JPH0915507A - 暗視野顕微鏡 - Google Patents
暗視野顕微鏡Info
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- JPH0915507A JPH0915507A JP16736395A JP16736395A JPH0915507A JP H0915507 A JPH0915507 A JP H0915507A JP 16736395 A JP16736395 A JP 16736395A JP 16736395 A JP16736395 A JP 16736395A JP H0915507 A JPH0915507 A JP H0915507A
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- Japan
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- light
- sample
- objective lens
- field microscope
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Abstract
(57)【要約】
【目的】分解能以下の微小な物体を暗視野顕微鏡で観察
する際に、分解能を低下させることなく、その微小物体
だけを観察可能にする。 【構成】光源２１と標本２５との間には、コンデンサレ
ンズ２４の入射瞳位置に開口絞り１０が配置されてい
る。この開口絞り１０は光源２１からの光の一部を遮光
する。また、対物レンズ２６の射出瞳位置には遮光部材
１５が配置されており、この遮光部材１５は、照明光の
標本２５による０次回折光よりも対物レンズ側を通る光
の一部を遮光する。
する際に、分解能を低下させることなく、その微小物体
だけを観察可能にする。 【構成】光源２１と標本２５との間には、コンデンサレ
ンズ２４の入射瞳位置に開口絞り１０が配置されてい
る。この開口絞り１０は光源２１からの光の一部を遮光
する。また、対物レンズ２６の射出瞳位置には遮光部材
１５が配置されており、この遮光部材１５は、照明光の
標本２５による０次回折光よりも対物レンズ側を通る光
の一部を遮光する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、標本のエッジ部分や分
解能以下の微小な部分を観察するのに適した暗視野顕微
鏡に関する。
解能以下の微小な部分を観察するのに適した暗視野顕微
鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の暗視野顕微鏡光学系の一般的な構
成を図６に示す。光源１からの光はコレクタレンズ２に
より集光され、開口絞り３に至る。開口絞り３を通過し
た光はコンデンサレンズ４を介して標本５上において集
束される。標本５からの光は、対物レンズ６、遮光絞り
７及び結像レンズ８からなる結像光学系を経て像を形成
する。
成を図６に示す。光源１からの光はコレクタレンズ２に
より集光され、開口絞り３に至る。開口絞り３を通過し
た光はコンデンサレンズ４を介して標本５上において集
束される。標本５からの光は、対物レンズ６、遮光絞り
７及び結像レンズ８からなる結像光学系を経て像を形成
する。
【０００３】この暗視野顕微鏡では、一般的に、照明は
対物レンズの開口数よりも大きな開口数で行われ、標本
のエッジ部分などの微小部分からの散乱・回折光のみが
対物レンズ６を通過するようにしている。この散乱・回
折光により像が形成され、微小部分の観察を行うことが
できるようになっている。しかしながら、照明光は必ず
しもエッジ部分や分解能以下の微小部分のみによって散
乱・回折されるわけではないので、従来の暗視野顕微鏡
でエッジ部分や分解能以下の微小部分のみを観察しよう
としても難しい場合があった。
対物レンズの開口数よりも大きな開口数で行われ、標本
のエッジ部分などの微小部分からの散乱・回折光のみが
対物レンズ６を通過するようにしている。この散乱・回
折光により像が形成され、微小部分の観察を行うことが
できるようになっている。しかしながら、照明光は必ず
しもエッジ部分や分解能以下の微小部分のみによって散
乱・回折されるわけではないので、従来の暗視野顕微鏡
でエッジ部分や分解能以下の微小部分のみを観察しよう
としても難しい場合があった。
【０００４】例えば、半導体の回路パターンの観察にお
いては、回路パターン内部に強い散乱体があると、その
散乱体による散乱光の強度が非常に強いため、回路パタ
ーンのエッジ像を明瞭に形成することが極めて困難であ
ることが多い。また、バクテリアのべん毛の観察におい
ては、べん毛からの散乱・回折光の他に、菌体からの散
乱・回折角度の小さい光が重畳して観察される。この菌
体からの散乱・回折光の強度はべん毛からの散乱・回折
光の強度よりも非常に強いので、べん毛の光像を明瞭に
形成することは極めて困難であることが多かった。
いては、回路パターン内部に強い散乱体があると、その
散乱体による散乱光の強度が非常に強いため、回路パタ
ーンのエッジ像を明瞭に形成することが極めて困難であ
ることが多い。また、バクテリアのべん毛の観察におい
ては、べん毛からの散乱・回折光の他に、菌体からの散
乱・回折角度の小さい光が重畳して観察される。この菌
体からの散乱・回折光の強度はべん毛からの散乱・回折
光の強度よりも非常に強いので、べん毛の光像を明瞭に
形成することは極めて困難であることが多かった。
【０００５】このような暗視野顕微鏡において、対物レ
ンズの射出瞳又はそれと共役な位置に開口数を制限する
絞りを設け、バクテリアのべん毛の観察を容易に行える
ようにした例として特願平６−２６３９７９号がある。
また、結像光学系内部に開口を制限する特別な開口絞り
を配置した暗視野顕微鏡として特公平３−１４３２５号
公報記載のものがある。
ンズの射出瞳又はそれと共役な位置に開口数を制限する
絞りを設け、バクテリアのべん毛の観察を容易に行える
ようにした例として特願平６−２６３９７９号がある。
また、結像光学系内部に開口を制限する特別な開口絞り
を配置した暗視野顕微鏡として特公平３−１４３２５号
公報記載のものがある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】暗視野顕微鏡を用い
て、半導体パターンのエッジ部分やバクテリアのべん毛
などの微小部分を観察する際に、その観察が困難である
場合があるのは、前述のように、その微小部分以外の散
乱体からの散乱・回折角度の小さい光が対物レンズを通
過し、像を形成するからである。
て、半導体パターンのエッジ部分やバクテリアのべん毛
などの微小部分を観察する際に、その観察が困難である
場合があるのは、前述のように、その微小部分以外の散
乱体からの散乱・回折角度の小さい光が対物レンズを通
過し、像を形成するからである。
【０００７】このため、特願平６−２６３９７９号に示
されているように、対物レンズの開口数を絞り、照明光
と観察光の開口数差を大きくすることによって、対物レ
ンズを透過する菌体からの散乱・回折光を低減すること
ができる。しかしながら、図７に示すように、結像光学
系を構成する開口絞り７が瞳を一様に制限するため、回
折角度の大きい光も同時に遮光することとなり、分解能
が低下し、さらに、明るさも低下するという問題があっ
た。
されているように、対物レンズの開口数を絞り、照明光
と観察光の開口数差を大きくすることによって、対物レ
ンズを透過する菌体からの散乱・回折光を低減すること
ができる。しかしながら、図７に示すように、結像光学
系を構成する開口絞り７が瞳を一様に制限するため、回
折角度の大きい光も同時に遮光することとなり、分解能
が低下し、さらに、明るさも低下するという問題があっ
た。
【０００８】また、特公平３−１４３２５号公報に開示
されているように、開口絞り及び遮光絞りの双方を、と
もに光軸を中心として１８０度回転しても元の開口部と
重複しないような構成とすると、特願平６−２６３９７
９号のように分解能が低下することは回避できる。しか
しながら、特公平３−１４３２５号公報に開示されいて
る暗視野顕微鏡では、照明の開口絞りと結像系の遮光絞
りとが共役な位置にあり、開口絞りからの直接反射光を
遮光するように遮光絞りが配置されている。このため、
標本からの散乱・回折角度の小さい光は遮光できない。
また、仮に、遮光絞りが開口絞りの共役像よりも大きく
設定されていたとしても、対物レンズの開口数よりも大
きな開口数で照明する一般の暗視野照明とは異なり、対
物レンズの開口数の範囲内の光束を照明に用いているた
め、対物レンズ内に取り込むことができる回折光の角度
が一般の暗視野照明に比べて小さく、明るさ及び分解能
ともに低下せざるを得ない。さらに、照明光と観察光の
開口数差を大きくするためには、対物レンズに配置する
絞りを対物レンズの光軸側に広げ、観察光束あるいは照
明光束を細くする必要があり、何れの場合も、結果的に
は明るさは低下し、暗くなる。
されているように、開口絞り及び遮光絞りの双方を、と
もに光軸を中心として１８０度回転しても元の開口部と
重複しないような構成とすると、特願平６−２６３９７
９号のように分解能が低下することは回避できる。しか
しながら、特公平３−１４３２５号公報に開示されいて
る暗視野顕微鏡では、照明の開口絞りと結像系の遮光絞
りとが共役な位置にあり、開口絞りからの直接反射光を
遮光するように遮光絞りが配置されている。このため、
標本からの散乱・回折角度の小さい光は遮光できない。
また、仮に、遮光絞りが開口絞りの共役像よりも大きく
設定されていたとしても、対物レンズの開口数よりも大
きな開口数で照明する一般の暗視野照明とは異なり、対
物レンズの開口数の範囲内の光束を照明に用いているた
め、対物レンズ内に取り込むことができる回折光の角度
が一般の暗視野照明に比べて小さく、明るさ及び分解能
ともに低下せざるを得ない。さらに、照明光と観察光の
開口数差を大きくするためには、対物レンズに配置する
絞りを対物レンズの光軸側に広げ、観察光束あるいは照
明光束を細くする必要があり、何れの場合も、結果的に
は明るさは低下し、暗くなる。
【０００９】本発明は以上のような従来の暗視野顕微鏡
における問題点に鑑みてなされたものであり、分解能以
下の微小な物体を観察する際に、分解能を低下させるこ
となく、その微小物体だけを観察することができる暗視
野顕微鏡を提供することを目的とする。
における問題点に鑑みてなされたものであり、分解能以
下の微小な物体を観察する際に、分解能を低下させるこ
となく、その微小物体だけを観察することができる暗視
野顕微鏡を提供することを目的とする。
【００１０】
【問題点を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明に係る暗視野顕微鏡は、光源と、該光源から
の光を集束させるコレクタレンズと、観察系の開口数よ
りも大きな開口数の下で前記コレクタレンズの光で標本
を照明する集光光学系と、前記標本の拡大像を形成す
る、少なくとも対物レンズを含む結像光学系を備えた暗
視野顕微鏡において、前記光源と前記標本との間に配置
され、照明の一部を遮光する開口絞りと、前記結像光学
系内に配置され、照明光の標本による０次回折光よりも
前記対物レンズ側を通る光の一部を遮光する遮光部材と
を有することを特徴とする。
め、本発明に係る暗視野顕微鏡は、光源と、該光源から
の光を集束させるコレクタレンズと、観察系の開口数よ
りも大きな開口数の下で前記コレクタレンズの光で標本
を照明する集光光学系と、前記標本の拡大像を形成す
る、少なくとも対物レンズを含む結像光学系を備えた暗
視野顕微鏡において、前記光源と前記標本との間に配置
され、照明の一部を遮光する開口絞りと、前記結像光学
系内に配置され、照明光の標本による０次回折光よりも
前記対物レンズ側を通る光の一部を遮光する遮光部材と
を有することを特徴とする。
【００１１】本発明の好ましい実施態様においては、照
明の標本側最小開口数ＮＡ0 と、標本による０次回折光
よりも前記対物レンズ側を通る光の一部を遮光すること
により制限された前記結像光学系の標本側開口数ＮＡ1
との間の関係が次式で表されることを特徴とする。 ＮＡ0 −ＮＡ1 ≧０．２
明の標本側最小開口数ＮＡ0 と、標本による０次回折光
よりも前記対物レンズ側を通る光の一部を遮光すること
により制限された前記結像光学系の標本側開口数ＮＡ1
との間の関係が次式で表されることを特徴とする。 ＮＡ0 −ＮＡ1 ≧０．２
【００１２】本発明の好ましい実施態様においては、前
記開口絞りを光軸を中心として回転させる機構と、前記
遮光部材を光軸を中心として回転させる機構とを備える
ことを特徴とする。
記開口絞りを光軸を中心として回転させる機構と、前記
遮光部材を光軸を中心として回転させる機構とを備える
ことを特徴とする。
【００１３】
【作用】以上のような構成を有する本発明に係る暗視野
顕微鏡において、「０次回折光」とは、標本によって回
折を受けずにそのまま透過又は反射する光を指す。ま
た、「０次回折光よりも結像光学系側を通る光」とは、
その光の進む方向と光軸とのなす角度が０次回折光と光
軸とのなす角度よりも小さいような光を指す。
顕微鏡において、「０次回折光」とは、標本によって回
折を受けずにそのまま透過又は反射する光を指す。ま
た、「０次回折光よりも結像光学系側を通る光」とは、
その光の進む方向と光軸とのなす角度が０次回折光と光
軸とのなす角度よりも小さいような光を指す。
【００１４】照明光の一部を遮光する開口絞りとして
は、例えば、図１（ａ）のように構成することができ
る。図１（ａ）に示す開口絞り１０は、全体としては円
形をなしており、その外周に沿った円弧状の一部１１の
みが開口している。この開口絞り１０を照明系の例えば
コンデンサレンズ４（図６参照）の入射瞳位置に配置す
ると、標本５がない場合における対物レンズ６の射出瞳
１２は図１（ｂ）のような形状をなす。射出瞳１２のう
ち、斜線を施していない部分１３が０次回折光の通る部
分であり、斜線を施してある部分１４が０次回折光より
も対物レンズ側において光が通る部分である。図１
（ａ）に示した部分１１と図１（ｂ）に示した部分１３
とは光軸を中心として左右対称になる。
は、例えば、図１（ａ）のように構成することができ
る。図１（ａ）に示す開口絞り１０は、全体としては円
形をなしており、その外周に沿った円弧状の一部１１の
みが開口している。この開口絞り１０を照明系の例えば
コンデンサレンズ４（図６参照）の入射瞳位置に配置す
ると、標本５がない場合における対物レンズ６の射出瞳
１２は図１（ｂ）のような形状をなす。射出瞳１２のう
ち、斜線を施していない部分１３が０次回折光の通る部
分であり、斜線を施してある部分１４が０次回折光より
も対物レンズ側において光が通る部分である。図１
（ａ）に示した部分１１と図１（ｂ）に示した部分１３
とは光軸を中心として左右対称になる。
【００１５】従って、０次回折光よりも対物レンズ側を
通る光の一部を遮光する遮光部材は、部分１４の一部を
遮光するような構成を有していればよく、例えば、図１
（ｃ）に示すような構成をとり得る。図１（ｃ）に示す
遮光部材１５は、図１（ｂ）に示す対物レンズの射出瞳
のうちの０次回折光を通す部分１３よりも光軸に近い位
置において、円弧状に遮光を行う部分１６を備えてお
り、この部分１６は図１（ｂ）に示した対物レンズの射
出瞳のうちの０次回折光よりも対物レンズ側を光が通る
部分１４と重なり合うように位置している。
通る光の一部を遮光する遮光部材は、部分１４の一部を
遮光するような構成を有していればよく、例えば、図１
（ｃ）に示すような構成をとり得る。図１（ｃ）に示す
遮光部材１５は、図１（ｂ）に示す対物レンズの射出瞳
のうちの０次回折光を通す部分１３よりも光軸に近い位
置において、円弧状に遮光を行う部分１６を備えてお
り、この部分１６は図１（ｂ）に示した対物レンズの射
出瞳のうちの０次回折光よりも対物レンズ側を光が通る
部分１４と重なり合うように位置している。
【００１６】このような遮光部材１５を用いれば、遮光
したい部分の対角位置が遮光されていないため、図７に
示したように、標本による散乱・回折角度の大きい光を
も同時に遮光してしまうという問題点を解決することが
できる。また、照明が対物レンズの開口数よりも大きく
なるようにしているため、分解能を確保するために照明
を犠牲にする必要はなく、特公平３−１４３２５号のよ
うな問題は生じない。
したい部分の対角位置が遮光されていないため、図７に
示したように、標本による散乱・回折角度の大きい光を
も同時に遮光してしまうという問題点を解決することが
できる。また、照明が対物レンズの開口数よりも大きく
なるようにしているため、分解能を確保するために照明
を犠牲にする必要はなく、特公平３−１４３２５号のよ
うな問題は生じない。
【００１７】開口絞りはコンデンサレンズの入射瞳に、
遮光絞りは対物レンズの射出瞳又はそれと共役な位置に
配置することが望ましい。ただし、遮光絞りが０次回折
光よりも対物レンズ側を通る光の一部を遮光するように
構成されていれば、それらの位置以外の位置に配置する
ことも可能である。
遮光絞りは対物レンズの射出瞳又はそれと共役な位置に
配置することが望ましい。ただし、遮光絞りが０次回折
光よりも対物レンズ側を通る光の一部を遮光するように
構成されていれば、それらの位置以外の位置に配置する
ことも可能である。
【００１８】また、遮光絞りは標本からの散乱・回折角
度の小さい光を遮光するために用いられる。これは、例
えば、半導体の回路パターンのエッジ以外からの強い光
は、空間周波数を用いて表せば、かなり低い帯域に集ま
っているからである。この範囲は、標本によって異なる
が、４００〜５００本／ｍｍ以下の範囲である。良好な
観察を行うためには、最低でも３００〜４００本／ｍｍ
以下の範囲はカットしておくことが必要である。開口数
０．２を空間周波数に換算すると、約３５０本／ｍｍで
ある（波長による影響は考慮しない）。従って、照明光
と観察光の開口数差が少なくとも０．２以上あることが
微小物体の観察を行ううえでは望ましい。すなわち、照
明の標本側の最小開口数をＮＡ0 とし、遮光絞りにより
制限された結像光学系の標本側の開口数をＮＡ1 とすれ
ば、次式のような関係が成立していることが望ましい。 ＮＡ0 −ＮＡ1 ≧０．２
度の小さい光を遮光するために用いられる。これは、例
えば、半導体の回路パターンのエッジ以外からの強い光
は、空間周波数を用いて表せば、かなり低い帯域に集ま
っているからである。この範囲は、標本によって異なる
が、４００〜５００本／ｍｍ以下の範囲である。良好な
観察を行うためには、最低でも３００〜４００本／ｍｍ
以下の範囲はカットしておくことが必要である。開口数
０．２を空間周波数に換算すると、約３５０本／ｍｍで
ある（波長による影響は考慮しない）。従って、照明光
と観察光の開口数差が少なくとも０．２以上あることが
微小物体の観察を行ううえでは望ましい。すなわち、照
明の標本側の最小開口数をＮＡ0 とし、遮光絞りにより
制限された結像光学系の標本側の開口数をＮＡ1 とすれ
ば、次式のような関係が成立していることが望ましい。 ＮＡ0 −ＮＡ1 ≧０．２
【００１９】開口絞りについては、特公平３−１４３２
５号のように、複数個の開口を等角度の間隔に配置する
ことも可能であるが、開口を細かく分割すると、それに
応じて回折パターンが生じるので、開口の分割は行わな
い方が好ましい。
５号のように、複数個の開口を等角度の間隔に配置する
ことも可能であるが、開口を細かく分割すると、それに
応じて回折パターンが生じるので、開口の分割は行わな
い方が好ましい。
【００２０】また、図１（ａ）に示した開口絞り１０と
図１（ｃ）に示した遮光部材１５は効果に方向性を有す
るため、標本の方向に合わせて光軸を中心として回転可
能であるように構成することが好ましい。開口絞りと遮
光部材とを回転させるための機構は開口絞りと遮光部材
の双方を連動させて回転させるものであることが望まし
いが、各々を独立に回転させるものであってもよい。
図１（ｃ）に示した遮光部材１５は効果に方向性を有す
るため、標本の方向に合わせて光軸を中心として回転可
能であるように構成することが好ましい。開口絞りと遮
光部材とを回転させるための機構は開口絞りと遮光部材
の双方を連動させて回転させるものであることが望まし
いが、各々を独立に回転させるものであってもよい。
【００２１】さらに、標本によって開口数差の最適値が
異なるので、結像光学系側の遮光部材は可変又は挿脱自
在に構成されていることが望ましい。同様に、照明系側
の開口絞りも可変又は挿脱自在に構成されていることが
望ましい。
異なるので、結像光学系側の遮光部材は可変又は挿脱自
在に構成されていることが望ましい。同様に、照明系側
の開口絞りも可変又は挿脱自在に構成されていることが
望ましい。
【００２２】
〔実施例１〕図２は本発明に係る暗視野顕微鏡の第一実
施例における落射暗視野光学系の概念図である。光源２
１からの光はコレクタレンズ２２により集光され、開口
絞り１０に至り、光源２１からの光の一部のみが開口絞
り１０を透過する。開口絞り１０は図１（ａ）に示した
開口絞りが用いられている。開口絞り１０を通過した光
は反射ミラー２３により直角に進行方向を曲げられ、コ
ンデンサレンズ２４を介して標本２５上において集束さ
れる。開口絞り１０はこのコンデンサレンズ２４の入射
瞳位置に配置されている。
施例における落射暗視野光学系の概念図である。光源２
１からの光はコレクタレンズ２２により集光され、開口
絞り１０に至り、光源２１からの光の一部のみが開口絞
り１０を透過する。開口絞り１０は図１（ａ）に示した
開口絞りが用いられている。開口絞り１０を通過した光
は反射ミラー２３により直角に進行方向を曲げられ、コ
ンデンサレンズ２４を介して標本２５上において集束さ
れる。開口絞り１０はこのコンデンサレンズ２４の入射
瞳位置に配置されている。
【００２３】標本５で反射した光は対物レンズ２６を経
て、遮光部材１５を通過し、結像レンズ（図示せず）に
至り、像が形成される。遮光部材１５は図１（ｃ）に示
した遮光部材が用いられており、この遮光部材１５は対
物レンズ２６の射出瞳の位置に配置されている。
て、遮光部材１５を通過し、結像レンズ（図示せず）に
至り、像が形成される。遮光部材１５は図１（ｃ）に示
した遮光部材が用いられており、この遮光部材１５は対
物レンズ２６の射出瞳の位置に配置されている。
【００２４】本実施例においては、開口絞り１０は光軸
を中心として回転可能に構成されている。開口絞り１０
が回転すると、光が透過する部分１１の位置が変わるの
で、開口絞り１０の回転後の部分１１の位置に対応して
反射ミラー２３ｂ及びコンデンサレンズ２４ｂが配置さ
れている。
を中心として回転可能に構成されている。開口絞り１０
が回転すると、光が透過する部分１１の位置が変わるの
で、開口絞り１０の回転後の部分１１の位置に対応して
反射ミラー２３ｂ及びコンデンサレンズ２４ｂが配置さ
れている。
【００２５】金属標本、例えば、半導体の回路パターン
の観察を行う場合、細かい構造が大きな構造の散乱・回
折角度の小さい光に埋もれて観察しにくいことがある。
１００倍（開口数＝０．９０）の対物レンズを使用した
場合、照明の開口数は０．９６乃至０．９９である。本
実施例においては、コンデンサレンズ２４の入射瞳の位
置に開口絞り１０が配置されている。
の観察を行う場合、細かい構造が大きな構造の散乱・回
折角度の小さい光に埋もれて観察しにくいことがある。
１００倍（開口数＝０．９０）の対物レンズを使用した
場合、照明の開口数は０．９６乃至０．９９である。本
実施例においては、コンデンサレンズ２４の入射瞳の位
置に開口絞り１０が配置されている。
【００２６】また、半導体の回路パターン等のエッジ部
分だけの観察を行うためには、その他の部分からの散乱
・回折角度の小さい光を除去する必要がある。このた
め、対物レンズ２６の射出瞳位置には遮光部材１５が配
置されている。この遮光部材１５は内側が開口数＝約
０．７になるように構成されている。
分だけの観察を行うためには、その他の部分からの散乱
・回折角度の小さい光を除去する必要がある。このた
め、対物レンズ２６の射出瞳位置には遮光部材１５が配
置されている。この遮光部材１５は内側が開口数＝約
０．７になるように構成されている。
【００２７】本実施例においては、開口絞り１０の対角
側を通る光は対物レンズの開口数全範囲を使っているの
で、解像力を低下させずに菌体からの散乱・回折角度の
小さい光を除去することができ、半導体回路パターンの
エッジ部分のみを良好に観察することができる。
側を通る光は対物レンズの開口数全範囲を使っているの
で、解像力を低下させずに菌体からの散乱・回折角度の
小さい光を除去することができ、半導体回路パターンの
エッジ部分のみを良好に観察することができる。
【００２８】〔実施例２〕図３は本発明に係る暗視野顕
微鏡の第二実施例における落射暗視野光学系の概念図で
ある。光源３１からの光はコレクタレンズ３２により集
光され、開口絞り３３に至り、光源２１からの光の一部
のみが開口絞り３３を透過する。開口絞り３３は、図４
（ａ）に示すように、長方形と、その一の長辺に連続し
て形成されている半円形状とからなる形状を有してお
り、光軸に対して垂直な方向すなわち方向Ｘに沿って移
動可能であるように構成されている。開口絞り３３を通
過した光はコンデンサレンズ３４を介して標本３５上に
おいて集束される。開口絞り３３はこのコンデンサレン
ズ３４の入射瞳位置に配置されている。
微鏡の第二実施例における落射暗視野光学系の概念図で
ある。光源３１からの光はコレクタレンズ３２により集
光され、開口絞り３３に至り、光源２１からの光の一部
のみが開口絞り３３を透過する。開口絞り３３は、図４
（ａ）に示すように、長方形と、その一の長辺に連続し
て形成されている半円形状とからなる形状を有してお
り、光軸に対して垂直な方向すなわち方向Ｘに沿って移
動可能であるように構成されている。開口絞り３３を通
過した光はコンデンサレンズ３４を介して標本３５上に
おいて集束される。開口絞り３３はこのコンデンサレン
ズ３４の入射瞳位置に配置されている。
【００２９】標本３５からの光は対物レンズ３６を経
て、遮光部材３７を通過し、結像レンズ３８に至り、像
が形成される。遮光部材３７は図４（ｂ）に示すような
長方形形状を有している。この遮光部材３７は対物レン
ズ３６の射出瞳の位置に配置されており、開口絞り３３
と同様に光軸と直角な方向Ｘに沿って移動可能であると
ともに、開口絞り３３の動きに連動して移動するように
構成されている。開口絞り３３及び遮光部材３７を可動
であるように構成することにより、標本に合わせたセッ
ティングが可能になる。
て、遮光部材３７を通過し、結像レンズ３８に至り、像
が形成される。遮光部材３７は図４（ｂ）に示すような
長方形形状を有している。この遮光部材３７は対物レン
ズ３６の射出瞳の位置に配置されており、開口絞り３３
と同様に光軸と直角な方向Ｘに沿って移動可能であると
ともに、開口絞り３３の動きに連動して移動するように
構成されている。開口絞り３３及び遮光部材３７を可動
であるように構成することにより、標本に合わせたセッ
ティングが可能になる。
【００３０】コンデンサレンズ３４は油浸暗視野コンデ
ンサであり、開口数は１．２乃至１．４である。開口絞
り３３は照明光束を制限するだけで、開口数を制限しな
いような構成にすると、照明の標本側最小開口数は１．
２となる。また、本実施例においては、遮光部材３７が
対物レンズ３６の開口数を０．７程度まで絞ることがで
きるようになっている。このため、第一実施例と同様
に、半導体の回路パターン等のエッジ部分などの微小部
分だけの観察を行う際に、その他の部分からの散乱・回
折角度の小さい光を除去することができる。
ンサであり、開口数は１．２乃至１．４である。開口絞
り３３は照明光束を制限するだけで、開口数を制限しな
いような構成にすると、照明の標本側最小開口数は１．
２となる。また、本実施例においては、遮光部材３７が
対物レンズ３６の開口数を０．７程度まで絞ることがで
きるようになっている。このため、第一実施例と同様
に、半導体の回路パターン等のエッジ部分などの微小部
分だけの観察を行う際に、その他の部分からの散乱・回
折角度の小さい光を除去することができる。
【００３１】開口絞り３３及び遮光部材３７の形状は本
実施例において示した形状のものには限定されない。第
一実施例において用いた開口絞り１０及び遮光部材１５
を用いることもできるし、あるいは、他の形状を採用す
ることもできる。その一例を図５（ａ）及び（ｂ）に示
す。すなわち、開口絞り４０を、図５（ａ）に示すよう
に、外周において円弧の一部４１が欠けているような円
形形状とし、遮光部材４２を、図５（ｂ）に示すよう
に、その欠けた円弧４１を含み、さらに、開口絞りの一
部４３と重なるような形状にすることもできる。また、
開口絞り及び遮光部材の可動機構は透過系だけでなく、
落射系に用いることも可能である。
実施例において示した形状のものには限定されない。第
一実施例において用いた開口絞り１０及び遮光部材１５
を用いることもできるし、あるいは、他の形状を採用す
ることもできる。その一例を図５（ａ）及び（ｂ）に示
す。すなわち、開口絞り４０を、図５（ａ）に示すよう
に、外周において円弧の一部４１が欠けているような円
形形状とし、遮光部材４２を、図５（ｂ）に示すよう
に、その欠けた円弧４１を含み、さらに、開口絞りの一
部４３と重なるような形状にすることもできる。また、
開口絞り及び遮光部材の可動機構は透過系だけでなく、
落射系に用いることも可能である。
【００３２】以上説明したように、本発明に係る暗視野
顕微鏡は、特許請求の範囲に記載した特徴の他に下記の
特徴を有している。前記開口絞り及び前記遮光部材の少
なくとも一方を可変又は挿脱自在に構成したことを特徴
とする請求項１に記載の暗視野顕微鏡。
顕微鏡は、特許請求の範囲に記載した特徴の他に下記の
特徴を有している。前記開口絞り及び前記遮光部材の少
なくとも一方を可変又は挿脱自在に構成したことを特徴
とする請求項１に記載の暗視野顕微鏡。
【００３３】
【発明の効果】以上のように、本発明に係る暗視野顕微
鏡によれば、半導体の回路パターンのエッジ部分あるい
はバクテリアのべん毛などの分解能以下の微小物体を観
察する際に、分解能を低下させることなく、その微小物
体のみを観察することが可能になる。
鏡によれば、半導体の回路パターンのエッジ部分あるい
はバクテリアのべん毛などの分解能以下の微小物体を観
察する際に、分解能を低下させることなく、その微小物
体のみを観察することが可能になる。
【図１】本発明に係る暗視野顕微鏡の第一実施例に用い
る開口絞り及び遮光部材の形状を示す平面図である。
る開口絞り及び遮光部材の形状を示す平面図である。
【図２】本発明に係る暗視野顕微鏡の第一実施例におけ
る光学系の概略図である。
る光学系の概略図である。
【図３】本発明に係る暗視野顕微鏡の第二実施例におけ
る光学系の概略図である。
る光学系の概略図である。
【図４】本発明に係る暗視野顕微鏡の第二実施例に用い
る開口絞り及び遮光部材の形状を示す平面図である。
る開口絞り及び遮光部材の形状を示す平面図である。
【図５】開口絞り及び遮光部材の別の形状を示す平面図
である。
である。
【図６】従来の暗視野顕微鏡光学系の一般的な概念図で
ある。
ある。
【図７】従来の暗視野顕微鏡の結像光学系の構成を示す
概念図である。
概念図である。
１，２１，３１ 光源 ２，２２，３２ コレクタレンズ ３，１０，３３ 開口絞り ４，２４，３４ コンデンサレンズ ５，２５，３５ 標本 ６，２６，３６ 対物レンズ ７ 遮光絞り １５，３７ 遮光部材 ８，３８ 結像レンズ ２３ 反射ミラー
Claims (3)
- 【請求項１】 光源と、該光源からの光を集束させるコ
レクタレンズと、観察系の開口数よりも大きな開口数の
下で前記コレクタレンズの光で標本を照明する集光光学
系と、前記標本の拡大像を形成する、少なくとも対物レ
ンズを含む結像光学系を備えた暗視野顕微鏡において、 前記光源と前記標本との間に配置され、照明の一部を遮
光する開口絞りと、 前記結像光学系内に配置され、照明光の標本による０次
回折光よりも対物レンズ側を通る光の一部を遮光する遮
光部材とを有することを特徴とする暗視野顕微鏡。 - 【請求項２】 照明の標本側最小開口数ＮＡ0 と、標本
による０次回折光よりも前記対物レンズを通る光の一部
を遮光することにより制限された前記結像光学系の標本
側開口数ＮＡ1 との間の関係が次式で表わされるように
したことを特徴とする請求項１に記載の暗視野顕微鏡。 ＮＡ0 −ＮＡ1 ≧０．２ - 【請求項３】 前記開口絞りを光軸を中心として回転さ
せる機構と、前記遮光部材を光軸を中心として回転させ
る機構とを備えることを特徴とする請求項１に記載の暗
視野顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16736395A JPH0915507A (ja) | 1995-07-03 | 1995-07-03 | 暗視野顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16736395A JPH0915507A (ja) | 1995-07-03 | 1995-07-03 | 暗視野顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0915507A true JPH0915507A (ja) | 1997-01-17 |
Family
ID=15848336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16736395A Pending JPH0915507A (ja) | 1995-07-03 | 1995-07-03 | 暗視野顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0915507A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005345221A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 検出光学装置及び欠陥検査装置 |
| WO2007004708A1 (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-11 | National University Corporation NARA Institute of Science and Technology | 顕微鏡 |
| US7245426B2 (en) | 2001-11-06 | 2007-07-17 | Olympus Optical Co., Ltd. | Total internal reflection illumination apparatus and microscope using this total internal reflection illumination apparatus |
| WO2007136100A1 (ja) | 2006-05-24 | 2007-11-29 | Japan Science And Technology Agency | 暗視野顕微鏡及びその調整方法 |
| JP2015043450A (ja) * | 2009-08-24 | 2015-03-05 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | メトロロジ装置、リソグラフィ装置、リソグラフィセル及びメトロロジ方法 |
| CN110161052A (zh) * | 2019-06-14 | 2019-08-23 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 原位监测密集排布大口径光学元件损伤的方法 |
| CN113050262A (zh) * | 2021-02-05 | 2021-06-29 | 安徽医科大学 | 一种通用型斜照明显微成像***及其校正算法 |
-
1995
- 1995-07-03 JP JP16736395A patent/JPH0915507A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7245426B2 (en) | 2001-11-06 | 2007-07-17 | Olympus Optical Co., Ltd. | Total internal reflection illumination apparatus and microscope using this total internal reflection illumination apparatus |
| JP2005345221A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 検出光学装置及び欠陥検査装置 |
| JP4550488B2 (ja) * | 2004-06-02 | 2010-09-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検出光学装置及び欠陥検査装置 |
| JP4895050B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2012-03-14 | 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学 | 顕微鏡 |
| WO2007004708A1 (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-11 | National University Corporation NARA Institute of Science and Technology | 顕微鏡 |
| US7957058B2 (en) | 2005-06-30 | 2011-06-07 | National University Corporation NARA Institute of Science and Technology | Microscope |
| WO2007136100A1 (ja) | 2006-05-24 | 2007-11-29 | Japan Science And Technology Agency | 暗視野顕微鏡及びその調整方法 |
| JP2015043450A (ja) * | 2009-08-24 | 2015-03-05 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | メトロロジ装置、リソグラフィ装置、リソグラフィセル及びメトロロジ方法 |
| JP2016145990A (ja) * | 2009-08-24 | 2016-08-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | メトロロジ装置、リソグラフィ装置、リソグラフィセル及びメトロロジ方法 |
| CN110161052A (zh) * | 2019-06-14 | 2019-08-23 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 原位监测密集排布大口径光学元件损伤的方法 |
| CN110161052B (zh) * | 2019-06-14 | 2023-04-28 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 原位监测密集排布大口径光学元件损伤的方法 |
| CN113050262A (zh) * | 2021-02-05 | 2021-06-29 | 安徽医科大学 | 一种通用型斜照明显微成像***及其校正算法 |
| CN113050262B (zh) * | 2021-02-05 | 2023-06-09 | 安徽医科大学 | 一种通用型斜照明显微成像***及其校正算法 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040629 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |