記実情に鑑みてなされたもので、チップ面積の増大や設計工数の増大を回避し、効率よく小型で信頼性の高い半導体装置を提供することを目的とする。
また本発明のレイアウト設計方法は、トランジスタのゲート電極の形状ばらつきを抑制するための付加ゲートパターンを配置する半導体装置において、レイアウト面積と設計工数を削減する半導体装置及びレイアウト設計方法を提供することを目的とする。
この構成により、第1および第2の付加ゲートパターンは必ずしもゲート電極と一定距離を隔ててかつ同じ長さでなく、形状変更を行なうことができるため、設計の自由度が増大し、設計工数の増大を防止することができる。
この構成により、ゲート電極と第1の付加ゲートパターンとを第3の付加ゲートパターンによって接続することにより、第1の付加ゲートパターンとゲート電極及び第3の付加ゲートパターン間はゲートパターン間のデザインルールの制約を受けないため、マージンが不要となり面積を削減することができ、かつゲート電極の形状ばらつきを考慮したレイアウト設計が可能となる。
この構成により、第1の付加ゲートパターンは必ずしもゲート電極と一定距離を隔ててかつ同じ長さや幅でなく、形状変更を行なうことができるため、設計の自由度が増大する。
この構成により、ダミーゲートである第1の付加ゲートパターンをゲートパターンに大きく影響を与える長さではなく、幅を制御することにより、ゲート電極のパターン精度を低下することなく比較的自由に設計変更を行なうことが可能となる。
この構成により、幅が段階的に変化しているため、第1の付加ゲートパターンの面積を必要最小限に抑え、他のゲートパターンの配置可能領域を確保することで全体の面積を削減することができる。このようにしてゲート電極やゲート電極と接続する付加ゲートパターンに与える影響を最小限に抑えつつ、ゲート電極のパターン精度を低下することなく比較的自由に設計変更を行なうことが可能となる。
すなわち設計トランジスタのゲート電極と、ゲート電極と平行かつ一定距離に配置されゲート電極と同一プロセスで形成され、同一組成である第1および第2の付加ゲートパターンを具備し、前記第1の付加ゲートパターンは、第3の付加ゲートパターンによりゲート電極と電気的に接続され、電位的にフローティングでなく、電源電位あるいは接地電位にも接続されないとしたものである。
この構成によると、ゲート電極へ接続するためのゲート電極のパターンの作成において、ゲート電極のパターンと第1の付加ゲートパターンとを接続することにより、付加ゲートパターン・ゲートパターン間のデザインルールの制約を受けないため、面積を削減することができ、かつゲート電極の形状ばらつきを考慮したレイアウト設計が可能となる。
これにより、配線やコンタクト領域など電気的接続のための面積増加を抑えることで、レイアウト設計の自由度が増大するという効果を奏効する。
これにより、付加ゲートパターンを単にゲート電極のばらつき抑制だけでなく、電源電位あるいは接地電位を固定するための容量デバイスとして用いることも可能である。
この構成により、面積的な制約によりゲート電極と付加ゲートパターンを接続する必要がある場合でも、より面積の小さい付加ゲートパターンと接続することで、ゲート電極の負荷を軽減することが可能となる。
この構成により、メタル配線の配線制約から、ゲート電極の突き出し部分にゲート・メタル層間を接続するコンタクト領域を配置できず、第1の付加ゲートパターン周辺に配置する必要がある場合でも、第1の付加ゲートパターン上にコンタクト領域を配置し、ゲート電極と接続することで、面積の増大を抑制することができる。
この構成により、第1の付加ゲートパターン上にコンタクトを2つ以上配置するので、歩留まり低下を抑制することができる。またコンタクトをゲート電極と平行に配置し、トランジスタのソース・ドレイン領域と接続するメタル配線と配線ピッチを守ったレイアウト設計を行うことで、コンタクトを2つ配置することでのメタル層の面積増加によるレイアウト全体の面積増大を抑制することができる。
この構成により、第1の付加ゲートパターンは面積的な制約に応じ、トランジスタのゲート電極と突き出し部分の領域を包含することで、ゲート電極の形状ばらつきをより少なくすることができる。
この構成により、トランジスタのゲート電極と接続する付加ゲートパターンのゲート幅方向の長さを短くすることで負荷を軽減し、また延長線上に別の付加ゲートパターンを配置することで、トランジスタのゲート電極の形状ばらつきを抑制することが可能である。
この構成により、2つの離れたトランジスタのゲート電極を2つの付加ゲートパターンにより構成することで、トランジスタのゲート電極の形状ばらつきを抑制し、一方の付加ゲートパターンの長さを短くすることで、負荷を削減することも可能となる。
この構成により、第1、第2の付加ゲートパターンが、トランジスタの第1、第2のゲート電極の形状ばらつきを抑えるために最小限必要なゲート幅方向の長さとすることで、ゲート電極の形状ばらつきを抑え、より面積制約が少ない設計を行うことができる。
この構成により2つの第1の付加ゲートパターンで隣接する2つ以上のトランジスタのゲート電極と対向するようにしているため、第1のトランジスタと第2のトランジスタとで第1の負荷ゲートパターンを共用することにより、付加ゲートパターンの発生工数を低減することができる。
この構成により、トランジスタの形状や配置状況に応じて、必要な長さだけの付加ゲートパターンを配置することで、付加ゲートパターンを含めてゲートパターン間のルールが面積的に律速する領域に対して選択的に突き出し部分を削除することで、面積の増大を避けつつダミーゲートの効果を発揮させることができ、他のゲートパターンへの影響の少ない、レイアウト面積を削減したレイアウト設計を行うことが可能である。
この構成により、トランジスタ上のゲート電極の配置位置に応じて、必要な領域だけの付加ゲートパターンを配置することで、均一にある長さの付加ゲートパターンを一律に配置するより、他のゲートパターンへの影響が少ないため、面積を削減したレイアウト設計を行うことが可能である。また、付加ゲートパターンを発生する工数をかけることなく、第1のゲート電極を延長することで、第2のゲート電極に対する付加ゲートパターンの役割を果たすことができる。
この構成によれば、余分な付加ゲートパターンを発生せずゲート電極を延長することで、メタル層の配線やゲートパターンの位置関係に応じて、どちらのゲート電極の突き出し部分にもコンタクト領域を接続することができるため、レイアウト制約に応じたレイアウト設計が可能となるため、結果としてレイアウト面積を削減することできる。
この構成により、第1の付加ゲートパターンの占有面積を必要最小限に抑え、他のゲートパターンが配置できる領域を確保することで、全体の面積の削減をはかることができる。
また2つの付加ゲートパターンがデザインルールを満たしていない場合、2つの付加ゲートパターンの形状を残しつつ接続を行うことで、付加ゲートパターンとしての効果と、単に長方形とするのに比べ、他のゲートパターンの配置領域を確保することができるため、レイアウト面積を削減することが可能である。
またこの構成によれば、必要に応じ付加ゲートパターンの突き出し部分の長さを変更するだけで、付加ゲートパターンとゲートパターン間のデザインルールの制約を回避することで、工数の低減をはかるとともに占有面積を削減し、レイアウト設計が可能である。またゲート電極部分の領域に付加ゲートパターンが形成されているため、形状ばらつきを抑制する効果があることはいうまでもない。
このレイアウト設計方法によれば、配置したトランジスタに見合う付加ゲートパターンを自動的、かつ必要なだけ配置することができるので、設計効率のよく、面積が削減されたレイアウト設計が可能となる。
さらに前記第1、第2の付加ゲートパターンは前記トランジスタのゲート幅方向において、異なる領域にわたり生成され得るものとする。
このレイアウト設計方法によれば、トランジスタのゲート電極の配置状況に応じて、必要な領域に対して付加ゲートパターンを発生するので、トランジスタの両端に同一形状、同一領域に付加ゲートパターンを配置するレイアウト設計方法に対して、面積の削減に効果がある。
このレイアウト設計方法によれば、ゲート電極が隣接するゲート電極のゲート幅部分を包含していない場合、付加ゲートパターンを配置する必要があるが、自動的にゲート電極を延長することで対応するため、レイアウト設計工数の短縮につながる。
このレイアウト設計方法によれば、トランジスタ上のゲート電極のゲート長方向に対向するゲートパターンが同一トランジスタ上の複数のゲート電極では不足している場合でも、ゲート電極間の間隔により、自動的に付加ゲートパターンを生成するか、ゲート電極の突き出し部分を活性領域外に延長するかを判断し、付加ゲートパターンと等しい効果を出すことができるので、レイアウト設計工数を削減することが可能となる。
このレイアウト設計方法によれば、ゲート電極と接続するゲートパターンあるいはコンタクト領域が、付加ゲートパターンとデザインルールを満たさない場合、ゲートパターンやコンタクトの配置条件によって自動的に接続、あるいは突き出し部分を削除することにより、付加ゲートパターンとのデザインルールを考慮する必要がなくなるため、面積を削減したレイアウト設計を設計効率が良く行うことが可能となる。
このレイアウト設計方法によれば、ゲート電極と接続する付加ゲートパターンがある長さ以上の場合自動的に分割され、それを補う付加ゲートパターンが配置されるので、ゲート電極のばらつきを抑えるとともに、付加ゲートパターンと接続した場合のゲート電極の負荷を抑えたレイアウト設計を自動で行うことが可能となる。
このレイアウト設計方法によれば、メタル層や周囲のゲートパターンの配置状況からトランジスタを移動させなればならない場合でも、付加ゲートパターンとトランジスタの位置関係を保ったまま移動することで、トランジスタの移動によるレイアウト変更工数を削減することができる。
このレイアウト設計方法によれば、付加ゲートパターン同士がデザインルールを満たさない場合、周辺のトランジスタやゲートパターンを修正することなく、付加ゲートパターン間を接続することにより、他のデータパターンの移動などの設計工数をかけずに、付加ゲートパターン間のデザインルールを満たしたレイアウト設計を行うことができる。
このレイアウト設計方法によれば、付加ゲートパターン同士がデザインルールを満たさない場合、一部の付加ゲートパターンを修正や、設計データの階層構造上付加ゲートパターンの形状を修正できない場合は、新規に付加ゲートパターンを発生することで、設計データの変更を最小限に留めた付加ゲートパターンの修正を行うことが可能である。
このレイアウト設計によれば、付加ゲートパターン間のデザインルールを満たすために、面積的に最小となるような修正を行うことで、付加ゲートパターン修正工程が他のゲートパターンに影響を与えることなく、付加ゲートパターン間のデザインルールを修正することが可能となる。
(第1の実施形態)
図1は本発明のレイアウト設計方法のフローを示したものであり、トランジスタ生成工程S100の後、ダミーゲートである付加ゲートパターンをトランジスタのゲート電極と平行、一定距離に生成する付加ゲートパターン生成工程S200を行い、さらに発生したトランジスタのゲート電極にゲートパターンやゲートコンタクト領域の接続、配置を行うゲートパターン接続工程S300と、メタル層を配線する配線工程S400を実行する。以下各工程を図33に示すラッチ回路の33(A)で囲まれた領域のレイアウト設計を例に説明する。
まずゲート電極GA2−2に接続するようにゲートコンタクト領域CGMA3を配置する(図8)。本例の場合、ゲート電極GA2−1と接続するゲートパターンGAP−21から一定距離(SP−GA−min)以上開けることと、かつ面積を増加させないために、ゲートコンタクト領域CGMA3を付加ゲートパターンDG3近辺に配置する。この瞬間、認識工程S302はゲートコンタクト領域CGMA3と付加ゲートパターンDG3間の間隔LDG3から、LDG3<SP−GA−minであると認識し、S302の認識工程での条件分岐からゲート電極GA2−2とゲートコンタクト領域CGMA3と付加ゲートパターンDG3とを接続する工程S303が実行される(図9)。
ここでCGMA3が図9と配置位置が異なるのは、付加ゲートパターン上にコンタクトがゲート電極のゲート幅方向、この場合図面y方向にコンタクトが並ぶように配置したほうが、1層メタルのスペーシングルール等から、より小さい面積となるためである。
図12は本発明の第2の実施形態のレイアウト設計方法のフローを示したものであり,第1の実施形態で示したレイアウト設計方法に対し、付加ゲートパターン生成工程S200の後、トランジスタを移動するトランジスタ移動工程S250と、配線工程S400の後、ダミーゲートとして配置された付加ゲートパターンがデザインルールを満たすように形状の修正あるいは付加ゲートパターンの新規追加を行う付加ゲートパターン修正工程S500が追加されたことと、ゲートパターン接続工程S300´が第1の実施形態でのゲートパターン接続工程S300から一部修正されていることが異なる。以下第1の実施形態から変更した工程を中心に本実施形態のレイアウト設計方法について、図13で示すデコーダ回路の13(A)で囲まれたバッファ部分のレイアウト設計を例に説明する。
入力ピンの配置位置やメタルのスペーシングルールから、TR5,TR6を図面に示した方向に移動することが望ましいと考えられる。
付加ゲートパターンDG14とゲートコンタクト領域CGMA14との距離LDG−14が、SP−GA−min-EXT−GD<LGD14<SP−GA−minである場合、S302の認識工程での条件分岐からダミーゲートサイズ変更工程S304が実行され、ゲート電極GA6−2の活性領域のy方向の上端まで、つまり活性領域からの突き出し部分を削除する形で、付加ゲートパターンDG14の長さを変更する(図22)。
図18は図17から付加ゲートパターン修正工程S500を実行した図である。付加ゲートパターンDG12,DG13間のスペーシングルール違反を回避するように、新たに付加ゲートパターンDG17が発生している。
また本実施形態では付加ゲートパターン修正工程によってゲート幅方向のサイズが付加ゲートパターンDG12,DG13と等しい付加ゲートパターンDG17を発生したが、デザインルールを違反する付加ゲートパターン同士の長さが異なる場合や、ゲート幅方向(図面y方向)の配置領域が異なる場合、付加ゲートパターン修正工程では、デザインルールを違反している箇所のみに対して、修正を行う。
図26は図25に対して、付加ゲートパターン修正工程S500を実行したものである。この付加ゲートパターン修正工程では実際にデザインルールエラーとなる、(A11)で囲まれた範囲に対してのみ、デザインルールを回避するため、新規に付加ゲートパターンDG20が生成されている。このようにデザインルールを回避するため最小の変更のみ実施することにより、ゲート電極との接続等で用いられている他の付加ゲートパターンに影響することなく、本修正工程によりデザインルール違反を回避することができる。
図27は本発明の第3の実施形態のレイアウト設計方法のフローを示したものであり,第2の実施形態で示したレイアウト設計方法に対し、付加ゲートパターン生成工程S200´が第2の実施形態での付加ゲートパターン生成工程S200´から一部修正されていることが異なる。以下変更した工程のみ本実施形態のレイアウト設計方法について説明する
図30は付加ゲートパターン生成工程S200´のフロー図を示したもので、トランジスタのゲート長方向の両端のゲート電極から一定間隔にダミーゲートとしての付加ゲートパターンを配置する外部付加ゲートパターン生成工程S201と、トランジスタの全てのゲート電極について、対象となるゲート電極に隣接するゲート電極が対象となるゲート電極のゲート幅方向の両端にわたる領域に配置されていない場合、ゲート電極の延長あるいは付加ゲートパターンを生成する内部付加ゲートパターン生成工程S202からなる。図31は内部付加ゲートパターン生成工程S202のフローを示した図で、全てのゲート電極に対して、隣接する片側のゲート電極とその突き出し部分が、ゲート電極をゲート幅方向の両端にわたる領域全体に配置されているか否かを判定する判定工程S202−1と、配置されていない場合、片側のゲート電極が1つであれば、ゲート電極をそのまま延長するゲート電極延長工程S202−2と、片側のゲート電極が2本存在し、ゲート幅方向の間隔が、ゲートパターン間の最小スペーシングルールの2倍と最小面積から決まる最小ゲートライン長WG−minの和より大きいかであるか否かを条件分岐する第二の判定工程S202−3と、条件を満たす場合、2つのゲート電極間にダミーゲートとしての付加ゲートパターンを発生する発生工程S202−4と条件を満たさない場合、ゲート電極を活性領域外に延長する工程S202−5からなる。
図32は本発明の第4の実施形態のレイアウト図を示したものである。TR9はゲート電極GA9−1〜6を有するPWELL上に形成されたNチャネルトランジスタである。ここでゲート電極のうち、GA9−1,GA9−6は電源電位に固定され、斜線で示される活性領域と、ゲート電極GA9−1およびGA9−6に隣接する活性領域は接地電位に接続されるため、この領域は実質的に電源電位、接地電位の容量成分として働く。ゲート電極GA9−1〜GA9−6はGA9−1、GA9−6は、を両端としてダイナミックに動作するゲート電極GA9−2〜5をゲート長方向(図面x方向)に一様にゲートパターンが並ぶよう配列されているため、実際の回路動作に影響するゲート電極GA9−2〜GA9−5のばらつきは少なく抑えることができる。また実際に動作する活性領域も、容量として働く斜線で記された活性領域に囲まれるため、ばらつきやストレスによる能力低下が抑えられることができる。
なお、本実施形態では、PWELL領域に作成したNチャネルトランジスタにおいて、ゲート電極を電源電位で固定、両端の活性領域を接地電位に固定したが、形成領域やゲート電極、活性領域に接続する電位が異なっていても良いことは言うまでもない
GA1−1〜GA9−6:トランジスタ上に配置されたゲート電極
DG1-31:付加ゲートパターン
CGMA1-27:ゲートコンタクト領域
GAP2−1〜6−2:付加ゲートパターン
DC:ゲート・メタル間、活性領域・メタル間コンタクト
CM:1層・2層メタル間コンタクト
M1:1層メタル配線
M2:2層メタル配線
NW:N-WELL領域
PW:P-WELL領域
D−NW:NWELL領域の電位固定のための活性領域
D−PW:P-WELL領域の電位固定のための活性領域
SP−GA−min:ゲートパターン間の最小スペーシングルール
SP−GA−L:ゲートパターンのゲート長方向の固定間隔
EXT−WD:ゲート電極の活性領域外への突き出し部分の長さ
LG−min:ゲートパターン(付加ゲートパターン含む)最小線幅
LGD:ゲートパターン、付加ゲートパターン間距離
S100:トランジスタ生成工程
S200,S200´:付加ゲートパターン生成工程
S201:外部付加ゲートパターン生成工程
S202:内部付加ゲートパターン生成工程
S250:トランジスタ移動工程
S300、S300´:ゲートパターン接続工程
S301:ゲート電極へのゲートパターン接続工程
S302:認識工程
S303:付加ゲートパターン・ゲート電極接続工程
S304:サイズ変更工程
S305:判定工程
S306:付加ゲートパターン分割工程
S400:(メタル層)配線工程
S500: 付加ゲートパターン修正工程
Claims (33)
- 第1のトランジスタのゲート電極と平行かつ一定距離に、前記ゲート電極と同一プロセスで形成され、同一組成である第1、第2の付加ゲートパターンを具備し、
前記第1の付加ゲートパターンと第2の付加ゲートパターンは、前記ゲート電極に対して非対称となるように配置されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、前記ゲート電極と、第3の付加ゲートパターンにより電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、前記ゲート電極と異なる位置ベクトル成分を含むことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、前記ゲート電極のゲート長方向で幅が変化するよう配置されることを特徴とする半導体装置。 - )
請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、前記ゲート電極のゲート長方向で幅が段階的に変化するよう配置されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、電源電位および接地電位と異なる電位に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第2の付加ゲートパターンは、電気的に常にフローティングであることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第2の付加ゲートパターンは、電源電位あるいは接地電位に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至8のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、前記第2の付加ゲートパターンと比較し、面積が小さいことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至9のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、活性領域上に形成されたことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至9のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、活性領域上から非活性領域上にわたって形成されたことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1または9のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、非活性領域上に形成されたことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至12のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターン上に、メタル配線層と接続するためのコンタクトが配置されたことを特徴とする半導体装置。 - 請求項13に記載の半導体装置であって、
前記コンタクトは前記第1のトランジスタのゲート電極と平行に一定間隔で少なくとも2つ以上配置されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至12のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、前記第1のトランジスタのゲート電極、または前記ゲート電極とその活性領域外への突き出し部分を含めた形状と同一形状であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至15のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンと、前記第1の付加ゲートパターンから前記第1のトランジスタのゲート幅方向に一定距離離間して配置された第4の付加ゲートパターンが、少なくとも前記第1のトランジスタのゲート電極の活性領域上のゲート幅方向の両端にわたって配置されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項16に記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンと、前記第4の付加ゲートパターンは、前記第1のトランジスタのゲート電極の活性領域上のゲート幅方向の両端と、前記第4の付加ゲートパターンからゲート電極が一定間隔で配置されている第2のトランジスタのゲート電極の活性領域上のゲート幅方向の両端にわたって配置されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至15のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第1のトランジスタは複数のゲート電極を有し、前記第1の付加ゲートパターンと前記第2の付加ゲートパターンは、それぞれ前記第1のトランジスタの活性領域内でゲート長方向の端部に配置され、前記第1の付加ゲートパターン、及び前記第2の付加ゲートパターンと一定距離に配置された第1のゲート電極の活性領域上のゲート幅方向の両端、及び第2のゲート電極の活性領域上のゲート幅方向の両端にわたって配置されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1から15のいずれか、または18記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンは、前記第1のトランジスタのゲート電極の活性領域上のゲート幅方向の両端と、前記第1の付加ゲートパターンからゲート電極が一定間隔で配置され、前記第1のトランジスタと平行に配置されている第2のトランジスタのゲート電極の活性領域上のゲート幅方向の両端にわたる領域に配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至15のいずれか、または18記載の半導体装置であって、
前記第1の付加ゲートパターンと前記第2の付加ゲートパターンは一定距離離れた前記第1のトランジスタの活性領域上のゲート幅方向の両端からの突き出し分の長さが異なることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置であって、
第1のトランジスタは複数のゲート電極を有し、前記第1のトランジスタのゲート長方向の両端に配置されたゲート電極から一定距離に同一プロセスで形成され、同一組成である前記第1、第2の付加ゲートパターンが前記ゲート電極と同一形状で配置され、かつ第1のトランジスタの活性領域上に配置された第1のゲート電極は、一定距離はなれて配置された第2のゲート電極の活性領域上の少なくともゲート幅方向の両端にわたる領域まで、前記第1のゲート電極のゲート幅方向に前記第1のトランジスタの活性領域外に延長されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項21に記載の半導体装置であって、
前記第1のゲート電極の活性領域外に延長された箇所に、メタル配線層と接続するためのコンタクトが配置されたことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置であって、
前記第1のトランジスタに加えてさらに第2のトランジスタを備え、
第1のトランジスタの活性領域上のゲート電極と第2のトランジスタの活性領域上のゲート電極に平行かつ一定距離に配置され、前記第1、第2のトランジスタのゲート電極と同一プロセスで形成され、同一組成である付加ゲートパターンは、前記第1のトランジスタのゲート電極の活性領域上のゲート幅方向の両端と前記第2のトランジスタのゲート電極の活性領域上のゲート幅方向の両端にわたる領域において、前記第1のゲート電極のゲート長方向の長さが段階的に異なることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至23のいずれかに記載の半導体装置のレイアウト方法であって、
一つあるいは、複数のゲート電極を持つトランジスタを配置するトランジスタ生成工程と、前記トランジスタのゲート電極と平行かつ一定距離に、前記ゲート電極と同一プロセスで形成され、同一組成である第1、第2の付加ゲートパターンを生成する付加ゲートパターン生成工程とを含み、前記第1および第2の付加ゲートパターンは、前記ゲート電極に対して非対称となるのを許容して生成されることを特徴とする半導体装置のレイアウト設計方法。 - 請求項24記載のレイアウト設計方法であって
前記第1、第2の付加ゲートパターンは前記トランジスタのゲート幅方向において、異なる領域にわたり生成されることを特徴とする半導体装置のレイアウト設計方法 - 請求項24または25記載のレイアウト設計方法であって
前記トランジスタ生成工程、あるいは付加ゲートパターン生成工程は、前記トランジスタ持つ前記ゲート電極を活性領域外に、少なくとも前記トランジスタの同一活性領域上に配置された隣接するゲート電極の活性領域上のゲート幅方向の両端にわたる領域まで、延長する工程を含むことを特徴とする半導体装置のレイアウト設計方法。 - 請求項24または25記載のレイアウト設計方法であって
前記付加ゲート生成工程は、前記トランジスタが第1のゲート電極と、第1のゲート電極から一定距離に配置された第2、第3のゲート電極を有し、前記第2のゲート電極と第3のゲート電極がゲート幅方向に、一定距離以上の間隔を置いて一直線上に並んで配置されている場合、前記第2のゲート電極と前記第3のゲート電極の活性領域外への突き出し部分を延長、あるいは前記第2のゲート電極と前記第3のゲート電極間に付加ゲートパターンを生成する工程を含むことを特徴とするレイアウト設計方法。 - 請求項24記載のレイアウト設計方法であって
前記トランジスタ生成工程と、前記付加ゲート生成工程と、前記トランジスタのゲート電極に付加ゲートパターンを接続あるいはコンタクト領域を配置する接続工程からなり、前記接続工程はゲート電極に接続する第3の付加ゲートパターンと前記コンタクト領域が前記第1の付加ゲートパターンから一定距離以内に配置された場合、前記第1の付加ゲートパターンと前記ゲート電極を接続するかあるいは前記第1の付加ゲートパターンの形状を前記トランジスタのゲート電極のゲート幅方向の両端まで長さを変更する工程を包含することを特徴とする半導体装置のレイアウト設計方法 - 請求項28記載のレイアウト設計方法であって
前記接続工程は、前記トランジスタのゲート電極と接続した前記第1の付加ゲートパターンのゲート電極のゲート幅方向の長さが一定以上であれば、前記第1の付加ゲートパターンから分割した第4の付加ゲートパターンを、前記第1の付加ゲートパターンから一定距離に配置する工程を包含することを特徴とする半導体装置のレイアウト設計方法 - 請求項28または29記載のレイアウト設計方法であって
前記トランジスタ生成工程と、前記付加ゲートパターン生成工程で発生した前記トランジスタと前記付加ゲートパターンは両者の配置関係を保ったまま移動する移動工程を包含することを特徴とする半導体装置のレイアウト設計方法 - 請求項24乃至30のいずれかに記載のレイアウト設計方法であって
前記付加ゲート生成工程で発生した前記第1、第2の付加ゲートパターンが一定距離以内に配置された場合、前記第1、第2の付加ゲートパターンを接続する付加ゲート修正工程を包含することを特徴とする半導体装置のレイアウト設計方法 - 請求項31記載のレイアウト設計方法であって
前記付加ゲート修正工程は、前記第1、または第2の付加ゲートパターンの形状を変更するか、あるいは第1、第2の付加ゲートパターン間に第5の付加ゲートパターンを生成することを特徴とする半導体装置のレイアウト設計方法 - 請求項32記載のレイアウト設計方法であって
前記付加ゲート修正工程は、前記第1、第2の付加ゲートパターン間の一定距離に配置された箇所のみ付加ゲートパターンで埋めることを特徴とする半導体装置のレイアウト設計方法
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004174329A JP4248451B2 (ja) | 2004-06-11 | 2004-06-11 | 半導体装置およびそのレイアウト設計方法 |
US11/149,350 US7469396B2 (en) | 2004-06-11 | 2005-06-10 | Semiconductor device and layout design method therefor |
US12/325,697 US8319257B2 (en) | 2004-06-11 | 2008-12-01 | Semiconductor device and layout design method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004174329A JP4248451B2 (ja) | 2004-06-11 | 2004-06-11 | 半導体装置およびそのレイアウト設計方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005353905A true JP2005353905A (ja) | 2005-12-22 |
JP4248451B2 JP4248451B2 (ja) | 2009-04-02 |
Family
ID=35459601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004174329A Expired - Fee Related JP4248451B2 (ja) | 2004-06-11 | 2004-06-11 | 半導体装置およびそのレイアウト設計方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7469396B2 (ja) |
JP (1) | JP4248451B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100808605B1 (ko) | 2007-05-31 | 2008-02-29 | 주식회사 하이닉스반도체 | 주변회로지역의 반도체 소자 |
JP2009170807A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Elpida Memory Inc | ダミーゲートパターンを備える半導体装置 |
JP2010049398A (ja) * | 2008-08-20 | 2010-03-04 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 回路図設計装置、回路図設計プログラム及び回路図設計方法 |
JP2010049399A (ja) * | 2008-08-20 | 2010-03-04 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 回路図設計装置、回路図設計プログラム及び回路図設計方法 |
JP2010067667A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置 |
JP2011165901A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置及びその配置配線方法 |
WO2012120599A1 (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-13 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JPWO2010122754A1 (ja) * | 2009-04-22 | 2012-10-25 | パナソニック株式会社 | 半導体集積回路 |
JP5513530B2 (ja) * | 2010-02-03 | 2014-06-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP2014112745A (ja) * | 2014-03-27 | 2014-06-19 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
Families Citing this family (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4248451B2 (ja) * | 2004-06-11 | 2009-04-02 | パナソニック株式会社 | 半導体装置およびそのレイアウト設計方法 |
CN104882442B (zh) * | 2005-04-26 | 2018-09-11 | 瑞萨电子株式会社 | 半导体装置及其制造方法和半导体制造用掩模、光接近处理方法 |
US8247846B2 (en) | 2006-03-09 | 2012-08-21 | Tela Innovations, Inc. | Oversized contacts and vias in semiconductor chip defined by linearly constrained topology |
US8839175B2 (en) | 2006-03-09 | 2014-09-16 | Tela Innovations, Inc. | Scalable meta-data objects |
US8653857B2 (en) | 2006-03-09 | 2014-02-18 | Tela Innovations, Inc. | Circuitry and layouts for XOR and XNOR logic |
US9035359B2 (en) | 2006-03-09 | 2015-05-19 | Tela Innovations, Inc. | Semiconductor chip including region including linear-shaped conductive structures forming gate electrodes and having electrical connection areas arranged relative to inner region between transistors of different types and associated methods |
US9230910B2 (en) | 2006-03-09 | 2016-01-05 | Tela Innovations, Inc. | Oversized contacts and vias in layout defined by linearly constrained topology |
US7956421B2 (en) | 2008-03-13 | 2011-06-07 | Tela Innovations, Inc. | Cross-coupled transistor layouts in restricted gate level layout architecture |
US7763534B2 (en) | 2007-10-26 | 2010-07-27 | Tela Innovations, Inc. | Methods, structures and designs for self-aligning local interconnects used in integrated circuits |
US9563733B2 (en) | 2009-05-06 | 2017-02-07 | Tela Innovations, Inc. | Cell circuit and layout with linear finfet structures |
US9009641B2 (en) | 2006-03-09 | 2015-04-14 | Tela Innovations, Inc. | Circuits with linear finfet structures |
US8448102B2 (en) | 2006-03-09 | 2013-05-21 | Tela Innovations, Inc. | Optimizing layout of irregular structures in regular layout context |
US8658542B2 (en) | 2006-03-09 | 2014-02-25 | Tela Innovations, Inc. | Coarse grid design methods and structures |
US8541879B2 (en) | 2007-12-13 | 2013-09-24 | Tela Innovations, Inc. | Super-self-aligned contacts and method for making the same |
US7446352B2 (en) | 2006-03-09 | 2008-11-04 | Tela Innovations, Inc. | Dynamic array architecture |
US7908578B2 (en) | 2007-08-02 | 2011-03-15 | Tela Innovations, Inc. | Methods for designing semiconductor device with dynamic array section |
US8245180B2 (en) | 2006-03-09 | 2012-08-14 | Tela Innovations, Inc. | Methods for defining and using co-optimized nanopatterns for integrated circuit design and apparatus implementing same |
GB2439759A (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-09 | X Fab Uk Ltd | RF-CMOS transistor array |
US7473623B2 (en) * | 2006-06-30 | 2009-01-06 | Advanced Micro Devices, Inc. | Providing stress uniformity in a semiconductor device |
DE102006044443A1 (de) | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Robert Bosch Gmbh | Automatische Erkennung von Beschichtungsfehlern |
KR100817064B1 (ko) * | 2006-10-02 | 2008-03-27 | 삼성전자주식회사 | 미세패턴을 형성하기 위한 마스크 및 그 형성방법 |
US8286107B2 (en) | 2007-02-20 | 2012-10-09 | Tela Innovations, Inc. | Methods and systems for process compensation technique acceleration |
US8667443B2 (en) | 2007-03-05 | 2014-03-04 | Tela Innovations, Inc. | Integrated circuit cell library for multiple patterning |
US8053346B2 (en) * | 2007-04-30 | 2011-11-08 | Hynix Semiconductor Inc. | Semiconductor device and method of forming gate and metal line thereof with dummy pattern and auxiliary pattern |
KR100881130B1 (ko) * | 2007-05-28 | 2009-02-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | 주변회로를 위한 게이트 패턴 형성 방법 및 이에 따른반도체 소자 |
US8453094B2 (en) | 2008-01-31 | 2013-05-28 | Tela Innovations, Inc. | Enforcement of semiconductor structure regularity for localized transistors and interconnect |
US7939443B2 (en) | 2008-03-27 | 2011-05-10 | Tela Innovations, Inc. | Methods for multi-wire routing and apparatus implementing same |
JP5415710B2 (ja) * | 2008-04-10 | 2014-02-12 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US20090261419A1 (en) * | 2008-04-22 | 2009-10-22 | Shu-Ping Fang | Semiconductor device having assist features and manufacturing method thereof |
JP2010003949A (ja) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Nec Electronics Corp | 半導体集積回路装置のレイアウト検証方法 |
JP5292005B2 (ja) * | 2008-07-14 | 2013-09-18 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路 |
KR101903975B1 (ko) | 2008-07-16 | 2018-10-04 | 텔라 이노베이션스, 인코포레이티드 | 동적 어레이 아키텍쳐에서의 셀 페이징과 배치를 위한 방법 및 그 구현 |
US9122832B2 (en) | 2008-08-01 | 2015-09-01 | Tela Innovations, Inc. | Methods for controlling microloading variation in semiconductor wafer layout and fabrication |
JP5147654B2 (ja) * | 2008-11-18 | 2013-02-20 | パナソニック株式会社 | 半導体装置 |
GB2466313A (en) | 2008-12-22 | 2010-06-23 | Cambridge Silicon Radio Ltd | Radio Frequency CMOS Transistor |
US8661392B2 (en) | 2009-10-13 | 2014-02-25 | Tela Innovations, Inc. | Methods for cell boundary encroachment and layouts implementing the Same |
CN102124555B (zh) * | 2009-10-19 | 2014-05-14 | 松下电器产业株式会社 | 半导体装置 |
CN102687264B (zh) | 2009-12-25 | 2014-08-06 | 松下电器产业株式会社 | 半导体装置 |
US9159627B2 (en) | 2010-11-12 | 2015-10-13 | Tela Innovations, Inc. | Methods for linewidth modification and apparatus implementing the same |
US8735994B2 (en) * | 2012-03-27 | 2014-05-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrical-free dummy gate |
US9478490B2 (en) | 2014-09-10 | 2016-10-25 | Qualcomm Incorporated | Capacitor from second level middle-of-line layer in combination with decoupling capacitors |
US20160284836A1 (en) | 2015-03-25 | 2016-09-29 | Qualcomm Incorporated | System, apparatus, and method for n/p tuning in a fin-fet |
CN106169504B (zh) * | 2015-05-22 | 2019-06-04 | 格罗方德半导体公司 | 半导体器件结构 |
CN106340540B (zh) | 2015-07-07 | 2020-09-01 | 联华电子股份有限公司 | 半导体元件及填补图案的方法 |
US9786647B1 (en) * | 2016-04-07 | 2017-10-10 | United Microelectronics Corp. | Semiconductor layout structure |
US10878165B2 (en) * | 2018-07-16 | 2020-12-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method for generating layout diagram including protruding pin cell regions and semiconductor device based on same |
KR102540962B1 (ko) * | 2018-08-23 | 2023-06-07 | 삼성전자주식회사 | 집적회로 소자 |
US11004738B2 (en) * | 2018-09-21 | 2021-05-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Capacitance reduction by metal cut design |
DE102020132921A1 (de) * | 2020-04-30 | 2021-11-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | HALBLEITERVORRICHTUNG MIT GESTUFTEM GATESTUMPFGRÖßENPROFIL UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DAVON |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0473951A (ja) | 1990-07-16 | 1992-03-09 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体装置 |
JP3671732B2 (ja) * | 1992-02-07 | 2005-07-13 | 旭硝子株式会社 | ArFエキシマレーザー、またはKrFエキシマレーザー用光学部材およびフォトマスク用基板の製造方法 |
US5789776A (en) * | 1995-09-22 | 1998-08-04 | Nvx Corporation | Single poly memory cell and array |
US6084256A (en) | 1996-04-10 | 2000-07-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor integrated circuit device |
JP3311244B2 (ja) | 1996-07-15 | 2002-08-05 | 株式会社東芝 | 基本セルライブラリ及びその形成方法 |
JP3495869B2 (ja) * | 1997-01-07 | 2004-02-09 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
JPH11234109A (ja) | 1998-02-12 | 1999-08-27 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路の設計方法および半導体集積回路 |
US6121093A (en) | 1998-09-30 | 2000-09-19 | Intel Corporation | Method of making asymmetrical transistor structures |
JP2000112114A (ja) | 1998-10-08 | 2000-04-21 | Hitachi Ltd | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
KR100291384B1 (ko) | 1998-12-31 | 2001-07-12 | 윤종용 | 반도체장치의레이아웃방법 |
JP3758876B2 (ja) | 1999-02-02 | 2006-03-22 | Necマイクロシステム株式会社 | 半導体装置のレイアウト方法 |
JP2001118988A (ja) | 1999-10-15 | 2001-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
US6898561B1 (en) * | 1999-12-21 | 2005-05-24 | Integrated Device Technology, Inc. | Methods, apparatus and computer program products for modeling integrated circuit devices having reduced linewidths |
JP4794030B2 (ja) | 2000-07-10 | 2011-10-12 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP2002190589A (ja) | 2000-12-20 | 2002-07-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
KR100425462B1 (ko) | 2001-09-10 | 2004-03-30 | 삼성전자주식회사 | Soi 상의 반도체 장치 및 그의 제조방법 |
KR100402390B1 (ko) | 2001-10-05 | 2003-10-17 | 삼성전자주식회사 | 다층 터널접합층을 갖는 반도체 기억장치 및 그 제조방법 |
JP4158453B2 (ja) * | 2002-08-22 | 2008-10-01 | 株式会社デンソー | 半導体装置及びその製造方法 |
JP3759924B2 (ja) * | 2002-11-21 | 2006-03-29 | 松下電器産業株式会社 | 半導体装置 |
US20050009312A1 (en) * | 2003-06-26 | 2005-01-13 | International Business Machines Corporation | Gate length proximity corrected device |
JP4248451B2 (ja) * | 2004-06-11 | 2009-04-02 | パナソニック株式会社 | 半導体装置およびそのレイアウト設計方法 |
JP4778689B2 (ja) * | 2004-06-16 | 2011-09-21 | パナソニック株式会社 | 標準セル、標準セルライブラリおよび半導体集積回路 |
-
2004
- 2004-06-11 JP JP2004174329A patent/JP4248451B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-06-10 US US11/149,350 patent/US7469396B2/en active Active
-
2008
- 2008-12-01 US US12/325,697 patent/US8319257B2/en active Active
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100808605B1 (ko) | 2007-05-31 | 2008-02-29 | 주식회사 하이닉스반도체 | 주변회로지역의 반도체 소자 |
JP2009170807A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Elpida Memory Inc | ダミーゲートパターンを備える半導体装置 |
JP2010049398A (ja) * | 2008-08-20 | 2010-03-04 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 回路図設計装置、回路図設計プログラム及び回路図設計方法 |
JP2010049399A (ja) * | 2008-08-20 | 2010-03-04 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 回路図設計装置、回路図設計プログラム及び回路図設計方法 |
TWI484620B (zh) * | 2008-09-09 | 2015-05-11 | Renesas Electronics Corp | Semiconductor integrated circuit device |
JP2010067667A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置 |
JPWO2010122754A1 (ja) * | 2009-04-22 | 2012-10-25 | パナソニック株式会社 | 半導体集積回路 |
JP5513530B2 (ja) * | 2010-02-03 | 2014-06-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US9397083B2 (en) | 2010-02-03 | 2016-07-19 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device including protruding power supply wirings with bent portions at ends thereof |
JP2011165901A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置及びその配置配線方法 |
WO2012120599A1 (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-13 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP5695734B2 (ja) * | 2011-03-04 | 2015-04-08 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US8957480B2 (en) | 2011-03-04 | 2015-02-17 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device including dummy transistors with reduced off-leakage current |
US9349727B2 (en) | 2011-03-04 | 2016-05-24 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device |
JP2014112745A (ja) * | 2014-03-27 | 2014-06-19 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4248451B2 (ja) | 2009-04-02 |
US8319257B2 (en) | 2012-11-27 |
US20090085067A1 (en) | 2009-04-02 |
US7469396B2 (en) | 2008-12-23 |
US20050274983A1 (en) | 2005-12-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4248451B2 (ja) | 半導体装置およびそのレイアウト設計方法 | |
US7503026B2 (en) | Cell, standard cell, standard cell library, a placement method using standard cell, and a semiconductor integrated circuit | |
JP3231741B2 (ja) | スタンダードセル、スタンダードセル列、スタンダードセルの配置配線装置および配置配線方法 | |
US20090014811A1 (en) | Dynamic Array Architecture | |
US20100006901A1 (en) | Semiconductor Device Portion Having Gate Electrode Conductive Structures Formed from Rectangular Shaped Gate Electrode Layout Features Defined Along At Least Four Gate Electrode Tracks and Having Corresponding Non-Symmetric Diffusion Regions | |
JP2005072133A (ja) | 半導体集積回路のレイアウト方法、そのレイアウト構造、およびフォトマスク | |
JP2004342757A (ja) | 半導体集積回路及びその設計方法 | |
JP2008235350A (ja) | 半導体集積回路 | |
US20140217513A1 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US10748933B2 (en) | Semiconductor device | |
US6305002B1 (en) | Semiconductor integrated circuit having thereon on-chip capacitors | |
JP4949734B2 (ja) | 半導体装置及びその設計方法 | |
TW201803070A (zh) | 半導體裝置及半導體裝置的設計方法 | |
US9754073B2 (en) | Layout optimization for integrated circuit design | |
US9947765B2 (en) | Dummy gate placement methodology to enhance integrated circuit performance | |
US20080246160A1 (en) | Standard cell and semiconductor device including the same | |
KR20020042507A (ko) | 반도체장치, 그 제조방법 및 기억매체 | |
JPWO2010001507A1 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JP2006261458A (ja) | クロックツリー安定化装置、および半導体装置 | |
JP4498787B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2007311410A (ja) | 半導体集積回路装置及びその設計方法 | |
JP4441541B2 (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060327 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20071114 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071121 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20071128 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071205 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080507 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080707 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080820 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081017 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081216 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120123 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4248451 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130123 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130123 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |