JP2005345221A - 検出光学装置及び欠陥検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】検出光学系は、試料41に入射角を持った細いビーム照射光をスキャンしながら照射し、試料からの反射光(含む回折光、散乱光)を同一の対物レンズ10で捕捉する。反射光はミラー11で曲げられ、開口絞り30に入射する。開口絞り30の通過光領域31は、開口絞り30の中心より偏芯した位置に配置され、反射光の入射方向に対応して、モータ36により回転される。通過光領域31の位置は反射光の入射方向に対し相対的に保持される。これにより、試料上の散乱光に対し前方散乱と後方散乱とを異なる効率で捕捉することができる。
【選択図】 図1
Description
Claims (4)
- 対物レンズを用いて試料に細いビームの照明光をスキャンしながら照射し、試料からの反射光・散乱光を同一の対物レンズで補足して試料像を結像させる検出光学装置において、
試料面上の法線に対して、任意の入射方向をもった前記照明光を試料に入射させる入射系と、試料からの反射光(含む、回折光、散乱光)を画素センサーに導く検出系を有し、前記検出系に反射光の通過光領域を前記入射方向に対し相対的に保持する偏心手段を設けたことを特徴とする検出光学装置。 - 請求項1において、前記検出系の反射光の通過光領域位置を入射方向に対し、正反射光の方向と、前記照明光の方向に戻る方向に相対的にかえることにより、前記試料からの反射光が前記正反射光の方向と前記入射方向のうち、いずれか一方の検出効率を前記偏心手段によって向上させることを特徴とする検出光学装置。
- 請求項1または2において、前記通過光領域は開口絞りの開口、空間フィルターの透明領域または反射ミラーの反射領域であることを特徴とする検出光学装置。
- ウエハ等の試料に描かれたパターンについて、光学装置を用いてパターンを走査してその欠陥を検出する欠陥検査装置において、
前記光学装置は請求項1−3のいずれかに記載の検出光学装置を用いることを特徴とする欠陥検査装置。
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